JP7047287B2 - エンコーダ装置、駆動装置、ステージ装置、及びロボット装置 - Google Patents

Description

本発明は、エンコーダ装置、駆動装置、ステージ装置、及びロボット装置に関する。

複数のスケールを備えるエンコーダ装置が提案されている（下記の特許文献１参照）。エンコーダ装置は、例えば、回転体の軸方向における複数のスケールの配置などによって、回転体の軸方向において装置が大型化する場合がある。エンコーダ装置は、コンパクトであることが望まれる。

特開２００３－７０２８４号

本発明の第１の態様においては、エンコーダ装置が提供される。エンコーダ装置は、第１回転体に固定される第１スケールを備えてよい。エンコーダ装置は、第１スケールを検出する第１検出部を備えてよい。エンコーダ装置は、第１検出部を支持する第１支持部を備えてよい。エンコーダ装置は、第１回転体と接続される第２回転体に固定される第２スケールを備えてよい。エンコーダ装置は、第２スケールを検出する第２検出部を備えてよい。エンコーダ装置は、第２検出部を支持し、第１回転体の軸方向又は軸方向に平行な方向において第１支持部と異なる位置に配置される第２支持部を備えてよい。第１検出部及び第２検出部は、それぞれ、軸方向又は軸方向に平行な方向において第１スケールと第２スケールとの間に配置されてよい。

本発明の第２の態様においては、駆動装置が提供される。駆動装置は、第１の態様のエンコーダ装置を備えてよい。駆動装置は、第１回転体に駆動力を供給する駆動部を備えてよい。

本発明の第３の態様においては、ステージ装置が提供される。ステージ装置は、第２の態様の駆動装置を備えてよい。ステージ装置は、駆動装置によって移動するステージを備えてよい。

本発明の第４の態様においては、ロボット装置が提供される。ロボット装置は、第２の態様の駆動装置を備えてよい。ロボット装置は、駆動装置によって移動するアームを備えてよい。

第１実施形態に係るエンコーダ装置を示すブロック図である。 第１実施形態に係るエンコーダ装置を示す平面図である。 第１実施形態に係るエンコーダ装置を示す断面図である。 第２実施形態に係るエンコーダ装置を示す平面図である。 第２実施形態に係るエンコーダ装置を示す断面図である。 第３実施形態に係るエンコーダ装置を示す平面図である。 第３実施形態に係るエンコーダ装置を示す断面図である。 第４実施形態に係るエンコーダ装置を示す平面図である。 第４実施形態に係るエンコーダ装置を示す断面図である。 第５実施形態に係るエンコーダ装置を示す平面図である。 第５実施形態に係るエンコーダ装置を示す断面図である。 実施形態に係る支持部を示す図である。 実施形態に係る駆動装置を示す図である。 実施形態に係るステージ装置を示す図である。 実施形態に係るロボット装置を示す図である。

［第１実施形態］
まず、第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣおよび駆動装置ＭＴＲを示すブロック図である。図２は、第１実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣを示す平面図である。図３は、第１実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣを示す断面図である。エンコーダ装置ＥＣは、例えばダブルエンコーダを含む。エンコーダ装置ＥＣは、第１回転体ＳＦ１の回転位置、及び第２回転体ＳＦ２の回転位置を検出する。以下の説明において、第１回転体ＳＦ１の軸方向を、適宜、アキシャル方向と称する。第１回転体ＳＦ１の軸方向は、第１回転体ＳＦの回転軸（回転中心軸）と同軸の方向である。

以下の説明において、適宜、図２等に示すＸＹＺ直交座標系を参照する。このＸＹＺ直交座標系において、Ｚ方向は、第１回転体ＳＦ１の回転軸ＡＸに平行な方向である。Ｘ方向およびＹ方向は、それぞれＺ方向に垂直な方向である。また、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向のそれぞれについて、適宜、矢印と同じ側を＋側（例、＋Ｚ側）と称し、矢印と反対側を－側（例、－Ｚ側）と称する。

図２は、エンコーダ装置ＥＣをアキシャル方向から見た図に相当する。図３は、アキシャル方向に平行な面（例、図２のＡ１－Ａ１線を含む面）における断面図に相当する。なお、以下の説明で参照する断面図において、ハッチングが省略される場合がある。

図１の第１回転体ＳＦ１は、例えば、電動モータなどの駆動装置ＭＴＲにおける出力軸（例、電気子と連動する物体、シャフト、回転子）を含む。第２回転体ＳＦ２は、第１回転体ＳＦ１と接続される。第２回転体ＳＦ２は、例えば、負荷ＬＤと接続される作用軸を含む。第２回転体ＳＦ２は、例えば減速機などの変速部ＴＲを介して第１回転体ＳＦ１と接続される。第２回転体ＳＦ２は、第１回転体ＳＦ１から伝達されるトルクによって回転し、トルクを負荷ＬＤに伝える。第１回転体ＳＦ１、変速部ＴＲ、及び第２回転体ＳＦ２は、例えば駆動装置ＭＴＲの一部である。なお、第１回転体ＳＦ１、変速部ＴＲ、及び第２回転体ＳＦ２の少なくとも一部は、駆動装置ＭＴＲの外部の装置に含まれてもよい。

上記の回転位置（回転位置情報）は、多回転（多回転情報）と角度位置（角度位置情報）との一方または双方を含む。多回転は、回転の数（例、１回転、２回転、多回転）を示す情報を含む。角度位置は、回転方向の位置を１回転未満（例、３６０°未満、２π（ｒａｄ）未満））の角度（回転角）で示す情報を含む。エンコーダ装置ＥＣは、例えば多回転アブソリュートエンコーダである。この場合に、上記の回転位置は、多回転および角度位置を含む。

駆動装置ＭＴＲは、例えば、駆動部ＭＤおよび制御部ＭＣを備える。駆動部ＭＤは、例えば、移動子、固定子、及び本体部を含む。移動子は、例えば電動モータの電気子を含む。固定子は、例えば電動モータの磁石（例、永久磁石）を含む。移動子は、固定子に対して移動（例、回転）する。駆動部ＭＤの本体部は、回転子および固定子を収容するボディなどである。固定子は本体部に固定され、移動子は、本体部に対して回転可能に支持される。

制御部ＭＣ（モータ制御部）は、エンコーダ装置ＥＣが検出した回転位置に基づいて、第１回転体ＳＦ１の駆動（例、回転）を制御する。例えば、制御部ＭＣは、回転位置に基づいて、回転子の回転に消費される電力を制御する。制御部ＭＣは、例えば、回転子の角度位置、角速度、及び角加速度の少なくとも一つが目標値に近づくように、駆動部ＭＤに供給される電力（例、電流）を制御する。

図１および図２に示すように、エンコーダ装置ＥＣは、第１スケールＳＣ１と、第１検出部１と、第２スケールＳＣ２と、第２検出部２と、処理部３と、第１支持部４と、第２支持部５とを備える。第１スケールＳＣ１は、第１回転体ＳＦ１に固定される。第１検出部１は、第１回転体ＳＦ１の回転によって、第１スケールＳＣ１と相対的に回転する。第１支持部４は、第１検出部１を支持する。第１支持部４は、第１回転体ＳＦ１の回転によって第１検出部１と第１スケールＳＣ１とが相対的に回転するように、第１検出部１を支持する。第１検出部１は、第１スケールＳＣ１を検出する。第１検出部１は、その検出結果として第１検出信号を処理部３に出力する。

第２スケールＳＣ２は、第２回転体ＳＦ２に固定される。第２検出部２は、第２回転体ＳＦ２の回転によって、第２スケールＳＣ２と相対的に回転する。第２支持部５は、第２検出部２を支持する。第２支持部５は、第１回転体ＳＦ１の軸方向又は軸方向に平行な方向において第１支持部４と異なる位置に配置される。第２支持部５は、第２回転体ＳＦ２の回転によって第２検出部２と第２スケールＳＣ２とが相対的に回転するように、第２検出部２を支持する。第２検出部２は、第２スケールＳＣ２を検出する。本実施形態に係る第２検出部２は、第２スケールＳＣ２を光学的に検出する（後に図３などで説明する）。第２検出部２は、その検出結果として第２検出信号を処理部３に出力する。

処理部３は、第１検出部１の検出結果と、第２検出部２の検出結果とをそれぞれ処理する。処理部３は、算出部６と、変換部７と、算出部８と、比較部９とを備える。算出部６（第１算出部）は、第１検出部１の検出結果（第１検出信号）に基づいて、第１回転体ＳＦ１の回転位置を検出（算出）する（回転位置の算出処理を実行する）。以下の説明において、第１検出信号をもとに算出される回転位置を、適宜、第１回転位置と称する。算出部６は、算出した第１回転位置を比較部９に出力する。

算出部８（第２算出部）は、第２検出部２の検出結果（第２検出信号）に基づいて、第２回転体ＳＦ２の回転位置を検出（算出）する（回転位置の算出処理を実行する）。以下の説明において、第２検出信号をもとに算出される回転位置を、適宜、第２回転位置と称する。本実施形態において、算出部８は、変換部７が第２検出信号を変換して得られる信号に基づいて、第２回転位置を算出する。変換部７については、図２および図３について説明した後に、説明する。

比較部９は、第１検出部１から得られる第１回転位置と、第２検出部２から得られる第２回転位置とを比較する比較処理を実行する。比較部９は、例えば、第１回転位置と第２回転位置との比較によって、第１回転体ＳＦ１の多回転を検出（例、算出）する。ここでは、算出部６は、第１検出信号に基づいて、第１回転位置として第１回転体ＳＦ１の角度位置を算出するものとする。また、算出部８は、第２検出信号に基づいて、第２回転位置として第２回転体ＳＦ２の角度位置を算出するものとする。

比較部９は、第１回転体ＳＦ１の多回転を算出する場合、第１回転体ＳＦ１と第２回転体ＳＦ２との変速比、及び第２検出部２から得られる第２回転体ＳＦ２の角度位置に基づいて、第１回転体ＳＦ１の角度位置を推定する。以下の説明において、「第１回転体ＳＦ１と第２回転体ＳＦ２との変速比」を、適宜、「変速比」と称する。比較部９は、変速比と第２回転体ＳＦ２の角度位置とに基づいて算出される第１回転体ＳＦ１の角度位置と、第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１との角度位置とを比較することによって、第１回転体の多回転を算出する。

例えば、変速比（例、減速比）が１０００であるとし、第２回転体ＳＦ２の角度位置（例、回転角）が１°であるとする。この場合、変速比および第２回転体ＳＦ２の角度位置から算出される第１回転体ＳＦ１の角度位置は、１０００°である。第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１の角度位置が２７９°である場合、（１０００－２７９）／３６０＝７２１／３６０が約２である。第１回転体ＳＦ１の多回転は、７２１／３６０の値を丸めること等によって、２回転と算出される。比較部９は、算出した第１回転体ＳＦ１の多回転（例、２回転）と、第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１の角度位置（例、２７９°）とを合成することによって、第１回転体ＳＦ１の回転位置（例、２回転と２７９°、９９９°）を検出（例、算出、生成）する。

なお、比較部９は、第１回転体ＳＦ１の多回転を算出しなくてもよい。例えば、比較部９は、第１回転位置と第２回転位置との比較によって、第１スケールＳＣ１の検出または第２スケールＳＣ２の検出におけるエラーを検出するエラー検出処理を実行してもよい。この場合、例えば、算出部６は、第１回転体ＳＦ１の角度位置および多回転を含む第１回転位置を算出する。また、算出部８は、例えば、第２回転体ＳＦ２の角度位置および多回転を含む第２回転位置を算出する。

上記のエラー検出処理において、比較部９は、第２回転位置と変速比とに基づいて、第１回転体ＳＦ１の回転位置（多回転および角度位置）を算出する。比較部９は、第２回転位置と変速比とに基づいて、第１回転体ＳＦ１の回転位置の推定値を算出する（回転位置を推定する）。比較部９は、算出した第１回転体ＳＦ１の回転位置（第２回転位置から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置）と、第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置（例、第１回転位置）とを比較する。

例えば、比較部９は、第１回転位置と、第２回転位置から算出される第１回転体ＳＦ１の回転位置との差が予め設定される閾値以上である場合、エラーが発生していると判定する。比較部９は、エラー検出処理の処理結果をエンコーダ装置ＥＣの外部の装置（例、制御部ＭＣ）に出力してもよい。比較部９、エラーが検出していると判定した場合、エラーの発生を報知する報知情報（例、報知信号、エラー信号、アラーム信号）を出力してもよい。制御部ＭＣは、比較部９から出力される報知情報に基づいて、駆動部ＭＤを制御してもよい。

次に、図２および図３を参照して、エンコーダ装置ＥＣの各部（例、第１支持部４、第２支持部５）について説明する。図２に示すように、本実施形態に係る第１支持部４（例、第１支持部材）と第２支持部５（例、第２支持部材）とは互いに別の部材（例、材質は同じだが互いに異なる基材、同じ種類かつ別体のパーツ）で構成される。第１支持部４は、例えば、処理基板（例、プリント基板）を含む。第１支持部４には、例えば、処理回路、配線、及び端子の少なくとも一部が形成される。第１支持部４には、例えば、処理回路を含む電子部品が実装される。この処理回路は、例えば、図１の処理部３（例、算出部６、算出部８、比較部９）の少なくとも一部を含む。

第２支持部５は、アキシャル方向（Ｚ方向）から見た場合に、回転軸ＡＸを含む面（例、ＹＺ平面）に関して第１支持部４と対称的に配置される。例えば、第２支持部５（例、第２支持部５の中心や重心）は、第１回転体ＳＦ１の回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、第１支持部４（例、第１支持部４の中心や重心）と１８０°ずれた位置に配置される。本実施形態に係る第２支持部５は、第１支持部４と外形が同じ又は相似形である。例えば、第２支持部５は、第１支持部４と同じ構成の処理基板を含む。第２支持部５は、第１支持部４と異なる姿勢で配置される。

第１支持部４および第２支持部５は、それぞれ、部品（例、検出部、ＩＣチップ、電子部品）が実装される実装面を有する。図３に示すように、第１支持部４の面４ａ（第１面、実装面）には、第１検出部１が実装される。面４ａ（第１支持部４の実装面）は、アキシャル方向の第１側（例、－Ｚ側）を向いている。第２支持部５の面５ａ（第２面、実装面）には第２検出部２が実装される。面５ａ（第２支持部５の実装面）は、アキシャル方向における第１側（例、－Ｚ側）と反対の第２側（例、＋Ｚ側）を向いている。このように、第１支持部４と第２支持部５は、それぞれの実装面が互いに反対側を向くように配置される。

図２の第２支持部５は、第１支持部４をアキシャル方向（Ｚ方向）に垂直な軸Ｑ１の周りに１８０°回転させた姿勢で配置される。第２支持部５は、第１支持部４の表面（例、実装面）と裏面とを反転させた姿勢で配置される。第１支持部４の＋Ｚ側の面には、インターフェース１１（点線で示す）が設けられる。また、第２支持部５の－Ｚ側の面にはインターフェース１２（実線で示す）が設けられる。インターフェース１１およびインターフェース１２の各々は、例えば、信号入出力コネクタ（バス）などである。インターフェース１１とインターフェース１２とはケーブル１３（配線）を介して通信可能に接続される。第２検出部２の検出結果（図１の第２出力信号）は、インターフェース１２、ケーブル１３、及びインターフェース１１を介して、第１支持部４に設けられる処理回路（図１の処理部３）に出力される。

図３に示すように、第１支持部４の面４ａ（第１面、実装面）には、検出ヘッド１５が設けられる。検出ヘッド１５は、例えば第１支持部４の面４ａに接して配置され、第１支持部４に固定される。本実施形態において、検出ヘッド１５は第１スケールＳＣ１を光学的に検出する。第１スケールＳＣ１は、第１光学パターンＰ１（第１光学スケール）を有する。第１スケールＳＣ１は、例えば円環状の部材である。第１スケールＳＣ１は、第１回転体ＳＦ１とともに回転するように、ネジなどの固定部材１６によって第１回転体ＳＦ１に固定されている。

第１光学パターンＰ１は、回転軸ＡＸを中心とする円環状の領域に設けられる。第１光学パターンＰ１は、回転軸ＡＸを中心とする回転方向で光学特性（例、透過率、反射率、吸収率）が変化する。第１光学パターンＰ１は、例えば、アブソリュートパターンとインクリメンタルパターンとの一方または双方を含む。第１光学パターンＰ１は、第１スケールＳＣ１において＋Ｚ側の面に配置されている。

検出ヘッド１５（光学ヘッド）は、照射部１７および第１検出部１を備える。照射部１７（発光部、光源部）は、第１スケールＳＣ１の第１光学パターンＰ１に光を照射する。照射部１７は、例えば、ＬＥＤ（発光ダイオード）などの発光素子（例、固体光源）を含む。第１検出部１（センサ部、受光部、受光センサ、光学センサ）は、照射部１７から照射されて第１スケールＳＣ１の第１光学パターンＰ１を経由した光を検出する。第１検出部１は、例えば、フォトダイオードなどの受光素子（例、光電変換素子）を含む。

検出ヘッド１５および第１スケールＳＣ１の第１光学パターンＰ１は、第１光学式エンコーダＥＣ１を構成する。第１光学式エンコーダＥＣ１は、例えば反射型エンコーダであり、第１検出部１は、第１光学パターンＰ１で反射した光を検出する。照射部１７および第１検出部１は、回転軸ＡＸの軸方向において、第１光学パターンＰ１に対向する位置に配置される。第１支持部４の面４ａは、回転軸ＡＸの軸方向において、第１光学パターンＰ１に対向しており、照射部１７および第１検出部１は、面４ａに配置される。なお、第１スケールＳＣ１と第１支持部４とは、回転軸ＡＸに直交する直交方向において、互いに対向する位置（例、回転軸ＡＸの側面側の位置）に配置されてもよい。

エンコーダ装置ＥＣは、駆動部ＭＤに固定される本体部１８（エンコーダ本体部）を備える。本体部１８は、例えば、樹脂などの絶縁材料で形成されるモールド、スペーサなどである。本体部１８は、ネジなどの固定部材１９によって、駆動部ＭＤの本体部ＢＤ（モータ本体部）に固定される。本体部ＢＤは、駆動部ＭＤ（図１参照）において回転子（例、電気子）を収容し、固定子（例、磁石）が固定されるボディなどである。

第１支持部４は、本体部１８に支持される。第１支持部４は、ネジなどの固定部材２０によって本体部１８に固定される。第１支持部４は、アキシャル方向における検出ヘッド１５と第１光学パターンＰ１との間隔（ギャップ）が所定値となるように、本体部１８に対して所定の位置に位置決めされる。例えば、アキシャル方向において第１支持部４と本体部１８との間にはスペーサ２１が設けられる。スペーサ２１は、検出ヘッド１５と第１光学パターンＰ１との間隔（例、光学的ギャップ）を規定する。第１支持部４は、本体部１８との間にスペーサ２１を挟みこむように固定部材２０で共締めされることによって、本体部１８と固定される。第１支持部４は、検出ヘッド１５と第１スケールＳＣ１（第１光学パターンＰ１）とが所定の相対位置になるように、第１スケールＳＣ１が固定される第１回転体ＳＦ１に対して位置決めされる。スペーサ２１の回転軸ＡＸの軸方向（Ｚ方向）の厚さを調整することによって、スペーサ２１によって規定する検出ヘッド１５と第１光学パターンＰ１との間隔は調整可能である。

本実施形態において、第１回転体ＳＦ１は中空の部材（例、円筒状の部材）であり、第２回転体ＳＦ２は、第１回転体ＳＦ１の内側の空間に挿入されている。第１回転体ＳＦ１および第２回転体ＳＦ２は、本体部ＢＤ（モータ本体部）に対して＋Ｚ側に突出している。第２回転体ＳＦ２の先端は、アキシャル方向の一方の側（＋Ｚ側）において、第１回転体ＳＦ１の先端よりも突出している。

第２スケールＳＣ２は、第２回転体ＳＦ２に固定される。第２スケールＳＣ２は、第２回転体ＳＦ２とともに回転するように、ネジなどの固定部材２２によって第２回転体ＳＦ２に固定されている。第２スケールＳＣ２は、第２回転体ＳＦ２のうち第１回転体ＳＦ１と比べて＋Ｚ側に突出する部分に、取り付けられる。第１支持部４（第１検出部１）は、アキシャル方向において第１スケールＳＣ１と第２スケールＳＣ２との間に配置される。また、第２支持部５は、アキシャル方向において第１スケールＳＣ１と第２スケールＳＣ２との間に配置される。

第２支持部５の面５ａ（第２面、実装面）には、検出ヘッド２３が設けられる。検出ヘッド２３は、例えば、第２支持部５の面５ａに接して配置され、第２支持部５に固定される。面５ａは、第１支持部４の面４ａ（第１面）と反対側（＋Ｚ側）を向いて配置される。面５ａは、第１支持部４のうち面４ａ（第１面）とアキシャル方向の位置が異なる。また、面５ａは、第１支持部４のうち面４ａ（第１面）の反対側の面４ｂ（第３面）とアキシャル方向の位置が異なる。第２支持部５の面５ａは、アキシャル方向において、第１支持部４の面４ｂとの間に段差Ｑ２（距離、間隔、ギャップ、又はオフセット）を有する。例えば、第２支持部５の面５ａは、第１支持部４の面４ｂを基準にして、アキシャル方向において所定の距離、間隔、ギャップ、又はオフセットを有する。

また、固定部材２０が固定される第１支持部４の面４ｂは、第１支持部４が本体部１８に取り付けられて配置される第１の取付基準面ＢＰ１（配置基準面、仮想面）に平行な面であり、第１支持部４の面４ｂは第１の取付基準面ＢＰ１に配置される。そして、固定部材２６が固定される第２支持部５の面５ａは、第２支持部５が本体部１８に取り付けられて配置される第２の取付基準面ＢＰ２（配置基準面、仮想面）に平行な面であり、第２支持部５の面５ａは第２の取付基準面ＢＰ２に配置される。

この場合、第１支持部４は、第１の取付基準面ＢＰ１と第１支持部４の面４ｂとがほぼ面一になるように配置され、第２支持部５は、第２の取付基準面ＢＰ２と第２支持部５の面５ａとがほぼ面一になるように配置される。したがって、本実施形態における第１の取付基準面ＢＰ１と第２の取付基準面ＢＰ２とは、第１の取付基準面ＢＰ１と第２の取付基準面ＢＰ２との間に段差Ｑ２を有し、回転軸ＡＸの軸方向における位置が互いに異なる。

このように、例えば、第１支持部４と第２支持部５とは、互いにほぼ同じ外形や大きさで形成され、回転軸ＡＸの軸方向における位置が互いに異なるように配置されて本体部１８に固定されている。なお、第１支持部４（又は、面４ｂ、第１の取付基準面ＢＰ１）と第２支持部５（又は、面５ａ、第２の取付基準面ＢＰ２）とは、回転軸ＡＸの軸方向に直交する直交方向（例、図３のＹ方向）から見て（該軸方向視）、該軸方向における位置が互いに異なるように配置されている。また、例えば、エンコーダ装置ＥＣは、回転軸ＡＸの軸方向において、駆動装置ＭＴＲ側から第２支持部５（又は、面５ａ、第２の取付基準面ＢＰ２）、第１支持部４（又は、面４ｂ、第１の取付基準面ＢＰ１）の順番にそれぞれ配置され固定された構成である。

第１支持部４のうち面４ａと反対側の面４ｂは、アキシャル方向において、面５ａよりも第２スケールＳＣ２に近い位置に配置される。第１支持部４の面４ａは、例えば、アキシャル方向において面５ａよりも第２スケールＳＣ２に近い位置に配置される。なお、第１支持部４のうち面４ａと反対側の面４ｂは、アキシャル方向において、第２支持部５のうち面５ａと反対側の面５ｂと同じ位置に配置されてもよい。

本実施形態において、検出ヘッド２３は第２スケールＳＣ２を光学的に検出する。第２スケールＳＣ２は、第２光学パターンＰ２（第２光学スケール）を有する。第２スケールＳＣ２は、例えば円板状の部材である。第２光学パターンＰ２は、第２回転体ＳＦ２の回転軸を中心とする円環状の領域に設けられる。本実施形態において、第２回転体ＳＦ２の回転軸は、第１回転体ＳＦ１の回転軸ＡＸとほぼ同軸である。第２光学パターンＰ２は、回転軸ＡＸを中心とする回転方向で光学特性（例、透過率、反射率、吸収率）が変化する。第２光学パターンＰ２は、例えば、アブソリュートパターンとインクリメンタルパターンとの一方または双方を含む。第２光学パターンＰ２は、第２スケールＳＣ２において－Ｚ側の面に配置されている。

検出ヘッド２３（第２検出ヘッド、第２光学ヘッド）は、照射部２５および第２検出部２を備える。照射部２５（発光部、光源部）は、第２スケールＳＣ２の第２光学パターンＰ２に光を照射する。照射部２５は、例えば、ＬＥＤ（発光ダイオード）などの発光素子（例、固体光源）を含む。第２検出部２（センサ部、受光部、受光センサ、光学センサ）は、照射部２５から照射されて第２スケールＳＣ２の第２光学パターンＰ２を経由した光を検出する。第２検出部２は、例えば、フォトダイオードなどの受光素子（例、光電変換素子）を含む。

検出ヘッド２３および第２スケールＳＣ２の第２光学パターンＰ２は、第２光学式エンコーダＥＣ２を構成する。第２光学式エンコーダＥＣ２は、例えば反射型エンコーダであり、第２検出部２は、第２光学パターンＰ２で反射した光を検出する。照射部１７および第２検出部２は、回転軸ＡＸの軸方向において、第２光学パターンＰ２に対向する位置に配置される。第２支持部５の面５ａは、回転軸ＡＸの軸方向において、第２光学パターンＰ２に対向しており、照射部２５および第２検出部２は、面５ａに配置される。第２支持部５（第２検出部２）は、アキシャル方向において第１スケールＳＣ１と第２スケールＳＣ２との間に配置される。なお、第２スケールＳＣ２と第２支持部５とは、回転軸ＡＸに直交する直交方向において、互いに対向する位置（例、回転軸ＡＸの側面側の位置）に配置されてもよい。

第２支持部５は、第１支持部４と独立して本体部１８に支持される。第２支持部５は、ネジなどの固定部材２６によって本体部１８に固定される。第２支持部５は、アキシャル方向における検出ヘッド２３と第２光学パターンＰ２との間隔が所定値となるように、本体部１８に対して位置決めされる。第２支持部５は、検出ヘッド２３と第２スケールＳＣ２（第２光学パターンＰ２）とが所定の相対位置になるように、第２スケールＳＣ２が固定される第２回転体ＳＦ２に対して、位置決めされる。

第２支持部５は、例えば、アキシャル方向（Ｚ方向）の寸法（例、処理基板の厚み）が第１支持部４とほぼ同じである。アキシャル方向における第１支持部４と第２支持部５との相対位置は、例えば、それぞれの支持部と本体部１８との間のスペーサの有無またはス寸法（例、厚み）によって設定される。例えば、図３において、第１支持部４と本体部１８との間にスペーサ２１が設けられ、第２支持部５は、本体部１８との間にスペーサが設けられないことによって、アキシャル方向における位置が第１支持部４と異なる。

なお、第２支持部５と本体部１８との回転軸ＡＸの軸方向における間に第２スペーサが設けられてもよい。第２スペーサは、スペーサ２１（第１スペーサ）に対して、アキシャル方向の寸法（例、厚み）が異なってもよい。なお、本体部１８は、上記の第１スペーサに相当する部分（第１位置調整部）と第２スペーサに相当する部分（第２位置調整部）との一方または双方を備えてもよい。上記の第１位置調整部と第２位置調整部との一方または双方は、本体部１８の一部として形成されてもよい。また、第１支持部４は、上記の第１位置調整部を備えてもよい。また、第２支持部５は、上記の第２位置調整部を備えてもよい。

次に、図１に示した変換部７について説明する。本実施形態において、算出部６および算出部８は、同一の論理で動作する処理回路（例、ＡＳＩＣ）を含む。このように、算出部６と算出部８とが同様の構成である場合、例えば、装置を構築することが容易になる。図３に示したように、第１検出部１は、第１スケールＳＣ１に対して第１検出方向（＋Ｚ側）から検出を実行する。また、第２検出部２は、第２スケールに対して、上記第１検出方向と反対向きの第２検出方向（例、－Ｚ側）から検出を実行する。

ここで、説明の便宜上、第１回転体ＳＦ１および第２回転体ＳＦ２が、それぞれ、＋Ｚ側から見た場合の時計回りに回転したとする。第１検出部１は、＋Ｚ側から検出を実行するので、第１スケールＳＣ１が時計回りに回転した場合に相当する第１出力信号を出力する。第２検出部２は、－Ｚ側から検出を実行するので、第２スケールＳＣ２が反時計回りに回転した場合に相当する第２出力信号を出力する。算出部８が算出部６と同じ論理で第２出力信号を処理する場合、算出される回転位置は、回転の向きが反対である場合の値になる。そこで、変換部７は、第２検出部２の検出方向に基づいて、第２検出信号を、信号レベルの正負が反転した信号へ変換する。変換部７は、例えば、信号の基準電位を切り替えることで信号レベルを変換するジャンパスイッチ等を含んでもよい。また、信号が正弦波などで表される場合、変換部７は、信号の位相をシフトさせることで、信号レベルを変換するものでもよい。

なお、算出部８は、算出部６と異なる論理（処理）で回転位置を算出してもよい。算出部６および算出部８は、第１回転位置と第２回転位置とが有意に比較可能になるように、異なる処理によって回転位置を算出してもよい。例えば、算出部６および算出部８は、第１回転位置と第２回転位置とで回転の向きが整合するように、回転位置を算出してもよい。この場合、変換部７が設けられなくてもよい。

なお、算出部８は、第２検出信号から第２回転位置を算出し、変換部７は、第２検出部２から得られる信号として、第２回転位置を変換してもよい。この場合、変換部７は、算出部８が算出した第２回転位置を、第１回転位置と回転の向きが整合するように変換してもよい（変換処理を実行してもよい）。

なお、比較部９は、算出部６が算出した第１回転位置と、変換部７による変換後の第２回転位置とを比較してもよい。比較部９は、第２検出部２から得られる信号として変換後の第２回転位置を用いて、比較処理を実行してもよい。また、比較部９は、変換部７を含んでもよく、第１回転位置と第２回転位置とで回転の向きを整合させる変換処理を実行し、この変換処理後に上記の比較処理を実行してもよい。処理部３は、コンピュータ（例、ＦＰＧＡ）を含み、上記のコンピュータがプログラムに従って回転位置の算出処理と変換処理と比較処理との少なくとも一部を実行する形態でもよい。

上述のような本実施形態において、第２検出部２を支持する第２支持部は、アキシャル方向において第１支持部と異なる位置に配置される。このようなエンコーダ装置ＥＣは、例えば、アキシャル方向において第１支持部４と第２支持部５とが同じ位置に配置される場合と比較して、アキシャル方向のサイズを図２に示した段差Ｑ２の分だけ小型化（低背化）することができる。

また、本実施形態において、第１支持部４は、第１回転体ＳＦ１（第１スケールＳＣ１）に対して位置決めされ、第２支持部５は、第１支持部４と独立して第２回転体ＳＦ２（第２スケールＳＣ２）に対して位置決めされる。このようなエンコーダ装置ＥＣは、例えば、第１支持部４に支持される第１検出部１と第１スケールＳＣ１との相対位置（第１相対位置）と、第２支持部５に支持される第２検出部２と第２スケールＳＣ２との相対位置（第２相対位置）とを、独立して設定可能である。この場合、例えば、上記の第１相対位置および第２相対位置の双方を高精度に設定可能であり、第１スケールＳＣ１および第２スケールＳＣ２をそれぞれ高精度に検出可能である。

また、本実施形態において、第２支持部５が第１支持部４と別体の部材で構成される。この場合、例えば、上記の第１相対位置および第２相対位置を互いに独立して設定することが容易である。また、第２支持部５と第１支持部４とで外形が同じである場合、例えば、部品の種類を減らすことができ、製造コストを低減すること等が可能である。変換部７が第２検出部２から得られる信号（例、第２出力信号）を、信号レベルが反転した信号に変換する場合、例えば、算出部８は、算出部６と同様の処理によって回転位置を算出可能であり、処理の複雑化を避けることができる。

また、本実施形態において、比較部９は、第１検出部１から得られる第１回転位置と、第２検出部２から得られる第２回転位置とを比較する比較処理を実行する。比較部９が比較処理によって多回転を検出する場合、例えば算出部６および算出部８で多回転を検出しなくてもよく、多回転を容易に検出することができる。また、比較部９が比較処理によってエラーを検出する場合、例えば、エンコーダ装置ＥＣの信頼性を向上させることができる。また、エンコーダ装置ＥＣは、例えば、第１回転位置の検出におけるエラーが検出された場合に、第２回転位置を第１回転位置の代わりに用いてもよい（バックアップに用いてもよい）。

なお、第１検出部１は、磁気あるいはその他の手法（例、静電容量）を利用して第１スケールＳＣ１を検出してもよい。例えば、第１スケールＳＣ１に磁気パターンを設けておき、第１検出部１として磁気センサを用いて上記の磁気パターンを検出してもよい。また、第２検出部２は、磁気あるいはその他の手法（例、静電容量）を利用して第２スケールＳＣ２を検出してもよい。また、第１光学式エンコーダＥＣ１と第２光学式エンコーダＥＣ２との一方または双方は、透過型エンコーダでもよい。

なお、駆動装置ＭＴＲは、変速部ＴＲを備えなくてもよい。例えば、第１回転体ＳＦ１と第２回転体ＳＦ２との変速比は１：１でもよい。この場合、エンコーダ装置ＥＣ（例、比較部９）は、第１回転体ＳＦ１の回転位置と第２回転体ＳＦ２の回転位置との比較によって、回転位置の検出におけるエラーの発生を検出してもよい。

［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図４および図５は、それぞれ、第２実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣを示す図である。図４は、アキシャル方向から見た平面図である。図５は、図４のＡ２－Ａ２線における断面図である。

図４および図５等に示すＸａ方向は、＋Ｚ側から見た反時計回りを正として、Ｘ方向と４５°の角度をなす方向である。また、Ｙａ方向は、＋Ｚ側から見た反時計回りを正として、Ｙ方向と４５°の角度をなす方向である。図４のＡ２－Ａ２線は、回転軸ＡＸを通り、Ｘａ方向（例、Ｘ方向とＹ方向との間の方向、Ｘ方向とＹ方向とのなす角度９０°内の角度をなす方向）と平行な線である。なお、図４のＡ１－Ａ１線における断面図は、図２と同様である。

図５に示すように、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、第１磁気式エンコーダＥＣ３を備える。本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、図２および図３に示したエンコーダ装置ＥＣに対して、第１磁気式エンコーダＥＣ３を追加した構成である。第１磁気式エンコーダＥＣ３は、第１磁気パターンＰ３と、第１磁気センサ３１とを含む。第１磁気パターンＰ３（第１磁気スケール）は、回転軸ＡＸの回転時又は停止時において、第２スケールＳＣ２において第１支持部４と対向する位置に設けられる。例、第１磁気パターンＰ３は、第１磁気センサ３１に対向する位置、又は回転軸ＡＸの軸方向視において第１磁気パターンＰ３の少なくとも一部が第１磁気センサ３１と重なる位置に配置される。第１磁気パターンＰ３は、例えば、回転軸ＡＸの回転方向における複数の角度位置に着磁された磁石を含む。

第１磁気センサ３１は、第１支持部４のうち面４ａと反対側の面４ｂに配置される。第１磁気センサ３１は、例えば第１支持部４の面４ｂに接して配置され、第１支持部４に固定される。第１磁気パターンＰ３が第１磁気センサ３１の位置に形成する磁界の向きは、回転軸ＡＸの回転方向における第１磁気パターンＰ３と第１磁気センサ３１との相対的な角度位置によって変化する。第１磁気センサ３１は、その位置における磁界の向きを検出することによって、第１磁気パターンＰ３を検出する。

図４に示すように、第１磁気センサ３１は、回転軸ＡＸの回転方向において複数の位置に設けられる。図４では、２つの第１磁気センサ３１が設けられている。２つの第１磁気センサ３１は、例えば、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において９０°の角度間隔で配置される。第１磁気センサ３１は、例えば、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、Ｘ方向から時計回りに４５°の角度位置と、Ｘ方向から反時計回りに４５°の角度位置とに配置される。

２つの第１磁気センサ３１は、それぞれ、検出結果を図１に示した処理部３に出力する。２つの第１磁気センサ３１のうち一方のセンサの検出結果は、Ａ相信号に利用される。２つの第１磁気センサ３１のうち他方のセンサの検出結果は、Ｂ相信号に利用される。図１に示した処理部３は、上記のＡ相信号およびＢ相信号に基づいて、第２スケールの多回転を算出する。第１磁気式エンコーダＥＣ３によって検出された多回転は、例えば、第１実施形態で説明した比較部９（図１参照）の比較処理によって検出される多回転と比較され、信頼性の向上などに寄与する。

図５において、第１支持部４のうち面４ａと反対側の面４ｂは、第２支持部５の面５ａよりも第２スケールＳＣ２に近い位置に配置される。第１磁気センサ３１が第１支持部４の面４ｂに配置される場合、例えば、第１磁気センサ３１が第２支持部５の面５ａに配置される場合と比較して、第１磁気パターンＰ３が第１磁気センサ３１の位置に形成する磁界が強くなり、第１磁気センサ３１は、この磁界を高精度に検出可能である。

なお、本実施形態において、図１の処理部３は、第１磁気式エンコーダＥＣ３（第１磁気センサ３１）の検出結果に基づいて、第２スケールＳＣ２の角度位置を含む回転位置を検出（算出）してもよい。比較部９は、第１磁気式エンコーダＥＣ３から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置と、第２検出部２から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置とを比較してもよい。また、比較部９は、第１磁気式エンコーダＥＣ３から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置と、第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置および変速比から算出される第２回転体ＳＦ２の回転位置とを比較してもよい。また、比較部９は、第１磁気式エンコーダＥＣ３から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置および変速比から算出される第１回転体ＳＦ１の回転位置と、第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置とを比較してもよい。

［第３実施形態］
第３実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図６および図７は、それぞれ、第３実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣを示す図である。図６は、アキシャル方向から見た平面図である。図７は、図６のＡ２－Ａ２線における断面図である。なお、図６のＡ１－Ａ１線における断面図は、図２と同様である。

図７に示すように、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、第２磁気式エンコーダＥＣ４を備える。本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、図４および図５に示したエンコーダ装置ＥＣに対して、第２磁気式エンコーダＥＣ４を追加した構成である。第２磁気式エンコーダＥＣ４は、第１磁気パターンＰ３および第２磁気センサ３２を含む。第１磁気パターンＰ３は、第１磁気式エンコーダＥＣ３と第２磁気式エンコーダＥＣ４とで共用である。

第２磁気センサ３２は、第２支持部５の面５ａに配置される。第２磁気センサ３２は、例えば、第２支持部５の面５ａに接して配置され、第２支持部５に固定される。第１磁気パターンＰ３が第２磁気センサ３２の位置に形成する磁界の向きは、回転軸ＡＸの回転方向における第１磁気パターンＰ３と第２磁気センサ３２との相対的な角度位置によって変化する。第２磁気センサ３２は、その位置における磁界の向きを検出することによって、第１磁気パターンＰ３を検出する。

図６に示すように、第２磁気センサ３２は、例えば、回転軸ＡＸの回転方向において複数の位置に設けられる。図６では、２つの第２磁気センサ３２が設けられている。２つの第２磁気センサ３２は、例えば、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において９０°の角度間隔で配置される。例えば、第２磁気センサ３２は、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、Ｘ方向から時計回りに１３５°の角度位置および２２５°の角度位置のそれぞれに配置される。

２つの第２磁気センサ３２は、それぞれ、検出結果を図１に示した処理部３に出力する。２つの第２磁気センサ３２の検出結果は、Ａ相信号とＢ相信号とに利用される。図１に示した処理部３は、上記のＡ相信号およびＢ相信号に基づいて、第２スケールの多回転を算出する。処理部３は、第２磁気式エンコーダＥＣ４（第２磁気センサ３２）の検出結果に基づいて、第２スケールＳＣ２の角度位置を含む回転位置を検出（算出）してもよい。

図１に示した比較部９は、例えば、第１磁気式エンコーダＥＣ３の検出結果と、第２磁気式エンコーダＥＣ４の検出結果とを比較する。アキシャル方向において、第１磁気パターンＰ３と第１磁気センサ３１との間隔は、第１磁気パターンＰ３と第２磁気センサ３２との間隔よりも狭い。この場合、第１磁気センサ３１は、例えば、第２磁気式エンコーダＥＣ４に比べて第１磁気パターンＰ３を高精度に検出可能である。例えば、第２磁気式エンコーダＥＣ４から検出結果が得られるが第１磁気式エンコーダＥＣ３から検出結果が得られない場合、第１磁気式エンコーダＥＣ３にエラーが発生している可能性がある。このような場合、比較部９は、第１磁気式エンコーダＥＣ３にエラーが発生していることを知らせる報知情報を外部へ出力してもよい。

