JP7042170B2 - シャワーヘッド用ガス分配体 - Google Patents
シャワーヘッド用ガス分配体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7042170B2 JP7042170B2 JP2018118832A JP2018118832A JP7042170B2 JP 7042170 B2 JP7042170 B2 JP 7042170B2 JP 2018118832 A JP2018118832 A JP 2018118832A JP 2018118832 A JP2018118832 A JP 2018118832A JP 7042170 B2 JP7042170 B2 JP 7042170B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas distributor
- exposed electrode
- gas
- shower head
- depth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
A-1.シャワーヘッド10の構成:
図1は、第1実施形態におけるシャワーヘッド10の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、第1実施形態におけるシャワーヘッド10のXZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、第1実施形態におけるシャワーヘッド10を構成するガス分配体100の上側のXY平面構成を概略的に示す説明図である。また、図4は、図3のIV-IVの位置におけるシャワーヘッド10の一部分のXZ断面構成(図2のX1部に相当する断面構成)を拡大して示す説明図であり、図5は、図3のV-Vの位置におけるシャワーヘッド10の一部分のYZ断面構成を拡大して示す説明図である。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向と呼び、Z軸負方向を下方向と呼ぶものとするが、シャワーヘッド10は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。他の図についても同様である。また、本明細書では、Z軸方向に直交する方向を、面方向と呼ぶものとする。
次に、ガス分配体100のセラミックス板102の上面S1に形成された溝110と、この溝110の底面113に配置された露出電極50との構成について、詳細に説明する。
次に、本実施形態のシャワーヘッド10を構成するガス分配体100の製造方法の一例について説明する。図6は、ガス分配体100の製造方法の一例を示すフローチャートであり、図7は、ガス分配体100の製造方法の各段階における装置のXZ断面構成を模式的に示す説明図であり、図8は、ガス分配体100の製造方法の各段階における装置のXY平面構成を模式的に示す説明図である。
以上説明したように、本実施形態のシャワーヘッド10を構成するガス分配体(シャワーヘッド用ガス分配体)100は、セラミックス板102と、露出電極50と、内部電極40とを備える。セラミックス板102は、Z軸方向に略垂直な略平板状の部材であり、Z軸方向視で円環状の溝110が形成された上面S1と、上面S1とは反対側に位置し、複数のガス噴出孔101が開口している下面S2とを有する。露出電極50は、セラミックス板102に形成された溝110の底面113に配置されている。内部電極40は、セラミックス板102の内部に配置され、露出電極50と電気的に接続されている。また、セラミックス板102に形成された溝110は、第1の深さD1を有する深溝部111と、深溝部111に対して溝110の周方向CDに並び、第1の深さD1より浅い第2の深さD2を有する浅溝部112とを含む。露出電極50は、溝110の内、浅溝部112の底面113に配置されている。本実施形態のガス分配体100は、このような構成であるため、以下に説明するように、ガス分配体100が備える露出電極50とガス供給体200が備える接触リング90との間の接触不良の発生を抑制しつつ、電極材料の使用量の不必要な増大を避けることができる。
図10は、第2実施形態におけるシャワーヘッド10aの一部分のYZ断面構成を示す説明図である。図10には、図5に示された第1実施形態のシャワーヘッド10の一部分のYZ断面構成に対応する第2実施形態のシャワーヘッド10aの一部分のYZ断面構成が示されている。以下では、第2実施形態のシャワーヘッド10aの構成の内、上述した第1実施形態のシャワーヘッド10の構成と同一の構成については、同一の符号を付すことによってその説明を適宜省略する。
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
Claims (3)
- 第1の方向に略垂直な略平板状のセラミックス部材であって、前記第1の方向視で円環状の溝が形成された第1の表面と、前記第1の表面とは反対側に位置し、複数のガス噴出孔が開口している第2の表面と、を有するセラミックス部材と、
前記セラミックス部材に形成された前記溝の底面に配置された露出電極と、
前記セラミックス部材の内部に配置され、前記露出電極と電気的に接続された内部電極と、
を備えるシャワーヘッド用ガス分配体において、
前記セラミックス部材に形成された前記溝は、第1の深さD1を有する深溝部と、前記深溝部に対して前記溝の周方向に並び、前記第1の深さD1より浅い第2の深さD2を有する浅溝部と、を含み、
前記露出電極は、前記浅溝部の前記底面に配置されている、
ことを特徴とするシャワーヘッド用ガス分配体。 - 請求項1に記載のシャワーヘッド用ガス分配体において、
前記第1の深さD1と前記第2の深さD2との差(D1-D2)と、前記露出電極の高さH1と、の和(D1-D2+H1)は、前記深溝部における最大うねりより大きい、
ことを特徴とするシャワーヘッド用ガス分配体。 - 請求項1または請求項2に記載のシャワーヘッド用ガス分配体において、
前記露出電極は、前記浅溝部の前記底面における、周方向の一方の縁部から他方の縁部まで延びている、
ことを特徴とするシャワーヘッド用ガス分配体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018118832A JP7042170B2 (ja) | 2018-06-22 | 2018-06-22 | シャワーヘッド用ガス分配体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018118832A JP7042170B2 (ja) | 2018-06-22 | 2018-06-22 | シャワーヘッド用ガス分配体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019220639A JP2019220639A (ja) | 2019-12-26 |
JP7042170B2 true JP7042170B2 (ja) | 2022-03-25 |
Family
