JP7125262B2 - シャワーヘッド用ガス分配体 - Google Patents
シャワーヘッド用ガス分配体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7125262B2 JP7125262B2 JP2017242375A JP2017242375A JP7125262B2 JP 7125262 B2 JP7125262 B2 JP 7125262B2 JP 2017242375 A JP2017242375 A JP 2017242375A JP 2017242375 A JP2017242375 A JP 2017242375A JP 7125262 B2 JP7125262 B2 JP 7125262B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas distributor
- conductive layer
- gas
- ceramics
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
A-1.シャワーヘッド10の構成:
図1は、本実施形態におけるシャワーヘッド10の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、本実施形態におけるシャワーヘッド10のXZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、シャワーヘッド10に備えられたガス分配体100の上側のXY平面構成を示す説明図であり、図4は、図2におけるX1部分のXZ断面構成を拡大して示す説明図である。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。図6以降についても同様である。
ガス分配体100は、例えば円形平面の板状部材であり、セラミックス(例えばAlN(窒化アルミニウム)やアルミナ(Al2O3))により形成されている。ガス分配体100の直径は、例えば200mm~500mm程度であり、ガス分配体100の厚さ(上下方向の寸法)は、例えば5mm~20mm程度である。
図1および図2に示すように、ガス供給体200は、平板部210と筒部220とを備える。平板部210は、例えば円形平面の板状部材であり、セラミックスにより形成されている。平板部210の直径は、ガス分配体100の直径と略同一である。平板部210の上面S4の中央部付近には、接合層300を介して、筒部220が接合されている。筒部220は、例えば上下方向に延びた円筒状であり、筒部220の上端から下端まで上下方向に貫通するガス導入孔202が形成されている。筒部220は、セラミックスにより形成されている。筒部220の外径は、例えば30mm~90mm程度であり、内径は、例えば10mm~60mm程度であり、上下方向の長さは、例えば50mm~200mm程度である。
図2から図4に示すように、各表面電極44は、露出部分45と埋設部分46とを含む。露出部分45は、ガス分配体100の分配側対向面S2に形成された上述の溝部112内に露出するように配置されている(図3参照)。具体的には、露出部分45は、溝部112の底面112A上に配置されており、溝部112の第1の内周面112Bおよび第2の内周面112C上には配置されていない。すなわち、第1の内周面112Bおよび第2の内周面112Cは、セラミックスによって形成されており、該セラミックスが第1の内周面112Bおよび第2の内周面112C全体に露出している。埋設部分46は、上下方向(Z方向)視で、溝部112とは異なる位置においてガス分配体100のセラミックス部分の内部に配置されている。具体的には、埋設部分46は、露出部分45に対してガス分配体100の中央側(溝部112の内周側)に位置している。
次に、本実施形態におけるガス分配体100の製造方法を説明する。図5は、ガス分配体100の製造方法を示すフローチャートであり、図6は、ガス分配体100の製造工程を模式的に示す説明図である。
以上説明したように、本実施形態におけるガス分配体100は、表面電極44と内部電極40とビア42とを備える。表面電極44は、ガス分配体100の分配側対向面S2に形成された溝部112内に露出する露出部分45と、溝部112とは異なる位置においてガス分配体100のセラミックス部分の内部に配置された埋設部分46とを含む。露出部分45は給電パッドとして機能する。内部電極40は、表面電極44に対してガス噴出面S1側に配置され、表面電極44の埋設部分46に対向する対向部分40Aを含む。ビア42は、表面電極44の埋設部分46と内部電極40の対向部分40Aとに電気的に接続されている。これにより、例えばビア42からの応力が表面電極44の露出部分45に直接かかることが避けられるため、表面電極44の露出部分45の変形を抑制することができる。すなわち、本実施形態におけるガス分配体100によれば、溝部112に対してガス噴出面S1側に導電層(内部電極40)を配置しつつ、溝部112における導電層(表面電極44)の露出部分45の変形を抑制することができる。この点について、次に詳説する。
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
Claims (4)
- 第1の方向に略垂直な略平面状であって、凹部が形成された第1の表面と、前記第1の方向において前記第1の表面とは反対側に位置し、複数のガス噴出孔が開口している第2の表面と、を有するセラミックス部材と、
前記第1の表面に形成された前記凹部内に露出する露出部分と、前記第1の方向視で前記凹部とは異なる位置において前記セラミックス部材の内部に配置され、前記露出部分と電気的に接続された埋設部分と、を含む第1の導電層と、
前記第1の導電層に対して前記第2の表面側に配置され、前記第1の導電層の前記埋設部分に前記第1の方向で対向する対向部分を含む第2の導電層と、
前記第1の導電層の前記埋設部分と前記第2の導電層の前記対向部分とに電気的に接続され、かつ、前記埋設部分に接合されたビアと、を備えることを特徴とする、シャワーヘッド用ガス分配体。 - 請求項1に記載のシャワーヘッド用ガス分配体において、
前記第1の導電層の前記露出部分は、前記凹部の底面の少なくとも一部に配置されており、
前記凹部のうち、前記第1の表面と前記凹部の前記底面とをつなぐ内周面はセラミックスによって形成されていることを特徴とする、シャワーヘッド用ガス分配体。 - 請求項1または請求項2に記載のシャワーヘッド用ガス分配体において、
前記第1の導電層と前記ビアとには、前記セラミックス部材の形成材料であるセラミックスが含まれており、
前記ビアにおける前記セラミックスの含有割合は、前記第1の導電層における前記セラミックスの含有割合より高いことを特徴とする、シャワーヘッド用ガス分配体。 - 請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載のシャワーヘッド用ガス分配体において、
前記第1の方向視で、
前記凹部は、前記複数のガス噴出孔が形成された形成領域より前記セラミックス部材の周縁側に配置されており、