比較部９は、第１磁気式エンコーダＥＣ３から検出結果が得られる場合、第１磁気式エンコーダＥＣ３の検出結果に基づいた多回転の算出処理と比較処理との一方または双方を実行してもよい。また、比較部９は、第２磁気式エンコーダＥＣ４から検出結果が得られるが第１磁気式エンコーダＥＣ３から検出結果が得られない場合、第２磁気式エンコーダＥＣ４の検出結果に基づいた多回転の算出処理と比較処理との一方または双方を実行してもよい。比較部９は、第１磁気式エンコーダＥＣ３の検出結果および第２磁気式エンコーダＥＣ４の検出結果の双方に基づいて、多回転の算出処理と比較処理との一方または双方を実行してもよい。

なお、比較部９（図１参照）は、第２磁気式エンコーダＥＣ４から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置と、第１磁気式エンコーダＥＣ３から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置とを比較してもよい。また、比較部９は、第２磁気式エンコーダＥＣ４から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置と、第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置および変速比から算出される第２回転体ＳＦ２の回転位置と比較してもよい。また、比較部９は、第２磁気式エンコーダＥＣ４から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置および変速比から算出される第１回転体ＳＦ１の回転位置と、第１検出部１から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置とを比較してもよい。

なお、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、第１磁気式エンコーダＥＣ３の代わりに第２磁気式エンコーダＥＣ４を備えてもよい。エンコーダ装置ＥＣは、第２磁気式エンコーダＥＣ４を備え、第１磁気式エンコーダＥＣ３を備えなくてもよい。

［第４実施形態］
第４実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図８および図９は、それぞれ、第４実施形態に係るエンコーダ装置を示す図である。図８は、アキシャル方向から見た平面図である。図９は、図８のＡ２－Ａ２線における断面図である。なお、図８のＡ１－Ａ１線における断面図は、図２と同様である。

図９に示すように、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、第３磁気式エンコーダＥＣ５を備える。本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、図４および図５に示したエンコーダ装置ＥＣに対して、第３磁気式エンコーダＥＣ５を追加した構成である。第３磁気式エンコーダＥＣ５は、第２磁気パターンＰ４および第３磁気センサ３５を含む。

第２磁気パターンＰ４は、第１スケールＳＣ１において第２支持部５と対向する位置に設けられる。第３磁気センサ３５は、第２支持部５のうち面５ａと反対側の面５ｂに配置される。第３磁気センサ３５は、第２支持部５の面５ｂに固定される。第２磁気パターンＰ４が第３磁気センサ３５の位置に形成する磁界の向きは、回転軸ＡＸの回転方向における第２磁気パターンＰ４と第３磁気センサ３５との相対的な角度位置によって変化する。第３磁気センサ３５は、その位置における磁界の向きを検出することによって、第２磁気パターンＰ４を検出する。

図８に示すように、第３磁気センサ３５は、例えば、回転軸ＡＸの回転方向において複数の位置に設けられる。図８では、２つの第２磁気センサ３２が設けられている。２つの第３磁気センサ３５は、例えば、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において９０°の角度間隔で配置される。例えば、第３磁気センサ３５は、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、Ｘ方向から反時計回りに１３５°の角度位置および２２５°の角度位置のそれぞれに配置される。

第２磁気パターンＰ４は、回転軸ＡＸの回転時又は停止時において、第１スケールＳＣ１において第１支持部４と対向する位置に設けられる。例えば、第２磁気パターンＰ４は、第３磁気センサ３５に対向する位置、又は回転軸ＡＸの軸方向視において第２磁気パターンＰ４の少なくとも一部が第３磁気センサ３５と重なる位置に配置される。

２つの第３磁気センサ３５は、それぞれ、検出結果を図１に示した処理部３に出力する。２つの第３磁気センサ３５の検出結果は、Ａ相信号とＢ相信号とに利用される。図１に示した処理部３は、上記のＡ相信号およびＢ相信号に基づいて、第１スケールＳＣ１の多回転を算出する。第３磁気式エンコーダＥＣ５の検出結果から得られる第１スケールＳＣ１の多回転は、例えば、比較部９（図１参照）の比較処理によって検出される第１スケールＳＣ１の多回転と比較され、信頼性の向上などに寄与する。

なお、処理部３（図１参照）は、第３磁気式エンコーダＥＣ５（第３磁気センサ３５）の検出結果に基づいて、第１スケールＳＣ１の角度位置を含む回転位置を検出（算出）してもよい。また、比較部９（図１参照）は、第３磁気式エンコーダＥＣ５から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置と、第１光学式エンコーダＥＣ１から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置とを比較してもよい。

また、比較部９は、第３磁気式エンコーダＥＣ５から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置と、第２検出部２から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置および変速比から算出される第１回転体ＳＦ１の回転位置とを比較してもよい。また、比較部９は、第３磁気式エンコーダＥＣ５から得られる第１回転体ＳＦ１の回転位置および変速比から算出される第２回転体ＳＦ２の回転位置と、第２検出部２から得られる第２回転体ＳＦ２の回転位置とを比較してもよい。

なお、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、図６および図７に示した第２磁気式エンコーダＥＣ４を備えてもよい。また、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、第１支持部４の－Ｚ側に、図７に示した第２磁気式エンコーダＥＣ４と同様の第４磁気式エンコーダを備えてもよい。

［第５実施形態］
第５実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１０および図１１は、それぞれ、第５実施形態に係るエンコーダ装置を示す図である。図１０は、アキシャル方向から見た平面図である。図１１は、図１０のＡ１－Ａ１線における断面図である。

図１１に示すように、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣは、更に第３光学式エンコーダＥＣ６、及び第４光学式エンコーダＥＣ７を備える。第３光学式エンコーダＥＣ６は、第１光学パターンＰ１および第３検出部３６を含む。第３光学式エンコーダＥＣ６は、第１光学式エンコーダＥＣ１と同様の構成である。第１光学パターンＰ１は、第１光学式エンコーダＥＣ１と第３光学式エンコーダＥＣ６とで共用である。第３検出部３６は、第２支持部５の面５ｂに配置される。例えば、第３検出部３６は、第２支持部５の面５ｂに接して配置され、第２支持部５に固定される。このように、第２支持部５は、第２回転体ＳＦ２の回転位置を検出する第２光学式エンコーダＥＣ２（例、第２検出部２）が配置される面５ａと、第１回転体ＳＦ１の回転位置を検出する第３光学式エンコーダＥＣ６（例、第３検出部３６）が配置される面５ｂとを備える。

また、第４光学式エンコーダＥＣ７は、第２光学パターンＰ２および第４検出部３７を含む。第４光学式エンコーダＥＣ７は、第２光学式エンコーダＥＣ２と同様の構成である。第２光学パターンＰ２は、第２光学式エンコーダＥＣ２と第４光学式エンコーダＥＣ７とで共用である。第４検出部３７は、第１支持部４の面４ｂに配置される。例えば、第４検出部３７は、第１支持部４の面４ｂに接して配置され、第１支持部４に固定される。このように、第１支持部４は、第２回転体ＳＦ２の回転位置を検出する第４光学式エンコーダＥＣ７（例、第４検出部３７）が配置される面４ｂと、第１回転体ＳＦ１の回転位置を検出する第１光学式エンコーダＥＣ１（例、第１検出部１）が配置される面４ａとを備える。

本実施形態において、第２支持部５は、第１支持部４と別体の部材で構成される。第２支持部５は、第１支持部４と独立して本体部１８（エンコーダ本体部）に固定される。第２支持部５は、第１支持部４と別体の部材で構成される場合、アキシャル方向における位置が第１支持部４と同じでもよいし異なってもよい。第１支持部４と第１支持部４とが別体の部材で構成される場合、アキシャル方向において、第１検出部１と第１スケールＳＣ１との相対位置と、第２検出部２と第２スケールＳＣ２との相対位置とを互いに独立して調整可能である。また、第１支持部４と第２支持部５とが別体の部材で構成される場合、アキシャル方向において、第３検出部３６と第１スケールＳＣ１との相対位置と、第４検出部３７と第２スケールＳＣ２との相対位置とを互いに独立して調整可能である。なお、第１支持部４と第２支持部５とのアキシャル方向における位置が互いに異なる場合、エンコーダ装置ＥＣは上述の段差Ｑ２を有する構成である。

図１０、図１１に示すように、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、第３光学式エンコーダＥＣ６（例、第１光学パターンＰ１、第３検出部３６）の位置は、第２光学式エンコーダＥＣ２（例、第２光学パターンＰ２、第２検出部２）の位置と同じである。なお、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、第３光学式エンコーダＥＣ６の位置は、第２光学式エンコーダＥＣ２の位置と異なってもよい。

また、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、第４光学式エンコーダＥＣ７（例、第２光学パターンＰ２、第４検出部３７）の位置は、第１光学式エンコーダＥＣ１（例、第１光学パターンＰ１、第１検出部１）の位置と同じである。なお、回転軸ＡＸを中心とする回転方向において、第４光学式エンコーダＥＣ７の位置は、第１光学式エンコーダＥＣ１の位置と異なってもよい。また、エンコーダ装置ＥＣは、第３光学式エンコーダＥＣ６または第４光学式エンコーダＥＣ７を備えなくてもよい。

なお、図１１に示すように、第３光学式エンコーダＥＣ６（例、第３検出部３６）は、第２支持部５において第２光学式エンコーダＥＣ２（例、第２検出部２）が設けられる配置面（面５ａ）とは反対側の配置面（面５ｂ）に設けられる。そして、第４光学式エンコーダＥＣ７（例、第４検出３７）は、第１支持部４において第１光学式エンコーダＥＣ１（例、第１検出部１）が設けられる配置面（面４ａ）とは反対側の配置面（面４ｂ）に設けられる。また、本実施形態におけるエンコーダ装置ＥＣは、第１回転体ＳＦ１の回転位置を検出する少なくとも２つの光学式エンコーダ（第１光学式エンコーダＥＣ１、第３光学式エンコーダＥＣ６）と、第２回転体ＳＦ２の回転位置を検出する少なくとも２つの光学式エンコーダ（第２光学式エンコーダＥＣ２、第４光学式エンコーダＥＣ７）とを備える。例えば、第１回転体ＳＦ１の回転位置を検出する場合、第１光学式エンコーダＥＣ１がメイン検出系であり、第３光学式エンコーダＥＣ６がサブ検出系であるため、エンコーダ装置ＥＣは第１回転体ＳＦ１の回転位置の検出を二重化することができる。また、例えば、第２回転体ＳＦ２の回転位置を検出する場合、第２光学式エンコーダＥＣ２がメイン検出系であり、第４光学式エンコーダＥＣ７がサブ検出系であるため、エンコーダ装置ＥＣは第２回転体ＳＦ２の回転位置の検出を二重化することができる。

なお、第１支持部４と第２支持部５とは、上述の実施形態において別体の部材であるが、一体化された部材（例、１つの部材）でもよい。図１２は、実施形態に係る第１支持部４および第２支持部５を示す図である。図１２（Ａ）において、第１支持部４および第２支持部５は、それぞれ、支持部材３８の一部である。支持部材３８は、例えば、樹脂などで一体成型された部材である。支持部材３８は、第１支持部４、第２支持部５、及び接続部３９を含む。第１支持部４および第２支持部５は、それぞれ、平板状である。接続部３９は、例えば、第１支持部４の端部からＺ方向に延びて、第２支持部５の端部と接続部３９を介して連続する。

なお、支持部材３８の一部分（第１部分）は、支持部材３８の他の部分（第２部分）と別体で形成されてもよい。支持部材３８は、上記の第１部分と第２部分とを一体化（例、接合、固定）することで形成されてもよい。例えば、図１２（Ｂ）において、第１支持部４、第２支持部５、及び接続部３９は、互いに独立して形成され、接着あるいはネジ止めなどで互いに固定されることで、支持部材３８になる。

なお、上述の実施形態において、第２支持部５は、例えば第１支持部４と別体の部材である場合に、第１支持部４と独立して固定される。第２支持部５は、例えば図１２の支持部材３８のように第１支持部４と一体化される場合、第１支持部４とともに固定されてもよい。

［駆動装置］
次に、実施形態に係る駆動装置について説明する。図１３は、実施形態に係る駆動装置を示す図である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。この駆動装置ＭＴＲは、電動モータを含むモータ装置である。駆動装置ＭＴＲは、第１回転体ＳＦ１と、第１回転体ＳＦ１を回転駆動する駆動部ＭＤと、第１回転体ＳＦ１と接続される第２回転体ＳＦ２と、エンコーダ装置ＥＣとを備える。

第１回転体ＳＦ１は、負荷側端部ＳＦａと、反負荷側端部ＳＦｂとを有している。負荷側端部ＳＦａは、図１に示した変速部ＴＲ（動力伝達部）に接続される。反負荷側端部ＳＦｂには、第１スケールＳＣ１が固定される。また、負荷側端部ＳＦａに接続された動力伝達機構は、ロボット装置などのアームなどの負荷に接続される。また、動力伝達機構は、第２回転体ＳＦ２に接続される。

駆動装置ＭＴＲは、エンコーダ装置ＥＣの検出結果を使って、図１などに示した制御部ＭＣが駆動部ＭＤを制御する。エンコーダ装置ＥＣは、第１支持部４と第２支持部５とでアキシャル方向の位置が異なる場合、例えば、アキシャル方向の装置サイズを小型にすることができる。このようなエンコーダ装置ＥＣを備える駆動装置ＭＴＲは、アキシャル方向の装置サイズを小型にすることができる。

また、エンコーダ装置ＥＣは、第１支持部４と第２支持部５とが互いに独立した部材である場合、第１検出部１と第１スケールＳＣ１との第１相対位置と、第２検出部２と第２スケールＳＣ２との第２相対位置とを独立して調整可能である。エンコーダ装置ＥＣは、上記の第１相対位置および第２相対位置の双方を高精度に設定することができ、回転位置を高精度に検出可能である。このようなエンコーダ装置ＥＣを備える駆動装置ＭＴＲは、例えば、第１回転体ＳＦ１の回転位置を高精度に制御可能である。実施形態に係る駆動装置ＭＴＲは、モータ装置（電動モータ）でなくてもよく、油圧や空圧を利用して回転する軸部を有する駆動装置でもよい。

［ステージ装置］
次に、実施形態に係るステージ装置について説明する。図１４は、実施形態に係るステージ装置を示す図である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。

このステージ装置ＳＴＧは、図１３に示した駆動装置ＭＴＲの第２回転体ＳＦ２に、ステージＳＴ（回転テーブル、移動体、回転体）を取り付けた構成である。ステージ装置ＳＴＧは、駆動装置ＭＴＲを駆動して第１回転体ＳＦ１（図１３参照）を回転させる。この回転は、第２回転体ＳＦ２を介してステージＳＴに伝達される。ステージＳＴが回転する際に、エンコーダ装置ＥＣは、第１回転体ＳＦ１の回転位置を検出する。ステージ装置ＳＴＧは、エンコーダ装置ＥＣの検出結果を用いることにより、ステージＳＴの回転位置を検出することができる。

ステージ装置ＳＴＧは、エンコーダ装置ＥＣの第１支持部４と第２支持部５とでアキシャル方向の位置が異なる場合、例えば、アキシャル方向における駆動装置ＭＴＲのサイズを小型にすることができる。また、ステージ装置ＳＴＧは、エンコーダ装置ＥＣの第１支持部４と第２支持部５とが互いに独立した部材である場合、例えば、第１回転体ＳＦ１（図１３参照）の回転位置を高精度に検出可能であり、ステージＳＴの回転位置を高精度に制御可能である。

実施形態に係るステージ装置ＳＴＧは、例えば、旋盤等の工作機械に備える回転テーブル等でもよい。また、実施形態に係るステージ装置ＳＴＧは、第２回転体ＳＦ２の回転運動を直線運動に変換してステージを駆動する１次元ステージ装置（例、Ｘステージ装置）でもよい。また、実施形態に係るステージ装置ＳＴＧは、例えば、上記の１次元ステージ装置を複数組み合わせた二次元ステージ装置（例、ＸＹステージ装置）、あるいは３次元元ステージ装置（例、ＸＹＺステージ装置）でもよい。

［ロボット装置］
次に、実施形態に係るロボット装置について説明する。図１５は、実施形態に係るロボット装置を示す図である。図１５には、ロボット装置ＲＢＴの一部（関節部分）を模式的に示した。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略装置または簡略化する。このロボット装置ＲＢＴは、第１アームＡＲ１と、第２アームＡＲ２と、関節部ＪＴとを備える。第１アームＡＲ１は、関節部ＪＴを介して、第２アームＡＲ２と接続されている。

第１アームＡＲ１は、腕部１０１、軸受１０１ａ、及び軸受１０１ｂを備えている。第２アームＡＲ２は、腕部１０２および接続部１０２ａを有する。接続部１０２ａは、関節部ＪＴにおいて、軸受１０１ａと軸受１０１ｂの間に配置されている。接続部１０２ａは、第２回転体ＳＦ２と一体的に設けられている。第２回転体ＳＦ２は、関節部ＪＴにおいて、軸受１０１ａと軸受１０１ｂの両方に挿入されている。第２回転体ＳＦ２のうち軸受１０１ｂに挿入される側の端部は、軸受１０１ｂを貫通して減速機ＲＧに接続されている。

減速機ＲＧは、駆動装置ＭＴＲに接続されており、駆動装置ＭＴＲの第１回転体ＳＦ１（図１３参照）の回転を例えば１００分の１等に減速して第２回転体ＳＦ２に伝達する。駆動装置ＭＴＲの第１回転体ＳＦ１のうち負荷側端部ＳＦａは、減速機ＲＧに接続される。駆動装置ＭＴＲの第１回転体ＳＦ１のうち反負荷側端部ＳＦｂには、エンコーダ装置ＥＣの第１スケールＳＣ１が取り付けられている。

ロボット装置ＲＢＴは、駆動装置ＭＴＲを駆動して第１回転体ＳＦ（図１３参照）を回転させると、この回転が減速機ＲＧを介して第２回転体ＳＦ２に伝達される。第２回転体ＳＦ２の回転により接続部１０２ａが一体的に回転し、これにより第２アームＡＲ２が、第１アームＡＲ１に対して回転する。その際、エンコーダ装置ＥＣは、第１回転体ＳＦ１の回転位置を検出する。ロボット装置ＲＢＴは、エンコーダ装置ＥＣの検出結果を用いることにより、第２アームＡＲ２の回転位置を検出、制御することができる。

実施形態に係るロボット装置ＲＢＴは、図１３に示したエンコーダ装置ＥＣの第１支持部４と第２支持部５とでアキシャル方向の位置が異なる場合、例えば、アキシャル方向における駆動装置ＭＴＲのサイズを小型にすることができる。また、実施形態に係るロボット装置ＲＢＴは、図１３に示したエンコーダ装置ＥＣの第１支持部４と第２支持部５とが互いに独立した部材である場合、例えば、第１回転体ＳＦ１の回転位置を高精度に検出可能であり、第２アームＡＲ２の回転位置を高精度に検出、制御することができる。ロボット装置ＲＢＴは、上記の構成に限定されず、駆動装置ＭＴＲは、関節を備える各種ロボット装置に適用できる。

なお、本発明の技術範囲は、上述の実施形態などで説明した態様に限定されるものではない。上述の実施形態などで説明した要件の１つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態などで引用した全ての文献の開示を援用して本文の記載の一部とする。

１・・・第１検出部、２・・・第２検出部、３・・・処理部、４・・・第１支持部、４ａ・・・面（第１面）、４ｂ・・・面（第１面の反対側の面）、５・・・第２支持部、５ａ・・・面（第２面）、５ｂ・・・面（第２面の反対側の面）、６・・・算出部、７・・・変換部、８・・・算出部、９・・・比較部、３１・・・第１磁気センサ、３２・・・第２磁気センサ、３５・・・第３磁気センサ、３６・・・第３検出部、３７・・・第４検出部、ＡＸ・・・回転軸、ＢＤ・・・本体部、ＥＣ・・・エンコーダ装置、Ｐ３・・・第１磁気パターン、Ｐ４・・・第２磁気パターン、ＭＴＲ・・・駆動装置、ＲＢＴ・・・ロボット装置、ＳＣ１・・・第１スケール、ＳＣ２・・・第２スケール、ＳＦ１・・・第１回転体、ＳＦ２・・・第２回転体、ＳＴＧ・・・ステージ装置

Claims (21)

1. 第１回転体に固定される第１スケールと、
   前記第１スケールを検出する第１検出部と、
   前記第１検出部を支持する第１支持部と、
   前記第１回転体と接続される第２回転体に固定される第２スケールと、
   前記第２スケールを検出する第２検出部と、
   前記第２検出部を支持し、前記第１回転体の軸方向又は該軸方向に平行な方向において前記第１支持部と異なる位置に配置される第２支持部と、を備え、
   前記第１検出部及び前記第２検出部は、それぞれ、前記軸方向又は該軸方向に平行な方向において前記第１スケールと前記第２スケールとの間に配置される、エンコーダ装置。
2. 前記軸方向又は該軸方向に平行な方向において、前記第１支持部が配置される第１の取付基準面の位置は、前記第２支持部が配置される第２の取付基準面の位置と異なる、請求項１に記載のエンコーダ装置。
3. 前記第１支持部は、前記第１回転体に対して位置決めされ、
   前記第２支持部は、前記第１支持部と独立して、前記第２回転体に対して位置決めされる、請求項１又は請求項２に記載のエンコーダ装置。
4. 前記第１支持部と前記第２支持部とは、互いに別の部材で構成され、
   前記第１支持部と前記第２支持部とが互いに独立して固定される本体部を備える、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
5. 前記第２支持部は、前記第１回転体の回転軸を中心とする回転方向において、前記第１支持部と１８０°ずれた位置に配置される、請求項４に記載のエンコーダ装置。
6. 前記第２支持部は、前記第１支持部と外形が同じである、請求項４又は請求項５に記載のエンコーダ装置。
7. 前記第２支持部は、前記第１支持部を前記軸方向に垂直な軸周りに１８０°回転させた姿勢で配置される、請求項４から請求項６のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
8. 前記第１検出部から得られる第１回転位置と、前記第２検出部から得られる第２回転位置とを比較する比較部を備える、請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
9. 前記第２検出部から得られる信号を、信号レベルが反転した信号に変換する変換部を備え、
   前記比較部は、前記第１検出部から得られる信号と、前記変換部による変換によって得られる信号とを比較する、請求項８に記載のエンコーダ装置。
10. 前記比較部は、前記比較によって、前記第１回転体の多回転を検出する、請求項８又は請求項９に記載のエンコーダ装置。
11. 前記比較部は、前記比較によって、前記第１回転位置の検出又は前記第２回転位置の検出におけるエラーの有無を検出する、請求項８から請求項１０のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
12. 前記第１支持部は、前記第１検出部が配置される第１面を有し、
    前記第２支持部は、前記第２検出部が配置される第２面を有し、
    前記第２面は、前記第１面の反対側を向いて配置され、前記第１支持部のうち前記第１面の反対側の面と前記軸方向又は該軸方向に平行な方向の位置が異なる、請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
13. 前記軸方向又は該軸方向に平行な方向において、前記第１支持部のうち前記第１面と反対側の面は、前記第２支持部のうち前記第２面と反対側の面と同じ位置に配置される、請求項１２に記載のエンコーダ装置。
14. 前記軸方向又は該軸方向に平行な方向において、前記第１支持部のうち前記第１面と反対側の面は、前記第２面よりも前記第２スケールに近い位置に配置される、請求項１２に記載のエンコーダ装置。
15. 前記第１検出部は、前記第１スケールを光学的に検出し、
    前記第２検出部は、前記第２スケールを光学的に検出する、請求項１２から請求項１４のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
16. 前記第２スケールにおいて前記第１支持部と対向する位置に設けられる第１磁気パターンと、
    前記第１支持部のうち前記第１面と反対側の面に配置され、前記第１磁気パターンを検出する第１磁気センサと、を備える、請求項１２から請求項１５のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
17. 前記第２スケールにおいて前記第１支持部と対向する位置に設けられる第１磁気パターンと、
    前記第２支持部の前記第２面に配置され、前記第１磁気パターンを検出する第２磁気センサと、を備える、請求項１２から請求項１５のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
18. 前記第１スケールにおいて前記第２支持部と対向する位置に設けられる第２磁気パターンと、
    前記第２支持部のうち前記第２面と反対側の面に配置され、前記第２磁気パターンを検出する第３磁気センサと、を備える、請求項１２から請求項１７のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。
19. 請求項１から請求項１８のいずれか一項に記載のエンコーダ装置と、
    前記第１回転体に駆動力を供給する駆動部と、を備える駆動装置。
20. 請求項１９に記載の駆動装置と、
    前記駆動装置によって移動するステージと、を備えるステージ装置。
21. 請求項１９に記載の駆動装置と、
    前記駆動装置によって移動するアームと、を備えるロボット装置。

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