ID=69096982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018118832A Active JP7042170B2 (ja) | 2018-06-22 | 2018-06-22 | シャワーヘッド用ガス分配体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7042170B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2022260042A1 (ja) * | 2021-06-07 | 2022-12-15 | ||
JP2024021368A (ja) * | 2022-08-03 | 2024-02-16 | 日本発條株式会社 | 成膜用反応性ガスを射出するためのヘッドとその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011080876A1 (ja) | 2009-12-28 | 2011-07-07 | パナソニック株式会社 | プラズマドーピング装置 |
JP2014509783A (ja) | 2011-03-04 | 2014-04-21 | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | ハイブリッドセラミックシャワーヘッド |
US20170211185A1 (en) | 2016-01-22 | 2017-07-27 | Applied Materials, Inc. | Ceramic showerhead with embedded conductive layers |
JP2017135260A (ja) | 2016-01-28 | 2017-08-03 | 京セラ株式会社 | 半導体製造装置用部品 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06321684A (ja) * | 1993-05-18 | 1994-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板加熱装置 |
JP3290036B2 (ja) * | 1994-10-18 | 2002-06-10 | 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社 | ドライエッチング装置およびドライエッチング方法 |
-
2018
- 2018-06-22 JP JP2018118832A patent/JP7042170B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011080876A1 (ja) | 2009-12-28 | 2011-07-07 | パナソニック株式会社 | プラズマドーピング装置 |
JP2014509783A (ja) | 2011-03-04 | 2014-04-21 | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | ハイブリッドセラミックシャワーヘッド |
US20170211185A1 (en) | 2016-01-22 | 2017-07-27 | Applied Materials, Inc. | Ceramic showerhead with embedded conductive layers |
JP2017135260A (ja) | 2016-01-28 | 2017-08-03 | 京セラ株式会社 | 半導体製造装置用部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019220639A (ja) | 2019-12-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8525418B2 (en) | Electrostatic chuck | |
JP7042170B2 (ja) | シャワーヘッド用ガス分配体 | |
JP4163200B2 (ja) | セラミックパッケージ及びその製造方法、多数個取り用セラミックパッケージ及びその製造方法 | |
US10034383B2 (en) | Manufacturing method of part-mounting package | |
JP6758143B2 (ja) | 加熱装置 | |
US8952269B2 (en) | Wiring substrate, multi-piece wiring substrate array, and manufacturing method therefor | |
JP6767833B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP4768333B2 (ja) | 静電チャック | |
JP2007095927A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP5214414B2 (ja) | 半導体製造装置用接続部及び半導体製造装置用接続部の形成方法 | |
US7633738B2 (en) | Electrostatic chuck and manufacturing method thereof | |
JP2006270048A (ja) | 積層セラミック電子部品及びその製造方法 | |
JP7125262B2 (ja) | シャワーヘッド用ガス分配体 | |
JP2014049685A (ja) | 半導体製造用部品 | |
JP6910834B2 (ja) | 半導体製造装置用部品の製造方法 | |
JP2023088622A (ja) | ウエハ載置台 | |
JP7265930B2 (ja) | 加熱装置および加熱装置の製造方法 | |
JP2005277008A (ja) | 外部電極内蔵層の形成方法およびそれを使用する積層型電子部品の製造方法 | |
JP6917180B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP2013115352A (ja) | 静電チャック及びその製造方法、基板温調固定装置 | |
JP5642722B2 (ja) | 半導体製造装置用接続部及び半導体製造装置用接続部の形成方法 | |
JP7038496B2 (ja) | 半導体製造装置用部品、および、半導体製造装置用部品の製造方法 | |
JP7498605B2 (ja) | セラミックス部材、保持装置、及びセラミックス部材の製造方法 | |
JP7524028B2 (ja) | トンネル付セラミック部材の製造方法及びトンネル付セラミック部材 | |
JP2019026498A (ja) | 接合体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220228 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220301 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220314 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7042170 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |