JP7092850B2 - アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、成膜方法、電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、電子デバイスの製造装置の一部の構成を模式的に示す平面図である。
図2は、成膜装置11の構成を示す模式図である。以下の説明においては、基板Wの成膜面に平行な面(XY平面)において交差する2つの方向をX方向(第1方向)とY方向(第2方向)とし、基板Wの成膜面に垂直な鉛直方向をZ方向(第3方向)とするXYZ直交座標系を用いる。また、Z軸まわりの回転角(回転方向)をθで表す。
図3は、本発明の一実施形態によるアライメント装置の構成を示す模式図である。
図5は、本発明の一実施形態によるアライメント方法を示すフローチャートである。以下、図5を参照して、基板WとマスクMの相対位置を調整(アライメント)する方法について説明する。
以下、本実施形態によるアライメント方法を採用した成膜方法について説明する。
次に、本実施形態の成膜装置を用いた電子デバイスの製造方法の一例を説明する。以下、電子デバイスの例として有機EL表示装置の構成及び製造方法を例示する。
Claims (13)
- 基板に形成された基板のアライメントマークとマスクに形成されたマスクのアライメントマークを含む画像を取得するカメラと、
前記基板のアライメントマークと前記マスクのアライメントマークに光を照射する光源と、
前記基板の基板面または前記マスクのマスク面に垂直である方向に前記カメラの位置を移動させるカメラ移動手段と、
前記カメラ移動手段で前記カメラを前記方向に移動させて取得した複数の画像の前記基板のコントラスト値及び前記マスクのコントラスト値の少なくとも一方に基づいて、前記基板のアライメントマークと前記マスクのアライメントマークの少なくとも一方に対する前記カメラの基準位置を決定する基準位置決定手段と、
基準光量情報を格納するメモリと、
前記基準位置決定手段によって決定された前記基準位置において前記カメラで取得した画像の前記基板のコントラスト値及び前記マスクのコントラスト値の少なくとも一方に基づいて、前記光源からの光量に関する光量情報を取得する光量情報取得手段と、
前記光量情報取得手段により取得された前記光量情報が前記基準光量情報よりも小さい場合であって前記光源の出力が所定値よりも小さい場合に、前記光源の出力を調整する光源出力調整手段と、
前記光源出力調整手段により出力が調整された前記光源によって光が照射された前記基板のアライメントマークと前記マスクのアライメントマークを前記カメラで撮影した画像に基づいて、前記基板と前記マスクとの相対位置を調整するアライメントステージ機構と、
前記光量情報取得手段により取得された前記光量情報が前記基準光量情報よりも小さい場合であって前記光源の出力が前記所定値以上の場合に、前記光源が交換時期であることを知らせる通知手段と、
を含むことを特徴とするアライメント装置。 - 前記光源出力調整手段は、前記基板と前記マスクとの相対位置を調整する動作をN(Nは自然数)回行う度に、前記光源の出力を調整することを特徴とする請求項1に記載のアライメント装置。
- 前記Nは1であることを特徴とする請求項2に記載のアライメント装置。
- 前記光源出力調整手段は、前記光量情報取得手段によって取得した前記光量情報が前記基準光量情報よりも小さい場合であって前記光源の出力が所定の基準値よりも小さい場合、前記光源の出力を大きくすることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のアライメント装置。
- 前記基準位置決定手段は、前記基板のコントラスト値が最大となる第1の位置と、前記マスクのコントラスト値が最大となる第2の位置のいずれかを、前記基準位置として決定することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のアライメント装置。
- マスクを介して基板に蒸着材料を成膜するための成膜装置であって、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のアライメント装置を含むことを特徴とする成膜装置。
- 基板とマスクの相対位置を調整するアライメント方法であって、
基板に形成された基板のアライメントマークとマスクに形成されたマスクのアライメントマークを含む画像を取得するカメラと、前記基板のアライメントマークと前記マスクのアライメントマークに光を照射する光源と、前記基板の基板面または前記マスクのマスク面に垂直である方向に前記カメラの位置を移動させるカメラ移動手段と、を用いて、前記カメラ移動手段で前記カメラを前記方向に移動させて取得した複数の画像の前記基板のコントラスト値及び前記マスクのコントラスト値の少なくとも一方に基づいて、前記基板のアライメントマークと前記マスクのアライメントマークの少なくとも一方に対する前記カメラの基準位置を決定する基準位置決定ステップと、
前記基準位置決定ステップによって決定された前記基準位置において前記カメラで取得した画像の前記基板のコントラスト値及び前記マスクのコントラスト値の少なくとも一方に基づいて、前記光源からの光量に関する光量情報を取得する光量情報取得ステップと、
前記光量情報取得ステップで取得した前記光量情報がメモリに格納された基準光量情報よりも小さい場合であって前記光源の出力が所定値よりも小さい場合に、前記光源の出力を調整する光源出力調整ステップと、
前記光源出力調整ステップにより出力が調整された前記光源によって光が照射された前記基板のアライメントマークと前記マスクのアライメントマークを前記カメラで撮影した画像に基づいて、前記基板と前記マスクとの相対位置を調整する相対位置調整ステップと、
前記光量情報取得ステップで取得した前記光量情報が前記基準光量情報よりも小さい場合であって前記光源の出力が前記所定値以上の場合に、前記光源が交換時期であることを知らせる通知ステップと、
を有することを特徴とするアライメント方法。 - 前記光源出力調整ステップは、前記相対位置調整ステップによって前記基板と前記マスクとの相対位置を調整する動作をN(Nは自然数)回行う度に、行われることを特徴とする請求項7に記載のアライメント方法。
- 前記Nは1であることを特徴とする請求項8に記載のアライメント方法。
- 前記光源出力調整ステップでは、前記光量情報取得ステップによって取得した前記光量情報による光量値が前記基準光量情報による基準光量値より小さい場合であって前記光源の出力が所定の基準値よりも小さい場合、前記光源の出力を大きくすることを特徴とする請求項7乃至請求項9のいずれか一項に記載のアライメント方法。
- 前記基準位置決定ステップは、前記基板のコントラスト値が最大となる第1の位置と、前記マスクのコントラスト値が最大となる第2の位置のいずれかを、前記基準位置として決定することを特徴とする請求項7乃至請求項10のいずれか一項に記載のアライメント方法。
- マスクを介して基板に蒸着材料を成膜するための成膜方法であって、
請求項7乃至請求項11のいずれか一項に記載のアライメント方法を含むことを特徴とする成膜方法。 - 請求項12に記載の成膜方法を用いて電子デバイスを製造することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
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