JP7001209B1 - 塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯 - Google Patents
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- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/73—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process
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Abstract
Description
例えば、特許文献1には、「希土類金属元素化合物と、これらを物理的に金属板表面に保持し、かつ金属板と密着力を有する樹脂マトリックスが主成分である皮膜で被覆してなることを特徴とする表面処理金属板およびそれに用いる金属表面処理液」が開示されている。
そして、特許文献1によれば、「耐食性に優れ、かつ6価クロムを全く使用せず環境負荷を大幅に低減させた表面処理金属板および金属表面処理液が提供できる」ことが記載されている。
そして、特許文献2によれば、「有害なイオンを含まない処理浴で処理したとしても、亜鉛に起因する白錆の発生を抑制することのできる新規なノンクロメート処理鋼板を提供できる」ことが記載されている。
(a)水性エポキシ樹脂分散液
(b)シランカップリング剤
(c)リン酸および/またはヘキサフルオロ金属酸
その上層に、下記成分(D)~(G)を含有する上層皮膜用塗料組成物を塗布し、乾燥することにより形成された皮膜厚が0.3~2.0μmの上層皮膜を有することを特徴とする高耐食性表面処理鋼板。
(D)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(d1)に、1分子中にカルボキシル基を2個以上有する化合物(d2)と、活性水素を有するヒドラジン誘導体(d3)を反応させて得られた樹脂溶液
(E)水酸基と反応する官能基を有する硬化剤
(F)非クロム系防錆添加剤
(G)複合固形潤滑剤」が開示されている。
例えば、特許文献6には、「金属顔料と、前記金属顔料の表面に形成された非晶質酸化珪素膜層と、前記非晶質酸化珪素膜層の表面に形成された金属層と、前記金属層の表面に形成された金属粒子と、を少なくとも含む着色金属顔料であって、前記金属粒子が前記金属層の一部を直接被覆するように形成されてなる、着色金属顔料」が開示されている。
特許文献5によれば、燐酸亜鉛系化成処理及び中塗り塗装を行った鋼板に対して、前記着色金属顔料を含む塗料を塗布及び乾燥を行うことで得られる層を形成することで、耐候性が向上することが記載されている。
特許文献7によれば、鋼板に対して、前記防錆顔料組成物を塗布及び乾燥を行うことで、鋼板の耐候性が向上することが記載されている。
例えば、特許文献8には、「アミノ基含有変性エポキシ樹脂(A)、ブロック化ポリイソシアネート硬化剤(B)、フェノール樹脂(C)、金属化合物(D)及び窒素酸化物イオン(E)を含有するカチオン電着塗料組成物」が開示されている。
特許文献6によれば、前記カチオン電着塗料組成物を用いることで、鋼板上の防食性に優れる塗装物品を得ることができることが記載されている。
例えば、特許文献9には、「カルボニル基及び/又は水酸基を単位構造中に有する水溶性又は水分散性の有機重合体(A)と、ホスホン基を有する有機化合物(B)とを含有する表面処理剤」が開示されている。
特許文献9によれば、「鉄、ニッケル若しくはコバルトの酸化物、それらの水酸化物又はそれらのオキシ水酸化物から選ばれる1種又は2種以上の鉄族化合物等を用いることなく、アルミニウム材等及び上層皮膜に対して優れた密着性を有し、かつ、アルミニウム材等に優れた耐食性を付与する、表面処理皮膜を、アルミニウム材等と上層皮膜との間に形成することができるノンクロメート表面処理剤、該表面処理剤を用いた表面処理皮膜の製造方法、及び該表面処理皮膜を有するアルミニウム材又はアルミニウム合金材を提供できる」ことが記載されている。
特許文献2 特開2001-158973号公報
特許文献3 特開平2-25579号公報
特許文献4 特開2010-201353号公報
特許文献5 特開2000-309879号公報
特許文献6 国際公開第2007/094253号公報
特許文献7 特開平5-43212号公報
特許文献8 特開2011-84729号公報
特許文献9 国際公報2017/138464
特に、特許文献9の技術は、アルミニウム材に対するクロメートフリー後処理の技術であり、亜鉛を含有するめっき層を有するめっき鋼板のクロメートフリー後処理の技術ではない。
前記鋼板又は鋼帯の片面または両面に設けられ、亜鉛を含有するめっき層と、
前記鋼板又は鋼帯の片面に設けられた前記めっき層上、又は前記鋼板又は鋼帯の両面に設けられた前記めっき層の少なくとも一方上に設けられた化成処理皮膜と、
前記化成処理皮膜上に設けられた単層又は複層の塗膜と、
を有し、
前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜が、常温において、水100gに対して、0.10g以上溶解することができるセリウム化合物を、前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜の固形分に対して0.01~10.0質量%含有する塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<2> 前記セリウム化合物が、セリウム(III)化合物を含む前記<1>に記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<3> 前記セリウム化合物が、セリウム(IV)化合物を含む前記<1>に記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<4> 前記セリウム(IV)化合物が、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)を含む前記<3>に記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<5> 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜において、塩化セリウムの含有量が、前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜の固形分に対して0.01質量%以下である前記<1>~<4>のいずれか1つに記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<6> 前記めっき層の化学組成が、質量%で、
Al:0~60.0%、
Mg:0~15.0%、
Si:0~2.0%、
Ni:0~1.0%、
Cr:0~1.0%、
Ti:0~1.0%、及び
残部:Znおよび不純物である
前記<1>~<5>のいずれか1つに記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<7> 前記めっき層の化学組成が、質量%で、
Al:0.5~60.0%、
Mg:0.5~15.0%、
Si:0~2.0%、及び
Ni:0~1.0%、
Cr:0~1.0%、
Ti:0~1.0%、残部:Znおよび不純物である
前記<1>~<5>のいずれか1つに記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<8> 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜の膜厚が、5μm超えである前記<1>~<7>のいずれか1つに記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<9> 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜が、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、および、ウレタン樹脂のいずれか一つ以上を含む前記<1>~<8>のいずれか1つに記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
<10> 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜が、バナジン酸塩、タングステン酸塩、けい酸塩、および、りん酸塩のいずれか一つ以上を含む前記<1>~<9>のいずれか1つに記載の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯。
なお、本明細書中において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値に「超」又は「未満」が付されていない場合は、これらの数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。また、「~」の前後に記載される数値に「超」又は「未満」が付されている場合の数値範囲は、これらの数値を下限値又は上限値として含まない範囲を意味する。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、ある段階的な数値範囲の上限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値に置き換えてもよく、また、実施例に示されている値に置き換えてもよい。また、ある段階的な数値範囲の下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の下限値に置き換えてもよく、また、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、濃度又は含有量について、「%」は「質量%」を意味する。
濃度又は含有量(%)として「0~」は、その成分は任意成分であり、含有しなくてもよいことを意味する。
また、「亜鉛めっき層を有する鋼板」を「亜鉛めっき鋼板」、「亜鉛合金めっき層を有する鋼板」を「亜鉛合金めっき鋼板」、「亜鉛系めっき層を有する鋼板」を「亜鉛系めっき鋼板」とも称する。
鋼板又は鋼帯と、
前記鋼板又は鋼帯の片面または両面に設けられ、亜鉛を含有するめっき層と、
前記鋼板又は鋼帯の片面に設けられた前記めっき層上、又は前記鋼板又は鋼帯の両面に設けられた前記めっき層の少なくとも一方上に設けられた化成処理皮膜と、
前記化成処理皮膜上に設けられた単層又は複層の塗膜と、
を有する。
そして、本開示の塗装めっき鋼板は、化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜(以下、「化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜」を、単に「化成処理皮膜に接する塗膜」とも称する)が、常温において、水100gに対して、0.10g以上溶解することができるセリウム化合物を、化成処理皮膜に接する塗膜固形分に対して0.01~10.0質量%の濃度で含有する。
本開示の塗装めっき鋼板又は塗装めっき鋼帯は、次の知見により見出された。
なお、めっき層と化成処理皮膜に接する塗膜との間には化成処理皮膜を形成しているが、化成処理皮膜は通常ナノメートルオーダーの膜厚であり、膜厚のむらなどが生じた場合、直接、めっき層と塗膜が接することもあるため、めっき層と化成処理皮膜に接する塗膜との界面にも、腐食生成物が形成されることがある。
一般的なクロメートフリー化成処理と塗装を施した塗装めっき鋼板とクロメート化成処理と塗装を施した塗装めっき鋼板について、曲げ加工を行った塗装めっき鋼板を複合サイクル試験により腐食促進試験を行い、腐食試験後の断面観察を行った。その結果、本発明者らは、次の知見を得た。
一般的なクロメートフリー化成処理を施した場合、亜鉛めっき層を有する亜鉛めっき鋼板を原板とする塗装めっき鋼板(以下「塗装亜鉛めっき鋼板」)と、アルミニウム、マグネシウム等を含有する亜鉛合金めっき層を有する亜鉛合金めっき鋼板を原板とする塗装めっき鋼板(以下「塗装亜鉛合金めっき鋼板」)とでは加工部の腐食挙動に違いがある。
クロメートは複数の価数を有するため、鋼板の酸化作用があり、かつ膜の自己補修ができることが高い加工部耐食性を示す要因と考えられる。
特定セリウム化合物を化成処理皮膜に接する塗膜に添加した結果、複合サイクル腐食試験(CCT)後の曲げ加工部の白錆発生が抑制された。そのため、特定セリウム化合物は、亜鉛系めっき層に有効なインヒビターであることが見出された。
加工部耐食性が低下する要因として、めっき層の割れ部からめっき成分が過溶出することが原因の一つと考えられるが、特定セリウム化合物に含まれるセリウムイオンが、めっき成分の溶出を抑制したためと推定している。
そして、特定セリウム化合物を、化成処理皮膜に接する塗膜に添加することで、特定セリウム化合物を化成処理皮膜に添加する場合に比べ、曲げ加工、プレス加工等によりめっき層又は塗膜にクラックが生じても、白錆の発生を抑えながら、高い耐食性を有する塗装めっき鋼板となる。その理由としては、次の通りと推測される。
特定セリウム化合物を、化成処理皮膜に接する塗膜に添加することで、腐食環境中で塗膜からセリウムイオンが溶出してめっき又は鋼表面を酸化することで、めっきの耐食性を高めて過溶出を抑制し、さらにはめっき又は鋼の腐食の素反応であるアノード反応やカソード反応が起こる領域が保護される。
なお、上述のことは、塗装めっき鋼帯においても同様である。
鋼板は、めっき層が形成される対象の鋼板である。鋼板は、特に限定されるものではない。鋼板としては、例えば、極低C型(フェライト主体組織)、Al-k型(フェライト中にパーライトを含む組織)、2相組織型(例えば、フェライト中にマルテンサイトを含む組織、フェライト中にベイナイトを含む組織)、加工誘起変態型(フェライト中に残留オーステナイトを含む組織)、微細結晶型(フェライト主体組織)等のいずれの型の鋼板を用いてもよい。
亜鉛系めっき層(亜鉛を含有するめっき層)における、亜鉛の含有量は、亜鉛系めっき層の化学組成全体に対して、25.0~100.0質量%であることが好ましい。必要に応じて、亜鉛の含有量の下限を30.0質量%、35.0質量%、45.0質量%、55.0質量%又は65.0質量%としてもよい。
具体的には、亜鉛系めっき層としては、亜鉛めっき層、亜鉛-アルミニウム-マグネシウムめっき層、亜鉛-アルミニウム-マグネシウム-シリコンめっき層、亜鉛-アルミニウムめっき層、亜鉛-アルミニウム-シリコンめっき層等が挙げられる。
Al:0~60.0%、
Mg:0~15.0%、
Si:0~2.0%、
Ni:0~1.0%、
Cr:0~1.0%、
Ti:0~1.0%、及び
残部:Znおよび不純物であることが好ましい。
Al含有量の上限は、好ましくは、55.0質量%、50.0質量%、又は45.0質量%である。
Mg含有量の下限は、好ましくは、1.0質量%、1.5質量%、又は2.0質量%である。
Mg含有量の上限は、好ましくは、12.5質量%、10.0質量%、又は7.5質量%である。
Si含有量の下限は、好ましくは、0.2質量%、0.4質量%、又は0.6質量%である。
Si含有量の上限は、好ましくは、1.8質量%、1.6質量%、又は1.4質量%である。
Ni含有量、Cr含有量およびTi含有量の下限は、それぞれ、好ましくは、0.1質量%、0.2質量%、又は0.3質量%である。
Ni含有量、Cr含有量およびTi含有量の上限は、それぞれ、好ましくは、0.8質量%、0.6質量%、又は0.4質量%である。
Al:0.5~60.0%、
Mg:0.5~15.0%、
Si:0~2.0%、
Ni:0~1.0%、
Cr:0~1.0%、
Ti:0~1.0%、及び
残部:Znおよび不純物であってもよい。つまり、亜鉛系めっき層は、亜鉛合金めっき層であってもよい。
亜鉛系めっき層の付着量が、15g・m-2以上であると、不めっき部分の発生が抑制され、めっきによる防食効果が向上する。また、亜鉛系めっき層の付着量が140g・m-2以下であると、耐食性が向上し、めっきが黒く変色する現象は発生しにくい。
化成処理皮膜は、めっき鋼板表面に付着した油分などの不純物及び表面酸化物を脱脂工程及び洗浄工程で取り除いた後、化成処理により形成する。
特に、化成処理皮膜が、シランカップリング剤、およびジルコニウム化合物のいずれか一つ以上を含むと、皮膜に架橋構造を形成し、さらにめっき表面との結合も強化するため、皮膜の密着性やバリア性を高めることができる。
また、化成処理皮膜が、シリカ、りん酸及びその塩、ふっ化物、並びに、バナジウム化合物のいずれか一つ以上を含むと、インヒビターとして、めっきや鋼表面に沈殿皮膜や不動態皮膜を形成することで、耐食性を向上することができる。
樹脂は、特に限定されず、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂等、公知の有機樹脂を使用することができる。めっき鋼板との密着性を更に高めるためには、分子鎖中に強制部位や極性官能基をもつ樹脂(ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等)の少なくとも一つを使用することが好ましい。樹脂は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
シランカップリング剤としては、前述のシラノール基を有するカルボン酸誘導体以外の化合物であり、種々のシラン化合物を用いることができる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリエトキシシラン、γ-クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ-アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ-アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ-アニリノプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、オクタデシルジメチル〔3-(トリメトキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル〔3-(メチルジメトキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル〔3-(トリエトキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル〔3-(メチルジエトキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロライド、γ-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシランなどが挙げられる。
これらの中でも、シランカップリング剤として、グリシジルエーテル基を有するシランカップリング剤(例えば、グリシジルエーテル基を有するγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等)を使用すると、化成処理皮膜に接する塗膜(下層塗膜)の加工密着性が特に向上する。更に、トリエトキシタイプのシランカップリング剤を使用すると、下地処理剤の保存安定性を向上させることができる。これは、トリエトキシシランが水溶液中で比較的安定であり、重合速度が遅いためであると考えられる。
シランカップリング剤は1種で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
ジルコニウム化合物としては、特に限定されないが、例えば、ジルコニウムノルマルプロピレート、ジルコニウムノルマルブチレート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、ジルコニウムビスアセチルアセトネート、ジルコニウムモノエチルアセトアセテート、ジルコニウムアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムモノステアレート、炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモ二ウム、炭酸ジルコニウムカリウム、炭酸ジルコニウムナトリウム等が挙げられる。
ジルコニウム化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
シランカップリング剤及びジルコニル塩の含有量(乾膜濃度=化成処理膜の固形分に対する質量%)は、皮膜中に5質量%以上80質量%以下で含有することが好ましい。より好ましくは、20質量%以上70質量%である。含有量が5質量%未満であると、基材との密着性や耐食性の向上効果が得られない場合があり、80質量%超であると、加工性が低下する場合がある。
シリカとは、微細な粒径を持つために水中に分散させた場合に安定に水分散状態を維持できるシリカを総称して言うものである。シリカは、塗装めっき鋼板の耐食性を向上させるとともに、化成処理皮膜に接する塗膜(下層塗膜)の密着性を向上させるのに有効である。
シリカとしては、特に制限はないが、例えば、一次粒子径が5~50nmのコロイダルシリカ、ヒュームドシリカ等のシリカ微粒子であることが好ましい。シリカとしては、例えば、「スノーテックスN」、「スノーテックスC」、「スノーテックスUP」、「スノーテックスPS」(いずれも日産化学工業製)、「アデライトAT-20Q」(旭電化工業製)など市販のシリカゲル、又はアエロジル#300(日本アエロジル製)などの粉末シリカ、などを用いることができる。シリカは、必要とされる性能に応じて、適宜選択すればよい。
シリカは1種で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
りん酸及びその塩としては、例えば、オルトリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、三リン酸、四リン酸等のリン酸類及びそれらの塩;リン酸三アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム等のアンモニウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)等のホスホン酸類及びそれらの塩;フィチン酸等の有機リン酸類及びそれらの塩等が挙げられる。なお、りん酸の塩として、アンモニウム塩以外の塩としては、Na、Mg、Al、K、Ca、Mn、Ni、Zn、Fe等との金属塩が挙げられる。
りん酸及びその塩は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
りん酸及びその塩の含有量が、20質量%超であると、皮膜が脆くなり、塗装めっき鋼板を成形加工する際の皮膜の加工追従性が低下する場合がある。
ふっ化物としては、例えば、ジルコンフッ化アンモニウム、ケイフッ化アンモニウム、チタンフッ化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、チタンフッ化水素酸、ジルコンフッ化水素酸などが挙げられる。
ふっ化物は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
バナジウム化合物としては、例えば、五酸化バナジウム、メタバナジン酸、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、オキシ三塩化バナジウム等の5価のバナジウム化合物を還元剤で2~4価に還元したバナジウム化合物;三酸化バナジウム、二酸化バナジウム、オキシ硫酸バナジウム、オキシ蓚酸バナジウム、バナジウムオキシアセチルアセトネート、バナジウムアセチルアセトネート、三塩化バナジウム、リンバナドモリブデン酸、硫酸バナジウム、二塩化バナジウム、酸化バナジウム等の酸化数4~2価のバナジウム化合物等が挙げられる。
バナジウム化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
化成処理被膜に含有される特定セリウム化合物としては、後述の塗膜に含有される特定セリウム化合物と同様の化合物が挙げられる。つまり、常温において、水100gに対して、0.10g以上溶解することができるセリウム化合物が挙げられる。
特定セリウム化合物の含有量の上限は、化成処理皮膜に接する塗膜固形分に対して、10.0質量%であることが好ましく、8.0質量%であることがより好ましく、5.0質量%であることが更に好ましい。
化成処理皮膜の組成の具体例について説明する。
この場合、樹脂の含有量は、皮膜固形分に対して40~85質量%であることが好ましく、45~80質量%であることがより好ましく、50~75質量%であることが更に好ましい。
また、シランカップリング剤又はジルコニウム化合物の含有量は、皮膜固形分に対して15~60質量%であることが好ましく、20~55質量%であることがより好ましく、25~50質量%であることが更に好ましい。
・樹脂
・シランカップリング剤およびジルコニウム化合物のいずれか一つ
・シリカ、りん酸及びその塩、ふっ化物、並びに、バナジウム化合物のいずれか一つ以上
この場合、樹脂の含有量は、皮膜固形分に対して10~75質量%であることが好ましく、15~70質量%であることがより好ましく、20~65質量%であることが更に好ましい。
また、シランカップリング剤又はジルコニウム化合物の含有量は、皮膜固形分に対して5~59質量%であることが好ましく、12~53質量%であることがより好ましく、18~47質量%であることが更に好ましい。
更に、シリカ、りん酸及びその塩、ふっ化物、並びに、バナジウム化合物の合計の含有量は、皮膜固形分に対して1~40質量%であることが好ましく、2~30質量%であることがより好ましく、3~20質量%であることが更に好ましい。
化成処理剤の製造方法は特に限定されないが、例えば、各々の皮膜形成成分を混合し、ディスパーで攪拌し、溶解もしくは分散する方法が挙げられる。各々の皮膜形成成分の溶解性、又は分散性を向上させるために、必要に応じて、公知の親水性溶剤等を添加してもよい。化成処理剤中には、その性能が損なわれない範囲内で、pH調整のために酸、アルカリ等を添加してもよい。
化成処理剤の塗布方法は、特に限定されず、一般に公知の塗装方法、例えば、ロールコート、エアースプレー、エアーレススプレー、浸漬などを利用する方法が可能である。
加熱乾燥温度としては、50~250℃がよい。50℃未満では、水分の蒸発速度が遅く充分な成膜性が得られないので、防錆力が不足することがある。250℃を超えると、有機物であるシランカップリング剤のアルキル部分が熱分解等のため変性を起こし、密着性や耐食性が低下することがある。加熱温度は70~160℃がより好ましい。
加熱乾燥方法は、特に制限はなく、熱風、誘導加熱、近赤外線、直火等を単独又は組み合わせた方法が挙げられる。例えば、熱風乾燥を利用する場合、加熱乾燥時間は1秒~5分が好ましい。
めっき鋼板片面あたりの化成処理皮膜の付着量は、固形分にして10~1000mg/m2が好ましい。10mg/m2未満では充分な加工密着性と耐食性が確保されず、1000mg/m2を超えると加工密着性が低下することがある。
めっき鋼板片面あたりの化成処理皮膜の付着量の下限は、より好ましくは20mg/m2又は30mg/m2であり、更に好ましくは40mg/m2又は50mg/m2である。めっき鋼板片面あたりの化成処理皮膜の付着量の上限は、より好ましくは800mg/mmm2又は600mg/mm2であり、更に好ましくは400mg/mm2、300mg/mm2又は200mg/mm2である。めっき鋼板片面あたりの化成処理皮膜の膜厚は、2.0μm以下が好ましく、1.0μm以下、0.8μm以下又は0.6μm以下が好ましい。めっき鋼板片面あたりの化成処理皮膜の膜厚の下限を特に定める必要はないが、0.01μm、0.03μm、又は0.05μmとしてもよい。
塗膜は、化成処理皮膜の上に形成する、単層又は複層の膜である。塗膜は、塗装めっき鋼板片面につき1~3層設けることが多い。塗膜が2層以上の複層の場合は、化成処理皮膜に接する塗膜は特にプライマー塗膜と呼ばれることもあり、塗膜と化成処理皮膜との密着性及び耐食性の担保を目的とすることが多い。一方、上層の塗膜は、着色による意匠性やバリア性、その他の表面機能性の担保を目的とすることが多い。なお、ここで示す塗膜とは、特に断らない限りは、化成処理皮膜と接する塗膜を示すものとする。
また、塗膜は、例えば、樹脂を含む。塗膜は、顔料を含むことが好ましい。塗膜には、これらの成分以外にも、レベリング剤、消泡剤、着色剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等の添加剤を含んでもよい。なお、塗膜を形成するための塗布液は、溶剤に、上記各成分を分散又は溶解して得ることが好ましい。
特定セリウム化合物は、常温において、水100gに対して、0.10g以上溶解することができるセリウム化合物である。
ここで、常温とは、15~25℃の温度領域をいう。
先ず、水を100g秤量する。続いて、測定対象のセリウム化合物を0.10g秤量する。秤量した溶媒及び測定対象のセリウム化合物をビーカーに加え、溶媒の温度を常温に保ちつつ撹拌を行う。そして、測定対象のセリウム化合物が溶解したか否かを目視で判断する。
また、特に限定されないが、特定セリウム化合物は、常温において、水100gに対して、500g以下溶解する特定セリウム化合物でもよい。
特に、特定セリウム化合物として、少なくともセリウム(IV)化合物を含むことが好ましい。セリウム(IV)化合物は、セリウム(III)化合物に比べ、めっき成分の溶出抑制効果が高いためである。
これらの中でも、セリウム(III)化合物としては、硝酸セリウム(III)六水和物(硝酸第一セリウム六水和物)、硫酸セリウム(III)八水和物(硫酸第一セリウム八水和物)、硝酸アンモニウムセリウム(III)四水和物、硝酸二アンモニウムセリウム(III)四水和物、硫酸セリウム(III)n水和物、酢酸セリウム(III)水和物、が好ましい。
これらの中でも、セリウム(IV)化合物としては、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)、硫酸セリウム(IV)n水和物、硫酸四アンモニウムセリウム(IV)二水和物、硫酸セリウム(IV)無水物、硫酸四アンモニウムセリウム(IV)四水和物が好ましく、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)がより好ましい。
上記は、セリウムのリン酸塩、セリウムの酸化物等は、常温における、水100gに対する溶解量は0.10g未満である。
セリウム化合物の含有量が0.01質量%未満であると、めっき成分の溶出抑制効果が得られず、白錆の発生が抑えられず、耐食性が低下する。このため、セリウム化合物の含有量は0.01質量%以上とする。
セリウム化合物の含有量が、10.0質量%以上超であると、化成処理皮膜に接する塗膜中に占めるセリウム化合物濃度が高すぎて、化成処理皮膜に接する塗膜の加工性の低下を引き起こし、耐食性以外の性能を十分に得ることが難しくなる場合がある。このため、セリウム化合物の含有量は10.0質量%以下とする。
特定セリウム化合物の含有量の下限は、化成処理皮膜に接する塗膜固形分に対して、0.50質量%であることが好ましく、1.0質量%であることがより好ましく、1.5質量%であることが更に好ましい。
特定セリウム化合物の含有量の上限は、化成処理皮膜に接する塗膜固形分に対して、8.0質量%であることが好ましく、5.0質量%であることがより好ましく、4.0質量%であることが更に好ましい。
そのため、化成処理皮膜に接する塗膜において、塩化セリウムの含有量は、化成処理皮膜に接する塗膜の固形分に対して、0.01質量%以下又は0.01質量%未満であることが好ましく、0.005質量%以下であることがより好ましく、0.001質量%以下であることが更に好ましい。
化成処理皮膜に接する塗膜において、塩化セリウムの含有量は、化成処理皮膜に接する塗膜の固形分に対して、0質量%であることが好ましいが(つまり、化成処理皮膜に接する塗膜において、塩化セリウムは含まない方が好ましいが)、0.001質量%以上含有していてもよい。
樹脂は、特に限定されるものではない。例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ふっ素樹脂が挙げられる。
樹脂としては、これら樹脂を、ブチル化メラミン樹脂、メチル化メラミン樹脂、ブチルメチル混合メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート樹脂、又はこれらの混合系の架橋剤成分により架橋させた樹脂も挙げられる。
樹脂としては、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂なども挙げられる。
これらの中でも、バインダー樹脂としては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、および、ウレタン樹脂のいずれか一つ以上が好ましい。
これらのバインダー樹脂は単独でも、2種以上を混合して用いてもよい。
顔料としては、防錆顔料、着色顔料、体質顔料とに大別される。
防錆顔料として、バナジン酸塩、タングステン酸塩、けい酸塩、りん酸塩等が挙げられる。
着色顔料としては、公知の無機及び有機着色顔料が挙げられる。無機着色顔料としては酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、カオリンクレー、カーボンブラック、酸化鉄等が挙げられる。有機着色顔料としてはハンザエロー、ピラゾロンオレンジ、フタロシアニン、アゾ系顔料等が挙げられる。
体質顔料としては、例えば、タルク、クレー、シリカ、マイカ、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。
これらの中でも、耐食性の向上の観点から、顔料としては、防錆顔料が好ましい。つまり、化成処理皮膜に接する塗膜(下層塗膜)は、バナジン酸塩、タングステン酸塩、けい酸塩、および、りん酸塩のいずれか一つ以上を含むことが好ましい。
タングステン酸塩としては、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、タングステン酸リチウム、タングステン酸マグネシウム等が挙げられる。
けい酸塩としては、けい酸ナトリウム、けい酸カリウム、けい酸リチウム、カルシウムイオン交換シリカ等が挙げられる。
りん酸塩としては、りん酸二水素ナトリウム、りん酸二水素カリウム、りん酸水素二カリウム、トリポリりん酸ナトリウム、トリポリりん酸アルミニウム、トリポリりん酸マグネシウム、りん酸二水素ナトリウム一水和物、りん酸二水素ナトリウム二水和物、次亜りん酸カルシウム等が挙げられる。
塗膜の膜厚は、4μm以上(例えば4~50μm)が好ましい。塗膜の膜厚とは、塗膜が複層の場合、複層の合計の膜厚を意味する。
ただし、塗膜が複層の場合、化成処理皮膜に接する塗膜(下層塗膜)は4~15μmが好ましい。膜厚が4μm以上であると、十分な耐食性および耐薬品性が得られやすい。一方、膜厚が15μm以下であると、加工性が向上しやすい。耐食性、耐薬品性、および加工性の良好なバランスの観点から、化成処理被膜に接する被膜(下層塗膜)の膜厚は、4~10μmの範囲がより好ましい。
また、塗膜が複層の場合、化成処理皮膜に接する塗膜よりも上層の塗膜の膜厚は5~30μmが好ましい。膜厚が5μm以上であると耐薬品性や耐食性及び、色の隠蔽性が向上しやすく、意匠性も得られやすくなる。また、膜厚が30μm以下であると加工性が向上しやすい。上層の塗膜の厚みは、10~25μmであることがより好ましい。
なお、上層の塗膜が複層の場合、上層の塗膜の膜厚とは、上層の各塗膜の膜厚を意味する。
塗膜が単層の場合及び複層の場合において、加工性向上の観点から、化成処理皮膜に接する塗膜の膜厚は25μm以下であることが好ましく、20μm以下であることがより好ましく、10μm以下であることが更に好ましい。
塗膜は、塗布液を塗布後、塗布膜を乾燥及び硬化して形成する。
塗膜の塗布方法としては、特に制限はなく、例えば、浸漬法、カーテンフロー法、ロールコート法、バーコート法、静電法、刷毛塗り法、T-ダイ法、ラミネート法、スプレー法などが挙げられる。また、ウェット・オン・ウェットコート法、多層同時コート法も挙げられる。
加熱及び硬化は、熱風、近赤外線、遠赤外線、高周波誘導加熱、これらの複合による加熱法など、任意の方法が適用可能である。
本開示に係る塗装めっき鋼板は、プレコート鋼板である。
プレコート鋼板とは、成型前の鋼板に対して塗膜が形成されて得られる平板の鋼板である。ここで、前記成型前の鋼板に対して形成される塗膜は、本開示に係る塗装めっき鋼板における、塗膜である。
一方、本開示に係る塗装めっき鋼板は、電着塗装膜を有しない。つまり、本開示に係る塗装めっき鋼板は、塗膜を最表面として有する鋼板である。
本実施形態に係る塗装めっき鋼帯は、帯状の鋼である。
本実施形態に係る塗装めっき鋼帯の形状としては、例えば、コイル状に巻かれた塗装めっき鋼帯が挙げられる。
本実施形態に係る塗装めっき鋼帯の構成は、帯状であること以外は上記塗装めっき鋼板と同一の構成を有する。
塗装めっき鋼帯は、例えば、上記塗装めっき鋼板をコイル状に巻き取ることで得られる。
上記塗装めっき鋼板をコイル状に巻き取る方法は特に限定されず、例えば、公知の巻取り機を用いる方法が挙げられる。
表1に示す、両面に亜鉛系めっき層を有する亜鉛系めっき鋼板を準備した。亜鉛系めっき鋼板には、板厚0.5mmの軟鋼板を使用した。亜鉛系めっき鋼板は、表面をアルカリ脱脂処理、水洗乾燥して使用した。
化成処理皮膜を形成するための化成処理剤は、表2に示すCe化合物と、表3に示す樹脂、表4に示すシランカップリング剤、表5に示すジルコニウム化合物、表6に示すシリカ、表7に示すりん酸及びその塩、表8に示すふっ化物、表9に示すバナジウム化合物を、表12に示す配合量(乾膜濃度=化成処理膜の固形分に対する質量%)で配合し、分散機を用いて攪拌することで調製した。
次いで、前記(1)で準備した亜鉛系めっき鋼板の両面に片面あたり100mg/m2の付着量になるようにロールコーターで、化成処理剤を塗装し、100℃の鋼板到達温度で乾燥させることで化成処理皮膜を形成した。
なお、表12中の化成処理皮膜の各成分の含有量(乾膜の濃度)は、皮膜固形分に対する質量%である。表12において、Ce化合物を除く、樹脂、シランカプリング剤、ジルコニウム化合物、シリカ、りん酸及びその塩、ふっ化物とバナジウム化合物の化成処理皮膜中の各配合量は、1%単位で記載されている。このため、Ce化合物を含むすべての配合量の合計は必ずしも100%にはならない。
塗膜を形成するための塗布液は、表2に示すCe化合物と、表10に示す樹脂、表11に示す顔料を、表12に示す配合量(乾膜濃度=塗膜の固形分に対する質量%)で配合し、分散機を用いて攪拌することで調製した。
次いで、前記(2)で準備した、化成処理皮膜を有する亜鉛系めっき鋼板の両面に所定の膜厚になるようにロールコーターで、塗布液を塗装し、220℃の鋼板到達温度で乾燥させることで塗膜を形成した。
なお、塗膜が2層の場合は、さらに化成処理皮膜に接する塗膜(下層塗膜)上に、日本ペイントコーティングス社製FLC100塗料を15μmになるようにロールコーターで塗装し、230℃の基板到達温度で乾燥させることで塗膜を形成した。
なお、表12中の塗膜の各成分の含有量(乾膜の濃度)は、塗膜固形分に対する質量%である。
上記(3)で得られた塗装めっき鋼板から試験板を採取し、試験板について、下記に示す評価方法および評価基準にて評価した。
試験板(50×100mmサイズ)の端面をテープシールし、鋼板にカッターナイフで鋼板素地まで疵がつくようにクロスカットを入れた後、CCT-JASO M609に準拠した複合サイクル腐食試験を60サイクル実施した。試験後の試験板のクロスカットからのめっきの白錆幅の最大値を測定し、下記の評価基準で評価した。
評点5:白錆幅が2mm未満
評点4:白錆幅が2mm以上4mm未満
評点3:白錆幅が4mm以上6mm未満
評点2:白錆幅が6mm以上8mm未満
評点1:白錆幅が8mm以上
試験板(50×100mmサイズ)の端面をテープシールした後、試験板中央に6mmのエリクセン押し出しを行い、CCT-JASO M609に準拠した複合サイクル腐食試験を60サイクル実施した。試験後の試験板のエリクセン加工により押し出された円形部におけるめっき白錆割合を測定し、下記の評価基準で評価した。
評点5:白錆の面積割合が20%未満
評点4:白錆の面積割合が20%以上30%未満
評点3:白錆の面積割合が30%以上40%未満
評点2:白錆の面積割合が40%以上50%未満
評点1:白錆の面積割合が50%以上
一方、化成処理皮膜に接する塗膜に、特定セリウム化合物を含有しない塗装めっき鋼板(試験No.1~10、27、28、35、72~74、80~82、84~87)は、クロスカット白錆幅及びエリクセン加工部の白錆面積割合が、特定セリウム化合物を含有する塗装めっき鋼板と比べて大きいことが分かる。
なお、化成処理皮膜に特定セリウム化合物を含有する塗装めっき鋼板(試験No.84~87)は、試験No.2の塗装めっき鋼板と、表中に記載されたクロスカット白錆幅及びエリクセン加工部の白錆の評点は同一であるが、化成処理皮膜に特定セリウム化合物を含有する塗装めっき鋼板(試験No.84~87)の方がクロスカット白錆幅及びエリクセン加工部の白錆面積割合が小さい結果であった。
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、有害な六価クロムを利用することなく、曲げ加工、プレス加工等によりめっき層又は塗膜にクラックが生じても、白錆の発生を抑えながら、高い耐食性も有することがわかる。
Claims (9)
- 鋼板又は鋼帯と、
前記鋼板又は鋼帯の片面または両面に設けられ、亜鉛を含有するめっき層と、
前記鋼板又は鋼帯の片面に設けられた前記めっき層上、又は前記鋼板又は鋼帯の両面に設けられた前記めっき層の少なくとも一方上に設けられた化成処理皮膜と、
前記化成処理皮膜上に設けられた単層又は複層の塗膜と、
を有し、
前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜が、常温において、水100gに対して、0.10g以上溶解することができるセリウム化合物を、前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜の固形分に対して0.01~10.0質量%含有し、
前記セリウム化合物が、セリウム(IV)化合物を含む、クロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。 - 前記セリウム化合物が、セリウム(III)化合物を含む請求項1に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。
- 前記セリウム(IV)化合物が、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)を含む請求項1又は請求項2に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。
- 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜において、塩化セリウムの含有量が、前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜の固形分に対して0.01質量%以下である請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。
- 前記めっき層の化学組成が、質量%で、
Al:0~60.0%、
Mg:0~15.0%、
Si:0~2.0%、
Ni:0~1.0%、
Cr:0~1.0%、
Ti:0~1.0%、及び
残部:Znおよび不純物である
請求項1~請求項4のいずれか1項に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。 - 前記めっき層の化学組成が、質量%で、
Al:0.5~60.0%、
Mg:0.5~15.0%、
Si:0~2.0%、及び
Ni:0~1.0%、
Cr:0~1.0%、
Ti:0~1.0%、残部:Znおよび不純物である
請求項1~請求項4のいずれか1項に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。 - 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜の膜厚が、5μm超えである請求項1~請求項6のいずれか1項に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。
- 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜が、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、および、ウレタン樹脂のいずれか一つ以上を含む請求項1~請求項7のいずれか1項に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。
- 前記化成処理皮膜に接する前記単層の塗膜又は前記複層の塗膜のうち前記化成処理皮膜に接する塗膜が、バナジン酸塩、タングステン酸塩、けい酸塩、および、りん酸塩のいずれか一つ以上を含む請求項1~請求項8のいずれか1項に記載のクロメートフリー型塗装めっき鋼板又はクロメートフリー型塗装めっき鋼帯。
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Citations (8)
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JP2002317279A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-31 | Nisshin Steel Co Ltd | 水性塗料を用いた環境負荷の小さな塗装鋼板 |
JP2005232505A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Sanbesuto:Kk | リン酸塩皮膜または亜鉛合金化皮膜の後処理方法 |
JP2009179859A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Nippon Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法 |
JP2010214283A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nippon Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法 |
JP2013067699A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Nippon Paint Co Ltd | 塗料組成物、塗膜、及び塗装鋼板 |
JP2015057509A (ja) * | 2013-08-13 | 2015-03-26 | 関西ペイント株式会社 | 複層皮膜形成方法 |
JP2016194134A (ja) * | 2014-03-05 | 2016-11-17 | ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company | クロムフリーの化成被覆 |
JP2020066793A (ja) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | Jfeスチール株式会社 | 表面処理液、表面処理鋼板の製造方法、および表面処理鋼板 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3218401B2 (ja) | 1991-08-02 | 2001-10-15 | 日本化学工業株式会社 | 防錆顔料組成物 |
JP3962123B2 (ja) | 1997-06-09 | 2007-08-22 | 新日本製鐵株式会社 | 有機系表面処理金属板および有機系金属表面処理液 |
JP4191845B2 (ja) | 1999-04-26 | 2008-12-03 | 新日本製鐵株式会社 | 表面処理金属板 |
JP3596665B2 (ja) | 1999-11-30 | 2004-12-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 亜鉛系めっき鋼板用表面処理皮膜及び表面処理鋼板 |
WO2007094253A1 (ja) | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | 着色金属顔料およびその製造方法、ならびに該着色金属顔料を含有するコーティング組成物および化粧料 |
JP5345874B2 (ja) | 2009-03-04 | 2013-11-20 | Jfeスチール株式会社 | 高耐食性表面処理鋼板 |
JP5725757B2 (ja) | 2009-09-15 | 2015-05-27 | 関西ペイント株式会社 | カチオン電着塗料組成物 |
US10001115B2 (en) | 2015-04-16 | 2018-06-19 | Ideal Industries, Inc. | Air sampler with closed loop flow control system |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002317279A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-31 | Nisshin Steel Co Ltd | 水性塗料を用いた環境負荷の小さな塗装鋼板 |
JP2005232505A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Sanbesuto:Kk | リン酸塩皮膜または亜鉛合金化皮膜の後処理方法 |
JP2009179859A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Nippon Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法 |
JP2010214283A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nippon Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法 |
JP2013067699A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Nippon Paint Co Ltd | 塗料組成物、塗膜、及び塗装鋼板 |
JP2015057509A (ja) * | 2013-08-13 | 2015-03-26 | 関西ペイント株式会社 | 複層皮膜形成方法 |
JP2016194134A (ja) * | 2014-03-05 | 2016-11-17 | ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company | クロムフリーの化成被覆 |
JP2020066793A (ja) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | Jfeスチール株式会社 | 表面処理液、表面処理鋼板の製造方法、および表面処理鋼板 |
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