JP7083981B2 - 強分極分子およびそれを用いて調製された単一分子電界効果トランジスタ - Google Patents
強分極分子およびそれを用いて調製された単一分子電界効果トランジスタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP7083981B2 JP7083981B2 JP2020550619A JP2020550619A JP7083981B2 JP 7083981 B2 JP7083981 B2 JP 7083981B2 JP 2020550619 A JP2020550619 A JP 2020550619A JP 2020550619 A JP2020550619 A JP 2020550619A JP 7083981 B2 JP7083981 B2 JP 7083981B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molecule
- group
- graphene
- compound
- effect transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000005669 field effect Effects 0.000 title claims description 112
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 118
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims description 99
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 29
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 20
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 15
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- -1 M 2 Chemical compound 0.000 claims description 12
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 98
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 description 60
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 53
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 50
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 43
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 27
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 26
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 22
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 19
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 18
- GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N (2S,3R)-N-[(2S)-3-(cyclopenten-1-yl)-1-[(2R)-2-methyloxiran-2-yl]-1-oxopropan-2-yl]-3-hydroxy-3-(4-methoxyphenyl)-2-[[(2S)-2-[(2-morpholin-4-ylacetyl)amino]propanoyl]amino]propanamide Chemical compound C1(=CCCC1)C[C@@H](C(=O)[C@@]1(OC1)C)NC([C@H]([C@@H](C1=CC=C(C=C1)OC)O)NC([C@H](C)NC(CN1CCOCC1)=O)=O)=O GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 17
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 16
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 13
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 13
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 13
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 13
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 12
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 7
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 7
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 description 7
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 6
- UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 1-[6-[2-[3-[3-[3-[2-[2-[3-[[2-[2-[[(2r)-1-[[2-[[(2r)-1-[3-[2-[2-[3-[[2-(2-amino-2-oxoethoxy)acetyl]amino]propoxy]ethoxy]ethoxy]propylamino]-3-hydroxy-1-oxopropan-2-yl]amino]-2-oxoethyl]amino]-3-[(2r)-2,3-di(hexadecanoyloxy)propyl]sulfanyl-1-oxopropan-2-yl Chemical compound O=C1C(SCCC(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(=O)N[C@@H](CSC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CO)C(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(N)=O)CC(=O)N1CCNC(=O)CCCCCN\1C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2CC/1=C/C=C/C=C/C1=[N+](CC)C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C1 UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 108010021119 Trichosanthin Proteins 0.000 description 6
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 6
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 6
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 6
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 6
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 6
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000005685 electric field effect Effects 0.000 description 4
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N tert-butoxycarbonyl anhydride Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OC(=O)OC(C)(C)C DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UKSZBOKPHAQOMP-SVLSSHOZSA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 UKSZBOKPHAQOMP-SVLSSHOZSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- ZTQSADJAYQOCDD-UHFFFAOYSA-N ginsenoside-Rd2 Natural products C1CC(C2(CCC3C(C)(C)C(OC4C(C(O)C(O)C(CO)O4)O)CCC3(C)C2CC2O)C)(C)C2C1C(C)(CCC=C(C)C)OC(C(C(O)C1O)O)OC1COC1OCC(O)C(O)C1O ZTQSADJAYQOCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 3
- ZGJXAIOPBAMFSE-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-(4-ethynylphenyl)carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NC1=CC=C(C#C)C=C1 ZGJXAIOPBAMFSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 2
- ONCCWDRMOZMNSM-FBCQKBJTSA-N compound Z Chemical compound N1=C2C(=O)NC(N)=NC2=NC=C1C(=O)[C@H]1OP(O)(=O)OC[C@H]1O ONCCWDRMOZMNSM-FBCQKBJTSA-N 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N diboron Chemical compound B#B ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 2
- FVIZARNDLVOMSU-UHFFFAOYSA-N ginsenoside K Natural products C1CC(C2(CCC3C(C)(C)C(O)CCC3(C)C2CC2O)C)(C)C2C1C(C)(CCC=C(C)C)OC1OC(CO)C(O)C(O)C1O FVIZARNDLVOMSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 2
- SMNXUMMCCOZPPN-UHFFFAOYSA-N para-bromoamphetamine Chemical compound CC(N)CC1=CC=C(Br)C=C1 SMNXUMMCCOZPPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 2
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- CUDCEJRRWNIPDL-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-[[4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenyl]methyl]carbamate Chemical compound C1=CC(CNC(=O)OC(C)(C)C)=CC=C1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 CUDCEJRRWNIPDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UVNPEUJXKZFWSJ-LMTQTHQJSA-N (R)-N-[(4S)-8-[6-amino-5-[(3,3-difluoro-2-oxo-1H-pyrrolo[2,3-b]pyridin-4-yl)sulfanyl]pyrazin-2-yl]-2-oxa-8-azaspiro[4.5]decan-4-yl]-2-methylpropane-2-sulfinamide Chemical compound CC(C)(C)[S@@](=O)N[C@@H]1COCC11CCN(CC1)c1cnc(Sc2ccnc3NC(=O)C(F)(F)c23)c(N)n1 UVNPEUJXKZFWSJ-LMTQTHQJSA-N 0.000 description 1
- KARUMYWDGQTPFL-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromo-5-iodobenzene Chemical compound BrC1=CC(Br)=CC(I)=C1 KARUMYWDGQTPFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide Substances CCN=C=NCCCN(C)C LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSVQKOKKLWHNRP-UHFFFAOYSA-N 3-ethylheptane Chemical compound CCCCC(CC)CC PSVQKOKKLWHNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDBQJSCPCGTAFG-QHCPKHFHSA-N 4,4-difluoro-N-[(1S)-3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-pyridin-3-ylpropyl]cyclohexane-1-carboxamide Chemical compound FC1(CCC(CC1)C(=O)N[C@@H](CCN1CCC(CC1)N1C(=NN=C1C)C(C)C)C=1C=NC=CC=1)F WDBQJSCPCGTAFG-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- BWGRDBSNKQABCB-UHFFFAOYSA-N 4,4-difluoro-N-[3-[3-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)-8-azabicyclo[3.2.1]octan-8-yl]-1-thiophen-2-ylpropyl]cyclohexane-1-carboxamide Chemical compound CC(C)C1=NN=C(C)N1C1CC2CCC(C1)N2CCC(NC(=O)C1CCC(F)(F)CC1)C1=CC=CS1 BWGRDBSNKQABCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISCEQDFKRTNBB-UHFFFAOYSA-N 4-(3-bromophenyl)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=CC(Br)=C1 CISCEQDFKRTNBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUGPIZCTELGDOS-QHCPKHFHSA-N N-[(1S)-3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-pyridin-3-ylpropyl]cyclopentanecarboxamide Chemical compound C(C)(C)C1=NN=C(N1C1CCN(CC1)CC[C@@H](C=1C=NC=CC=1)NC(=O)C1CCCC1)C NUGPIZCTELGDOS-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- LFZAGIJXANFPFN-UHFFFAOYSA-N N-[3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-thiophen-2-ylpropyl]acetamide Chemical compound C(C)(C)C1=NN=C(N1C1CCN(CC1)CCC(C=1SC=CC=1)NC(C)=O)C LFZAGIJXANFPFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQNNKCMXARUMQR-UHFFFAOYSA-J [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[Ru+](Cl)(Cl)Cl Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[Ru+](Cl)(Cl)Cl UQNNKCMXARUMQR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- DHCWLIOIJZJFJE-UHFFFAOYSA-L dichlororuthenium Chemical compound Cl[Ru]Cl DHCWLIOIJZJFJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005421 electrostatic potential Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- DCPMPXBYPZGNDC-UHFFFAOYSA-N hydron;methanediimine;chloride Chemical compound Cl.N=C=N DCPMPXBYPZGNDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- SVQVBAUJEKSBEC-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-(4-formylphenyl)carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NC1=CC=C(C=O)C=C1 SVQVBAUJEKSBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSJNIOYPTSKQBD-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-[4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenyl]carbamate Chemical compound C1=CC(NC(=O)OC(C)(C)C)=CC=C1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 HSJNIOYPTSKQBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/52—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of imines or imino-ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C15/00—Cyclic hydrocarbons containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts
- C07C15/20—Polycyclic condensed hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/01—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C211/26—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
- C07C211/30—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the six-membered aromatic ring being part of a condensed ring system formed by two rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/01—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C211/26—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
- C07C211/31—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the six-membered aromatic ring being part of a condensed ring system formed by at least three rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/52—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring condensed with a ring other than six-membered
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D333/78—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with rings other than six-membered or with ring systems containing such rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
- C07F15/0046—Ruthenium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
- C07F15/0046—Ruthenium compounds
- C07F15/0053—Ruthenium compounds without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/02—Iron compounds
- C07F15/025—Iron compounds without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/02—Iron compounds
- C07F15/03—Sideramines; The corresponding desferri compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/06—Cobalt compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table
- C07F3/003—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table
- C07F3/06—Zinc compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/701—Organic molecular electronic devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/331—Metal complexes comprising an iron-series metal, e.g. Fe, Co, Ni
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/341—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes
- H10K85/344—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes comprising ruthenium
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/381—Metal complexes comprising a group IIB metal element, e.g. comprising cadmium, mercury or zinc
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/615—Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene
- H10K85/624—Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene containing six or more rings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/655—Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising only sulfur as heteroatom
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6572—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only nitrogen in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. phenanthroline or carbazole
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
まず、本願は一般式(I)で表す強分極分子を提供している。
(ここで、Aは分極率が2C・m2/Vより大きい基を表し;
R1、R2は、それぞれ、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、C1~12アルキル基、C1~12アルコキシ基、ハロゲン化C1~12アルキル基、ハロゲン化C1~12アルコキシ基、ヒドロキシル基C1~12アルキル基、ヒドロキシル基C1~12アルコキシ基、または、C1~12アルキルアミノ基、からなる群から選ばれるいずれか一つを表し;
x1、x2は、それぞれ、0または正整数を表し、好ましくは0≦x1≦3,0≦x2≦3を表し;より具体的に、x1、x2はそれぞれ0、1、2または3を表し;
y1、y2は、それぞれ、0または正整数を表し、好ましくは0≦y1≦2,0≦y2≦2を表し;より具体的に、y1、y2はそれぞれ0、1または2を表す。)
同様に、本願のある実施形態において、y1、y2は同一でも異なっていてもよく;
本願のある実施形態は上述の一般式(I)で表される強分極分子に関し、ここで、Aは下記を表す。
(R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12は、それぞれ、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、C1~12アルキル基、C1~12アルコキシ基、ハロゲン化C1~12アルキル基、ハロゲン化C1~12アルコキシ基、ヒドロキシル基C1~12アルキル基、ヒドロキシル基C1~12アルコキシ基またはC1~12アルキルアミノ基、からなる群から選ばれるいずれか一つを表し;
M1、M2、M3、M4、M5およびM6は、それぞれ、錯体の中心原子または中心イオンを表し、好ましくは、M1、M2、M3、M4、M5およびM6はそれぞれRu、Fe、Zn、Mn、Co、Ni、または、それらのカチオンから選択され;
n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7、n8、n9、n10、n11、n12、n13、n14、n15、n16およびn17は、それぞれ正整数を表し、好ましくは、n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7、n8、n9、n10、n11、n12、n13、n14、n15、n16およびn17は3以下である。)
本明細書において、用語「ハロゲン」はフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を指す。
(ここで、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、M1、M2、M3、M4、M5、M6、n2、n6、n7、n8、n9、n10、n11、n12、n13、n14、n15、n16、n17、x1、x2、y1、y2の定義は上述のとおりである。)
(1)ナノギャップを有する二次元単層グラフェンを調製し、そのナノギャップを有する二次元単層グラフェンは担体上に構築されてもよい、ステップ;
(2)本願で提供される強分極分子、脱水剤(例えば:1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩,EDCI)を有機溶媒(例えば:ピリジン)に溶解し、連結する前の分子溶液を得る、ステップ;
(3)この溶液にナノギャップを有する二次元単層グラフェンを加えて(担体ごと加えてもよい)、光のない条件下で1~4日反応させて、洗浄して、乾燥すればよい、ステップ;
を含む強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合の調製方法を更に提供する。
誘電体層は酸化ハフニウム層で、ゲート電極はグラフェン層であり;または
誘電体層は酸化ジルコニウム層で、ゲート電極はグラフェン層であり;または
誘電体層は酸化チタン層で、ゲート電極はグラフェン層であり;または
誘電体層は酸化アルミニウム層で、ゲート電極は金属アルミニウム層であり;または
誘電体層は酸化アルミニウムと酸化ハフニウムの複合層で、ゲート電極は金属アルミニウム層である。
または
図2が示してあるように、強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合が基板上に設置され、誘電体層が強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合上に設置されることにより、トップゲート構造を形成する。
組み合わせ1、組み合わせ2、組み合わせ3について、化学気相蒸着法で成長させた単層グラフェン(参考文献Sci.Rep.2012,2,707.)を基板(例えば、300nmの酸化層を有するシリコンウエーハー)上に移して、ゲート電極(ボトムゲートと称する)とし(参考文献ACS Nano 2011,5,6916.);そして、ボトムゲート上に誘電体層を形成し;三種の誘電体層の厚さはいずれ3~10nmであっても良い。その中、酸化ハフニウムは原子層堆積法とソルゲル法(参考文献Adv.Mater.2015,27,2113.)を採用して調製して得られ、その中、ソルゲル法は相対的に安価であるため、より好ましい。酸化ジルコニウムと酸化チタンはいずれ電子線蒸着法または原子層堆積法により調製して得られる。
図2はトップ構造の単一分子電界効果トランジスタの構造模式図であリ;
図3は実施例1で調製した化合物1に基づく単一分子電界効果トランジスタのI-V特性曲線であリ;
図4は実施例2で調製した化合物2に基づく単一分子電界効果トランジスタのゲート電圧-2V~+2V範囲内のI-V特性曲線であリ;
図5は実施例3で調製した化合物3に基づく単一分子電界効果トランジスタのゲート電圧-2V~+2V範囲内のI-V特性曲線であリ;
図6は実施例4で調製した化合物4に基づく単一分子電界効果トランジスタのゲート電圧-2V~+2V範囲内のI-V特性曲線であリ;
図7は実施例5で調製した化合物5に基づく単一分子電界効果トランジスタのゲート電圧-2V~+2V範囲内のI-V特性曲線であリ;
図8は実施例6で調製した化合物6に基づく単一分子電界効果トランジスタのゲート電圧-2V~+2V範囲内のI-V特性曲線であリ;
図9は実施例7で調製した化合物7に基づく単一分子電界効果トランジスタのゲート電圧-2V~+2V範囲内のI-V特性曲線である。
グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、ボトムゲート構造の電界効果トランジスタを構築し:
まず、ボトムゲートとして、化学気相蒸着法で成長させた単層グラフェンを300nmの酸化層を有するシリコンウエーハーに移し;
ソルゲル法を採用してボトムゲート上に5nmの酸化ハフニウム層を蒸着させ;
誘電体層上にナノギャップを有する二次元単層グラフェンを構築し、アセンブルする前の分子デバイスを得て;
アセンブルする前の分子デバイス上に強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、単一分子電界効果トランジスタを得て、具体的な過程は下記のとおりであり:
まず、化合物1とカルボジイミド脱水剤-活性化剤である1-エチル-3-(3-ジメチルアミノポロピル)カルボジイミド塩酸塩(EDCI)を、濃度がそれぞれ10-4mol/Lと3×10-3mol/Lであるようにピリジンに溶かし、;次に、上述溶液にアセンブルする前の分子デバイスを加えた。暗い条件下、アルゴンガス雰囲気で48h反応させた。その後、溶液からデバイスを取り出し、アセトンと超純水でそれぞれ三回洗浄し、窒素ガス気流で乾燥させた。化合物1に基づく単一分子電界効果トランジスタデバイスを調製した。
(1)化合物2の合成:
合成経路は以下のとおり:
実施例1の方法に従って化合物Aを合成し;
100mLのシュレンク瓶に化合物A(697mg,1.00mmol)、4-(N-Boc-アミノメチル)フェニルボロン酸ピナコールエステル(734mg,2.20mmol)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(18.4mg,20μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(24.5mg,80.2μmol)、および無水炭酸カリウム(1.30g,9.43mmol)をこの順に加え、2滴のaliquat 336を加えた後、トルエン24mLと蒸留水6mLを注ぎ、凍結脱気法を使用して3サイクル繰り返して酸素を除去し、その後アルゴンガス雰囲気で反応物を90℃に加熱しながら、24h反応させた。冷却した後、反応混合物を水(50mL)に注いで、ジクロロメタン(3×30mL)で抽出した。有機相を合わせ、合わせた有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより解析して精製し、紫色の固体である化合物Cを得た。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ7.70(d,J=8.6Hz,2H),7.60-7.67(m,4H),7.40(ddd,J=8.5,1.5,0.5Hz,6H),4.32(s,4H),4.12(d,J=7.0Hz,4H),1.54-1.76(m,2H),1.44(s,18H),1.15-1.38(m,14H),0.76-0.91(m,16H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ172.83,156.03,148.85,145.64,143.21,133.63,133.12,128.11,127.67,126.29,121.45,100.02,79.66,46.33,43.70,38.65,32.60,32.11,30.79,29.64,28.61,28.30,25.09,23.56,22.79,14.09,14.06,11.51.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C55H72N4O6S2計算値は:949.50[M+H+]であり;実験値は:949.50であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物2を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物2に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物3の合成:
合成経路は以下のとおり:
実施例1の方法に従って化合物Aを合成し;
100mLのシュレンク瓶に化合物A(843mg,1.21mmol)、4-(N-Boc-アミノメチル)フェニルボロン酸ピナコールエステル(924mg,2.66mmol)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(22.3mg,24μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(29.6mg,97.0μmol)、無水炭酸カリウム(1.57g,11.41mmol)をこの順に加え、2滴のaliquat 336を加えた後、トルエン24mLと蒸留水6mLを注ぎ、凍結脱気法を使用して3サイクル繰り返して酸素を除去し、その後アルゴンガス雰囲気で反応物を90℃に加熱し、撹拌しながら24h反応させた。冷却した後、反応混合物を水(50mL)に注いで、ジクロロメタン(3×30mL)で抽出した。有機相を合わせ、合わせた有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより解析して精製し、紫色の固体である化合物Dを得た。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ7.72(d,J=8.6Hz,2H),7.64(ddd,J=8.5,1.5,0.5Hz,4H),7.39(d,J=8.6Hz,2H),7.19(ddd,J=8.2,1.5,0.5Hz,4H),4.13(d,J=7.0Hz,4H),3.50(t,J=5.3Hz,4H),2.55(t,J=5.3Hz,4H),1.54-1.76(m,2H),1.43(s,18H),1.15-1.38(m,14H),0.76-0.91(m,16H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ172.83,156.24,148.85,145.64,136.73,133.63,132.41,128.18,127.67,126.64,121.45,100.02,79.52,46.33,42.33,38.65,35.31,32.60,32.11,30.79,29.64,28.61,28.30,25.09,23.56,22.79,14.09,14.06,11.51.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C57H76N4O6S2計算値は:977.53[M+H+]であり;実験値は:977.50であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物3を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物3に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物4の合成:
合成経路は以下のとおり:
アルゴンガス雰囲気で50mLの反応フラスコにジクロロメタン(15mL)と、p-ブロモアンフェタミン(1.293g,6.04mmol)と、トリエチルアミン(944mg,1.3mL,9.33mmol)とを加え、反応フラスコを氷水浴に入れ、撹拌しながらジ-tert-ブチルジカーボネート(1.61g,1.7mL,7.40mmol)を滴下し、自然昇温で4時間反応させた後、反応液をジクロロメタン(30mL)に注ぎ、水洗浄(2×20mL)と飽和塩化ナトリウム溶液洗浄(20mL)をこの順にして、その後無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより解析して精製し、無色の油状液体である化合物Eを得た。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ7.45-7.39(m,2H),7.12-7.06(m,2H),3.24(t,J=5.0Hz,2H),2.61-2.53(m,2H),1.77(tt,J=8.0,5.0Hz,2H),1.44(s,9H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ156.19,140.06,131.22,129.96,119.50,79.52,40.56,33.48,30.67,28.30.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C14H20BrNO2計算値は:314.07[M+H+]であり;実験値は:314.01であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物4を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物4に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物5の合成:
合成経路は以下のとおり:
50mLのシュレンク瓶にビス[1,2-ビス(ジフェニルホスフィン)エタン]二塩化ルテニウム(223mg,0.23mmol)、N-Boc-4-エチニルアニリン(150mg,0.69mmol)、ヘキサフルオロリン酸ナトリウム(154mg,0.92mmol)を加えた後、乾燥されたジクロロメタン(15mL)で溶かし、アルゴンガス雰囲気で上述反応液にトリエチルアミン(0.190mL)を滴下し、35℃で撹拌しながら24h反応させた。反応を停止した後ろ過し、ろ液は減圧で溶媒を除去し、得られた固体をn-ペンタン(25mL)で洗浄し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより解析して精製し、黄色の固体である化合物Hを得た。31P NMR(162MHz,CDCl3,298K):δ53.4.1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ6.98-7.55(m,48H),2.45(m,8H),1.50(s,18H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ195.14,138.85,132.99,131.93,131.20,131.08,128.13,121.56,119.15,116.90,79.54,30.23,25.43,HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C78H76N2O4P4Ru計算値は:1331.44[M+H+]であり;実験値は:1331.39であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物5を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物5に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物6の合成:
合成経路は以下のとおり:
文献に述べられた方法(New J.Chem.,2011,35,2105-2113)で化合物Iを合成した。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物6を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物6に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物7の合成:
合成経路は以下のとおり:
100mLのシュレンク瓶にビス[1,2-ビス(ジフェニルホスフィン)エタン]塩化ルテニウムトリフレート(825mg,0.75mmol)とN-Boc-4-エチニルアニリン(330mg,1.52mmol)を加えた後、ジクロロメタン40mLで溶かし、アルゴンガス雰囲気で室温で6h反応させた後、ろ過し、ろ液は減圧で溶媒を除去した後、得られた沈澱物をジエチルエーテル(4×30mL)で洗浄し、暗い緑色の固体である化合物Kを得た。31P NMR(162MHz,CDCl3,298K):δ38.2.1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ7.51-7.05(m,40H),6.55(d,J=7.8Hz,2H),5.64(d,J=8.0Hz,2H),4.10(s,1H),2.92(m,8H),1.50(s,18H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ354.27,194.75,137.24,132.99,131.93,131.20,131.08,128.13,125.60,124.93,120.4,108.98,79.54,30.23,28.68.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C66H63ClF3NO5P4RuS計算値は:1300.21[M+H+]であり;実験値は:1300.20であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物7を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物7に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物8の合成:
合成経路は以下のとおり:
アルゴンガス雰囲気で50mLの反応フラスコにジクロロメタン(15mL)と、3-ブロモ-4’-アミノビフェニル(1.499g,6.04mmol)と、トリエチルアミン(944mg,1.3mL,9.33mmol)とを加え、反応フラスコを氷水浴に入れ、撹拌しながらジ-tert-ブチルジカーボネート(1.61g,1.7mL,7.40mmol)を滴下し、自然昇温で4時間反応させた後、反応液をジクロロメタン(30mL)に注ぎ、水洗浄(2×20mL)と飽和塩化ナトリウム溶液洗浄(20mL)をこの順にして、その後無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより解析して精製し、白色の固体である化合物Nを得た。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ7.78(t,J=2.0Hz,1H),7.72-7.65(m,2H),7.62(dt,J=7.5,2.0Hz,1H),7.53(dq,J=8.2,2.1Hz,3H),7.31(t,J=7.5Hz,1H),6.57(s,1H),1.50(s,9H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ153.93,143.43,137.44,136.75,131.50,130.90,130.48,127.82,126.46,126.38,123.40,80.43,28.16.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C17H18BrNO2計算値は:348.06[M+H+]であり;実験値は:348.06であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物8を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物8に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物9の合成:
合成経路は以下のとおり:
50mLの反応フラスコにメタノール(10mL)を加えて化合物P(182mg,0.316mmol)を溶かし、塩化亜鉛(26mg,0.158mmol)のメタノール溶液(10mL)を滴下し、アルゴンガス雰囲気で撹拌し、還流で4h反応させた。そして室温まで冷却し、沈殿物が完全に析出するまで過剰の飽和のヘキサフルオロリン酸アンモニウムのメタノール溶液を滴下してろ過し、得られた固体は蒸留水(2×10mL)とジエチルエーテル(2×10mL)でこの順にリンスした。粗生成物はアセトニトリルとアセトンの混合溶媒で再結晶し、化合物Rを得た。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ8.75(dd,J=7.5,1.4Hz,4H),8.59(d,J=8.0Hz,8H),7.94(t,J=2.0Hz,4H),7.66(dd,J=8.1,6.7Hz,4H),7.61-7.39(m,20H),7.00(td,J=7.4,1.6Hz,4H),1.50(s,18H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ195.12,156.16,153.93,152.39,151.10,149.69,142.64,140.08,139.77,138.88,138.77,137.44,136.75,129.45,129.37,129.27,128.17,128.15,127.82,127.76,126.46,125.60,125.08,122.82,80.43,28.16.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C76H64ZnN8O4計算値は:1017.45[M-2PF6 -+H+]であり;実験値は:1017.45であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物9を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物9に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物10の合成:
合成経路は以下のとおり:
50mLの反応フラスコにメタノール(10mL)を加えて化合物P(182mg,0.316mmol)を溶かし、塩化ルテニウム(33mg,0.158mmol)のメタノール溶液(10mL)を滴下し、アルゴンガス雰囲気で撹拌し、還流で4h反応させた。そして室温まで冷却し、沈殿物が完全に析出するまで過剰の飽和のヘキサフルオロリン酸アンモニウムのメタノール溶液を滴下してろ過し、得られた固体は蒸留水(2×10mL)とジエチルエーテル(2×10mL)でこの順にリンスした。粗生成物はアセトニトリルとアセトンの混合溶媒で再結晶し、赤色の固体である化合物Sを得た。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ9.05(dd,J=7.5,1.4Hz,4H),8.79(d,J=8.0Hz,8H),8.14(t,J=2.0Hz,4H),7.76(dd,J=8.1,6.7Hz,4H),7.71-7.49(m,20H),7.10(td,J=7.4,1.6Hz,4H),1.50(s,18H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K):δ195.12,155.16,153.93,152.39,150.10,149.69,142.54,141.08,139.77,138.94,138.67,137.44,136.75,129.45,129.37,129.27,128.17,128.15,127.82,127.76,126.46,125.60,125.08,122.82,80.43,28.16.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C76H64RuN8O4計算値は:1255.40[M-2PF6 -+H+]であり;実験値は:1255.40であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物10を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物10に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物11の合成:
合成経路は以下のとおり:
アルゴンガス雰囲気で反応フラスコに4-(Boc-アミノ)ベンズアルデヒド(2.212g,10mmol)とアセトフェノン(2.403g,20mmol)を加え、撹拌しながら三フッ化ホウ素エチルエーテル(4.258g,30mmol)を滴下し、100℃で3h反応させた後、反応液を室温まで冷却し、エチルエーテル(200mL)に注ぎ、析出した固体をろ過し、無水エタノールで再結晶した後、化合物Tを得て、黄色の固体であった。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ8.91-8.85(m,6H),7.80-7.72(m,4H),7.47-7.41(m,2H),7.23(tt,J=7.4,2.0Hz,2H),6.56-6.50(m,2H),1.50(s,9H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K)δ168.71,166.14,153.93,137.71,133.99,132.58,131.06,130.95,129.13,127.95,126.42,115.21,80.43,28.16.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C28H26NO3計算値は:425.19[M-BF4-+H+]であり;実験値は:425.19であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物11を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物11に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物12の合成:
合成経路は以下のとおり:
250mLのシュレンク瓶に1,3-ジブロモ-5-ヨードベンゼン(1.092g,3.02mmol)、4-(Boc-4-アミノ)フェニルボロン酸(455mg,3.32mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(34.9mg,30.3μmol)、無水炭酸カリウム(3.93g,28.5mmol)をこの順に加え、テトラヒドロフラン60mLと蒸留水15mLを注入し、凍結脱気法を使用して3サイクル繰り返して酸素を除去し、その後アルゴンガス雰囲気で反応物を90℃に加熱し、撹拌しながら24h反応させた。冷却した後、反応混合物を水(200mL)に注いで、ジクロロメタン(3×60mL)で抽出した。有機相を合わせ、合わせた有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより解析して精製し、化合物Yを得た。1H NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ7.76(q,J=1.4Hz,3H),7.72-7.65(m,2H),7.56-7.50(m,2H),6.57(s, 1H),1.50(s,9H).13C NMR(100MHz,CDCl3,298K)δ153.93,143.19,137.71,134.00,128.66,127.95,126.42,123.44,80.43,28.16.HRMS(TOF-ESI+)(m/z):C17H17Br2NO2計算値は:425.97[M+H+]であり;実験値は:425.97であった。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物12を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物12に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物13の合成:
合成経路は以下のとおり:
文献に記載される経路(European Journal of Medicinal Chemistry,102,277-287;2015)で化合物Z3を合成した。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物13を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物13に基づく電界効果トランジスタを調製した。
(1)化合物14の合成:
合成経路は以下のとおり:
文献に記載される経路(Chemistry-a European Journal,2001,7(22):4894-4901)で化合物Z7を合成した。
実施例1におけるトランジスタの調製方法を参照し、グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、化合物1の代わりに化合物14を使って強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、ボトムゲート構造の化合物14に基づく電界効果トランジスタを調製した。
グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ジルコニウムを誘電体層とし、ボトムゲート構造の電界効果トランジスタを構築し:
まず、実施例1で記載された方法でシリコンウエーハー上にボトムゲートを形成し;
電子線蒸着の方法を採用してボトムゲート上に5nmの酸化ジルコニウム層を蒸着し;
実施例1で記載された方法で誘電体層上に強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、単一分子電界効果トランジスタデバイスを得た。
グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化チタンを誘電体層とし、ボトムゲート構造の電界効果トランジスタを構築し:
まず、実施例1で記載された方法でシリコンウエーハー上にボトムゲートを形成し;
電子線蒸着の方法を採用してボトムゲート上に5nmの酸化チタン層を蒸着し;
実施例1で記載された方法で誘電体層上に強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し、単一分子電界効果トランジスタデバイスを得た。
アルミニウムをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化アルミニウムを誘電体層とし、ボトムゲート構造の電界効果トランジスタを構築し:
まず、電子線蒸着の方法によりシリコンウエーハー上に35nmのアルミニウム層を蒸着し;そして180℃で1時間加熱し、5nmの酸化アルミニウム層を調製した。
アルミニウムをゲート電極とし、厚さ3nmの酸化アルミニウムと2nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、ボトムゲート構造の電界効果トランジスタを構築し:
まず、電子線蒸着の方法によりシリコンウエーハー上に35nmのアルミニウム層を蒸着し;そして大気中で24時間放置し、自然酸化により3nmの酸化アルミニウム層を得て、更に原子層で2nmの酸化ハフニウム層を成長させた。
実施例19と実施例15の違いは、酸化ジルコニウムの厚さが3nmであることであった。
実施例20と実施例15の違いは、酸化ジルコニウムの厚さが10nmであることであった。
グラフェンをゲート電極とし、厚さ5nmの酸化ハフニウムを誘電体層とし、トップゲート構造の電界効果トランジスタを構築し:
実施例1で記載された方法を参照して、300nmの酸化層を有するシリコンウエーハー上に強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合を構築し;
別のシリコンウエーハー上にソルゲル法で厚さ5nmの酸化ハフニウム層を調製し、次に上に化学気相蒸着法で成長させたグラフェンを移し、更に上にPMMAをスピンコートし、最後にフッ化水素酸を使ってシリコンウエーハーをエッチングし、酸化ハフニウム/グラフェン/PMMAフィルムを脱イオン水とイソプロパノールでそれぞれ三回リンスした後、分子ヘテロ接合に設置し、化合物2に基づくトップゲート構造の単一分子電界効果トランジスタデバイスを得た。
実施例22と実施例21の違い:電子線蒸着の方法で調製した5nmの酸化ジルコニウム層を誘電体層とした。
実施例23と実施例21の違い:電子線蒸着の方法で調製した5nmの酸化チタン層を誘電体層とした。
実施例24
Agilent 4155C半導体試験機とKarl Suss(PM5)マニュアルプローブステーションを使って、実施例1~7で調製した単一分子電界効果トランジスタに対して性能試験をした。
Claims (18)
- 一般式(I)で表される強分極分子であって、
ここで、Aは下記一般式から選ばれる、分極率が2C・m2/Vより大きい基を表し;
R1、R2 、R 3 、R 4 、R 5 、R 6 、R 7 、R 8 、R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 は、それぞれ、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、C1~12アルキル、C1~12アルコキシ基、ハロゲン化C1~12アルキル基、ハロゲン化C1~12アルコキシ基、ヒドロキシル基C1~12アルキル基、ヒドロキシル基C1~12アルコキシ基またはC1~12アルキルアミノ基のうちのいずれか一つを表し;
x1、x2は、それぞれ0または正整数を表し、0≦x1≦3,0≦x2≦3を表し;
y1、y2は、それぞれ0または正整数を表し、0≦y1≦2,0≦y2≦2を表し;
M 1 、M 2 、M 3 、M 4 、M 5 およびM 6 は、それぞれ、錯体の中心原子または中心イオンを表し、M 1 、M 2 、M 3 、M 4 、M 5 およびM 6 はそれぞれRu、Fe、Zn、Mn、Co、Ni、またはそれらのカチオンからなる群から選ばれ;
n 1 、n 3 、n 4 、n 5 、n 6 、n 7 、n 8 、n 9 、n 10 、n 11 、n 12 、n 13 、n 14 、n 15 、n 16 およびn 17 は、それぞれ、3以下の正整数を表し、n 2 は2または3である、強分極分子。 - ナノギャップを有する二次元単層グラフェンのギャップに対して、アミド共有結合を介して連結された一般式(I)で表される強分極分子を含み、
ここで、Aは分極率が2C・m 2 /Vより大きい基を表し;
R 1 、R 2 は、それぞれ、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、C 1~12 アルキル、C 1~12 アルコキシ基、ハロゲン化C 1~12 アルキル基、ハロゲン化C 1~12 アルコキシ基、ヒドロキシル基C 1~12 アルキル基、ヒドロキシル基C 1~12 アルコキシ基またはC 1~12 アルキルアミノ基のうちのいずれか一つを表し;
x 1 、x 2 は、それぞれ0または正整数を表し、0≦x 1 ≦3,0≦x 2 ≦3を表し;
y 1 、y 2 は、それぞれ0または正整数を表し、0≦y 1 ≦2,0≦y 2 ≦2を表す、強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合。 - Aは、下記を表し、
ここで、R 3 、R 4 、R 5 、R 6 、R 7 、R 8 、R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 は、それぞれ、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、C 1~12 アルキル基、C 1~12 アルコキシ基、ハロゲン化C 1~12 アルキル基、ハロゲン化C 1~12 アルコキシ基、ヒドロキシル基C 1~12 アルキル基、ヒドロキシル基C 1~12 アルコキシ基またはC 1~12 アルキルアミノ基のうちのいずれか一つを表し;
M 1 、M 2 、M 3 、M 4 、M 5 およびM 6 は、それぞれ、錯体の中心原子または中心イオンを表し、M 1 、M 2 、M 3 、M 4 、M 5 およびM 6 はそれぞれRu、Fe、Zn、Mn、Co、Ni、またはそれらのカチオンからなる群から選ばれ;
n 1 、n 2 、n 3 、n 4 、n 5 、n 6 、n 7 、n 8 、n 9 、n 10 、n 11 、n 12 、n 13 、n 14 、n 15 、n 16 およびn 17 は、それぞれ、3以下の正整数を表す、請求項4に記載の強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合。 - 前述ナノギャップを有する二次元単層グラフェンがナノギャップアレイを有する二次元単層グラフェンである、請求項4に記載の強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合。
- 基板と、ゲート電極と、誘電体層と、請求項4~8のいずれか一項に記載の強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合とを含み、前述誘電体層が前述ゲート電極と前述強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合の間に位置する、単一分子電界効果トランジスタ。
- 前述ゲート電極の材料はグラフェンまたは金属アルミニウムからなる群から選ばれる一つである、請求項9に記載の単一分子電界効果トランジスタ。
- 前述誘電体層の材料は酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アルミニウムからなる群から選ばれる一つまたはそれらの組み合わせである、請求項9または10に記載の単一分子電界効果トランジスタ。
- 前述誘電体層が酸化ハフニウム層で、前述ゲート電極がグラフェン層であり;または
前述誘電体層が酸化ジルコニウム層で、前述ゲート電極がグラフェン層であり;または
前述誘電体層が酸化チタン層で、前述ゲート電極がグラフェン層であり;または
前述誘電体層が酸化アルミニウム層で、前述ゲート電極が金属アルミニウム層であり;または
前述誘電体層が酸化アルミニウムと酸化ハフニウムの複合層で、前述ゲート電極が金属アルミニウム層である、
請求項9~11のいずれか一項に記載の単一分子電界効果トランジスタ。 - 前述基板が酸化ケイ素層を有するシリコンウエーハーであり;前述酸化ケイ素層の厚さが、200~400nmである、請求項9~12のいずれか一項に記載の単一分子電界効果トランジスタ。
- 誘電体層の厚さが3~10nmである、請求項9~13のいずれか一項に記載の単一分子電界効果トランジスタ。
- 誘電体層の厚さが4~7nmである、請求項9~14のいずれか一項に記載の単一分子電界効果トランジスタ。
- 前述ゲート電極が前述基板に設置され、前述誘電体層が前述ゲート電極に設置され、前述強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合が前述誘電体層に設置される;または
前述強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合が前述基板に設置され、前述誘電体層が前述強分極分子-グラフェン分子ヘテロ接合に設置され、前述ゲート電極が前述誘電体層に設置される、
請求項9~15のいずれか一項に記載の単一分子電界効果トランジスタ。 - 請求項9~16のいずれか一項に記載の単一分子電界効果トランジスタを含む、分子スイッチ。
- 請求項9~16のいずれか一項に記載の単一分子電界効果トランジスタを含む、半導体チップ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810283361.XA CN110343110B (zh) | 2018-04-02 | 2018-04-02 | 强极化分子及应用其制备的单分子场效应晶体管 |
CN201810283361.X | 2018-04-02 | ||
PCT/CN2019/080347 WO2019192395A1 (zh) | 2018-04-02 | 2019-03-29 | 强极化分子及应用其制备的单分子场效应晶体管 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021516868A JP2021516868A (ja) | 2021-07-08 |
JP7083981B2 true JP7083981B2 (ja) | 2022-06-14 |
Family
ID=68100050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020550619A Active JP7083981B2 (ja) | 2018-04-02 | 2019-03-29 | 強分極分子およびそれを用いて調製された単一分子電界効果トランジスタ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210024560A1 (ja) |
EP (1) | EP3778570B1 (ja) |
JP (1) | JP7083981B2 (ja) |
KR (1) | KR102507357B1 (ja) |
CN (2) | CN112538085B (ja) |
WO (1) | WO2019192395A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111420708B (zh) * | 2020-04-30 | 2021-08-20 | 林贤贵 | 一种石墨烯共价接枝的氨基苯三联吡啶-铁配合物芬顿催化剂及其制备方法 |
CN112582541B (zh) * | 2020-12-06 | 2022-07-29 | 南开大学 | 一种基于二维叠层异质结构的垂直单分子膜场效应晶体管及其制备方法 |
CN112582542B (zh) * | 2020-12-06 | 2022-09-30 | 南开大学 | 一种基于二维范德华异质结构的单分子场效应晶体管及其制备方法 |
CN112582540B (zh) * | 2020-12-06 | 2022-09-30 | 南开大学 | 具有量子干涉效应的化合物及包含其的垂直单分子场效应晶体管集成器件的制备方法 |
US11390160B2 (en) * | 2020-12-09 | 2022-07-19 | Ford Global Technologies, Llc | Wheel disconnect clutch |
CN114031753B (zh) * | 2020-12-31 | 2023-11-03 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 有机聚合物及其应用 |
CN112898582B (zh) * | 2021-01-19 | 2022-12-20 | 南开大学 | 一种基于超分子的单分子场效应晶体管及其制备方法 |
CN114213258B (zh) * | 2021-12-13 | 2024-06-18 | 北京未名元上分子技术有限公司 | 一种平面共轭分子化合物及包含其的单分子场效应晶体管 |
CN114230378B (zh) * | 2021-12-27 | 2022-11-15 | 复旦大学 | 一种氧化还原驱动的超组装智能门控系统的制备方法 |
CN114292201B (zh) * | 2021-12-27 | 2024-05-28 | 北京未名元上分子技术有限公司 | 一种具有量子干涉效应的化合物及包含其的单分子场效应晶体管 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102456702A (zh) | 2010-10-14 | 2012-05-16 | 北京大学 | 一种基于石墨烯电极的功能化分子电子器件及其制备方法与应用 |
JP2015065220A (ja) | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 株式会社東芝 | 有機分子メモリ |
JP2019524641A (ja) | 2016-05-24 | 2019-09-05 | 北京大学Peking University | 光異化性化合物およびそれを含むデバイス |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102775273B (zh) * | 2012-07-05 | 2014-09-10 | 北京大学 | 一种分叉烷基链及其制备和在有机共轭分子中的应用 |
CN104177366A (zh) * | 2013-05-27 | 2014-12-03 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 含吡咯并吡咯烷酮单元的有机半导体材料及其制备方法和太阳能电池器件 |
KR102254014B1 (ko) * | 2013-12-19 | 2021-05-20 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 염료 화합물 |
KR101608579B1 (ko) * | 2014-04-22 | 2016-04-04 | 한국생산기술연구원 | 전자 수송 재료 및 이를 이용한 유기 전기 발광 소자 |
CN107056634A (zh) | 2015-03-04 | 2017-08-18 | 湖南工业大学 | 一种新型具有高平面性的含萘结构功能二胺单体及其合成方法和应用 |
KR101703118B1 (ko) * | 2015-10-14 | 2017-02-07 | 한국생산기술연구원 | 전자 수송 재료 및 이를 이용한 유기 전기 발광 소자 |
-
2018
- 2018-04-02 CN CN202011405289.7A patent/CN112538085B/zh active Active
- 2018-04-02 CN CN201810283361.XA patent/CN110343110B/zh active Active
-
2019
- 2019-03-29 EP EP19780897.5A patent/EP3778570B1/en active Active
- 2019-03-29 KR KR1020207031057A patent/KR102507357B1/ko active IP Right Grant
- 2019-03-29 US US17/042,800 patent/US20210024560A1/en active Pending
- 2019-03-29 WO PCT/CN2019/080347 patent/WO2019192395A1/zh unknown
- 2019-03-29 JP JP2020550619A patent/JP7083981B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102456702A (zh) | 2010-10-14 | 2012-05-16 | 北京大学 | 一种基于石墨烯电极的功能化分子电子器件及其制备方法与应用 |
JP2015065220A (ja) | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 株式会社東芝 | 有機分子メモリ |
JP2019524641A (ja) | 2016-05-24 | 2019-09-05 | 北京大学Peking University | 光異化性化合物およびそれを含むデバイス |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Santiago Marque's-Gonza'lez et al.,Combined Spectroscopic and Quantum Chemical Study of [trans-Ru(C≡CC6H4R1-4)2(dppe)2]n+ and [trans-Ru(C≡CC6H4R1-4)(C≡CC6H4R2-4)(dppe)2]n+ (n = 0, 1) Complexes: Interpretations beyond the Lowest Energy Conformer Paradigm,Organometallics,Volume 33,米国,ACS Publications,2014年07月03日,pp. 4947-4963,DOI: 10.1021/om500265s |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021516868A (ja) | 2021-07-08 |
WO2019192395A1 (zh) | 2019-10-10 |
CN110343110A (zh) | 2019-10-18 |
CN112538085B (zh) | 2022-04-05 |
CN112538085A (zh) | 2021-03-23 |
EP3778570A4 (en) | 2021-09-15 |
KR102507357B1 (ko) | 2023-03-08 |
EP3778570A1 (en) | 2021-02-17 |
US20210024560A1 (en) | 2021-01-28 |
KR20200138784A (ko) | 2020-12-10 |
CN110343110B (zh) | 2021-05-28 |
EP3778570B1 (en) | 2023-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7083981B2 (ja) | 強分極分子およびそれを用いて調製された単一分子電界効果トランジスタ | |
TWI605105B (zh) | Organic semiconductor materials | |
Dai et al. | Dianthraceno [a, e] pentalenes: synthesis, crystallographic structures and applications in organic field-effect transistors | |
CN104956508B (zh) | 溶液工艺用有机半导体材料和有机半导体设备 | |
Wei et al. | Capturing the long-sought small-bandgap endohedral fullerene Sc3N@ C82 with low kinetic stability | |
US20090165848A1 (en) | Quinacridine Derivatives and Organic Electronic Devices Using the Same | |
KR20070098909A (ko) | 신규한 축합 다환 방향족 화합물 및 그의 이용 | |
CN108155290B (zh) | 一种基于离子液体栅的单分子场效应晶体管 | |
JP4220951B2 (ja) | 新規な有機半導体化合物、その製造方法およびそれを用いた有機半導体デバイス | |
JP2017520618A (ja) | グラフェンナノリボンの製造のためのオルト−テルフェニル | |
US20170051101A1 (en) | Graphene nanoribbons with controlled zig-zag edge and cove edge configuration | |
Safaei-Ghomi et al. | Sonochemically synthesis of arylethynyl linked triarylamines catalyzed by CuI nanoparticles: A rapid and green procedure for Sonogashira coupling | |
CN112582540A (zh) | 具有量子干涉效应的化合物及包含其的垂直单分子场效应晶体管集成器件的制备方法 | |
Yamada et al. | Synthesis of perfluoroalkylated pentacenes and evaluation of their fundamental physical properties | |
Tao et al. | The first observation of one-dimensional naphthalenediimidato-based transition-metal coordination polymers: syntheses, crystal structures and properties | |
CN113461735B (zh) | 一种离子型手性单核金属铂配合物、制备方法及其应用 | |
JP4139902B2 (ja) | ヘテロアセン化合物及びその製造方法 | |
Wang et al. | Benzo [1, 2-b: 4, 5-b′] dithiophene-based cruciforms: syntheses, crystal structures, and charge transport properties | |
JP2018039777A (ja) | ペリキサンテノキサンテンビスイミド化合物、その製造方法、有機el素子及び有機薄膜太陽電池 | |
Fedyushin et al. | Biradical with a polyfluorinated terphenylene backbone | |
JP4612443B2 (ja) | 機能性有機薄膜、有機薄膜トランジスタ及びそれらの製造方法 | |
Boobalan et al. | Luminescent one-dimensional nanostructures of perylene bisimides | |
KR20140132842A (ko) | 고리형 결합기를 포함하는 신규한 유기 화합물 | |
Werner et al. | Reductive O-triflylation of naphthalene diimide: access to alkyne-and amine-functionalized 2, 7-diazapyrenes | |
JP2005298485A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200918 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220426 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220516 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7083981 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |