JP7036200B2 - 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び重合体 - Google Patents

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本出願は、２０１８年４月１９日に出願された日本出願番号２０１８－８０８８１号に基づくもので、ここにその記載内容を援用する。

本開示は、液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び重合体に関する。

液晶素子は、テレビやパーソナルコンピュータ、スマートフォンなどの表示装置をはじめとする各種用途に用いられている。これら液晶素子は、液晶分子を一定の方向に配向させる機能を有する液晶配向膜を具備している。液晶配向膜は一般に、重合体成分が有機溶媒に溶解されてなる液晶配向剤を基板上に塗布し、好ましくは加熱することにより基板上に形成される。液晶配向剤の重合体成分としては、機械的強度や液晶配向性、液晶との親和性に優れていることから、ポリアミック酸や可溶性ポリイミドが広く使用されている（例えば、特許文献１や特許文献２参照）。

国際公開第２０１２／１７６８２２号 特開２０１７－１３８５７５号公報

液晶配向膜による液晶分子の配向規制力が弱いと、液晶素子を長時間動作させた場合に、初期配向の方向が液晶素子の製造当初の方向からずれてきてしまい、ＡＣ残像と称する焼き付きが発生することがある。特に、光配向処理によって液晶配向膜を得る場合、ラビング処理に比べて液晶分子の配向規制力が十分でなく、ＡＣ残像が生じやすい傾向にある。液晶素子としては、近年の更なる高性能化の要求を満たすべく、ＡＣ残像が十分に低減されていることに加え、液晶素子の基本特性である電気特性に優れている（電圧保持率が高い）ことが望まれる。

本開示は上記事情に鑑みてなされたものであり、その一つの目的は、高い電圧保持率を示し、かつＡＣ残像が低減された液晶素子を得ることができる液晶配向剤を提供することにある。

本開示によれば、以下の手段が提供される。
［１］ 下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位Ｕ１と、下記式（２）、式（３）、式（４）又は式（５）で表される部分構造を有する化合物に由来する構造単位であって前記構造単位Ｕ１とは異なる構造単位Ｕ２と、を有する重合体（Ｐ）を含有する、液晶配向剤。
（Ｅ^１）_ｉ－（Ｇ^１）_ｊ …（１）
（式（１）中、Ｇ^１は、架橋性を示す環状構造を有する基、芳香族縮合多環構造を有する基、又は窒素含有複素環構造を有する基である。Ｅ^１は、重合性炭素－炭素不飽和結合を有する基であり、重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する少なくとも一方の炭素原子が、Ｇ^１が有する、架橋性を示す環状構造、芳香族縮合多環構造又は窒素含有複素環構造の環に対し単結合で結合しているか、又は＊＊－ＣＯＯ－、＊＊－ＣＯＮＲ^５０－、＊＊－ＣＨ_２－ＣＯＮＲ^５０－、－Ｏ－若しくはフェニレン基（ただし、「＊＊」は、重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する炭素原子に結合する結合手であることを示す。）を介して結合している。Ｒ^５０は、水素原子であるか、又はＲ^５０が他の基に結合して構成される環構造を表す。ｉ及びｊは、一方が１であって他方が２であるか、又はｉ＝ｊ＝１である。）

（式（２）中、Ｒ^１は、炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。式（３）中、Ｒ^４は、炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。式（４）中、Ｒ^８は、炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ^１１は、水素原子又は炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。Ｘ^１０及びＸ^１１のうち一方は単結合であり、他方はメチレン基である。式（５）中、Ｒ^１２は、炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ^１３及びＲ^１４は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。）
［２］ 上記［１］の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
［３］ 上記［２］の液晶配向膜を具備する液晶素子。
［４］ 上記式（１）で表される化合物に由来する構造単位Ｕ１と、上記式（２）、式（３）、式（４）又は式（５）で表される部分構造を有する化合物に由来する構造単位であって前記構造単位Ｕ１とは異なる構造単位Ｕ２と、を有する重合体。
［５］ 下記式（６）で表される化合物。

（式（６）中、Ｂ^１は、下記式（７）、式（８）、式（９）又は式（１０）で表される１価の基であり、Ｄ^１は、下記式（１１）で表される２価の基であり、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立して、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－Ｏ－又は炭素数１～３のアルカンジイル基であり、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基、シクロへキシレン基又はナフチレン基であり、Ｒ^１８は、炭素数２～２０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基又は－Ｒ^１９－Ｙ^１（ただし、Ｒ^１９は炭素数２～２０のアルカンジイル基であり、Ｙ^１はトリアルキルシリル基である。）である。ｍは０～２の整数であり、ｎは１～３の整数である。ｍが２の場合、複数のＡ^１、Ｘ^１は、それぞれ独立して上記定義を有する。ｎが２又は３の場合、複数のＲ^１８は、それぞれ独立して上記定義を有する。）

（式（７）中、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ上記式（２）と同義である。式（８）中、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ上記式（３）と同義である。式（９）中、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｘ^１０及びＸ^１１はそれぞれ上記式（４）と同義である。式（１０）中、Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ上記式（５）と同義である。「＊」は結合手であることを示す。）

（式（１１）中、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基又はシクロへキシレン基であり、Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立して、単結合、炭素数１～５のアルカンジイル基、又は当該アルカンジイル基の少なくとも１個のメチレン基が「－Ｏ－」で置き換えられた基であり（ただし、酸素原子は連続しない。）、Ｘ^３及びＸ^４は、それぞれ独立して、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－又は－Ｏ－であり、Ｒ^１６及びＲ^１７は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基である。ｋ及びｒは、それぞれ独立して０又は１である。「＊^１」及び「＊^２」は結合手であることを示す。ただし、「＊^１」がＢ^１に結合している場合と、「＊^２」がＢ^１に結合している場合とを含む。）

重合体（Ｐ）を含有する液晶配向剤によれば、高い電圧保持率を示し、かつＡＣ残像が低減された液晶素子を得ることができる。

≪液晶配向剤≫
本開示の液晶配向剤は、上記式（１）で表される化合物に由来する構造単位Ｕ１と、上記式（２）、式（３）、式（４）又は式（５）で表される部分構造を有する化合物に由来する構造単位であって前記構造単位Ｕ１とは異なる構造単位Ｕ２と、を有する重合体（Ｐ）を含有する。以下に、本開示の液晶配向剤に含まれる成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。

なお、本明細書において「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。「鎖状炭化水素基」とは、主鎖に環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。

＜重合体（Ｐ）＞
・構造単位Ｕ１について
上記式（１）において、Ｇ^１が、架橋性を示す環状構造を有する基である場合、当該環状構造は、熱又は光によって同一又は異なる分子間に共有結合を形成可能な基であることが好ましい。Ｇ^１が、架橋性を示す環状構造を有する基である場合の具体例としては、環状エーテル構造、環状（チオ）カーボネート構造、ラクトン構造、ラクタム構造又はオキサゾリン構造を有する基等が挙げられる。環状エーテル構造は、好ましくは、オキシラニル基（１，２－エポキシエタン構造）又はオキセタニル基（１，３－エポキシプロパン構造）であり、熱や光による反応性が高い点で、オキシラニル基がより好ましい。

Ｇ^１が、架橋性を示す環状構造を有する基である場合の好ましい具体例としては、下記式（２－Ａ－１）～式（２－Ａ－６）のそれぞれで表される構造が挙げられる。

（式（２－Ａ－１）～式（２－Ａ－６）中、Ｒ^５１～Ｒ^５６は、それぞれ独立して１価の置換基である。ｒ１、ｒ３、ｒ５、ｒ７、ｒ９及びｒ１１は、それぞれ独立して０～２の整数であり、ｒ２、ｒ４、ｒ６、ｒ８及びｒ１０は、それぞれ独立して１～５の整数である。「＊」は、Ｅ^１中の重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する炭素原子に結合する結合手であることを示す。）

上記式（２－Ａ－１）～式（２－Ａ－６）において、Ｒ^５１～Ｒ^５６の具体例としては、メチル基、エチル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）等が挙げられる。ｒ１、ｒ３、ｒ５、ｒ７、ｒ９及びｒ１１は、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。

芳香族縮合多環構造としては、例えば、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環等の芳香族炭化水素環；ナフトキノン環、アントラキノン環、キノリン環、キナゾリン環、ベンゾイミダゾール環、インドール環等の芳香族複素環、又はこれらの環の環部分に置換基が導入された構造等が挙げられる。置換基としては、例えばメチル基、エチル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、保護されたカルボキシル基、アミノ基、保護されたアミノ基等が挙げられる。芳香族縮合多環構造は、これらのうち、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、ナフトキノン環又はアントラキノン環を有する構造であることが好ましく、ナフタレン環又はアントラセン環を有する構造であることがより好ましい。

窒素含有複素環構造としては、単環でも縮合環でもよく、例えばピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、インドール、ベンゾイミダゾール、１Ｈ－ピロロ［２，３－ｂ］ピリジン、プリン、キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、フェナジン、キノキサリン、フタラジン、トリアジン、カルバゾール、アクリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピロリジン、モルホリン、ヘキサメチレンイミン、オキサゾール、イソオキサゾール、４，５－ジヒドロオキサゾール、４，５－ジヒドロベンゾオキサゾール、ジヒドロマレイミド、ベンゾマレイミド等の窒素含有複素環、及び当該窒素含有複素環に置換基が導入された構造等が挙げられる。当該置換基としては、例えば炭素数１～５のアルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
Ｇ^１が、窒素含有複素環構造を有する１価の基である場合、Ｇ^１の好ましい具体例としては、ピロール、イミダゾール、カルバゾール、プリン、インドール、モルホリン、ベンゾイミダゾール、ジヒドロマレイミド又はベンゾマレイミドの窒素原子に結合する水素原子を取り除いた基；ピリジン、ピリミジン、ピラジン、アクリジン、フェナジン、キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、イソオキサゾール、４，５－ジヒドロオキサゾール又はベンゾオキサゾールの炭素原子に結合する少なくとも１個の水素原子を取り除いた基、等が挙げられる。

上記式（１）において、Ｅ^１が有する重合性炭素－炭素不飽和結合は、当該重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する少なくとも１個の炭素原子が、架橋性を示す環状構造、芳香族縮合多環構造又は窒素含有複素環構造中の環に対し、単結合、＊＊－ＣＯＯ－、＊＊－ＣＯＮＲ^５０－、＊＊－ＣＨ_２－ＣＯＮＲ^５０－、－Ｏ－又はフェニレン基を介して結合している。具体的には、Ｅ^１は、下記式（ｅ－１）～式（ｅ－１１）のそれぞれで表される基のいずれかであることが好ましい。

（式（ｅ－１）～式（ｅ－１１）中、Ｒ^２０～Ｒ^３４、Ｒ^３６～Ｒ^４０、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４５～Ｒ^４９は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。Ｒ^３５、Ｒ^４１及びＲ^４４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１以上の１価の有機基である。「＊３」は、Ｇ^１が有する環との結合手であることを示し、「＊４」は、Ｒ^５０との結合手であることを示す。）

Ｒ^３５、Ｒ^４１、Ｒ^４４が１価の有機基である場合の具体例としては、炭素数１～３０の１価の炭化水素基、当該炭化水素基の少なくとも１個のメチレン基が－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＮＲ^６０－（ただし、Ｒ^６０は水素原子又は１価の炭化水素基である。以下同じ。）で置換された基（以下「基α」ともいう。）、炭素数１～３０の１価の炭化水素基又は基αの少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子で置換された基等が挙げられる。Ｒ^３６、Ｒ^４２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基であることがより好ましい。
Ｅ^１は、得られる液晶素子の電圧保持率をより高くできる点、ＡＣ残像をより低減できる点、及びモノマーの選択の自由度が高い点で、上記のうち、上記式（ｅ－１）～式（ｅ－４）のそれぞれで表される基のいずれかであることが好ましく、上記式（ｅ－１）～式（ｅ－３）のそれぞれで表される基のいずれかであることがより好ましい。
ｉ及びｊは、共に１であることが好ましい。

上記式（１）で表される化合物の具体例としては、Ｇ^１が架橋性を示す環状構造を有する基である化合物（以下、「化合物（Ｇ－１）」ともいう。）として、例えば下記式（１－１－１）～式（１－１－１８）のそれぞれで表される化合物、下記式（１－３－１１）で表される化合物等を；Ｇ^１が芳香族縮合多環構造を有する基である化合物（以下、「化合物（Ｇ－２）」ともいう。）として、例えば下記式（１－２－１）～式（１－２－１９）のそれぞれで表される化合物等を；Ｇ^１が窒素含有複素環構造を有する基である化合物（以下、「化合物（Ｇ－３）」ともいう。）として、例えば下記式（１－３－１）～式（１－３－１８）、式（１－１－１０）、式（１－１－１１）、式（１－２－８）及び式（１－２－９）のそれぞれで表される化合物等を、挙げることができる。なお、重合体（Ｐ）は、これらのうちの１種の化合物に由来する構造単位を有していてもよく、２種以上の化合物に由来する構造単位を有していてもよい。

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基である。）

重合体（Ｐ）は、構造単位Ｕ１として、化合物（Ｇ－１）に由来する構造単位、化合物（Ｇ－２）に由来する構造単位、及び化合物（Ｇ－３）に由来する構造単位のうちの１種のみを有していてもよく、これらのうちの２種以上を有していてもよい。また、重合体（Ｐ）が、化合物（Ｇ－１）に由来する構造単位と化合物（Ｇ－２）に由来する構造単位と化合物（Ｇ－３）に由来する構造単位とを有していてもよい。
重合体（Ｐ）中の構造単位Ｕ１の含有割合は、電圧保持率の向上効果及びＡＣ残像の低減効果を十分に得る観点から、重合体（Ｐ）が有するモノマー由来の構造単位の全量に対して、１モル％以上とすることが好ましく、３～６０モル％とすることがより好ましく、４～５０モル％とすることがさらに好ましい。

・構造単位Ｕ２について
上記式（２）～式（５）において、Ｒ^５及びＲ^１１の１価の有機基の具体例については、上記式（ｅ－６）のＲ^３５及び式（ｅ－８）のＲ^４１の１価の有機基の説明が適用される。
Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^８及びＲ^１２の１価の有機基としては、例えば炭素数１～３０の１価の炭化水素基、当該炭化水素基の少なくとも１個のメチレン基が－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＮＲ^６０－で置換された基α、炭素数１～３０の１価の炭化水素基又は基αの少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子で置換された基、光配向性基を有する１価の基、架橋性基を有する基等が挙げられる。
重合体（Ｐ）を用いて形成した有機膜に対し、偏光又は非偏光の放射線を照射することによって膜に異方性を与え、これにより液晶の配向を制御可能にすることができる点で、重合体（Ｐ）が有する構造単位Ｕ２の少なくとも一部は、光配向性基を有していることが好ましい。この場合、重合体（Ｐ）は、構造単位Ｕ２として、Ｒ^１、Ｒ^４又はＲ^８が光配向性基を有する１価の基である構造単位を有する。

光配向性基は、光照射による光異性化反応、光二量化反応、光フリース転位反応又は光分解反応によって膜に異方性を付与可能な官能基であることが好ましい。光配向性基の具体例としては、アゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体（桂皮酸構造）を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基、シクロブタン又はその誘導体を基本骨格として含むシクロブタン含有構造等が挙げられる。光に対する感度が高い点や、重合体側鎖に導入しやすい点で、光配向性基は、これらのうち、桂皮酸構造含有基であることが好ましい。

重合体（Ｐ）は、構造単位Ｕ２として、下記式（６）で表される化合物（以下、「特定モノマー」ともいう。）に由来する構造単位を有していることが好ましい。

（式（６）中、Ｂ^１は、下記式（７）、式（８）、式（９）又は式（１０）で表される１価の基であり、Ｄ^１は、下記式（１１）で表される２価の基であり、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立して、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－Ｏ－又は炭素数１～３のアルカンジイル基であり、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基、シクロへキシレン基又はナフチレン基であり、Ｒ^１８は、炭素数２～２０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基又は－Ｒ^１９－Ｙ^１（ただし、Ｒ^１９は炭素数２～２０のアルカンジイル基であり、Ｙ^１はトリアルキルシリル基である。）である。ｍは０～２の整数であり、ｎは１～３の整数である。ｍが２の場合、複数のＡ^１、Ｘ^１は、それぞれ独立して上記定義を有する。ｎが２又は３の場合、複数のＲ^１８は、それぞれ独立して上記定義を有する。）

（式（７）中、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ上記式（２）と同義である。式（８）中、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ上記式（３）と同義である。式（９）中、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｘ^１０及びＸ^１１はそれぞれ上記式（４）と同義である。式（１０）中、Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ上記式（５）と同義である。「＊」は結合手であることを示す。）

（式（１１）中、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基又はシクロへキシレン基であり、Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立して、単結合、炭素数１～５のアルカンジイル基、又は当該アルカンジイル基の少なくとも１個のメチレン基が「－Ｏ－」で置き換えられた基であり（ただし、酸素原子は連続しない。）、Ｘ^３及びＸ^４は、それぞれ独立して、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－又は－Ｏ－であり、Ｒ^１６及びＲ^１７は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基である。ｋ及びｒは、それぞれ独立して０又は１である。「＊^１」及び「＊^２」は結合手であることを示す。ただし、「＊^１」がＢ^１に結合している場合と、「＊^２」がＢ^１に結合している場合とを含む。）

上記式（６）において、Ｂ^１は、重合反応が進行しやすく、分子量が十分に大きい重合体を得る観点から、上記式（７）、式（８）又は式（９）で表される基であることが好ましく、上記式（７）又は式（８）で表される基であることが特に好ましい。上記式（９）には、下記式（９－１）及び式（９－２）が含まれる。

（式（９－１）及び式（９－２）中、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｘ^１０及びＸ^１１はそれぞれ上記式（４）と同義である。「＊」は結合手であることを示す。）
Ｘ^１及びＸ^２は、得られる液晶素子の電圧保持率の改善効果をより高くできる点で、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－又は炭素数１～３のアルカンジイル基であることが好ましく、単結合、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－であることがより好ましい。Ａ^１及びＡ^２が置換基を有する場合、当該置換基としては、例えばメチル基、エチル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。Ｒ^１６及びＲ^１７がハロゲン原子である場合の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ^１６及びＲ^１７は、好ましくは水素原子である。

得られる液晶素子のＡＣ残像をより低減できる点で、ｍは１又は２であることが好ましい。この場合、式（６）中の「－Ａ^２－Ｘ^２－（Ａ^１－Ｘ^１）ｍ－」は、液晶素子の電気特性及びＡＣ残像特性の改善効果をより高くできる点で、下記式（ａ－１）～式（ａ－９）のそれぞれで表される基のいずれかであることが好ましい。これらのうち、より好ましくは、下記式（ａ－１）～式（ａ－３）、及び式（ａ－６）～式（ａ－８）のそれぞれで表される基であり、さらに好ましくは、下記式（ａ－１）、式（ａ－７）及び式（ａ－８）のそれぞれで表される基であり、下記式（ａ－１）及び式（ａ－８）のそれぞれで表される基が特に好ましい。

（式中、「＊^５」はＲ^１８に結合する結合手であることを示し、「＊^６」はＢ^１に結合する結合手であることを示す。）

Ｒ^１８のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及び－Ｒ^１９－Ｙ^１は、直鎖状でも分岐状でもよいが、直鎖状であることが好ましい。液晶素子の電圧保持率の向上及びＡＣ残像の低減の効果をより高くできる点で、Ｒ^１８は、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基又は－Ｒ^１９－Ｙ^１であることが好ましく、フルオロアルキル基又はフルオロアルコキシ基であることがより好ましく、「－Ｒ^６１－Ｙ^２」で表される基（ただし、Ｒ^６１はアルカンジイル基であり、Ｙ^２はパーフルオロアルキル基であり、Ｒ^６１とＹ^２との合計の炭素数が２以上である。）であることが特に好ましい。ｎは１又は２であることが好ましい。Ｒ^１８がアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基又はフルオロアルコキシ基である場合、Ｒ^１８の炭素数は、３以上であることが好ましく、４以上であることがより好ましい。

得られる液晶素子の電気特性及びＡＣ残像低減の改善効果をより高くできる点で、上記式（６）で表される化合物は、下記式（ｂ－１）で表される基を有していることが好ましい。なお、式（ｂ－１）中の「Ｒ^８０－（ＣＦ_２）_ａ１－（ＣＨ_２）_ａ２－Ｘ^５－」は、式（６）のＲ^１８に対応している。

（式（ｂ－１）中、Ａ^６、Ａ^７及びＡ^８は、それぞれ独立して、置換又は無置換の１，４－シクロヘキシレン基又は１，４－フェニレン基であり、Ｘ^５は単結合又は酸素原子であり、Ｒ^８０は、フルオロメチル基又はメチル基であり、ａ１は０～２の整数であり、ａ２は１～２０の整数であり、ａ３は０又は１である。ただし、Ｒ^８０がメチル基である場合、ａ１＝０である。「＊」は結合手であることを示す。）

上記式（ｂ－１）において、Ａ^６は、ＡＣ残像の低減効果及び電圧保持率をより高くできる点で、置換又は無置換の１，４－シクロヘキシレン基であることが好ましく、１，４－シクロヘキシレン基であることが特に好ましい。
ａ３が０である場合、Ａ^８は１，４－シクロヘキシレン基であることが好ましく、ａ３が１である場合、Ａ^８は１，４－フェニレン基であることが好ましく、Ａ^７が１，４－シクロへキシレン基であって、Ａ^８が１，４－フェニレン基であることがより好ましい。
Ａ^６～Ａ^８が有していてもよい置換基としては、例えばメチル基、エチル基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。ａ１は０又は１であることが好ましい。ａ２は２以上であることが好ましい。ａ３は、合成や入手の容易性の点で１であることが好ましく、残像特性の改善効果が高い点で２であることが好ましい。Ｒ^８０は、液晶素子の電気特性及びＡＣ残像低減の改善効果をより高くできる点で、トリフルオロメチル基であることが好ましい。

上記式（１１）について、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５が有していてもよい置換基については、上記Ａ^１及びＡ^２の置換基の説明が適用される。
Ｘ^３及びＸ^４は、得られる液晶素子の電圧保持率の向上効果がより高い点で、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－又は炭素数１～３のアルカンジイル基であることが好ましく、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－であることがより好ましい。
「＊^２」がＢ^１に結合している場合、ＡＣ残像の低減効果をより高くできる点で、Ｌ^１は単結合であることが好ましく、Ｌ^１が単結合であって、かつｋ＝０であるか、又はＬ^１が単結合であって、かつＸ^３が－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－であることが特に好ましい。同様の理由から、「＊^１」がＢ^１に結合している場合、ｒ＝１の場合にはＬ^２が単結合であることが好ましく、Ｌ^２が単結合であって、かつＸ^４が－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－であることが特に好ましい。

特定モノマーの具体例としては、例えば下記式（６－１）～式（６－４１）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。特定モノマーは、これらのうち、式（１１）中の「＊^２」がＢ^１に結合している化合物を好ましく使用することができる。なお、重合体（Ｐ）は、構造単位Ｕ１として、１種の特定モノマーに由来する構造単位のみを有していてもよいし、２種以上の特定モノマーに由来する構造単位を有していてもよい。

（式（６－１）～式（６－４１）中、Ｂ^１は上記式（６）と同義である。Ｒ^６４は、炭素数２～２０のアルキレン基又はオキシアルキレン基であり、ｂ１は２～２０の整数であり、ｂ２は１又は２である。）

特定モノマーを合成する方法は特に限定されず、所望とする化合物の分子構造に応じて、有機化学の定法を適宜組み合わせることによって合成することができる。例えば、Ｂ^１が上記式（７）で表される基の化合物は、ヒドロキシ基含有マレイミド（４－ヒドロキシフェニルマレイミド、４－ヒドロキシシクロヘキシルマレイミド、３－ヒドロキシフェニルマレイミド、４－ヒドロキシ－２－メチルフェニルマレイミド、４－ヒドロキシ－３－メチルフェニルマレイミド等）と、対応する基「Ｒ^１８－Ａ^２－Ｘ^２－（Ａ^１－Ｘ^１）ｍ－」を有する桂皮酸誘導体とを反応させる方法により得ることができる。また、Ｂ^１が上記式（８）で表される基の化合物は、例えば、「Ｒ^１８－Ａ^２－Ｘ^２－（Ａ^１－Ｘ^１）ｍ－Ｄ^１－ＮＨ_２」で表されるアミン化合物と、マレイン酸無水物とを反応させる方法により得ることができる。Ｂ^１が上記式（９）で表される基の化合物は、例えば、「Ｒ^１８－Ａ^２－Ｘ^２－（Ａ^１－Ｘ^１）ｍ－Ｄ^１－ＮＨ_２」で表されるアミン化合物と、イタコン酸無水物とを反応させる方法により得ることができ、Ｂ^１が上記式（１０）で表される基の化合物は、例えば、Ｂ^１が上記式（９）で表される基の化合物のＢ^１中のケトン部分を還元することにより得ることができる。ただし、特定モノマーの合成方法は上記に限定されるものではない。

重合体（Ｐ）は、構造単位Ｕ２として、光配向性基を有する構造単位（以下、「構造単位Ｕ２Ａ」ともいう。）のみを有していてもよいが、構造単位Ｕ２Ａと共に、光配向性基を有さない構造単位（以下、「構造単位Ｕ２Ｂ」ともいう。）を有していてもよい。構造単位Ｕ２Ｂは、特に限定されないが、例えばＮ－メチルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－（４－グリシジルオキシフェニル）マレイミド、Ｎ－グリシジルマレイミド、３－（２，５－ジオキソ－３－ピロリン－１－イル)安息香酸、４－（２，５－ジオキソ－３－ピロリン－１－イル)安息香酸、４－（２，５－ジオキソ－３－ピロリン－１－イル)安息香酸メチル、Ｎ－メチルイタコンイミド、Ｎ－（ｍ－メトキシフェニル）イタコンイミド、及びこれらの開環体等が挙げられる。

重合体（Ｐ）中の構造単位Ｕ２の含有割合（構造単位Ｕ２Ａ及び構造単位Ｕ２Ｂを有する場合にはその合計量）は、重合体（Ｐ）が有するモノマー由来の構造単位の全量に対して、１モル％以上とすることが好ましく、３～６０モル％とすることがより好ましく、４～４０モル％とすることがさらに好ましい。
構造単位Ｕ２Ａの含有割合は、ＡＣ残像の低減効果を十分に得ることができる点で、重合体（Ｐ）が有するモノマー由来の構造単位の全量に対して、１モル％以上とすることが好ましく、３～５０モル％とすることがより好ましく、４～３０モル％とすることがさらに好ましい。

本開示の液晶配向剤は、構造単位Ｕ１及び構造単位Ｕ２を有する重合体を含有することによって電気特性及びＡＣ残像特性を改善できるものであるが、当該特性の改善効果をさらに高くするために、重合体（Ｐ）は、構造単位Ｕ１及び構造単位Ｕ２以外のその他の構造単位を有していてもよい。重合体（Ｐ）は、その他の構造単位として、下記の（ｘ１）及び（ｘ２）のうち少なくともいずれかを側鎖に有することが好ましく、（ｘ１）及び（ｘ２）の両方を側鎖に有することが特に好ましい。
（ｘ１）オキセタニル基及びオキシラニル基（ただし、構造単位Ｕ１が有するオキセタニル基及びオキシラニル基を除く。）の少なくとも一方の官能基（以下、「官能基（ｘ１）」ともいう。）
（ｘ２）加熱によりオキセタニル基及びオキシラニル基の少なくとも一方と反応する官能基（以下、「官能基（ｘ２）」ともいう。）

（官能基（ｘ１）について）
重合体（Ｐ）が官能基（ｘ１）を有している場合、配向膜形成時の焼成温度を低くした場合にも高い液晶配向性を発現する液晶配向膜を得ることができる点で好ましい。官能基（ｘ１）としては、オキセタニル基及びオキシラニル基（以下、単に「エポキシ基」ともいう。）のうち、反応性が高い点でオキシラニル基が好ましい。

（官能基（ｘ２）について）
ＡＣ残像の低減及び高い電圧保持率をより十分に奏するものとすることができる点で、重合体（Ｐ）は、官能基（ｘ２）を有していることが好ましい。官能基（ｘ２）としては、例えばカルボキシル基、水酸基、イソシアネート基及びアミノ基、並びにこれら各基が保護基で保護された基、アルコキシメチル基等が挙げられる。官能基（ｘ２）は、得られる液晶配向剤の保存安定性をより良好にでき、かつ加熱によるオキセタン環及びオキシラン環との反応性が高い点で、中でも、カルボキシル基、保護されたカルボキシル基（以下、「保護カルボキシル基」ともいう。）、アミノ基、及び保護されたアミノ基（以下、「保護アミノ基」ともいう。）よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。なお、アミノ基は、第１級アミノ基、第２級アミノ基及び第３級アミノ基を含む。

保護カルボキシル基は、熱によって脱離してカルボキシル基を生成するものであれば特に限定されない。保護カルボキシル基の好ましい具体例としては、下記式（１２）で表される構造、カルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造等が挙げられる。

（式（１２）中、Ｒ^３１，Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立に炭素数１～１０のアルキル基若しくは炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基であるか、又は、Ｒ^３１とＲ^３２とが相互に結合してＲ^３１及びＲ^３２が結合している炭素原子とともに炭素数４～２０の２価の脂環式炭化水素基又は環状エーテル基を形成し、かつＲ^３３が炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基又は炭素数６～２０のアリール基である。「＊」は結合手であることを示す。）

保護アミノ基は、熱によって脱離して１級アミノ基を生成するものであれば特に限定されない。保護基としては、例えばカルバメート系保護基、アミド系保護基、イミド系保護基、スルホンアミド系保護基等が挙げられる。これらのうち、熱による脱離性が高い点、及び脱離した保護基に由来する化合物の膜中における残存量をできるだけ少なくできる点で、ｔ－ブトキシカルボニル基（ＢＯＣ基）が特に好ましい。

官能基（ｘ１）及び官能基（ｘ２）は、得られる液晶素子の電気特性をより良好にできる点、及びモノマーの選択の自由度が高い点で、スチレン系化合物及び（メタ）アクリル系化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種によって重合体（Ｐ）に導入されることが好ましい。なお、本明細書において「（メタ）アクリル系化合物」は、一分子内に（メタ）アクリル基を１個のみ有する化合物をいい、マレイミド系化合物及びイタコンイミド系化合物とは区別される。

その他の構造単位として、官能基（ｘ１）を有する化合物（以下、「化合物Ｅ１」ともいう。）に由来する構造単位を有する場合、化合物Ｅ１は、エポキシ基を有する基として、下記式（１３）で表される部分構造を有していることが好ましい。下記式（１３）中のＲ^７０は、好ましくは炭素数２以上である。
＊－Ｒ^７０－Ｇ^２ …（１３）
（式（１３）中、Ｒ^７０は、炭素数１～２０のアルカンジイル基又は当該アルカンジイル基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を有する基であり、Ｇ^２は、オキセタニル基、オキシラニル基又は３，４－エポキシシクロヘキシル基である。「＊」は結合手であることを示す。）

化合物Ｅ１、及び官能基（ｘ２）を有する化合物（以下、「化合物Ｅ２」ともいう。）は、構造単位Ｕ１を形成するモノマー及び構造単位Ｕ２を形成するモノマーと重合可能であれば特に限定されないが、重合反応が進行しやすい点及びモノマーの選択の自由度が高い点で、上記式（ｅ－１）、式（ｅ－３）～式（ｅ－７）及び式（ｅ－１０）よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、上記式（ｅ－３）及び式（ｅ－５）～式（ｅ－７）よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることがより好ましい。

化合物Ｅ１の具体例としては、スチレン系化合物として、例えば３－（グリシジルオキシメチル）スチレン、４－（グリシジルオキシメチル）スチレン、４－グリシジル－α－メチルスチレン等を、
（メタ）アクリル系化合物として、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α－エチルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－プロピルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－ブチルアクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシブチル、α－エチルアクリル酸３，４－エポキシブチル、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸６，７－エポキシヘプチル、α－エチルアクリル酸６，７－エポキシヘプチル、アクリル酸４－ヒドロキシブチルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル等を、それぞれ挙げることができる。なお、化合物Ｅ１としては、これらの１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

化合物Ｅ２の具体例としては、スチレン系化合物として、例えば３－ビニル安息香酸、４－ビニル安息香酸、下記式（ｍ１－１）～（ｍ１－４）のそれぞれで表される化合物等を、
（メタ）アクリル化合物として、例えば（メタ）アクリル酸、α－エチルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル安息香酸、クロトン酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３－マレイミド安息香酸、３－マレイミドプロピオン酸等のカルボキシル基含有化合物；下記式（ｍ２－１）～式（ｍ２－１２）のそれぞれで表される保護カルボニル基含有化合物；下記式（ｍ１－５）～式（ｍ１－７）のそれぞれで表されるアミノ基含有化合物；下記式（ｍ１－８）及び式（ｍ１－９）のそれぞれで表される保護アミノ基含有化合物等を、それぞれ挙げることができる。なお、重合体（Ｐ）の合成に際し、化合物Ｅ２は、これらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

（式中、Ｒ^１５は水素原子又はメチル基である。）

重合体（Ｐ）において、化合物Ｅ１に由来する構造単位の含有割合は、重合体（Ｐ）が有するモノマー由来の構造単位の全量に対して、２モル％以上とすることが好ましく、５～７０モル％とすることがより好ましく、１０～６０モル％とすることがさらに好ましい。
化合物Ｅ２に由来する構造単位の含有割合は、重合体（Ｐ）が有するモノマー由来の構造単位の全量に対して、２モル％以上とすることが好ましく、３～６０モル％とすることがより好ましく、５～５０モル％とすることがさらに好ましい。

重合体（Ｐ）は、その他の構造単位として、官能基（ｘ１）及び官能基（ｘ２）をいずれも有さないモノマーに由来する構造単位を有していてもよい。当該モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキル、（メタ）アクリル酸シクロアルキル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシル等の（メタ）アクリル系化合物；スチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物；１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ブタジエン等の共役ジエン化合物、無水マレイン酸等が挙げられる。当該モノマーに由来する構造単位の含有割合は、重合体（Ｐ）が有するモノマー由来の構造単位の全量に対して、２０モル％以下とすることが好ましく、１０モル％以下とすることがより好ましく、３モル％以下とすることがさらに好ましい。

（重合体（Ｐ）の合成）
重合体（Ｐ）を合成する方法は特に限定されないが、例えば上記モノマーを重合開始剤の存在下、有機溶媒中でラジカル重合することにより得ることができる。使用する重合開始剤としては、例えば２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物が好ましい。重合開始剤の使用割合は、反応に使用する全モノマー１００質量部に対して、０．０１～３０質量部とすることが好ましい。使用する有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素化合物等が挙げられる。
上記の重合反応では、反応温度は３０℃～１２０℃とすることが好ましく、反応時間は１～３６時間とすることが好ましい。有機溶媒の使用量（ａ）は、反応に使用するモノマーの合計量（ｂ）が、反応溶液の全体量（ａ＋ｂ）に対して、０．１～６０質量％になるような量にすることが好ましい。重合体を溶解してなる反応溶液は、例えば、反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで得られる析出物を減圧下乾燥する方法、反応溶液をエバポレーターで減圧留去する方法等の公知の単離方法を用いて、反応溶液中に含まれる重合体（Ｐ）を単離したうえで液晶配向剤の調製に供するとよい。重合体（Ｐ）の合成は、例えばＲＡＦＴ試薬を用いたリビングラジカル重合等により行ってもよい。

重合体（Ｐ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００～３００，０００であり、より好ましくは２，０００～１００，０００である。Ｍｗと、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）との比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは７以下であり、より好ましくは５以下である。なお、液晶配向剤の調製に使用する重合体（Ｐ）は、１種のみでもよく、２種以上を組み合わせてもよい。

液晶配向剤中における重合体（Ｐ）の含有割合は、液晶素子の電気特性及び低残像特性の改善効果を十分に得ることができる点で、液晶配向剤に含まれる重合体成分の全量に対し、１質量％以上とすることが好ましく、２質量％以上とすることがより好ましく、３質量％以上とすることがさらに好ましい。重合体（Ｐ）の含有割合の上限値は特に制限されないが、重合体（Ｐ）とは異なる重合体の併用による各種特性（例えば、液晶配向性や電気特性等）の改善効果を十分に得るため、及び低コスト化を図るために、液晶配向剤に含まれる全重合体に対して、９０質量％以下とすることが好ましく、６０質量％以下とすることがより好ましく、４０質量％以下とすることがさらに好ましい。

＜その他の成分＞
本開示の液晶配向剤は、必要に応じて、重合体（Ｐ）以外のその他の成分を含有していてもよい。その他の成分としては、本開示の効果を損なわない限り特に限定されないが、例えば以下の成分が挙げられる。

（重合体（Ｑ））
本開示の液晶配向剤は、重合体（Ｐ）と共に、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体（以下、「重合体（Ｑ）」ともいう。）を含有していることが好ましい。この場合、重合体（Ｐ）を上層へ偏在させることにより、重合体（Ｐ）による電気特性及びＡＣ残像特性の改善効果を、できるだけ少ない量の重合体（Ｐ）によって実現できる点で好適である。重合体（Ｐ）がハロゲン原子又はケイ素原子を有する重合体であって、重合体（Ｑ）が、ハロゲン原子及びケイ素原子を有さない重合体の組み合わせとすることにより相分離を生じやすくすることができる点で好ましい。

重合体（Ｑ）は、従来公知の方法に従って合成することができる。例えばポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得ることができる。なお、本明細書において「テトラカルボン酸誘導体」は、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジエステル及びテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物を含む意味である。

重合に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、特に限定されず、種々のテトラカルボン酸二無水物を使用することができる。それらの具体例としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸二無水物；１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－３ａ，４，５，９ｂ－テトラヒドロナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－８－メチル－３ａ，４，５，９ｂ－テトラヒドロナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、２，４，６，８－テトラカルボキシビシクロ［３．３．０］オクタン－２：４，６：８－二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物；ピロメリット酸二無水物、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、p－フェニレンビス（トリメリット酸モノエステル無水物）、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、１，３－プロピレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）等の芳香族テトラカルボン酸二無水物、等を挙げることができるほか、特開２０１０－９７１８８号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。なお、テトラカルボン酸二無水物は１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

上記重合に使用するジアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン等の脂肪族ジアミン；ｐ－シクロヘキサンジアミン、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）等の脂環式ジアミン；ヘキサデカノキシジアミノベンゼン、コレスタニルオキシジアミノベンゼン、ジアミノ安息香酸コレスタニル、ジアミノ安息香酸コレステリル、ジアミノ安息香酸ラノスタニル、３，６－ビス（４－アミノベンゾイルオキシ）コレスタン、３，６－ビス（４－アミノフェノキシ）コレスタン、１，１－ビス（４－（（アミノフェニル）メチル）フェニル）－４－ブチルシクロヘキサン、２，５－ジアミノ－Ｎ，Ｎ－ジアリルアニリン、下記式（２－１）～式（２－３）

のそれぞれで表される化合物等の側鎖型の芳香族ジアミン；ｐ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルアミン、４－アミノフェニル－４’－アミノベンゾエート、４，４’－ジアミノアゾベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸、２，４－ジアミノ安息香酸、２，５－ジアミノ安息香酸、４，４’－ジアミノビフェニル－３－カルボン酸、１，５－ビス（４－アミノフェノキシ）ペンタン、ビス［２－（４－アミノフェニル）エチル］ヘキサン二酸、ビス（４－アミノフェニル）アミン、Ｎ，Ｎ－ビス（４－アミノフェニル）メチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）－ベンジジン、２，２’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノビフェニル、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、４，４’－（フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４－（４－アミノフェノキシカルボニル）－１－（４－アミノフェニル）ピペリジン、４，４’－［４，４’－プロパン－１，３－ジイルビス（ピペリジン－１，４－ジイル）］ジアニリン等の非側鎖型の芳香族ジアミン；１，３－ビス（３－アミノプロピル）－テトラメチルジシロキサン等のジアミノオルガノシロキサン、等を挙げることができるほか、特開２０１０－９７１８８号公報に記載のジアミンを用いることができる。なお、ジアミンは、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は－２０℃～１５０℃が好ましく、反応時間は０．１～２４時間が好ましい。反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等が挙げられる。有機溶媒の使用量は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計量が、反応溶液の全量に対して、０．１～５０質量％になる量とすることが好ましい。

重合体（Ｑ）がポリアミック酸エステルの場合、当該ポリアミック酸エステルは、例えば、上記で得られたポリアミック酸と、エステル化剤（例えばメタノールやエタノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドジエチルアセタール等）とを反応させる方法、テトラカルボン酸ジエステルとジアミン化合物とを適当な脱水触媒の存在下で反応させる方法、テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを適当な塩基の存在下で反応させる方法、等により得ることができる。

重合体（Ｑ）がポリイミドの場合、当該ポリイミドは、例えば、上記で得られたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミドは、そのイミド化率が２０～９５％であることが好ましく、３０～９０％であることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。

重合体（Ｑ）につき、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００～５００，０００であり、より好ましくは２，０００～３００，０００である。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは７以下であり、より好ましくは５以下である。なお、液晶配向剤に含有させる重合体（Ｑ）は、１種のみでもよく、又は２種以上を組み合わせてもよい。

液晶配向剤の重合体成分として重合体（Ｐ）と重合体（Ｑ）とを使用する場合、重合体（Ｐ）の配合割合は、ＡＣ残像特性及び電気特性の改善効果を十分に得る観点から、液晶配向剤の調製に使用する重合体（Ｑ）の１００質量部に対し、１質量部以上とすることが好ましい。より好ましくは２～５０質量部であり、さらに好ましくは５～３０質量部である。なお、重合体（Ｐ）及び重合体（Ｑ）は、それぞれ１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

（溶剤）
本開示の液晶配向剤は、重合体成分、及び必要に応じて任意に配合される成分が、好ましくは有機溶媒に溶解された溶液状の組成物として調製される。当該有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等が挙げられる。溶剤成分は、これらの１種でもよく、２種以上の混合溶媒であってもよい。

液晶配向剤の溶剤成分としては、重合体の溶解性及びレベリング性が高い溶剤（以下、「第１溶剤」ともいう。）、濡れ広がり性が良好な溶剤（以下、「第２溶剤」ともいう。）、及びこれらの混合溶剤が挙げられる。
溶剤の具体例としては、第１溶剤として、例えばＮ－メチル－２－ピロリドン、γ－ブチロラクトン、γ－ブチロラクタム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、ジイソブチルケトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ－（ｎ－ペンチル）－２－ピロリドン、Ｎ－（ｔ－ブチル）－２－ピロリドン、Ｎ－メトキシプロピル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド等を；
第２溶剤として、例えばエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、ダイアセトンアルコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－１－ブタノール、シクロペンタノン、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ－ト、エチルエトキシプロピオネ－ト、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジイソペンチルエーテル等を、それぞれ挙げることができる。なお、溶剤は、これらの１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。

液晶配向剤の溶剤成分を第１溶剤と第２溶剤との混合溶剤とする場合、第１溶剤の含有割合は、溶剤成分の全量に対して、１０質量％以上とすることが好ましく、１５～８５質量％とすることがより好ましい。

液晶配向剤に含有させるその他の成分としては、上記のほか、例えば、重合体（Ｐ）及び重合体（Ｑ）とは異なる重合体、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する分子量１０００以下の低分子化合物（例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－ｍ－キシレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－４，４’－ジアミノジフェニルメタン等）、官能性シラン化合物、多官能（メタ）アクリレート、酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、光増感剤等が挙げられる。その他の成分の配合割合は、本開示の効果を損なわない範囲で、各化合物に応じて適宜選択することができる。

液晶配向剤における固形分濃度（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合）は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは１～１０質量％の範囲である。固形分濃度が１質量％未満である場合には、塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得にくくなる。一方、固形分濃度が１０質量％を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜が得にくく、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布性が低下する傾向にある。

≪液晶配向膜及び液晶素子≫
本開示の液晶配向膜は、上記のように調製された液晶配向剤により形成される。また、本開示の液晶素子は、上記で説明した液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を具備する。液晶素子における液晶の動作モードは特に限定されず、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型（ＶＡ－ＭＶＡ型、ＶＡ－ＰＶＡ型などを含む。）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）型、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）型、ＰＳＡ型（Polymer Sustained Alignment）など種々のモードに適用することができる。液晶素子は、例えば以下の工程１～工程３を含む方法により製造することができる。工程１は、所望の動作モードによって使用基板が異なる。工程２及び工程３は各動作モード共通である。

＜工程１：塗膜の形成＞
先ず基板上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）などのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ_２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム－酸化スズ（Ｉｎ_２Ｏ_３－ＳｎＯ_２）からなるＩＴＯ膜などを用いることができる。ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＶＡ型の液晶素子を製造する場合には、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板二枚を用いる。一方、ＩＰＳ型又はＦＦＳ型の液晶素子を製造する場合には、櫛歯型にパターニングされた電極が設けられている基板と、電極が設けられていない対向基板とを用いる。基板への液晶配向剤の塗布は、電極形成面上に、好ましくはオフセット印刷法、フレキソ印刷法、スピンコート法、ロールコーター法又はインクジェット印刷法により行う。

液晶配向剤を塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱（プレベーク）が実施される。プレベーク温度は、好ましくは３０～２００℃であり、プレベーク時間は、好ましくは０．２５～１０分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて、重合体に存在するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成（ポストベーク）工程が実施される。このときの焼成温度（ポストベーク温度）は、好ましくは８０～２５０℃であり、より好ましくは８０～２００℃である。ポストベーク時間は、好ましくは５～２００分である。このようにして形成される膜の膜厚は、好ましくは０．００１～１μｍである。

＜工程２：配向処理＞
ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＩＰＳ型又はＦＦＳ型の液晶素子を製造する場合、上記工程１で形成した塗膜に液晶配向能を付与する処理（配向処理）を実施する。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。配向処理としては、塗膜を例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることによって塗膜に液晶配向能を付与するラビング処理、基板上に形成した塗膜に光照射を行って塗膜に液晶配向能を付与する光配向処理等が挙げられる。これらのうち、光配向処理が好ましい。垂直配向型の液晶素子を製造する場合には、上記工程１で形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、液晶配向能を更に高めるために、該塗膜に対し配向処理を施してもよい。

光配向のための光照射は、ポストベーク工程後の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程後であってポストベーク工程前の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程及びポストベーク工程の少なくともいずれかにおいて塗膜の加熱中に塗膜に対して照射する方法、等により行うことができる。塗膜に照射する放射線としては、例えば１５０～８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができる。好ましくは、２００～４００ｎｍの波長の光を含む紫外線である。放射線が偏光である場合、直線偏光であっても部分偏光であってもよい。用いる放射線が直線偏光又は部分偏光である場合には、照射は基板面に垂直の方向から行ってもよく、斜め方向から行ってもよく、又はこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線の場合の照射方向は斜め方向とする。

使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等が挙げられる。放射線の照射量は、好ましくは４００～５０，０００Ｊ／ｍ^２であり、より好ましくは１，０００～２０，０００Ｊ／ｍ^２である。配向能付与のための光照射後において、基板表面を例えば水、有機溶媒（例えば、メタノール、イソプロピルアルコール、１－メトキシ－２－プロパノールアセテート、ブチルセロソルブ、乳酸エチル等）又はこれらの混合物を用いて洗浄する処理や、基板を加熱する処理を行ってもよい。

＜工程３：液晶セルの構築＞
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、対向配置した２枚の基板間に液晶を配置することにより液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば、液晶配向膜が対向するように間隙を介して２枚の基板を対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面とシール剤で囲まれたセルギャップ内に液晶を注入充填し注入孔を封止する方法、ＯＤＦ方式による方法等が挙げられる。シール剤としては、例えば硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。液晶としては、ネマチック液晶及びスメクチック液晶を挙げることができ、その中でもネマチック液晶が好ましい。ＰＳＡモードでは、液晶セルの構築後に、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する処理を行う。

続いて、必要に応じて液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせ、液晶素子とする。偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はＨ膜そのものからなる偏光板が挙げられる。

本開示の液晶素子は種々の用途に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、ＰＤＡ、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイなどの各種表示装置や、調光フィルム、位相差フィルム等に適用することができる。

以下、実施例により具体的に説明するが、本開示内容は、以下の実施例に限定されるものではない。
以下の例において、重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は以下の方法により測定した。
＜重量平均分子量、数平均分子量及び分子量分布＞
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、下記条件でＭｗ及びＭｎを測定した。また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、得られたＭｗ及びＭｎより算出した。
装置：昭和電工（株）の「ＧＰＣ－１０１」
ＧＰＣカラム：（株）島津ジーエルシー製の「ＧＰＣ－ＫＦ－８０１」、「ＧＰＣ－ＫＦ－８０２」、「ＧＰＣ－ＫＦ－８０３」及び「ＧＰＣ－ＫＦ－８０４」を結合
移動相：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、又はリチウムブロミド及びリン酸含有のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド溶液
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍＬ／分
試料濃度：１．０質量％
試料注入量：１００μＬ
検出器：示差屈折計
標準物質：単分散ポリスチレン
以下の例で使用した化合物の構造式を以下に示す。

＜モノマーの合成＞
［合成例１：化合物（ＭＩ－０１）の合成］
下記スキーム１に従って化合物（ＭＩ－０１）を合成した。

・化合物（ＭＩ－０１）の合成
攪拌子を入れた１００ｍＬナスフラスコに（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸１４．０g、塩化チオニル２０ｇ、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．０１ｇを加え，８０℃で１時間攪拌した。その後、過剰の塩化チオニルをダイヤフラムポンプで除去し、テトラヒドロフランを１００ｇ加え、溶液Ａとした。
新たに、攪拌子を入れた５００ｍL三口フラスコに４－ヒドロキシフェニルマレイミドを５．６７ｇ、テトラヒドロフラン２００ｇ、及びトリエチルアミン１２．１ｇを加え、氷浴した。そこに溶液Ａを滴下し、室温で３時間撹拌した。反応液を水８００ｍLで再沈殿し、得られた白色固体を真空乾燥することで化合物（ＭＩ－０１）を１４．３ｇ得た。

［合成例２：化合物（ＭＩ－０２）の合成］
下記スキーム２に従って化合物（ＭＩ－０２）を合成した。

・化合物（Ｍ－２－１）の合成
攪拌子を入れた１０００ｍＬ三つ口フラスコに４－アミノ－シクロヘキサノール１１．５ｇを取り、テトラヒドロフランを１５０g加えて氷浴した。そこに、無水マレイン酸９．８１gとテトラヒドロフラン１５０ｇからなる溶液を滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、析出してきた白色固体を濾過により回収した。この白色固体を真空乾燥することで化合物（Ｍ－２－１）を２０．２ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２－２）（４－ヒドロキシシクロヘキシルマレイミド）の合成
攪拌子を入れた５００ｍＬ三つ口フラスコに化合物（Ｍ－２－１）を１７．１ｇ、塩化亜鉛（II）を１０．９ｇ、トルエンを２５０ｇ加え、８０℃に加熱撹拌した。そこに、ビス（トリメチルシリル）アミン２３．２ｇとトルエン１００ｇからなる溶液を滴下し、８０℃で５時間撹拌した。その後、反応液に酢酸エチル３００ｇを加え１ｍｏｌ／Ｌ塩酸で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、水で３回分液洗浄した。その後、有機層をロータリーエバポレータにより濃縮した。得られた白色固体をＴＨＦ／エタノール/水の混合溶媒中に入れ、途中で析出してきた白色固体を濾過により回収した。この白色固体を真空乾燥することで化合物（Ｍ－２－２）を７.９９ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－０２）の合成
合成例１において、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに、４－ヒドロキシシクロヘキシルマレイミドを用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－０２）を１４．０ｇ得た。

［合成例３：化合物（ＭＩ－０３）の合成］
下記スキーム３に従って化合物（ＭＩ－０３）を合成した。

・化合物（Ｍ－３－１）の合成
攪拌子を入れた２０００ｍＬ三つ口フラスコにＮ－Ｂｏｃ－４－ヒドロキシアニリンを１１．５ｇ、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル)アクリル酸を２３．３ｇ取り、ジクロロメタンを１０００ｇ加え、氷浴した。そこに、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン１．２１ｇ、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１１．５gの順で加え、室温で８時間攪拌した後、蒸留水５００ｇで４回分液洗浄した。その後、有機層をロータリーエバポレータにより、内容量が１００ｇになるまでゆっくり濃縮し、途中で析出してきた白色固体を濾過により回収した。この白色固体を真空乾燥することで化合物（Ｍ－３－１）を３１．６ｇ得た。
・化合物（Ｍ－３－２）の合成
攪拌子を入れた３００ｍＬナスフラスコに化合物（Ｍ－３－１）を３０．３ｇ、トリフルオロ酢酸を３３．８ｇ取り、ジクロロメタンを５０ｇ加え、室温で１時間攪拌した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液により中和した後、蒸留水５０ｇで４回分液洗浄した。その後、有機層をロータリーエバポレータにより、内容量が５０ｇになるまでゆっくり濃縮し、途中で析出してきた白色固体を濾過により回収した。この白色固体を真空乾燥することで化合物（Ｍ－３－２）を２４．８ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－０３）の合成
攪拌子を入れた２０００ｍＬ三つ口フラスコに化合物（Ｍ－３－２）２４．７ｇを取り、テトラヒドロフランを２００g加えて氷浴した。そこに、無水マレイン酸４．３４gとテトラヒドロフラン２００ｇからなる溶液を滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、析出してきた固体を濾過により回収した。この黄色固体を真空乾燥することで化合物（ＭＩ－０３）を２８．９ｇ得た。

［合成例４：化合物（ＭＩ－０４）の合成］
下記スキーム４に従って化合物（ＭＩ－０４）を合成した。

・化合物（ＭＩ－０４）の合成
撹拌子を入れた５００ｍＬナスフラスコに、マレイン酸モノメチル６．５３ｇ、塩化チオニル２５ｇ、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．０１ｇを加え，６０℃で２時間攪拌した。その後、過剰の塩化チオニルをダイヤフラムポンプで除去し、テトラヒドロフランを５０ｇ加え、溶液Ａとした。
新たに、攪拌子を入れた１０００ｍL三口フラスコに化合物（Ｍ－３－２）を２６．８ｇ、テトラヒドロフラン５００ｇ、及びトリエチルアミン１３．２ｇを加え、氷浴した。そこに溶液Ａを滴下し、室温で８時間撹拌した。反応液を水１２００ｍLで再沈殿し、得られた白色固体を真空乾燥することで化合物（ＭＩ－０４）を２５．４ｇ得た。

［合成例５：化合物（ＭＩ－０５）の合成］
合成例３において、原料として化合物（Ｍ－３－２）、及びマレイン酸無水物の代わりにイタコン酸無水物を用いた以外は、合成例１－３と同様の方法で、化合物（ＭＩ－０５）を１９．１ｇ得た。
［合成例６：化合物（ＭＩ－０６）の合成］
合成例１において、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに、４－ヒドロキシ－２－メチルフェニルマレイミドを用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－０６）を１４．４ｇ得た。なお、４－ヒドロキシ－２－メチルフェニルマレイミドは、合成例２のＭ－２－１の合成において、４－ヒドロキシシクロヘキシルアミンの代わりに２－メチル－４－ヒドロキシアニリンを用いて合成した。
［合成例７：化合物（ＭＩ－０７）の合成］
合成例１において、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに、４－ヒドロキシ－３－メチルフェニルマレイミドを用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－０７）を１４．５ｇ得た。なお、４－ヒドロキシ－３－メチルフェニルマレイミドは、合成例２の化合物（Ｍ－２－１）の合成において、４－ヒドロキシシクロヘキシルアミンの代わりに３－メチル－４－ヒドロキシアニリンを用いて合成した。

［合成例８：化合物（ＭＩ－０８）の合成］
下記スキーム８に従って化合物（ＭＩ－０８）を合成した。

・４－ヒドロキシ－α－メチル桂皮酸（化合物（Ｍ－８－１））の合成
攪拌子を入れた２００ｍＬ三つ口フラスコに、４－ヒドロキシベンズアルデヒド９．７４ｇ、プロピオン酸無水物２５ｇ、及びプロピオン酸ナトリウム１５．２ｇを混合し、窒素雰囲気下１４５℃で１６時間撹拌した。反応後、氷浴で冷却し、水１００ｍｌを加えて３時間撹拌し、固体を析出させ、ろ過した。得られた固体を１０％水酸化ナトリウム水溶液に加え、０℃で３０分撹拌した。不溶物をろ過後、ろ液に塩酸を加えて酸性にし、生じた固体をろ過した。固体を酢酸エチル２００ｍｌに溶かし、水で３回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、４－ヒドロキシ－α－メチル桂皮酸（これを化合物（Ｍ－８－１）とする。）を８．７３ｇ得た。
・化合物（Ｍ－８－２）の合成
４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボン酸と４－ヒドロキシ－α－メチル桂皮酸を合成例１と同様の方法により反応させ、化合物（Ｍ－８－２）を１５．０ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－０８）の合成
合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－８－２）を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－０８）を１４．６ｇ得た。

［合成例９：化合物（ＭＩ－０９）の合成］
下記スキーム９に従って化合物（ＭＩ－０９）を合成した。

合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－９－１）を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－０９）を１４．５ｇ得た。なお、化合物（Ｍ－９－１）は、合成例８において、４－ヒドロキシ－α－メチル桂皮酸の代わりに２－メチル－４－ヒドロキシ桂皮酸を用いた以外は同様の方法で合成した。

［合成例１０：化合物（ＭＩ－１０）の合成］
下記スキーム１０に従って化合物（ＭＩ－１０）を合成した。

合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－１０－１）を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－１０）を１４．５ｇ得た。なお、化合物（Ｍ－１０－１）は、合成例８において、４－ヒドロキシ－α－メチル桂皮酸の代わりに、３－メチル－４－ヒドロキシ桂皮酸を用いた以外は同様の方法で合成した。

［合成例１１：化合物（ＭＩ－１１）の合成］
下記スキーム１１に従って化合物（ＭＩ－１１）を合成した。

合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）チオ）フェニル）アクリル酸を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－１１）を１４．４ｇ得た。
なお、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）チオ）フェニル）アクリル酸は、４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボン酸と、４－メルカプト桂皮酸とを用いて上記スキーム８と同様の方法で合成した。４－メルカプト桂皮酸は特許第２６４６３１４号公報に記載の方法で合成した。

［合成例１２：化合物（ＭＩ－１２）の合成］
合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、（Ｅ）－３－（４－（（４’－ペンチル－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸を用いた以外は合成例１と同様の方法により化合物（ＭＩ－１２）を１３．４ｇ得た。

［合成例１３：化合物（ＭＩ－１３）の合成］
下記スキーム１３に従って化合物（ＭＩ－１３）を合成した。

合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに（Ｅ）－３－（４－（（４－（４－（４，４，４－トリフルオロブチル）シクロヘキシル）ベンゾイル）オキシ）フェニル）アクリル酸を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－１３）を１２．３ｇ得た。なお、（Ｅ）－３－（４－（（４－（４－（４，４，４－トリフルオロブチル）シクロヘキシル）ベンゾイル）オキシ）フェニル）アクリル酸は、４－（４－（４，４，４－トリフルオロブチル）シクロヘキシル）安息香酸とクマル酸を用いて上記スキーム８と同様の方法で合成した。

［合成例１４：化合物（ＭＩ－１４）の合成］
合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに（Ｅ）－３－（４－（（４－（４－（３－（トリメチルシリル）プロポキシ）シクロヘキシル）ベンゾイル）オキシ）フェニル）アクリル酸を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－１４）を１５．７ｇ得た。

［合成例１５：化合物（ＭＩ－１５）の合成］
下記スキーム１５に従って化合物（ＭＩ－１５）を合成した。

・化合物（Ｍ－１５－１）の合成
３００ｍＬ三口フラスコに、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド６．３６ｇを入れ、窒素置換した。次いで、テトラヒドロフラン１８０ｍｌに溶解させたヨウ化４，４，４－トリフルオロブチルトリフェニルホスホニウム２８．３ｇを滴下し、室温で１時間反応させた。その後、４－（１，４－ジオキサスピロ［４．５］デカ－８－イル）シクロヘキサノン１０．４ｇを加え、室温で７２時間反応させた。ロータリーエバポレータにて溶媒を留去した後、ジエチルエーテルで抽出し、ヘキサン／酢酸エチルを展開溶媒として、シリカゲルカラムで精製した。ロータリーエバポレータにより溶剤を除去して化合物（Ｍ－１５－１）を８．１ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１５－２）の合成
５００ｍＬ三口フラスコに、化合物（Ｍ－１５－１）７．７ｇを入れ、窒素置換した。次いで、メタノール２２５ｍｌとパラジウム－活性炭素（Ｐｄ１０％）１．２３ｇを加え、フラスコ内を水素で置換して、水素を満たしたバルーンを付けた。室温で１２時間激しく撹拌させた後、セライトでろ過し、残留物をジクロロメタンで洗浄した。ろ液を水で３回分液洗浄し、ロータリーエバポレータにより溶剤を除去して化合物（Ｍ－１５－２）を７．５ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１５－３）の合成
２００ｍＬ三口フラスコに、化合物（Ｍ－１５－２）７．５ｇを入れ、窒素置換した。次いで、アセトン３０ｍｌと水１５ｍｌを加えた後、トリフルオロ酢酸２３．４ｍｌを滴下し、室温で１６時間反応した。ロータリーエバポレータにより溶剤を除去して、酢酸エチル抽出液をシリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル）で精製した。ロータリーエバポレータにより溶剤を除去した後、真空乾燥することで化合物（Ｍ－１５－３）を４．６ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１５－４）の合成
１００ｍＬ三口フラスコに、マグネシウム０．４４ｇを入れ、窒素置換した。次いで、脱水テトラヒドロフラン１０ｍｌを加えて、氷浴で冷却した。脱水テトラヒドロフラン４ｍｌに溶解したヨウ化ベンゼン０．１５ｍｌをゆっくり滴下し、室温で３０分、７０℃で３０分反応させた。室温まで戻し氷浴で冷却して、脱水テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた化合物（Ｍ－１５－３）４．６ｇをゆっくり滴下した。室温に戻して５時間反応させた溶液を塩化アンモニウム飽和水溶液に投入した。有機層を回収し、塩化アンモニウム飽和水溶液で２回分液洗浄した後、ヘキサン／酢酸エチルを展開溶媒として、シリカゲルカラムで精製した。ロータリーエバポレータにより溶剤を除去して化合物（Ｍ－１５－４）を４．１ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１５－５）の合成
１００ｍＬ三口フラスコに、化合物（Ｍ－１５－４）４．１ｇを入れ、窒素置換した。次いで、酢酸２．５ｍｌとパラジウム－活性炭素（Ｐｄ１０％）０．２５ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌを加え、水素雰囲気に置換して室温で６時間撹拌した。反応液をセライトでろ過し、テトラヒドロフランで洗浄した。ろ液をロータリーエバポレータで濃縮し、酢酸エチルを加えて、０℃で１時間撹拌した。析出した固体をろ過し、真空乾燥することで、化合物（Ｍ－１５－５）を３．４ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１５－６）の合成
１００ｍＬ三口フラスコに、化合物（Ｍ－１５－５）３．４ｇと塩化鉄（ＩＩＩ）０．０３ｇを入れ、窒素置換した。次いで、１５％臭化水素酸水溶液５．５ｇを加えた後、１０％次亜塩素酸ナトリウム水溶液７．４ｇを滴下し、室温で２時間撹拌した。有機層を回収し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水の順で分液洗浄した。ロータリーエバポレータにより溶剤を除去した後、真空乾燥することで化合物（Ｍ－１５－６）を２．５ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１５－７）の合成
１００ｍＬ三口フラスコに、アクリル酸０．４３ｇ、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド２．０２ｇを入れ、窒素置換した。次いで、水１２ｍｌを加えて室温で１０分撹拌した後、酢酸パラジウム１．３５ｇと化合物（Ｍ－１５－６）２．５ｇを加え、１００℃で２４時間撹拌した。室温に戻した後、ｐＨ１になるまで塩酸水溶液を滴下した。その後、ジクロロメタンで抽出し、ブライン、硫酸ナトリウム水溶液、水の順で分液洗浄した。フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製し、ロータリーエバポレータで溶剤を除去して真空乾燥することで、化合物（Ｍ－１５－７）を２．１ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－１５）の合成
合成例１－１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－１５－７）を用いた以外は、合成例１－１と同様の方法で化合物（ＭＩ－１５）を１．７ｇ得た。

［合成例１６：化合物（ＭＩ－１６）の合成］
下記スキーム１６に従い化合物（ＭＩ－１６）を合成した。

・化合物（Ｍ－１６－１）の合成
５００ｍＬ三口フラスコに、４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボン酸２２．４ｇを入れ、窒素置換した。次いで、ＴＨＦを２００ｍＬ加え、０℃で撹拌した。そこに、水素化ホウ素ナトリウム３．３ｇを加えた後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル１２．１ｇをゆっくりと滴下し、１８時間反応させた。反応終了後、反応液を２Ｌのビーカーに移し、塩酸で中和し、そこに水１．５Ｌを加えた。析出した固体をろ取後、真空乾燥させることで、化合物（Ｍ－１６－１）を２０．６ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１６－２）の合成
１Ｌ三口フラスコに、化合物（Ｍ－１６－１）２０．６ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン０．８１９ｇ、ジクロロメタン２００ｍＬ、トリエチルアミン１３．６ｇを加え、０℃に冷却した。そこに、ジクロロメタン１００ｍＬにｐ－トルエンスルホニルクロリド１４．１ｇを溶解させた溶液をゆっくりと滴下し、その後２０時間反応させた。反応終了後、ジクロロメタン１００ｍＬを加え、反応液を水５００ｍＬで３回分液し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過にて硫酸マグネシウムを除去した。次いで、ロータリーエバポレータにてろ液の溶媒を留去し、生じた固体を真空乾燥することで、化合物（Ｍ－１６－２）を２９．３ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１６－３）の合成
１Ｌ三口フラスコに、化合物（Ｍ－１６－２）２９．３ｇ、４－ヒドロキシベンズアルデヒド７．８２ｇ、炭酸カリウム１３．３ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド２００ｍＬを加え、１００℃で５時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル５００ｍＬを加え、水５００ｍＬで３回分液後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、ろ過にて硫酸マグネシウムを除去した。次いで、ろ過にて硫酸マグネシウムをろ過し、ロータリーエバポレータにてろ液の溶媒を留去し、生じた固体を真空乾燥することで、化合物（Ｍ－１６－３）を２３．４ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１６－４）の合成
１Ｌナスフラスコに、化合物（Ｍ－１６－３）２３．４ｇ、マロン酸１１．９ｇ、ピリジン３００ｍＬ、ピペリジン７．２９ｇを加え、還流条件下で８時間反応させた。その後、反応液を室温に冷ました後、エタノール３００ｍＬを加え、固体をろ取した。得られた固体をエタノールで洗浄した後、真空乾燥することで、化合物（Ｍ－１６－４）を１８．１ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－１６）の合成
合成例１－１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－１６－４）を用いた以外は、合成例１－１と同様の方法で、化合物（ＭＩ－１６）を１７．８ｇ得た。

［合成例１７：化合物（ＭＩ－１７）の合成］
下記スキーム１７に従って化合物（ＭＩ－１７）を合成した。

合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、（Ｅ）－３－（４－（（４－（４，４，４－トリフルオロブトキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル）アクリル酸を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－１７）を１２．６ｇ得た。

[合成例１８：化合物（ＭＩ－１８）の合成]
下記スキーム１８に従って化合物（ＭＩ－１８）を合成した。

・化合物（Ｍ－１８－１）の合成
１Ｌのナス型フラスコに４－ヒドロキシ安息香酸メチル８２ｇ、炭酸カリウム１６６ｇ、及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド４００ｍＬを仕込み、室温で１ 時間撹拌を行った後、４，４，４－トリフルオロ－１－ヨードブタン９５ｇを加え、室温で５時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、水で再沈殿を行った。次に、この沈殿に水酸化ナトリウム３２ｇ及び水４００ｍＬを加えて４時間還流して加水分解反応を行った。反応終了後、塩酸で中和し、生じた沈殿をエタノールで再結晶することにより化合物（Ｍ－１８－１）を８０ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－１８－２）の合成
化合物（Ｍ－１８－１）４６．４ｇを反応容器にとり、これに塩化チオニル２００ｍＬ及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．２ｍＬを加えて８０℃で１ 時間撹拌した。次に、減圧下で塩化チオニルを留去した後、テトラヒドロフランを加えて溶液Ａとした。次に、上記とは別の２Ｌ三口フラスコに４－ヒドロキシ安息香酸３０ｇ、炭酸カリウム５５ｇ、テトラブチルアンモニウム２．４ｇ、テトラヒドロフラン２００ｍＬ、及び水４００ｍＬを仕込んだ。この水溶液を氷冷し、溶液Ａをゆっくり滴下し、さらに２時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に塩酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行った後、エタノールで再結晶することにより、化合物（Ｍ－１８－２）の白色結晶を３９ｇ得た。
・化合物（Ｍ－１８－３）の合成
原料として、化合物（Ｍ－１８－１）の代わりに化合物（Ｍ－１８－２）、４－ヒドロキシ安息香酸の代わりに４－ヒドロキシ桂皮酸を用いた以外は、化合物（Ｍ－１８－２）と同様の方法で化合物（Ｍ－１８－３）を３３ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－１８）の合成
合成例１－１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（ＭＩ－１８－３）を用いた以外は、合成例１－１と同様の方法で、化合物（ＭＩ－１８）を１５．４ｇ得た。

［合成例１９:化合物（ＭＩ－１９）の合成］
下記スキーム１９に従って化合物（ＭＩ－１９）を合成した。

合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－１９－３）を用いた以外は、合成例１と同様の方法で化合物（ＭＩ－１９）を１６．１ｇ得た。なお、化合物（Ｍ－１９－１）～化合物（ＭＩ－１９－３）は、合成例１８において、４，４，４－トリフルオロ－１－ヨードブタンの代わりに１，１，１，２，２－ペンタフルオロ－４－ヨードブタンを用いて合成した。

［合成例２０：化合物（ＭＩ－２０）の合成］
合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、（Ｅ）－４－（（３－（４－（（４－（４，４，４－トリフルオロブトキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル）アクリロイル）オキシ）安息香酸を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－２０）を１６．１ｇ得た。

［合成例２１：化合物（ＭＩ－２１）の合成］
下記スキーム２１に従って化合物（ＭＩ－２１）を合成した。

合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（ＭＩ－２１－３）を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－２１）を１５．８ｇ得た。なお、化合物（Ｍ－２１－１）～化合物（Ｍ－２１－３）は、合成例２２において、出発物質を４－ヒドロキシ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル安息香酸から３－フルオロ－４－ヒドロキシ安息香酸に代えた以外は同様の方法で合成した。

［合成例２２：化合物（ＭＩ－２２）の合成］
下記スキーム２２に従って化合物（ＭＩ－２２）を合成した。

・化合物（Ｍ－２２－１）の合成
攪拌子を入れた１０００ｍＬ三つ口フラスコに、４－ヒドロキシ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル安息香酸２１．０ｇ、４，４，４－トリフルオロ－１－ヨードブタン５３．０ｇ、炭酸カリウム８３．２ｇ、及びジメチルアセトアミド５００ｍＬを加え、窒素雰囲気下、９０℃で１０時間加熱した。反応後、水５００ｍＬに注ぎ込み、酢酸エチル３００ｍＬで３回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた粗製物にＴＨＦ１００ｍＬ、エタノール１００ｍＬ、及び水５０ｍＬを加え、さらに水酸化リチウム一水和物を９．２ｇ加え、室温で５時間撹拌した。反応後、１規定塩酸で酸性にしたのち、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出をした。有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、溶媒を減圧留去し、酢酸エチル/ヘキサンで再結晶を行い、化合物（Ｍ－２２－１）を２５．０ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２２－２）の合成
合成例１８において化合物（Ｍ－１８－２）の代わりに化合物（Ｍ－２２－１）を用いた以外は同様の方法で合成し、化合物（Ｍ－２２－２）を２２．１ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２１－３）の合成
合成例１８において、化合物（Ｍ－１８－１）の代わりに化合物（Ｍ－２２－２）を用いた以外は同様の方法で合成し、化合物（Ｍ－２２－３）を１７．１ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－２２）の合成
合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－２２－３）を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－２２）を１７．２ｇ得た。

［合成例２３：化合物（ＭＩ－２３）の合成］
下記スキーム２３に従って化合物（ＭＩ－２３）を合成した。

・化合物（Ｍ－２３－１）の合成
攪拌子を入れた５００ｍＬ三つ口フラスコに、３、４－ジヒドロキシ安息香酸メチル１６．８ｇ、４，４，４－トリフルオロ－１－ヨードブタン５３．０ｇ、炭酸カリウム８３．２ｇ、及びジメチルアセトアミド５００ｍＬを加え、窒素雰囲気下、９０℃で１０時間加熱した。反応後、水５００ｍＬに注ぎ込み、沈殿をろ過した。濾過した固体を１０％水酸化ナトリウム水溶液に加え、室温で５時間撹拌した。反応後、１規定塩酸で酸性にし、生じた沈殿をろ過後、真空乾燥機で乾燥させて化合物（Ｍ－２３－１）を２８．０ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２３－２）の合成
合成例１８において、化合物（Ｍ－１８－２）の代わりに化合物（Ｍ－２３－１）を用いた以外は同様の方法で合成し、化合物（Ｍ－２３－２）を２３．４ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２３－３）の合成
合成例１８において、化合物（Ｍ－１８－１）の代わりに化合物（Ｍ－２３－２）を用いた以外は同様の方法で合成し、化合物（Ｍ－２３－２）を１７．３ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－２３）の合成
合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（ＭＩ－２３－３）を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－２３）を１７．２ｇ得た。

［合成例２４：化合物（ＭＩ－２４）の合成］
下記スキーム２４に従って化合物（ＭＩ－２４）を合成した。

・化合物（Ｍ－２４－１）の合成
撹拌子を入れた５００ｍＬナスフラスコに、４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボン酸１０．０ｇ、塩化チオニル３７ｇ、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．０２ｇを加え，６０℃で２時間攪拌した。その後、過剰の塩化チオニルをダイヤフラムポンプで除去し、テトラヒドロフランを２５０ｇ加え、溶液Ａとした。
新たに、攪拌子を入れた１０００ｍＬ三口フラスコに、ヒドロキノン６．８ｇ、テトラヒドロフラン１４０ｇ、及びピリジン４．９ｇを加え、氷浴した。そこに溶液Ａを滴下し、室温で８時間撹拌した。反応液を水２５００ｍＬで再沈殿し、得られた白色固体を真空乾燥した。酢酸エチルで抽出し、ヘキサン／酢酸エチルを展開溶媒として、シリカゲルカラムで精製した。ロータリーエバポレータにより溶剤を除去した後、真空乾燥することで化合物（Ｍ－２４－１）を３．８ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－２４）の合成
（Ｅ）－３－（４－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）フェニル）アクリル酸１．７７ｇ、塩化チオニル８．７ｇ、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．０１ｇを加え，６０℃で２時間攪拌した。その後、過剰の塩化チオニルをダイヤフラムポンプで除去し、テトラヒドロフランを５０ｇ加え、溶液Ｂとした。
新たに、攪拌子を入れた１００ｍＬ三口フラスコに、化合物（Ｍ－２４－１）３．０ｇ、テトラヒドロフラン２５ｇ、及びピリジン１．２ｇを加え、氷浴した。そこに溶液Ｂを滴下し、室温で８時間撹拌した。反応液を水１０００ｍＬで再沈殿し、得られた白色固体を真空乾燥することで化合物（ＭＩ－２４）を３．７ｇ得た。

[合成例２５]
下記スキーム２５に従って化合物（ＭＩ－２５）を合成した。

・化合物（Ｍ－２５－１）の合成
合成例１８において、４－ヒドロキシ安息香酸メチルの代わりに６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸メチルを用いた以外は同様の方法で合成し、化合物（Ｍ－２５－１）を３０．１ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２５－２）の合成
合成例１８において、化合物（Ｍ－１８－２）の代わりに化合物（Ｍ－２５－１）を用いた以外は同様の方法で合成し、化合物（Ｍ－２５－２）を１５．０ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－２５）の合成
合成例１において、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、化合物（Ｍ－２５－２）を用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－２５）を１３．５ｇ得た。

［合成例２６：化合物（ＭＩ－２６）の合成］
合成例１において、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに、３－ヒドロキシフェニルマレイミドを用いた以外は合成例１と同様の方法により、化合物（ＭＩ－２６）を１４．２ｇ得た。

［合成例２７：化合物（ＭＩ－２７）の合成］
下記スキーム２７に従って化合物（ＭＩ－２７）を合成した。

・化合物（Ｍ－２７－１）の合成
攪拌子を入れた２０００ｍＬ三つ口フラスコに、（４－アミノフェニル）エタノール６．９０ｇを取り、テトラヒドロフランを２００g加えて氷浴した。そこに、無水マレイン酸５．１１gとテトラヒドロフラン２００ｇからなる溶液を滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、析出してきた固体を濾過により回収した。この固体を真空乾燥することで化合物（Ｍ－２７－１）を１１．５ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２７－２）の合成
攪拌子を入れた５００ｍＬ三つ口フラスコに、化合物（Ｍ－２７－１）を１０．９ｇ、塩化亜鉛（II）を９．３８ｇ、トルエンを２５０ｇを加え、８０℃に加熱撹拌した。そこに、ビス（トリメチルシリル）アミン１４．８ｇとトルエン１００ｇからなる溶液を滴下し、８０℃で５時間撹拌した。その後、反応液に酢酸エチル３００ｇを加え１ｍｏｌ／Ｌ塩酸で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和食塩水で１回分液洗浄した。その後、有機層をロータリーエバポレータにより、内容量が５０ｇになるまでゆっくり濃縮し、途中で析出してきた白色固体を濾過により回収した。この白色固体を真空乾燥することで化合物（Ｍ－２７－２）を５．８６ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－２７）の合成
攪拌子を入れた１００ｍＬナスフラスコに（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸９．３７g、塩化チオニル２５ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．０２ｇを加え，８０℃で１時間攪拌した。その後、過剰の塩化チオニルをダイヤフラムポンプで除去し、化合物（Ｍ－２７－３）を得た。そこに、テトラヒドロフランを１００ｇ加え、溶液Ａとした。
新たに、攪拌子を入れた５００ｍL三口フラスコに化合物（Ｍ－２７－２）を４．３４ｇ、テトラヒドロフラン２００ｇ、及びトリエチルアミン２．５８ｇを加え、氷浴した。そこに溶液Ａを滴下し、室温で３時間撹拌した。反応液を水８００ｍLで再沈殿し、得られた白色固体を真空乾燥することで化合物（ＭＩ－２７）を８．７８ｇ得た。

［合成例２８：化合物（ＭＩ－２８）の合成］
下記スキーム２８に従って化合物（ＭＩ－２８）を合成した。

合成例２７の化合物（ＭＩ－２７）の合成において、原料として、化合物（Ｍ－２７－３）及び化合物（Ｍ－２７－２）の代わりに１－［４－（ヒドロキシメチル）フェニル］ピロール－２，５－ジオンを用いた以外は、合成例２７の化合物（ＭＩ－２７）の合成と同様の方法で、化合物（ＭＩ－２８）を２４．１ｇ得た。

［合成例２９：化合物（ＭＩ－２９）の合成］
下記スキーム２９に従って化合物（ＭＩ－２９）を合成した。

・化合物（Ｍ－２９－１）の合成
攪拌子を入れた２０００ｍＬ三つ口フラスコに４－（４－アミノフェニル）プロパン－１－オール１５．１ｇ、テトラヒドロフランを１０００ｇ取り、トリエチルアミンを１５．２ｇ加え、氷浴した。そこに、二炭酸ｔ－ブチル２６．１gとテトラヒドロフラン１００ｇからなる溶液を滴下し、室温で１０時間攪拌した後、反応液に酢酸エチル３００ｇを加え、蒸留水２００ｇで４回分液洗浄した。その後、有機層をロータリーエバポレータにより、内容量が１００ｇになるまでゆっくり濃縮し、途中で析出してきた白色固体を濾過により回収した。この白色固体を真空乾燥することで化合物（Ｍ－２９－１）を２３．６ｇ得た。
・化合物（Ｍ－２９－２）～化合物（Ｍ－２９－４）の合成
合成例３において、原料として、（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸及びＮ－Ｂｏｃ－４－ヒドロキシアニリンの代わりに化合物（Ｍ－２９－１）を用いた以外は、合成例３と同様の方法で化合物（Ｍ－２９－４）を３０．０ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－２９）の合成
攪拌子を入れた２０００ｍＬ三つ口フラスコに、化合物（Ｍ－２９－４）を３０．０ｇ、塩化亜鉛（II）を８．７９ｇ、及びトルエンを２５０ｇ加え、８０℃に加熱撹拌した。そこに、ビス（トリメチルシリル）アミン１３．８ｇとトルエン１００ｇからなる溶液を滴下し、８０℃で５時間撹拌した。その後、反応液に酢酸エチル３００ｇを加え、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和食塩水で１回分液洗浄した。その後、有機層をロータリーエバポレータにより、内容量が５０ｇになるまでゆっくり濃縮し、途中で析出してきた白色固体を濾過により回収した。この白色固体を真空乾燥することで化合物（ＭＩ－２９）を９．１８ｇ得た。

［合成例３０：化合物（ＭＩ－３０）の合成］
下記スキーム３０に従って化合物（ＭＩ－３０）を合成した。

・化合物（Ｍ－３０－１）の合成
攪拌子を入れた５００ｍＬ三つ口フラスコに、Ｎ－Ｂｏｃ－４－ヒドロキシアニリンを２０．９ｇ、２－ブロモエタノール１５．０ｇ、炭酸カリウム２０．７ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド２５０ｍＬを加え、６０℃で４時間反応させた。反応後、蒸留水１５００ｍＬに反応液を注ぎ、析出した固体をろ取した。その後、固体を真空乾燥することで、化合物（Ｍ－３０－１）を２４．８ｇ得た。
・化合物（ＭＩ－３０）の合成
合成例２９の化合物（Ｍ－２９－１）～化合物（Ｍ－２９－４）及び化合物（ＭＩ－２９）の合成において、原料として、化合物（Ｍ－２９－１）の代わりに化合物（Ｍ－３０－１）を用いた以外は、合成例２９と同様の方法で化合物（ＭＩ－３０）を３２．０ｇ得た。

［合成例３１：化合物（ＭＩ－３１）の合成］
合成例２７において、原料として（Ｅ）－３－（４－（（４’－（４，４，４－トリフルオロブチル）－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸の代わりに、（Ｅ）－３－（４－（（４’－ペンチル－［１，１’－ビ（シクロヘキサン）］－４－カルボニル）オキシ）フェニル）アクリル酸を用いた以外は、合成例２７と同様の方法で、化合物（ＭＩ－３１）を１４．４ｇ得た。

[比較合成例１及び２]
化合物（ＭＩ－３２）については、特許第４２９６８２１号公報の記載の方法に従って合成し、化合物（ＭＩ－３３）については、特許第３０５５０６２号公報の記載の方法に従って合成した。

［合成例３２：化合物（ＭＩ－３４）の合成］
合成例１５において、アクリル酸の代わりにメタクリル酸を用いた以外は、化合物（ＭＩ－１５）と同様の方法で化合物（ＭＩ－３４）を得た（下記スキーム３２参照）。

［合成例３３：化合物（ＭＩ－３５）の合成］
合成例１５において、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに４－ヒドロキシ－３－メチルフェニルマレイミドを用いた以外は、化合物（ＭＩ－１５）と同様の方法で化合物（ＭＩ－３５）を得た（下記スキーム３３参照）。

［合成例３４：化合物（ＭＩ－３６）の合成］
合成例１５において、アクリル酸の代わりにメタクリル酸を用い、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに４－ヒドロキシ－３－メチルフェニルマレイミドを用いた以外は、化合物（ＭＩ－１５）と同様の方法で化合物（ＭＩ－３６）を得た。

［合成例３５：化合物（ＭＩ－３７）の合成］
化合物（ＭＩ－３４）の合成において、ヨウ化４，４，４－トリフルオロブチルトリフェニルホスホニウムの代わりにヨウ化ペンチルトリフェニルホスホニウムを用いた以外は、化合物（ＭＩ－３４）と同様の方法で化合物（ＭＩ－３７）を得た（下記スキーム３５参照）。

［合成例３６：化合物（ＭＩ－３８）の合成］
化合物（ＭＩ－３５）の合成において、ヨウ化４，４，４－トリフルオロブチルトリフェニルホスホニウムの代わりにヨウ化ペンチルトリフェニルホスホニウムを用いた以外は、化合物（ＭＩ－３５）と同様の方法で化合物（ＭＩ－３８）を得た。
［合成例３７：化合物（ＭＩ－３９）の合成］
化合物（ＭＩ－３６）の合成において、ヨウ化４，４，４－トリフルオロブチルトリフェニルホスホニウムの代わりにヨウ化ペンチルトリフェニルホスホニウムを用いた以外は、化合物（ＭＩ－３６）と同様の方法で化合物（ＭＩ－３９）を得た。
［合成例３８：化合物（ＭＩ－４０）の合成］
化合物（ＭI－３７）の合成において、メタクリル酸の代わりに２－（トリフルオロメチル）アクリル酸を用いた以外は、化合物（ＭＩ－３７）と同様の方法で化合物（ＭＩ－４０）を得た。

［合成例３９：化合物（ＭＩ－４１）の合成］
合成例１５において、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニルマレイミドを用いた以外は、化合物（ＭＩ－１５）と同様の方法で化合物（ＭＩ－４１）を得た。なお、４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニルマレイミドについては、合成例２の化合物（Ｍ－２－１）の合成において、４－ヒドロキシシクロヘキシルアミンの代わりに４－ヒドロキシ－３－メトキシアニリンを用いることにより合成した。
［合成例４０：化合物（ＭＩ－４２）の合成］
化合物（Ｍ－３７）の合成において、４－ヒドロキシフェニルマレイミドの代わりに４－ヒドロキシ－３－フルオロフェニルマレイミドを用いた以外は、化合物（ＭＩ－３７）と同様の方法で化合物（ＭＩ－４２）を得た。なお、４－ヒドロキシ－３－フルオロフェニルマレイミドについては、合成例２の化合物（Ｍ－２－１）の合成において、４－ヒドロキシシクロヘキシルアミンの代わりに３－フルオロ－４－ヒドロキシアニリンを用いることにより合成した。
［合成例４１：化合物（ＭＩ－４３）の合成］
化合物（Ｍ－３６）の合成において、メタクリル酸の代わりに２－フルオロアクリル酸を用いた以外は、化合物（ＭＩ－３６）と同様の方法で化合物（ＭＩ－４３）を得た。

＜重合体の合成＞
［実施例１－１：重合体（Ｐ－１）の合成］
窒素下、１００ｍＬ二口フラスコに、重合モノマーとして、上記合成例２７で得られた化合物（ＭＩ－２７）５．００ｇ（７．５ｍｍｏｌ）、化合物（Ａ－３）１．０５ｇ（７．５ｍｍｏｌ）、化合物（Ｄ－１）４．８０ｇ（３３．８ｍｍｏｌ）、及び化合物（Ｄ－４）２．２６ｇ（２６．３ｍｍｏｌ）、ラジカル重合開始剤として２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）０．３９ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、連鎖移動剤として２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン０．３９ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、並びに溶媒としてＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）５２．５ｍｌを加え、７０℃で６時間重合した。メタノールに再沈殿した後、沈殿物を濾過し、室温で８時間真空乾燥することで目的の重合体（Ｐ－１）を得た。ＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは３００００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２であった。

［実施例１－２～１－４５、及び比較重合例１－１～１－８］
重合モノマーを下記表７及び表８に示す種類及びモル比とした以外は実施例１－１と同様に重合を行い、重合体（Ｐ－１）と同等の重量平均分子量及び分子量分布の重合体（Ｐ－２）～（Ｐ－４５）及び（Ｒ－１）～（Ｒ－８）の各重合体を得た。なお、重合モノマーの総モル数は実施例１－１と同様に７５．１ｍｍｏｌとした。表７及び表８中の数値は、重合体の合成に使用した全モノマーに対する各モノマーの仕込み量［モル％］を表す。

［合成例４２：ポリアミック酸の合成］
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１１．０ｇ（４９．０ｍｍｏｌ）、ジアミンとして４，４’－メチレンジアニリン１０．０ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ８４ｇに溶解し、６０℃で２４時間反応を行うことにより、ポリアミック酸を２０質量％含有する溶液を得た。次いで、このポリアミック酸溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させることにより、ポリアミック酸（ＰＡＡ）を得た。

＜光垂直型液晶表示素子の製造及び評価＞
［実施例２－１］
１．液晶配向剤（ＡＬ－１）の調製
実施例１－１で得た重合体（Ｐ－１）１０質量部、及びポリアミック酸（ＰＡＡ）１００質量部が入った容器に、溶剤としてＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）を加え、溶媒組成がＮＭＰ／ＢＣ＝５０／５０（質量比）、固形分濃度が３．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－１）を調製した。
２．光垂直型液晶表示素子の製造
ＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面上に、上記で調製した液晶配向剤（ＡＬ－１）を、スピンナーを用いて塗布し、８０℃のホットプレートで１分間プレベークを行った。その後、庫内を窒素置換したオーブン中、２３０℃で１時間加熱して膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ－Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線１，０００Ｊ／ｍ^２を、基板法線から４０°傾いた方向から照射して液晶配向能を付与した。同じ操作を繰り返して、液晶配向膜を有する基板を一対（２枚）作成した。
上記基板のうちの１枚の液晶配向膜を有する面の外周に、直径３．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、一対の基板の液晶配向膜面を対向させ、各基板の紫外線の光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように圧着し、１５０℃で１時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より基板間の間隙にネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを１３０℃で加熱してから室温まで徐冷した。次に、基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の紫外線の光軸の基板面への射影方向と４５°の角度をなすように貼り合わせることにより液晶表示素子を製造した。

３．電圧保持率（ＶＨＲ）の評価
上記２．で製造した液晶表示素子につき、５Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。測定装置は（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ－１を使用した。このとき、電圧保持率が９０％以上の場合に「優良（Ａ）」、７０％以上９０％未満の場合に「良好（Ｂ）」、７０％未満の場合に「不良（Ｃ）」とした。その結果、この実施例では電圧保持率は「優良（Ａ）」の評価であった。

４．プレチルト角の評価
上記２．で製造した液晶表示素子につき、非特許文献（T. J. Scheffer et. al. J. Appl. Phys. vo. 19. p2013(1980)）に記載の方法に準拠してＨｅ－Ｎｅレーザー光を用いる結晶回転法により測定した液晶分子の基板面からの傾き角の値をプレチルト角とした。このとき、プレチルト角が８５．０°以上８８．０°未満の場合に「優良（Ａ）」、８８．０°以上８９．０°未満の場合に「良好（Ｂ）」、８９．０°以上又は８５．０°未満の場合に「不良（Ｃ）」とした。その結果、この実施例ではプレチルト角は「良好（Ｂ）」の評価であった。

５．ＡＣ残像特性の評価
上記２．で製造した液晶表示素子につき、交流電圧１５Ｖで２０時間駆動した後にプレチルト角を測定し、下記数式（１）によりチルト差Δθを求めた。
Δθ＝θ１－θ２ …（１）
（数式（１）中、θ１は駆動前のプレチルト角であり、θ２は駆動後のプレチルト角である。）
Δθが０．０５°以下の場合に「優良（Ａ）」、０．０５°よりも大きく０．１０°未満の場合に「良好（Ｂ）」、０．１０°以上の場合に「不良（Ｃ）」とした。その結果、この実施例では「優良（Ａ）」の評価であった。

［実施例２－２～２－４９，及び比較例２－１～２－８］
配合組成を下記表９～１１に示す通り変更した以外は実施例１と同じ固形分濃度で調製を行い、液晶配向剤をそれぞれ得た。また、それぞれの液晶配向剤を用いて実施例２－１と同様にして光垂直型液晶表示素子を製造して各種評価を行った。それらの結果を下記表９～１１に示した。なお、実施例２－８及び２－２４では、添加剤として化合物（ａｄ－１）、（ａｄ－２）をそれぞれ液晶配向剤に配合した。

表９～１１に示すように、重合体（Ｐ）を含有する液晶配向剤を用いた実施例２－１～２－４９では、電圧保持率は「Ａ」又は「Ｂ」であった。また、プレチルト角特性及びＡＣ残像特性についても「Ａ」又は「Ｂ」であって、かつ少なくとも一方は「Ａ」の評価であり、電気特性、プレチルト角特性及びＡＣ残像特性がバランス良く改善されていた。これに対し、重合体（Ｐ）を含有しない液晶配向剤を用いた比較例２－１～２－８では、実施例２－１～２－４９よりも劣る結果であった。なお、比較例２－２及び２－４では、プレチルト角の評価が「Ｃ」であったが、これらはいずれもプレチルト角が８９°以上と高い値であった。

Claims (10)

1. 下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位Ｕ１と、下記式（６）で表される化合物に由来する構造単位であって前記構造単位Ｕ１とは異なる構造単位Ｕ２と、を有する重合体（Ｐ）を含有する、液晶配向剤。
   （Ｅ^１）_ｉ－（Ｇ^１）_ｊ …（１）
   （式（１）中、Ｇ^１は、架橋性を示す環状構造を有する基、芳香族縮合多環構造を有する基、又は窒素含有複素環構造を有する基である。Ｅ^１は、重合性炭素－炭素不飽和結合を有する基であり、重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する少なくとも一方の炭素原子が、Ｇ^１が有する、架橋性を示す環状構造、芳香族縮合多環構造又は窒素含有複素環構造の環に対し単結合で結合しているか、又は＊＊－ＣＯＯ－、＊＊－ＣＯＮＲ^５０－、＊＊－ＣＨ_２－ＣＯＮＲ^５０－、－Ｏ－若しくはフェニレン基（ただし、「＊＊」は、重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する炭素原子に結合する結合手であることを示す。）を介して結合している。Ｒ^５０は、水素原子であるか、又はＲ^５０が他の基に結合して構成される環構造を表す。ｉ及びｊは、一方が１であって他方が２であるか、又はｉ＝ｊ＝１である。）
   

   

   （式（６）中、Ｂ ^１ は、下記式（７）、式（８）、式（９）又は式（１０）で表される１価の基であり、Ｄ ^１ は、下記式（１１）で表される２価の基であり、Ｘ ^１ 及びＸ ^２ は、それぞれ独立して、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＨ _２ －、－ＣＨ _２ －Ｏ－又は炭素数１～３のアルカンジイル基であり、Ａ ^１ 及びＡ ^２ は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基、シクロへキシレン基又はナフチレン基であり、Ｒ ^１８ は、炭素数２～２０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基又は－Ｒ ^１９ －Ｙ ^１ （ただし、Ｒ ^１９ は炭素数２～２０のアルカンジイル基であり、Ｙ ^１ はトリアルキルシリル基である。）である。ｍは０～２の整数であり、ｎは１～３の整数である。ｍが２の場合、複数のＡ ^１ 、Ｘ ^１ は、それぞれ独立して上記定義を有する。ｎが２又は３の場合、複数のＲ ^１８ は、それぞれ独立して上記定義を有する。）
   

   

   （式（７）中、Ｒ ^２ 及びＲ ^３ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。式（８）中、Ｒ ^５ は、水素原子又は炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ ^６ 及びＲ ^７ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。式（９）中、Ｒ ^１１ は、水素原子又は炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ ^９ 及びＲ ^１０ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。Ｘ ^１０ 及びＸ ^１１ のうち一方は単結合であり、他方はメチレン基である。式（１０）中、Ｒ ^１３ 及びＲ ^１４ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。「＊」は結合手であることを示す。）
   

   

   （式（１１）中、Ａ ^３ 、Ａ ^４ 及びＡ ^５ は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基又はシクロへキシレン基であり、Ｌ ^１ 及びＬ ^２ は、それぞれ独立して、単結合、炭素数１～５のアルカンジイル基、又は当該アルカンジイル基の少なくとも１個のメチレン基が「－Ｏ－」で置き換えられた基であり（ただし、酸素原子は連続しない。）、Ｘ ^３ 及びＸ ^４ は、それぞれ独立して、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－又は－Ｏ－であり、Ｒ ^１６ 及びＲ ^１７ は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基である。ｋ及びｒは、それぞれ独立して０又は１である。「＊ ^１ 」及び「＊ ^２ 」は結合手であることを示す。ただし、「＊ ^１ 」がＢ ^１ に結合している場合と、「＊ ^２ 」がＢ ^１ に結合している場合とを含む。）
2. 前記重合体（Ｐ）は、オキセタニル基及びオキシラニル基（ただし、前記構造単位Ｕ１が有するオキセタニル基及びオキシラニル基を除く。）の少なくとも一方を有する、請求項１に記載の液晶配向剤。
3. 前記重合体（Ｐ）は、加熱によりオキセタニル基及びオキシラニル基の少なくとも一方と反応する官能基を有する、請求項２に記載の液晶配向剤。
4. 前記重合体（Ｐ）は、カルボキシル基、保護されたカルボキシル基、アミノ基及び保護されたアミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の液晶配向剤。
5. ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体をさらに含有する、請求項１～４のいずれか一項に記載の液晶配向剤。
6. 前記重合体（Ｐ）は、光配向性基を有する重合体である、請求項１～５のいずれか一項に記載の液晶配向剤。
7. 前記構造単位Ｕ２は、下記式（ｂ－１）で表される部分構造を有する、請求項１～６のいずれか一項に記載の液晶配向剤。
   

   

   （式（ｂ－１）中、Ａ^６、Ａ^７及びＡ^８は、それぞれ独立して、置換又は無置換の１，４－シクロヘキシレン基又は１，４－フェニレン基であり、Ｘ^５は単結合又は酸素原子であり、Ｒ^８０は、フルオロメチル基又はメチル基であり、ａ１は０～２の整数であり、ａ２は１～２０の整数であり、ａ３は０又は１である。ただし、Ｒ^８０がメチル基である場合、ａ１＝０である。「＊」は結合手であることを示す。）
8. 請求項１～７のいずれか一項に記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
9. 請求項８に記載の液晶配向膜を具備する液晶素子。
10. 下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位Ｕ１と、下記式（６）で表される化合物に由来する構造単位であって前記構造単位Ｕ１とは異なる構造単位Ｕ２と、を有する重合体。
    （Ｅ^１）_ｉ－（Ｇ^１）_ｊ …（１）
    （式（１）中、Ｇ^１は、架橋性を示す環状構造を有する基、芳香族縮合多環構造を有する基、又は窒素含有複素環構造を有する基である。Ｅ^１は、重合性炭素－炭素不飽和結合を有する基であり、重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する少なくとも一方の炭素原子が、Ｇ^１が有する、架橋性を示す環状構造、芳香族縮合多環構造又は窒素含有複素環構造の環に対し単結合で結合しているか、又は＊＊－ＣＯＯ－、＊＊－ＣＯＮＲ^５０－、＊＊－ＣＨ_２－ＣＯＮＲ^５０－、－Ｏ－若しくはフェニレン基（ただし、「＊＊」は、重合性炭素－炭素不飽和結合を形成する炭素原子に結合する結合手であることを示す。）を介して結合している。Ｒ^５０は、水素原子であるか、又はＲ^５０が他の基に結合して構成される環構造を表す。ｉ及びｊは、一方が１であって他方が２であるか、又はｉ＝ｊ＝１である。）
    

    

    （式（６）中、Ｂ ^１ は、下記式（７）、式（８）、式（９）又は式（１０）で表される１価の基であり、Ｄ ^１ は、下記式（１１）で表される２価の基であり、Ｘ ^１ 及びＸ ^２ は、それぞれ独立して、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＨ _２ －、－ＣＨ _２ －Ｏ－又は炭素数１～３のアルカンジイル基であり、Ａ ^１ 及びＡ ^２ は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基、シクロへキシレン基又はナフチレン基であり、Ｒ ^１８ は、炭素数２～２０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基又は－Ｒ ^１９ －Ｙ ^１ （ただし、Ｒ ^１９ は炭素数２～２０のアルカンジイル基であり、Ｙ ^１ はトリアルキルシリル基である。）である。ｍは０～２の整数であり、ｎは１～３の整数である。ｍが２の場合、複数のＡ ^１ 、Ｘ ^１ は、それぞれ独立して上記定義を有する。ｎが２又は３の場合、複数のＲ ^１８ は、それぞれ独立して上記定義を有する。）
    

    

    （式（７）中、Ｒ ^２ 及びＲ ^３ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。式（８）中、Ｒ ^５ は、水素原子又は炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ ^６ 及びＲ ^７ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。式（９）中、Ｒ ^１１ は、水素原子又は炭素数１以上の１価の有機基であり、Ｒ ^９ 及びＲ ^１０ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。Ｘ ^１０ 及びＸ ^１１ のうち一方は単結合であり、他方はメチレン基である。式（１０）中、Ｒ ^１３ 及びＲ ^１４ は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。「＊」は結合手であることを示す。）
    

    

    （式（１１）中、Ａ ^３ 、Ａ ^４ 及びＡ ^５ は、それぞれ独立して、置換又は無置換のフェニレン基又はシクロへキシレン基であり、Ｌ ^１ 及びＬ ^２ は、それぞれ独立して、単結合、炭素数１～５のアルカンジイル基、又は当該アルカンジイル基の少なくとも１個のメチレン基が「－Ｏ－」で置き換えられた基であり（ただし、酸素原子は連続しない。）、Ｘ ^３ 及びＸ ^４ は、それぞれ独立して、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－又は－Ｏ－であり、Ｒ ^１６ 及びＲ ^１７ は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基である。ｋ及びｒは、それぞれ独立して０又は１である。「＊ ^１ 」及び「＊ ^２ 」は結合手であることを示す。ただし、「＊ ^１ 」がＢ ^１ に結合している場合と、「＊ ^２ 」がＢ ^１ に結合している場合とを含む。）