JP7157976B2 - 薄膜の形成方法及び多孔性薄膜 - Google Patents
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Description
p=V1/V2・・・(1)式
なお、V1は光学薄膜の実質部分の体積(柱状粒の体積)を示し、V2は光学薄膜の全体積(柱状粒と隙間を併せた体積)を示す。この様に定義すると、光学薄膜での充填率pの値は、通常0.7~1.0の範囲であり、0.8~0.95が最も多く、1になることは非常に少ない。
nf=pns+(1-p)nv ・・・(2)式
ここで、nsは光学薄膜の実質部分の屈折率、nvは隙間の屈折率である。
従来の真空蒸着法による光学薄膜は、蒸着物質によって屈折率が決まっているので、特性の優れた反射防止膜、高反射膜、偏光膜、フイルターなどの製作が非常に困難であった。さらに、基板と蒸着物質の熱膨張係数の違いにより、形成された光学薄膜に内部的な応力を生じ、これによって光学薄膜に亀裂が生じたり、光学薄膜が剥離したりする問題点があった。
すなわち、誘電体材料に対するフッ素樹脂の量を調節するだけで第1層の屈折率を任意に制御できるので、必要とされる任意の屈折率を有した多孔性薄膜を簡易に低コストで製作できる。
つまり、このような第1層及び第2層を繰り返して複数回蒸着して積層した多層薄膜を基板上に形成することより、請求項1の発明と同様な作用や効果を奏して反射防止膜の性能・特性を大幅に向上させる他に、多層構造の多層構造薄膜となることで、高反射鏡や偏光子とすることができる。
誘電体材料とフッ素樹脂がアンダーコート層上に混合されて蒸着されて第1層とされ、
誘電体材料が第1層上に蒸着されて第2層とされることで、三層構造とされた多孔性薄膜であって、
第1層における、誘電体材料の体積に対するフッ素樹脂の体積を5~50倍とされた。
このため、請求項2の薄膜の形成方法と同様に、基板面と第1層の薄膜の境界面で生じるレーザー耐力をより一層向上させることができる。この際、アンダーコート層のフッ素樹脂の適切な膜厚として、膜厚を10~40nmとすることが考えられる。
誘電体材料とフッ素樹脂がアンダーコート層上に混合されて蒸着されて第1層とされ、
誘電体材料が第1層上に蒸着されて第2層とされ、
繰り返してこれら第1層及び第2層が複数回積層され、
誘電体材料とフッ素樹脂を混合して最上部の第2層上に蒸着されて第3層とされることで、多層構造とされた多孔性薄膜であって、
第1層における、誘電体材料の体積に対するフッ素樹脂の体積を5~50倍とされている。
このため、このような第1層及び第2層を繰り返して複数回蒸着して積層した構造の多層薄膜を基板上に設けることで、請求項3の薄膜の形成方法と同様な作用や効果を奏して反射防止膜の性能・特性を大幅に向上させる他に、多層構造の多層構造薄膜となることで、高反射鏡や偏光子とすることができる。
まず、三層構造で各層が多孔質とされた薄膜を基板面上に成膜することに関して説明する。図1は、本実施の形態に係る蒸着用基板上に各薄膜を蒸着して多孔性薄膜を完成させた状態の各層の構成を示す断面図である。尚、本実施の形態では、各層を密度の低い多孔性薄膜として反射防止膜を形成する。
このように屈折率制御された多孔性薄膜4における光学的膜厚は、多孔性薄膜4の各部分の屈折率と膜厚との積で与えられ、この光学的膜厚は指定された入射光の波長λの1/4、すなわちλ/4に設定されている。
図示しない真空層内において、直径40mmの石英ガラス基板とされる蒸着用基板1を200℃に加熱しつつ、1台の電子銃により、フッ素樹脂であるポリテトラフルオロエチレンをこの蒸着用基板1の面上に蒸着して基礎層10をアンダーコート層として形成する。次に、2台の電子銃を用いた二元同時真空蒸着法により誘電体材料であるMgF2とフッ素樹脂であるポリテトラフルオロエチレンとからなる混合薄膜11を第1層としてこの基礎層10上に蒸着することで形成した。この際、ポリテトラフルオロエチレンとMgF2の混合割合として、初めは1:3程度であるが最後は2:1となるように調整して混合薄膜11を製作した。
まず、発明者らの知見によれば、固体のポリテトラフルオロエチレンの屈折率は1.35であることが知られているが、このポリテトラフルオロエチレンの薄膜を石英ガラスの蒸着用基板上に蒸着すると、反射率は約0.1%(充填率:約70%)であると共に屈折率は約1.25となった。これに伴い、ポリテトラフルオロエチレンと誘電体材料とで混合膜を製作した場合、ポリテトラフルオロエチレンの割合が大きくなれば、混合膜の屈折率は小さくなる傾向にある。
本実施の形態に係る多孔性薄膜4は、前述のように単体では空乏層が多く多孔性の薄膜となるポリテトラフルオロエチレンが蒸着用基板1の面上に蒸着されて、膜厚10~40nmとした基礎層10を最初の層として有している。また、酸化物、フッ化物とされる2種類のうちの何れかの物質とされる誘電体材料とポリテトラフルオロエチレンであるフッ素樹脂とを混合した層が、この基礎層10上に同時に蒸着されて、混合薄膜11とされている。
ただし、これ以外でも同様に機能するものであれば良く、酸化物として、例えばAl2O3、CeO2、HfO2、Ta2O5、ThO2、TiO2、ZrO2、Sc2O3、Y2O3、La2O3、Nd2O3のいずれかを用いることができる。また、フッ化物として、例えばAlF3、BaF2、CaF2、GdF3、Na5Al3F14、Na3AlF6、PbF2、LaF3、LiF、NdF3、NaF、YbF3、YF3のいずれかを用いることができる。
まず、本実施の形態に係る薄膜の形成方法を用いて多孔性薄膜である多層構造薄膜6を製作する場合について説明する。尚、本実施の形態では、多層構造薄膜6を有した高反射鏡や偏光子を例として具体的に説明する。
本実施の形態に係る多層構造薄膜6には、蒸着用基板1上に誘電体材料のみが蒸着されてアンダーコート層である基礎層20が設けられている。ただし、本実施の形態の場合、これら蒸着用基板1と基礎層20との間に、フッ素樹脂のみがサブコート層19として蒸着されている。
酸化物としてTiO2の層とフッ素樹脂を含む多孔性のMgF2の層を繰り返して7層ずつ蒸着して積層し、最後にTiO2の層を再度蒸着して積層した15層積層からなる多層構造薄膜6の反射鏡を作製した。そして、この反射鏡の分光特性とされる透過率の特性曲線を図4に示す。この図4に示すように900~1200nmの波長範囲で透過率がほぼ0%になり、また、特に測定点Pにおける1064nmの波長では、図4に示さないものの反射率も99.75%と高くなっていた。
3 空気層
4 多孔性薄膜
6 多層構造薄膜
10 基礎層(アンダーコート層)
11 混合薄膜(第1層)
12 上部薄膜(第2層)
19 サブコート層
20 基礎層(アンダーコート層)
21 第1薄膜(第1層)
22 第2薄膜(第2層)
23 第3薄膜(第3層)
24 第4薄膜(第4層)
25 最終層(第5層)
Claims (7)
- 第1層として誘電体材料とフッ素樹脂を混合して基板上に蒸着し、
この後、第2層として誘電体材料のみを第1層上に蒸着し、
次に、150~350℃の温度で加熱するドライプロセスにてフッ素樹脂を部分的に除去して、基板上に二層薄膜を形成する薄膜の形成方法。 - 基板を石英ガラス、硼珪クラウンガラス、リン酸塩ガラスの何れからなる光学ガラス製あるいはサファイヤ製とし、この基板と第1層との間にアンダーコート層としてフッ素樹脂のみを蒸着して、基板上に三層薄膜を形成する請求項1記載の薄膜の形成方法。
- 基板と第1層との間にアンダーコート層として誘電体材料のみを蒸着し、
この後、第1層及び第2層を繰り返して複数回蒸着して積層し、
次に、第3層として誘電体材料とフッ素樹脂を混合して最上部の第2層上に蒸着して、基板上に多層薄膜を形成する請求項1記載の薄膜の形成方法。 - 第3層を積層した後に、第4層としてフッ素樹脂のみを第3層上に蒸着し、第5層として誘電体材料のみを第4層上に蒸着する請求項3記載の薄膜の形成方法。
- 基板とアンダーコート層との間にまずサブコート層としてフッ素樹脂のみを蒸着する請求項3記載の薄膜の形成方法。
- 石英ガラス、硼珪クラウンガラス、リン酸塩ガラスの何れからなる光学ガラス製あるいはサファイヤ製の基板上に、フッ素樹脂のみが蒸着されてアンダーコート層とされ、
誘電体材料とフッ素樹脂がアンダーコート層上に混合されて蒸着されて第1層とされ、
誘電体材料が第1層上に蒸着されて第2層とされることで、三層構造とされた多孔性薄膜であって、
第1層における、誘電体材料の体積に対するフッ素樹脂の体積を5~50倍とする多孔性薄膜 。 - 石英ガラス、硼珪クラウンガラス、リン酸塩ガラスの何れからなる光学ガラス製あるいはサファイヤ製の基板上に、フッ素樹脂のみが蒸着されたサブコート層を介して、誘電体材料のみが蒸着されたアンダーコート層を配置し、
誘電体材料とフッ素樹脂がアンダーコート層上に混合されて蒸着されて第1層とされ、
誘電体材料が第1層上に蒸着されて第2層とされ、
繰り返してこれら第1層及び第2層が複数回積層され、
誘電体材料とフッ素樹脂を混合して最上部の第2層上に蒸着されて第3層とされることで、多層構造とされた多孔性薄膜であって、
第1層における、誘電体材料の体積に対するフッ素樹脂の体積を5~50倍とする多孔性薄膜 。
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