前記ビアは、前記セラミックス部材の周縁に沿った周方向に前記凹部と並ぶ位置に配置されていることを特徴とする、シャワーヘッド用ガス分配体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017242375A JP7125262B2 (ja) | 2017-12-19 | 2017-12-19 | シャワーヘッド用ガス分配体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017242375A JP7125262B2 (ja) | 2017-12-19 | 2017-12-19 | シャワーヘッド用ガス分配体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019108588A JP2019108588A (ja) | 2019-07-04 |
JP7125262B2 true JP7125262B2 (ja) | 2022-08-24 |
Family
ID=67179129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017242375A Active JP7125262B2 (ja) | 2017-12-19 | 2017-12-19 | シャワーヘッド用ガス分配体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7125262B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7189371B2 (ja) * | 2019-09-30 | 2022-12-13 | 京セラ株式会社 | プラズマ処理装置用部材およびこれを備えるプラズマ処理装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010034514A (ja) | 2008-07-01 | 2010-02-12 | Ngk Insulators Ltd | 接合構造体、その製造方法及び静電チャック |
JP2014509783A (ja) | 2011-03-04 | 2014-04-21 | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | ハイブリッドセラミックシャワーヘッド |
JP2016122724A (ja) | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 京セラ株式会社 | 半導体製造装置用部品 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09213455A (ja) * | 1996-02-05 | 1997-08-15 | Kyocera Corp | ウエハ保持装置の給電構造 |
-
2017
- 2017-12-19 JP JP2017242375A patent/JP7125262B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010034514A (ja) | 2008-07-01 | 2010-02-12 | Ngk Insulators Ltd | 接合構造体、その製造方法及び静電チャック |
JP2014509783A (ja) | 2011-03-04 | 2014-04-21 | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | ハイブリッドセラミックシャワーヘッド |
JP2016122724A (ja) | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 京セラ株式会社 | 半導体製造装置用部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019108588A (ja) | 2019-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100859061B1 (ko) | 정전 척 | |
KR100885060B1 (ko) | 플라즈마 발생용 전극내장형 서셉터 및 그 제조 방법 | |
TWI438862B (zh) | Electrostatic sucker | |
JP6804878B2 (ja) | 加熱部材及び静電チャック | |
US20230030510A1 (en) | Electrostatic chuck and substrate fixing device | |
KR100553444B1 (ko) | 서셉터 및 그 제조방법 | |
JP6758143B2 (ja) | 加熱装置 | |
CN107889288B (zh) | 加热装置 | |
JP7125262B2 (ja) | シャワーヘッド用ガス分配体 | |
JP7042170B2 (ja) | シャワーヘッド用ガス分配体 | |
JP2010114351A (ja) | 静電チャック装置 | |
JP6636812B2 (ja) | 半導体製造装置用部品 | |
US20210082731A1 (en) | Substrate fixing device and electrostatic chuck | |
JP2016072477A (ja) | 静電チャック | |
JP7265930B2 (ja) | 加熱装置および加熱装置の製造方法 | |
JP2019161134A (ja) | 保持装置の製造方法および保持装置 | |
JP6910834B2 (ja) | 半導体製造装置用部品の製造方法 | |
JP6917180B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP2013115352A (ja) | 静電チャック及びその製造方法、基板温調固定装置 | |
JP2022048064A (ja) | 保持装置 | |
JP6903512B2 (ja) | 接合体 | |
JP2019175882A (ja) | 加熱装置 | |
JP7265941B2 (ja) | 接合体 | |
JP7240232B2 (ja) | 保持装置 | |
JP7098376B2 (ja) | 加熱装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210817 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220413 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220726 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220812 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7125262 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |