JP7046368B2 - 電極接続構造、リードフレーム及び電極接続構造の形成方法 - Google Patents
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Description
本実施形態に係る電極接続構造について、図1ないし図3を用いて説明する。図1は、本実施形態に係る電極接続構造で用いるリードフレーム及び半導体チップの接続構造を示す図である。図1(A)は、半導体チップとリードフレームとを接続した場合の下面図、図1(B)は、半導体チップとリードフレームとを接続した場合の側断面図である。図1に示すように、本実施形態に係る電極接続構造は、複数の長尺状のリード11が梯子状に並列して配設されたリードフレーム10における各リード11の長手方向側面と半導体チップ12の電極とをめっき接続する。リードフレーム10と直接接触して接続される半導体チップ12の電極面を第1接続面13とし、この第1接続面13に接触するリード11の長手方向側面を第2接続面14とする。第1接続面13と第2接続面14との間をめっき処理して接合することで、半導体チップ12とリードフレーム10とを電気的に接続する。
本実施形態に係る電極接続構造について、図4ないし図7を用いて説明する。本実施形態に係る電極接続構造は、リード11の長手方向側面の第2接続面14の短手方向に複数のエッジ部15が所定の間隔を空けて形成されているものである。なお、本実施形態において前記第1の実施形態と重複する説明は省略する。
本実施形態に係る電極接続構造について、図8及び図9を用いて説明する。本実施形態に係る電極接続構造は、リード11の長手方向側面の第2接続面の裏面側の第3接続面と、当該第3接続面と接続する半導体チップ12の電極面(又は基板電極面でもよい)である第4接続面と、の接続部分において、第4接続面と接触する第3接続面のエッジ部分から当該第3接続面の外側部に向かって第4接続面と第3接続面との距離が連続的に増加しているものである。なお、本実施形態において前記各実施形態と重複する説明は省略する。
本実施形態に係る電極接続構造の形成方法について、図10を用いて説明する。本実施形態に係る電極接続構造の形成方法は、第1接続面13と第2接続面14上のエッジ部15とを超音波振動により接合するものである。超音波接合は、例えばワイヤボンディングの接合等に利用されているものであり、超音波振動により接合面表面の不要な膜(例えば、酸化膜等)を除去しながら分子間の距離を縮めることで、分子レベルで接合するものである。超音波接合は、面同士での接合では極めて困難性を有するが、ワイヤボンディングや本発明のようなエッジ部15においては、平面電極に対して良好に接合することが可能である。
11 リード
12 半導体チップ
13 第1接続面
14 第2接続面
15(15a,15b) エッジ部
16(16a,16b) 外側部
17(17a) 空隙
18 第3接続面
19 第4接続面
Claims (21)
- 電子デバイス電極及び/又は基板電極とリードフレームのリードとをめっき接続する電極接続構造において、
前記リードフレームにおける複数の長尺状のリードが並列して配設されており、各リードの長手方向側面と前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極とがめっき接続され、
前記リードに接続される前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極の第1接続面と、当該第1接続面に接続される前記リードの長手方向に沿って形成される直線状のエッジ部分を含む第2接続面と、の接続部分において、前記第1接続面と接触する前記第2接続面のエッジ部分がめっきで接合され、当該エッジ部分から当該第2接続面の外側部に向かって前記第1接続面と前記第2接続面との距離が連続的に増加していることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項1に記載の電極接続構造において、
前記第2接続面のエッジ部分から当該第2接続面の外側部に向かって、前記リードが減肉加工されていることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項1又は2に記載の電極接続構造において、
前記第2接続面における長手方向中心部に前記エッジ部分が形成されていることを特徴とする電極接続構造。 - 電子デバイス電極及び/又は基板電極とリードフレームのリードとをめっき接続する電極接続構造において、
前記リードフレームにおける複数の長尺状のリードが並列して配設されており、各リードの長手方向側面と前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極とがめっき接続され、
前記リードに接続される前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極の第1接続面と、当該第1接続面に接続される前記リードの長手方向側面における第2接続面と、の接続部分において、前記第1接続面と接触する前記第2接続面のエッジ部分から当該第2接続面の外側部に向かって前記第1接続面と前記第2接続面との距離が連続的に増加しており、
前記第2接続面における短手方向に複数の前記エッジ部分が所定の間隔を空けて形成されており、当該エッジ部分の間に前記第2接続面の短手方向に貫通する凹溝状の空隙が形成されていることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の電極接続構造において、
前記第2接続面に、長手方向に沿って凹溝状に切り込まれた連続又は不連続の空隙が形成されていることを特徴とする電極接続構造。 - 電子デバイス電極及び/又は基板電極とリードフレームのリードとをめっき接続する電極接続構造において、
前記リードフレームにおける複数の長尺状のリードが並列して配設されており、各リードの長手方向側面と前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極とがめっき接続され、
前記リードに接続される前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極の第1接続面と、当該第1接続面に接続される前記リードの長手方向に沿って形成される直線状のエッジ部分を含む第2接続面と、の接続部分において、前記第1接続面と接触する前記第2接続面のエッジ部分がめっきで接合され、当該エッジ部分から当該第2接続面の外側部に向かって前記第1接続面と前記第2接続面との距離が連続的に増加しており、
前記第2接続面の裏面側であって前記リードの長手方向に沿って形成される直線状のエッジ部分を含む第3接続面と、当該第3接続面と接続する前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極の第4接続面と、の接続部分において、前記第4接続面と接触する前記第3接続面のエッジ部分から当該第3接続面の外側部に向かって前記第4接続面と前記第3接続面との距離が連続的に増加していることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項6に記載の電極接続構造において、
前記第2接続面のエッジ部分は、前記第2接続面における長手方向中心部に形成され、前記第3接続面のエッジ部分は、前記第3接続面における長手方向中心部に形成されていることを特徴とする電極接続構造。 - 電子デバイス電極及び/又は基板電極とリードフレームのリードとをめっき接続する電極接続構造において、
前記リードフレームにおける複数の長尺状のリードが並列して配設されており、各リードの長手方向側面と前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極とがめっき接続され、
前記リードに接続される前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極の第1接続面と、当該第1接続面に接続される前記リードの長手方向側面における第2接続面と、の接続部分において、前記第1接続面と接触する前記第2接続面のエッジ部分から当該第2接続面の外側部に向かって前記第1接続面と前記第2接続面との距離が連続的に増加しており、
前記第2接続面の裏面側の第3接続面と、当該第3接続面と接続する前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極の第4接続面と、の接続部分において、前記第4接続面と接触する前記第3接続面の前記エッジ部分から当該第3接続面の外側部に向かって前記第4接続面と前記第3接続面との距離が連続的に増加しており、
前記第2接続面及び前記第3接続面における短手方向に複数の前記エッジ部分が所定の間隔を空けて形成されており、当該エッジ部分の間に前記第2接続面及び前記第3接続面の短手方向に貫通する凹溝状の空隙が形成されていることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載の電極接続構造において、
前記めっき接続が、融点が700℃以上の金属又は合金によるめっきであることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項9に記載の電極接続構造において、
前記金属又は前記合金が、Ni又はNi合金であることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載の電極接続構造において、
前記リードのエッジ部分における、前記電子デバイス電極及び/又は基板電極と前記リードの長手方向側面とのなす角度が3度~15度であることを特徴とする電極接続構造。 - 請求項3又は7に記載の電極接続構造の形成方法であって、
前記エッジ部分がプレス加工又はエッチング加工により形成されることを特徴とする電極接続構造の形成方法。 - 電子デバイス電極及び/又は基板電極とめっき接続するリードフレームにおいて、
複数の長尺状のリードが並列して配設されており、
前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極に接合される前記リードの長手方向側面に、前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極に接触し、前記リードの長手方向に沿って直線状に形成されるエッジ部分を有する接続面を備えることを特徴とするリードフレーム。 - 請求項13に記載のリードフレームにおいて、
前記エッジ部分から当該エッジ部分を有する接続面の外側部に向かって、前記リードが減肉加工されていることを特徴とするリードフレーム。 - 請求項14に記載のリードフレームにおいて、
前記接続面における長手方向中心部に前記エッジ部分が形成されていることを特徴とするリードフレーム。 - 電子デバイス電極及び/又は基板電極とめっき接続するリードフレームにおいて、
複数の長尺状のリードが並列して配設されており、
前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極に接合される前記リードの長手方向側面に前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極と接触するエッジ部分を有し、
前記電子デバイス電極及び/又は前記基板電極に接続する接続面における短手方向に複数の前記エッジ部分が所定の間隔を空けて形成されており、当該エッジ部分の間に前記接続面の短手方向に貫通する凹溝状の空隙が形成されていることを特徴とするリードフレーム。 - 請求項13ないし16のいずれかに記載のリードフレームにおいて、
前記接続面に、長手方向に沿って凹溝状に切り込まれた連続又は不連続の空隙が形成されていることを特徴とするリードフレーム。 - 請求項13ないし17のいずれかに記載のリードフレームにおいて、
前記エッジ部分が形成されている接続面の裏面側の前記リードの長手方向側面に他のエッジ部分が形成されていることを特徴とするリードフレーム。 - 請求項13ないし18のいずれかに記載のリードフレームにおいて、
前記リードのエッジ部分が、接合される前記電子デバイス電極及び/ 又は前記基板電極の面に対して3度~15度の角度で形成されていることを特徴とするリードフレーム。 - 電子デバイス電極及び/又は基板電極とリードフレームのリードとを接続する電極接続構造の形成方法であって、
前記リードフレームは複数の長尺状のリードが並列して配設されると共に、当該リードの長手方向側面には当該リードの長手方向に沿って形成される直線状のエッジ部分を有しており、
前記電子デバイス電極及び/又は基板電極と前記リードのエッジ部分とを接触させた状態で超音波振動を付加して前記エッジ部分の先端を座屈させ、前記電子デバイス電極及び/又は基板電極と前記リードのエッジ部分とを超音波接合し、
前記電子デバイス電極及び/又は基板電極とリードフレームのリードとが前記超音波接合で仮止めされた状態でめっき接合処理が行われることを特徴とする電極接続構造の形成方法。 - 請求項20に記載の電極接続構造の形成方法において、
前記リードのエッジ部分と前記電子デバイス電極及び/又は基板電極とのなす角度が3度~15度であることを特徴とする電極接続構造の形成方法。
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