JP6981404B2 - 偽造防止構造体 - Google Patents

Description

本発明は、偽造防止構造体に関する。

パスポートやＩＤ（Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）カードなどの情報認証媒体には、情報認証媒体を用いた目視による個人の認証を可能にするために、認証の対象である個人の顔画像などの情報が含まれている。情報が付加される前の情報認証媒体は基材を備え、情報認証媒体に情報を付加する方法として、例えば、情報認証媒体の基材に対してレーザー光線を照射することによって、基材に情報を付加する方法が用いられている（例えば、特許文献１参照）。

また、情報認証媒体では、情報認証媒体の偽造を防ぐ目的で、光学可変素子（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ：ＯＶＤ）が基材に付されている。ＯＶＤは、例えば、ホログラム、回折格子、および、多層膜であり、多層膜は、各膜から射出される光が他の残りの膜から射出される光と干渉するように構成されている。情報認証媒体では、こうした光学可変素子の真贋の判定が、情報認証媒体の真贋を判定するための１つの手段として用いられている。

特開２００６−１２３１７４号公報

ところで、情報認証媒体では、本物の情報認証媒体が備える基材からＯＶＤが剥がされ、剥がされたＯＶＤが偽物の情報を含む基材に対して付されることによって、情報認証媒体が偽造される場合がある。これにより、ＯＶＤに組み合わされた偽物の情報があたかも本物の情報であるように情報認証媒体が偽造される。そのため、こうした情報認証媒体においては、ＯＶＤと偽物の情報とが組み合わされることによる情報認証媒体の偽造を抑えることが望まれている。

なお、情報認証媒体などの偽造防止構造体に対する偽造を抑えることは、ＯＶＤを備える情報認証媒体に限らず、偽造防止構造体の偽造を抑える目的で付されたＯＶＤ以外の他の光学素子、例えば、光を散乱する光学素子などであって、観察側に向けて所定の光を射出する光学素子を備える偽造防止構造体においても共通に望まれている。
本発明は、光学素子層と偽造防止構造体が含む情報との組み合わせによる偽造を難しくすることを可能とした偽造防止構造体を提供することを目的とする。

上記課題を解決するための偽造防止構造体は、表面を有する基材と、前記表面に位置する素子構造体と、を備える。前記素子構造体に対して、前記基材の位置する側とは反対側が観察側であり、前記素子構造体は、前記観察側に向けて所定の光を射出する光学素子層と、所定の情報を含む情報部と、を備える。前記情報部は、光透過性を有する第１材料であって、レーザー光線の照射によって前記第１材料とは異なる光物性を有する第２材料に変わる特性を有した前記第１材料と、前記情報を表現する前記第２材料と、を含む。前記素子構造体は、前記基材の前記表面に位置する面とは反対側の面である表示面を有するとともに、前記表示面を介して、前記情報部の含む情報を表示するように構成されている。

上記構成によれば、光学素子層を含む素子構造体と情報を含む部分とが各別に基材上に位置する構成と比べて、光学素子層と情報部との分離が難しいため、素子構造体に対して真正の偽造防止構造体が有する情報とは異なる情報を付加することが難しい。そのため、光学素子層と偽造防止構造体が含む情報との組み合わせによる偽造を難しくすることができる。

偽造防止構造体を個人認証媒体として具体化した第１実施形態の断面構造を示す断面図。 個人認証媒体の平面構造を示す平面図。 個人認証媒体の製造に用いられる転写箔の一部断面構造を示す部分断面図。 転写箔の一部断面構造を拡大して示す部分拡大断面図。 個人認証媒体の製造方法において転写箔を基材に貼り付ける工程を示す工程図。 個人認証媒体の製造方法において転写箔の支持層を取り除く工程を示す工程図。 個人認証媒体の製造方法において被覆層と支持基材とを基材にラミネートする工程を示す工程図。 積層体の平面構造を示す平面図。 個人認証媒体の製造方法においてレーザー光線を照射する工程を示す工程図。 個人認証媒体の一部断面構造を拡大して示す部分拡大断面図。 個人認証媒体の作用を説明するための作用図。 偽造防止構造体を個人認証媒体として具体化した第２実施形態の断面構造を示す断面図。 個人認証媒体の平面構造を示す平面図。 図１３のＩＶ−ＩＶ線に沿う断面構造を示す断面図。 偽造防止構造体を個人認証媒体として具体化した第３実施形態の断面構造を示す断面図。

［第１実施形態］
図１から図１１を参照して、偽造防止構造体を個人認証媒体として具体化した第１実施形態を説明する。以下では、個人認証媒体の構成、個人認証媒体の製造方法、個人認証媒体の作用、および、個人認証媒体に関わる詳細な構成を順番に説明する。

［個人認証媒体の構成］
図１および図２を参照して、個人認証媒体の構成を説明する。
図１が示すように、個人認証媒体１０は、基材１１と素子構造体１２とを備えている。基材１１は、表面１１Ｓを含み、素子構造体１２は、表面１１Ｓに位置している。素子構造体１２は、表面１１Ｓと対向する平面視において、表面１１Ｓの一部を覆う大きさを有しているが、表面１１Ｓの全体を覆う大きさを有してもよい。素子構造体１２に対して、基材１１の位置する側とは反対側が観察側である。
素子構造体１２は、観察側に向けて所定の光を射出する光学素子層２１と、所定の情報を含む情報部２２と、を備えている。

情報部２２は、第１材料と第２材料とを含んでいる。第１材料は、無色または有色、かつ、光透過性である第１の光物性を有する。第１材料は、レーザー光線の照射によって第１材料から第１材料とは異なる光物性を有する第２材料に変わり、第２材料は、無色または有色である第２の光物性を有する。第２材料は、情報を表現する要素である。表面１１Ｓと対向する平面視において、素子構造体１２のうち、情報部２２に対して基材１１が位置する側とは反対側に位置する部分のなかで少なくとも情報部２２と重なる部分は、光透過性を有している。すなわち、素子構造体１２は、素子構造体１２のなかで基材１１の表面１１Ｓに位置する面とは反対側の面である表示面を介して、情報部２２の含む情報を表示するように構成されている。

こうした個人認証媒体１０によれば、光学素子層を含む素子構造体と情報を含む部分とが各別に基材上に位置する構成と比べて、光学素子層２１と情報部２２との分離が難しいため、素子構造体１２に対して真正の個人認証媒体１０が有する情報とは異なる情報を付加することが難しい。そのため、光学素子層２１と個人認証媒体１０が含む情報との組み合わせによる偽造を難しくすることができる。

より詳しくは、素子構造体１２は、剥離層２３および接着層２４をさらに備え、素子構造体１２において、剥離層２３、情報部２２、光学素子層２１、および、接着層２４が、観察側からこの順に積み重なっている。剥離層２３のうち、情報部２２が位置する面とは反対側の面が上述した表示面である。なお、光学素子層２１の一部は、素子構造体１２の厚さ方向において、情報部２２と同じ位置に位置している。

接着層２４は、素子構造体１２を構成する接着層２４以外の層を基材１１に接着させる機能を有している。接着層２４と基材１１との間の接着強度は、素子構造体１２を構成する各層間における接着強度よりも低い。

情報部２２の含む情報は、第１情報の一例である第１素子情報である。情報部２２は、複数の情報要素２２ａから構成され、各情報要素２２ａは、剥離層２３における情報部２２が位置する面において、他の全ての情報要素２２ａから離れて位置している。

各情報要素２２ａは、第１材料と第２材料とを含んでいる。各情報要素２２ａにおいて、第１材料は情報要素２２ａの略全体に分散し、第２材料も情報要素２２ａの略全体に分散している。第１材料は、情報要素２２ａに向けて照射されたレーザー光線を吸収し、それによって第２材料に変性する。第１材料は無色であって、かつ、光透過性を有し、第２材料は、所定の色、例えば黒色を有している。または、第１材料が有色であって、かつ、光透過性を有し、第２材料が無色であってもよい。

さらに、第１材料が無色または有色であって、かつ、蛍光性を有し、第２材料も、無色または有色であって、かつ、蛍光性を有してもよい。こうした構成は、例えば、第１材料が、紫外線または赤外線により励起されることによって可視の蛍光を発し、第２材料が、紫外線または赤外線により励起されることによって、第１材料よりも弱い可視の蛍光を発するものであればよい。第１材料には、蛍光染料を含有させることができる。蛍光染料として、有機色素を用いることができる。蛍光染料として用いる有機色素としては、シアニン色素、クマリン色素、および、ローダミン色素などを用いることができる。なお、蛍光性を有する材料として、金属錯体を用いることができる。金属錯体として、キレート配位子を有する有機金属錯体を用いることができる。有機金属錯体が含む金属には、Ａｌ、Ｍｇ、およびＺｎを挙げることができる。

光学素子層２１は、例えばレリーフ型の回折格子層であり、レリーフ構造層２１ａと反射層２１ｂとを備えている。レリーフ構造層２１ａは、情報部２２に接する層であり、複数の情報部２２の間を埋めている。レリーフ構造層２１ａは、情報部２２に接する面とは反対側の面に、回折格子として機能するレリーフ面２１ａＳを有している。レリーフ構造層２１ａは光透過性を有している。反射層２１ｂは、レリーフ構造層２１ａのレリーフ面２１ａＳを覆い、レリーフ面２１ａＳにおける光の反射効率を高める機能を有している。

剥離層２３は、光透過性を有する層であり、素子構造体１２のうちで、光学素子層２１に対して基材１１が位置する側とは反対側に位置する部分である。そのため、個人認証媒体１０では、素子構造体１２のうち、情報部２２に対して基材１１が位置する側とは反対側に位置する部分のうち、第２材料によって構成される部分を除く部分が、光透過性を有している。

基材１１は、第３材料と第４材料とを含み、第３材料は、光透過性を有するとともに、レーザー光線の照射によって第３材料から所定の色を有する第４材料に変わる特性を有している。第４材料は、第２情報の一例である第１基材情報を表現する要素である。基材１１は、第１基材情報を含む第１基材情報部１１ａを備え、第１基材情報部１１ａは、第３材料と第４材料とを含んでいる。第１基材情報部１１ａにおいて、第３材料および第４材料の各々は、第１基材情報部１１ａの略全体に分散している。基材１１のうち、第１基材情報部１１ａ以外の部分は第３材料から構成され、光透過性を有している。基材１１のうち、表面１１Ｓとは反対側の面が裏面１１Ｒである。

個人認証媒体１０は、支持基材１３および被覆層１４をさらに備えている。支持基材１３は、基材１１の裏面１１Ｒに接することで基材１１を機械的に支持する機能を有している。支持基材１３は、光透過性を有してもよいし、光透過性を有しなくてもよい。

被覆層１４は、基材１１の表面１１Ｓのうち、素子構造体１２によって覆われていない部分と、素子構造体１２とを覆っている。被覆層１４は、光透過性を有している。被覆層１４と素子構造体１２との間の接着強度は、素子構造体１２を構成する各層間における接着強度よりも低い。

そのため、個人認証媒体１０の観察側から個人認証媒体１０に光が入射すると、個人認証媒体１０に入射した光は、被覆層１４および剥離層２３を透過して、光学素子層２１に入射する。光学素子層２１に入射した光は、レリーフ構造層２１ａのレリーフ面２１ａＳにて反射され、光学素子層２１から回折光として射出される。光学素子層２１から射出された回折光は、剥離層２３および被覆層１４を透過して、個人認証媒体１０の外部に射出される。

図２は、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視における個人認証媒体１０の平面構造を示している。なお、図２では、図示の便宜上、個人認証媒体１０が備える被覆層１４の図示と剥離層２３の図示とが省略されている。また、素子構造体１２には、素子構造体１２から射出される回折光を模式的に示す便宜上、ドットが付されている。なお、先に参照した図１は、図２におけるＩ−Ｉ線に沿う断面構造を示している。

図２が示すように、情報部２２を構成する各情報要素２２ａは、表面１１Ｓと対向する平面視において、第１素子情報の一部を表現する形状を有している。

こうした構成では、情報部２２の含む情報は、情報部２２を構成する各情報要素２２ａの形状と、各情報要素２２ａに含まれる第２材料とによって表現されるため、第２材料のみによって情報が表現される構成と比べて、情報の形状がより鮮明になる。

情報部２２の含む情報は、例えば個人認証媒体１０によって認証される個人に紐付けられたＩＤである。ＩＤは「１２３４５ａｂｃ」であり、文字の一例であるアルファベットと数字とから構成されている。各情報要素２２ａは、情報の一部であって、１つのアルファベットを表現する形状、あるいは、１つの数字を表現する形状を有している。

より詳しくは、情報部２２は、８つの情報要素２２ａから構成され、各情報要素２２ａは、上述した「１２３４５ａｂｃ」のうち、他の全ての情報要素２２ａが表現する情報とは異なる情報を表現する形状を有している。

第１基材情報部１１ａの含む第１基材情報は、情報部２２の含む第１素子情報に関連付けられて、第１素子情報とともに個人認証媒体１０に固有の情報群を構成している。

このように、１つの個人認証媒体１０が、第１素子情報と第１基材情報とから構成される固有の情報群を含んでいるため、個人認証媒体１０において、例えば第１素子情報が改ざんされたときには、第１素子情報と第１基材情報との間の齟齬によって、第１素子情報が改ざんされたことが把握される。つまり、個人認証媒体１０における情報が改ざんされたことが発覚しないように個人認証媒体１０が含む情報を改ざんすることが難しくなる。

第１基材情報部１１ａの含む第１基材情報は、情報部２２の含む第１素子情報に関連付けられた情報の一例であって、第１素子情報と同じ情報である「１２３４５ａｂｃ」と、第１素子情報には含まれない情報である「Ｓｅｃｕｒｉｔｙ ＩＤ．」とを含んでいる。

ここで、互いに関連付けられた複数の要素は、１つのカテゴリーを構成し、第１素子情報と第１基材情報とは、１つのカテゴリーにおける複数の要素の中の１つの要素を互いに同じ表現で示している。

カテゴリーは、例えば、国名、個人、地域、および、ＩＤなどである。カテゴリーが国名であるとき、カテゴリーには、複数の要素として、例えば、日本、アメリカ、および、中国などが含まれる。カテゴリーが個人であるとき、カテゴリーには、複数の要素として互いに異なる複数の個人が含まれる。カテゴリーが地域であるとき、カテゴリーには、例えば、アジア、欧州、北アメリカ、南アメリカ、および、アフリカなどが含まれる。カテゴリーがＩＤであるとき、カテゴリーには、複数の要素として、例えば、上述したアルファベットなどの文字や数字の複数の組み合わせが含まれる。

上述したように、個人認証媒体１０において、第１素子情報および第１基材情報が含まれるカテゴリーはＩＤであり、第１素子情報および第１基材情報は、ＩＤのうちの１つの要素である「１２３４５ａｂｃ」を同じ表現で示している。

このように、第１素子情報と第１基材情報とが１つのカテゴリーに属する１つの要素を互いに同じ表現によって示しているため、第１素子情報あるいは第１基材情報が改ざんされたとき、第１素子情報と第１基材情報とのみから把握される情報間の齟齬によって、個人認証媒体１０が改ざんされたことの把握が可能である。

基材１１は、第２基材情報を含む第２基材情報部１１ｂを備えている。第２基材情報部１１ｂは、表面１１Ｓと対向する平面視において、基材１１のうち、第１基材情報部１１ａが位置する部位とは異なる部位に位置している。第２基材情報部１１ｂの一部は、表面１１Ｓと対向する平面視において、素子構造体１２と重なっている。

第２基材情報部１１ｂは、第２基材情報として個人認証媒体１０によって認証される個人の上半身画像を含んでいる。なお、第２基材情報は、個人に紐付けられた画像であってもよいし、個人に紐付けられた文字情報であってもよい。また、第２基材情報は、個人に紐付けられた情報ではなく、複数の個人認証媒体において、互いに等しい情報であってもよい。

［個人認証媒体の製造方法］
図３から図１０を参照して、個人認証媒体の製造方法を説明する。
図３が示すように、個人認証媒体１０を製造する際には、まず、素子構造体１２を形成するための転写箔３０を準備する。転写箔３０は、支持層３１、剥離層２３、情報前駆部２２ｐ、光学素子層２１、および、接着層２４を備えている。

転写箔３０を製造する際には、まず、支持層３１を準備し、支持層３１が備える１つの面に剥離層２３を形成する。剥離層２３は樹脂製の層である。そして、剥離層２３のうち、支持層３１に接する面とは反対側の面に、複数の前駆要素２２ｐ１を形成し、これにより情報前駆部２２ｐを形成する。

情報前駆部２２ｐは、剥離層２３と同じく樹脂製であり、情報前駆部２２ｐの形成材料である第１材料を含む塗液が、剥離層２３のうち、支持層３１に接する面とは反対側の面に塗布されることによって形成される。そのため、情報前駆部２２ｐを形成するための塗液の一部が、剥離層２３のうち、情報前駆部２２ｐと接する面から剥離層２３の内側に浸み込む。

これにより、図４が示すように、剥離層２３の１つの面上に位置する複数の前駆要素２２ｐ１が形成され、かつ、剥離層２３の内部には、第１材料が分散した部分である分散部２３ａが形成される。剥離層２３のうち、情報部２２が位置する面と対向する方向から見て、各前駆要素２２ｐ１は、他の前駆要素２２ｐ１が重なる分散部２３ａとは異なる１つの分散部２３ａと重なっている。

次いで、剥離層２３のうち、情報前駆部２２ｐが位置する面に、情報前駆部２２ｐの全体を覆い、かつ、互いに隣り合う前駆要素２２ｐ１の間の隙間を埋めるようにレリーフ構造層２１ａの前駆層を形成する。前駆層は、前駆層のうち、剥離層２３に接する面とは反対側の面が略平坦になり、かつ、前駆層に対するレリーフ構造の形成が、情報前駆部２２ｐによって影響されない程度の厚さを有することが好ましい。

なお、前駆層を形成する前に、互いに隣り合う前駆要素２２ｐ１の間の隙間を埋める厚さを有した中間層を形成してもよい。これにより、中間層を形成した分だけ、前駆層の厚さを薄くすることができる。

前駆層のうち、剥離層２３に接する面とは反対側の面をレリーフ面に加工し、これにより、レリーフ構造層２１ａを得る。そして、レリーフ構造層２１ａのレリーフ面２１ａＳに反射層２１ｂを形成し、反射層２１ｂのうち、レリーフ構造層２１ａとは反対側の面に接着層２４を形成する。

図５が示すように、被転写体である基材１１を準備し、基材１１の表面１１Ｓに、転写箔３０が備える接着層２４を接触させ、基材１１に転写箔３０を転写する。転写箔３０は、アップダウン方式によるスポット転写によって基材１１に転写されてもよいし、ロール転写方式によるストライプ転写によって基材１１に転写されてもよい。

アップダウン方式を用いて転写箔３０を基材１１に転写するときには、転写箔３０の接着層２４が基材１１と対向する状態で、転写箔３０を、基材１１の表面１１Ｓに重ねる。そして、加熱したホットスタンプを転写箔３０の支持層３１に押し当てる。これにより、接着層２４のうち、表面１１Ｓと対向する平面視において、ホットスタンプと重なる部分が軟化し、軟化した部分が基材１１に接着する。

図６が示すように、基材１１に対する転写箔３０の相対位置を、転写箔３０の一部が接着したときの相対位置から変える。これにより、表面１１Ｓと対向する平面視において、剥離層２３のうち、接着層２４の中で基材１１に接着した部分と重なる部分が支持層３１から剥がれ、結果として、転写箔３０の一部が基材１１に転写される。これにより、素子構造体１２を有した基材１１を得ることができる。

図７が示すように、支持基材１３と被覆層１４とを準備し、素子構造体１２を有した基材１１を支持基材１３と被覆層１４との間に挟んだ状態で、支持基材１３、基材１１、および、被覆層１４を互いに接着させる。これにより、支持基材１３、基材１１、素子構造体１２、および、被覆層１４から構成される積層体４０を得ることができる。

図８は、基材１１の表面１１Ｓと対向する方向から見た積層体４０の平面構造を示している。図８では、図２と同様、素子構造体１２には、素子構造体１２から射出される回折光を模式的に示す便宜上、ドットが付されている。なお、先に参照した図７は、図８におけるＩＩ−ＩＩ線に沿う断面構造を示している。

図８が示すように、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、素子構造体１２は、表面１１Ｓの一部に位置している。情報前駆部２２ｐは、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、光学素子層２１の一部に位置している。情報前駆部２２ｐを構成する各前駆要素２２ｐ１は、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第１素子情報の一部を表現する形状を有している。

なお、情報前駆部２２ｐが表面１１Ｓの一部に位置している構成では、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、素子構造体１２のなかで情報前駆部２２ｐが位置しない領域をレーザー光線ＬＢが透過することで、基材１１のうち、互いに隣り合う前駆要素２２ｐ１の間に第１基材情報部１１ａを形成することができる。

図９が示すように、積層体４０のうち、素子構造体１２が備える情報前駆部２２ｐと、基材１１の一部とに、レーザー５０を用いてレーザー光線ＬＢを照射する。情報前駆部２２ｐにレーザー光線ＬＢを照射するときには、複数の前駆要素２２ｐ１を含む領域の全体にレーザー光線ＬＢを照射する。これにより、各前駆要素２２ｐ１の形状に倣って各前駆要素２２ｐ１に個別にレーザー光線ＬＢを照射する場合と比べて、各前駆要素２２ｐ１の全体に対してレーザー光線ＬＢを照射することが可能になる。

前駆要素２２ｐ１にレーザー光線ＬＢを照射することで、所定の情報が情報要素２２ａとして記録される。また上述したように、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、基材１１のなかで情報要素２２ａが位置しない領域には、第１基材情報部１１ａが形成されてもよい。この場合には、図１および図２を参照して先に説明した個人認証媒体１０が、基材１１のなかで、素子構造体１２が位置する領域内に第１基材情報部１１ａを有する。

図１０が示すように、各前駆要素２２ｐ１にレーザー光線ＬＢが照射されると、前駆要素２２ｐ１に含まれる第１材料の一部が第２材料に変性し、それによって、前駆要素２２ｐ１から情報要素２２ａが形成される。また、各前駆要素２２ｐ１にレーザー光線ＬＢが照射されるときには、剥離層２３の分散部２３ａにもレーザー光線ＬＢが照射される。分散部２３ａも第１材料を含むため、分散部２３ａに含まれる第１材料の一部が第２材料に変性し、それによって、変性部２３ｂが黒色を有する。

さらには、レリーフ構造層２１ａのうち、情報要素２２ａと接する部分は、情報要素２２ａにおいて第１材料が第２材料に変性する反応によって、レリーフ構造層２１ａを形成する材料も少なからず変性する。そのため、レリーフ構造層２１ａのうち、各情報要素２２ａに接する部分には、変性部２１ａ１であって、変色した部分、すなわち、レリーフ構造層２１ａのうちで変性部２１ａ１以外の部分とは異なる色を有した部分が形成される。

レリーフ構造層２１ａが変性部２１ａ１を有することにより、例えば、レリーフ構造層２１ａから情報要素２２ａを剥がし、情報要素をレリーフ構造層２１ａに対して不正に加えることが可能であったとしても、レリーフ構造層２１ａと不可分な変性部２１ａ１がレリーフ構造層２１ａには残存している。そのため、その変性部２１ａ１に対応する情報要素２２ａが存在しないこと、または、変性部２１ａ１と不正に加えられた情報要素との齟齬により、個人認証媒体１０が改ざんされたことを検知することができる。

基材１１にレーザー光線ＬＢが照射されると、基材１１のうち、レーザー光線ＬＢが照射された部分に第４材料を含む第１基材情報部１１ａが形成される。なお、基材１１のうち、第１基材情報部１１ａが形成される部位とは異なる部位にレーザー光線ＬＢが照射されることによって、第２基材情報部１１ｂが形成される。

［個人認証媒体の作用］
図１１を参照して、個人認証媒体１０の作用を説明する。
図１１が示すように、個人認証媒体１０の偽造者は、個人認証媒体１０を偽造するために、基材１１の表面１１Ｓから被覆層１４を剥がし、それによって、個人認証媒体１０の内部から素子構造体１２を取り出す。

上述したように、素子構造体１２は、光学素子層２１に加えて、光学素子層２１と分離し難い第１素子情報を含む情報部２２を含んでいる。そのため、第１素子情報を含む情報部２２が基材１１に位置する構成と比べて、情報部２２と光学素子層２１とを分離することが難しい。それゆえに、光学素子層２１に対して、第１素子情報とは異なる情報であって、第１素子情報を改ざんした情報を組み合わせることが難しく、結果として、光学素子層２１と第１素子情報との組み合わせによる個人認証媒体１０の偽造が難しくなる。

また、取り出した素子構造体１２を改ざんされた第１基材情報を有する偽物の基材に貼り付けたとしても、個人認証媒体１０において、情報部２２が含む第１素子情報と、基材１１が含む第１基材情報とが個人認証媒体１０に固有の情報群を形成しているため、第１素子情報と第１基材情報との齟齬によって、情報の改ざんが把握されやすい。そのため、上述した個人認証媒体１０によれば、素子構造体１２を偽物の基材に貼り付けることによる個人認証媒体１０の偽造も難しくなる。

［個人認証媒体に関わる詳細な構成］
個人認証媒体１０に関わる詳細な構成、具体的には、個人認証媒体１０を構成する各要素の形成材料、個人認証媒体１０が含む第１素子情報および第１基材情報、および、レーザー５０の種類をより詳しく説明する。

［支持層］
支持層３１は、転写箔３０の形成に際して支持層３１に与えられる熱に対する耐熱性と、転写箔３０の形成に際して支持層３１に与えられる力に耐え得る機械的な強度とを有していればよい。

支持層３１の形成材料は、例えば、合成樹脂、天然樹脂、紙、および、合成紙などであり、支持層３１は、各形成材料から形成された層のうちの１つの層から構成される単層構造を有していてもよいし、２つ以上の層から構成される多層構造を有していてもよい。

支持層３１の形成材料が合成樹脂であるとき、形成材料は、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、および、ポリビニルアルコールなどであればよい。

支持層３１の厚さは、支持層３１の操作性および加工性の観点から、１０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。

［剥離層］
剥離層２３は、光透過性を有し、かつ、転写箔３０が熱転写されるときに剥離層２３に与えられる熱圧、および、基材１１に転写された素子構造体１２とラミネートする際に剥離層２３に与えられる熱圧に耐えることが可能であればよい。剥離層２３は、例えば樹脂から形成され、剥離層２３の形成材料は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、および、電子線硬化性樹脂などであればよい。

熱可塑性樹脂として、耐熱性の樹脂を用いることが好ましい。剥離層２３の形成材料が熱可塑性樹脂であるとき、形成材料には、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、環状ポリオレフィン共重合体、変性ノルボルネン系樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、および、ニトロセルロース樹脂などが用いられる。剥離層２３の厚さは、０．５μｍ以上５μｍ以下とすることができる。

［情報部］
情報部２２の形成材料は、近赤外吸収色素と硬化性樹脂とを含む。レーザー光線を照射される前の近赤外線吸収色素と硬化性樹脂とが、第１材料の一例である。近赤外線吸収色素は、近赤外領域、言い換えれば７００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の範囲に吸収特性を有する色素である。近赤外線吸収色素は、例えば、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ジチオール金属錯体、ナフトキノン化合物、ジインモニウム化合物、および、アゾ化合物などであればよい。

なお、近赤外線吸収色素は、所定の波長を有した光を吸収し、吸収した光により化学結合が変化する作用、または、吸収した光を熱に変換する作用を有する。こうした作用により、近赤外線吸収色素は、情報部２２を形成する第１材料が第２材料に変わり、それによって所定の光物性を有することができる。

ちなみに、近赤外線吸収色素が吸収可能な光を射出することができるレーザーと、その発振波長は、例えば以下の通りである。すなわち、ＧａＡｌＡｓ半導体レーザーは、６３５ｎｍ以上８４０ｎｍ以下の波長を有するレーザー光線を発振し、ＧａＡｓ半導体レーザーは、８４０ｎｍの波長を有するレーザー光線を発振する。ＩｎＰ半導体レーザーは、９１０ｎｍの波長を有するレーザー光線を発振し、ＹＡＧレーザーは１０６４ｎｍの波長を有するレーザー光線を発振する。

硬化性樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、荷電粒子線硬化性樹脂、および、電子線硬化性樹脂などであればよい。硬化性樹脂は、光透過性および耐溶剤性を有していればよい。硬化性樹脂は、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、および、ポリアミドイミドなどであればよい。なお、硬化性樹脂は、フェノール樹脂およびメラミン樹脂などであってもよく、硬化性樹脂は、これらの樹脂以外の樹脂であってもよい。

情報部２２を形成する第１材料は、光学素子層２１から射出された光を個人認証媒体１０の観察者が視認できる程度に透過することが可能な透過性を有する。観察者が視認できる程度に透過することが可能な透過性とは、例えば透過率が５０％以上であればよい。第１材料は、レーザー光線の照射によって第２材料に変わり、第２材料は、近赤外線吸収色素がレーザー光線の吸収によって変性した変性物と、近赤外線吸収色素の発した熱によって変性、例えば炭化した硬化性樹脂とを含む。これらのうち、近赤外線吸収色素と変性した硬化性樹脂とが上述した所定の色を有している。

なお、こうした近赤外線吸収色素と硬化性樹脂とを含む形成材料として、例えば、東洋インキＳＣホールディングス（株）製のＥｌｂｉｍａ Ｚ１１７のようなレーザーマーキング用のインキを用いることができる（Ｅｌｂｉｍａは登録商標）。

［光学素子層］
光学素子層２１が含む光学素子は好ましくはＯＶＤであり、ＯＶＤは、ＯＶＤの視認される方向が１つの方向から他の方向に変わったときに、ＯＶＤの再生する像が変わる光学素子である。ＯＶＤは、例えば、ホログラム、回折格子、多層膜、液晶層、および、機能性インク層である。液晶層としては、コレステリック液晶を用いることができ、機能性インクとしては、観察角度によって色が変化するパール顔料を用いることができる。

このうち、ホログラムおよび回折格子の各々は、光の干渉縞を微細なレリーフパターンとして平面上に記録するレリーフ型であってもよいし、光学素子層２１の厚さ方向に干渉縞を記録する体積型であってもよい。

以下では、これらＯＶＤのうち、レリーフ型回折格子を用いた場合における光学素子層２１の形成方法と、多層膜を用いた場合における光学素子層２１の形成方法とを順番に説明する。なお、レリーフ型ホログラムの形成方法は、以下に説明するレリーフ型回折格子の形成方法と共通である。

［レリーフ型回折格子］
光学素子層２１は、上述したように、微細なレリーフパターンを有したレリーフ面２１ａＳ、言い換えればレリーフ面を有するレリーフ構造層２１ａと、レリーフ構造層２１ａのうち、レリーフ面２１ａＳを覆う反射層２１ｂとを備えている。

レリーフ型の回折格子を形成するときには、まず、光学的な投影方法によって、微細なレリーフパターンを有するレリーフ面２１ａＳのマスター版を形成し、電気めっき法を用いてレリーフパターンを複製したパターンを有するニッケル製のプレス版を形成する。

そして、剥離層２３のうち、支持層３１に接する面とは反対側の面に、レリーフ構造層２１ａを形成するための塗膜を形成し、塗膜に対してプレス版を押し当て、プレス版の押し当てられた塗膜を硬化させることによって、レリーフ面２１ａＳを有したレリーフ構造層２１ａを形成する。

次いで、レリーフ構造層２１ａのレリーフ面２１ａＳの少なくとも一部に、レリーフ型回折格子における回折効率を高めるための反射層２１ｂを形成する。

レリーフ構造層２１ａは、プレス版を押し当てることによって、レリーフ面２１ａＳを形成することが可能な層であればよく、レリーフ構造層２１ａの形成材料は、例えば、紫外線硬化性樹脂および電子線硬化性樹脂などであればよい。レリーフ構造層２１ａの形成材料は、例えば、エポキシ（メタ）アクリル、および、ウレタン（メタ）アクリレートなどであればよい。レリーフ構造層２１ａは、上述した各樹脂から形成される層のうち、１つの層のみから構成される単層構造を有してもよいし、２つ以上の層から構成される多層構造を有してもよい。

なお、レリーフ構造層２１ａの形成材料は、上述した材料に限らず、レリーフ面２１ａＳを有して、光学素子層２１の視認される方向が１つの方向から他の方向に変わったときに、光学素子層２１の再生する像が変わるように構成することが可能な材料であればよい。

レリーフ構造層２１ａは、フォトポリマー法を用いて形成してもよく、フォトポリマー法を用いるとき、レリーフ構造層２１ａの形成材料は、エチレン性不飽和結合、または、エチレン性不飽和基を有するモノマー、オリゴマー、および、ポリマーなどであればよい。

モノマーは、例えば、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、および、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどである。オリゴマーは、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、および、ポリエステルアクリレートなどである。ポリマーは、例えば、ウレタン変性アクリル樹脂、および、エポキシ変性アクリル樹脂などである。

エチレン性不飽和結合、または、エチレン性不飽和基を有するモノマー、オリゴマー、および、ポリマーは、上述した材料のうち、２つ以上の材料を混合して用いてもよい。また、上述したモノマーなどに対して、予め架橋反応する反応基を持たせ、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋剤、有機ジルコニウム架橋剤、および、有機アルミネートなどを用いて、モノマーなど同士を互いに架橋することもできる。

さらには、エチレン性不飽和結合、または、エチレン性不飽和基を有するモノマー、オリゴマー、および、ポリマーと、他の樹脂とを混合して用いてもよい。この場合には、上述したモノマーなどに対して、予め架橋反応する反応基を持たせ、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋剤、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネートなどを用いて、モノマーなどと、他の樹脂の骨格とを架橋することもできる。

こうした方法によれば、エチレン性不飽和結合、または、エチレン性不飽和基を有するポリマーであって、常温において固体であり、かつ、タックが小さいために、レリーフ面２１ａＳの成形性がよく、かつ、プレス版を汚しにくいポリマー得ることができる。

レリーフ構造層２１ａの硬化に光カチオン重合を用いるときには、レリーフ構造層２１ａの形成材料は、例えば、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、および、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、および、ビニルエーテル類などであればよい。

また、上述した樹脂のうち、電子線硬化性樹脂を紫外線などの光によって硬化させるときには、電子線硬化性樹脂に対して、光重合開始剤を添加すればよい。光重合開始剤には、光重合開始剤の添加される樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、および、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤の併用型、すなわち、ハイブリッド型のいずれかを用いることができる。光重合開始剤には、電子線硬化樹脂の硬化に用いる光源から照射される光の波長に応じた光を吸収する特性を有する光重合開始剤を選択することが好ましい。

光ラジカル重合開始剤は、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、および、ベンゾインエチルエーテルなどのベンゾイン系化合物、アントラキノン、および、メチルアントラキノンなどのアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、および、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オンなどのフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、および、ミヒラーズケトンなどであればよい。

光カチオン重合開始剤は、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、および、混合配位子金属塩などであればよい。

ハイブリッド型の光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤と、光カチオン重合開始剤とを混合した光重合開始剤であってもよいし、１つの光重合開始剤であって、光ラジカル重合と光カチオン重合との双方を開始させることができる光重合開始剤であってもよい。光ラジカル重合と光カチオン重合との双方を開始させることができる光重合開始剤は、例えば、芳香族ヨードニウム塩、および、芳香族スルホニウム塩などである。

電子線硬化性樹脂に対する光重合開始剤の配合量は、電子線硬化性樹脂、および、光重合開始剤に応じて設定されればよいが、光重合開始剤は、電子線硬化性樹脂に対して、０．１質量％以上１５質量％以下の割合で添加すればよい。

なお、電子線硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む混合物には、さらに、増感色素を添加してもよいし、必要に応じて染料、顔料、各種の添加剤、および、架橋剤などを添加してもよい。また、レリーフ構造層２１ａの成形性を高めるために、光重合反応に対して非反応性の樹脂を添加してもよい。

各種の添加剤は、例えば、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、たれ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、および、窒素含有化合物などであり、架橋剤は、例えば、エポキシ樹脂などである。非反応性の樹脂は、上述した熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などであればよい。レリーフ構造層２１ａの厚さは、１μｍ以上２５μｍ以下とすることができる。

反射層２１ｂは、レリーフ構造層２１ａの有するレリーフ面２１ａＳでの回折効率を高めるように構成された部分であり、レリーフ面２１ａＳを形成する樹脂、すなわち高分子材料とは、屈折率の異なる材料で形成される。反射層２１ｂの形成材料には、高屈折率材料や金属材料を用いることができる。高屈折率材料は、例えば、ＭｇＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_２Ｏ_３、ＳｉＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、および、ＺｎＳなどであれよい。金属材料は、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、および、Ａｕなどであればよい。反射層２１ｂは、上述した各材料から形成された層のうち、１つの層のみから構成される単層構造を有してもよいし、２つ以上の層から構成される多層構造を有してもよい。

反射層２１ｂは、真空蒸着法、および、スパッタリング法などを用いて形成することができる。反射層２１ｂの厚さは、反射層２１ｂに求められる機能に応じて設定され、例えば、５０Å以上１００００Å以下程度である。

反射層２１ｂは、レリーフ構造層２１ａの備えるレリーフ面２１ａＳの全体に形成されてもよいが、レリーフ面２１ａＳの一部に形成されてもよい。反射層２１ｂをレリーフ面２１ａＳの一部に形成するときには、例えば、レリーフ面２１ａＳのうち、反射層２１ｂを形成しない部分に水溶性樹脂を含むインキを印刷し、次いで、反射層２１ｂを形成するための膜をレリーフ面２１ａＳの全体に形成する。そして、水溶性樹脂を洗浄することで、レリーフ面２１ａＳに形成された膜のうち、光学素子層２１の厚さ方向において、水溶性樹脂と重なる部分に形成された膜を除去することができる。

また例えば、反射層２１ｂをレリーフ面２１ａＳの一部に形成するときには、レリーフ面２１ａＳの全体に反射層２１ｂを形成するための膜を形成し、膜の一部であって、レリーフ面２１ａＳのうちで反射層２１ｂを形成する部分にマスクを形成する。そして、反射層２１ｂを形成するための膜を溶解するアルカリ性の薬品、または、酸性の薬品に膜を曝すことによって、反射層２１ｂを形成するための膜の一部を溶解して除去する。なお、反射層２１ｂを形成するための膜の一部を除去する方法には、例えば、レーザー除去法などの他の方法を用いてもよい。

このように、レリーフ面２１ａＳの一部に反射層２１ｂを形成することによって、光学素子層２１を備える個人認証媒体１０が、反射層２１ｂによって形成される所定の情報を含むため、個人認証媒体１０の意匠性を高めることができる。

また、接着層２４の形成材料が、紫外線の照射や電子線の照射によって硬化する材料であり、かつ、反射層２１ｂの形成材料が、紫外線および電子線をほぼ透過しない材料であるときには、レリーフ面２１ａＳの一部に反射層２１ｂを形成することによって以下の効果を得ることができる。

すなわち、剥離層２３から接着層２４に向けて紫外線あるいは電子線を照射したときには、接着層２４のうち、レリーフ面２１ａＳと対向する平面視において、反射層２１ｂと重なる部分には、紫外線あるいは電子線が照射されない一方で、反射層２１ｂと重ならない部分には、紫外線あるいは電子線が照射される。

そのため、接着層２４のうち、紫外線あるいは電子線が照射された部分は硬化する一方で、紫外線あるいは電子線が照射されない部分は硬化しない。それゆえに、素子構造体１２が基材１１から剥がされるとき、接着層２４のうちで硬化した部分は、基材１１から剥がれにくい一方で、硬化していない部分は、基材１１から剥がれやすい。結果として、素子構造体１２が基材１１から剥がされるとき、素子構造体１２の一部が素子構造体１２に加えられる力によって破壊されやすくなる。接着層２４の厚さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下であればよい。

［多層膜］
光学素子層２１が、複数の薄膜から形成される多層膜であって、光学素子層２１の視認される方向が変わることによって、光学素子層２１の表示する像の色が変わる多層膜であるとき、光学素子層２１は、以下に説明する構成である。

光学素子層２１は、互いに異なる光学特性を有した複数の層から構成された多層膜である。例えば、屈折率が１．５程度から２よりも小さい材料が低屈折率材料であり、屈折率が２以上である材料が高屈折率材料である。高屈折率材料で形成された層が高屈折率層であり、低屈折率材料で形成された層が低屈折率層である。

多層膜は、低屈折率層と高屈折率層とを含む構成であるとき、例えば、２層以上の高屈折率層と、１層の低屈折率層とを有する構成とすることができる。多層膜が備える各層の形成材料は、例えば、以下の表１に示される材料である。

なお、多層膜を構成する層の形成材料は、表１に示される材料の他に、例えば、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、および、Ｃｕなどの金属の単体であってもよい。あるいは、各層の形成材料は、これら金属のうち、少なくとも２つを含む合金であってもよいし、Ｓｉ、および、Ｓｉと上述した金属の群から選択される少なくとも１つの元素との組み合わせであってもよい。

また、多層膜を構成する層の形成材料は、低屈折率を有する有機ポリマーであってもよく、有機ポリマーは、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフロロエチレン、ポリメチルメタアクリレート、および、ポリスチレンなどである。なお、ポリエチレンの屈折率は１．５１であり、ポリプロピレンの屈折率は１．４９であり、ポリテトラフロロエチレンの屈折率は１．３５であり、ポリメチルメタアクリレートの屈折率は１．４９であり、ポリスチレンの屈折率は１．６０である。これら有機ポリマーで形成された層は、低屈折率層である。

多層膜は、上述した高屈折率層、および、３０％以上６０％以下の光透過率を有する金属層から選択される少なくとも１層であって、所定の厚さを有した層と、低屈折率層から選択される少なくとも１層であって、所定の厚さを有した層とを交互に積層した構成を有してもよい。こうした構成の多層膜は、可視光のうちで所定の波長を有した光を吸収する特性、あるいは、反射する特性を有するように構成することができる。

多層膜において、各層の形成材料は、屈折率、反射率、および、透過率などの光学特性、耐候性、および、層間密着性などに応じて、上述した材料から選択されればよい。

多層膜が備える各層を形成する方法は、真空蒸着法、および、スパッタリング法などであってもよく、これらの方法によれば、各層において、厚さ、成膜速度、および、光学膜厚（光学膜厚＝ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などを制御することができる。

なお、情報部２２が光学素子層２１に対して観察側に位置していれば、光学素子層２１は、光透過性を有してなくてもよい。

［接着層］
接着層２４は、支持層３１、剥離層２３、情報部２２、および、光学素子層２１から構成される構造体を基材１１に固定するための層である。

接着層２４の形成材料は、感圧性の材料、すなわち、接着層２４に対して圧力が加えられることによって、基材１１に対する接着性を発現する樹脂であることが好ましい。接着層２４の形成材料は、例えば、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、および、ＥＶＡなどの熱可塑性樹脂であればよい。

接着層２４は、例えば、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、および、ロールコーターなどを用いて光学素子層２１に形成されればよい。
これにより、個人認証媒体１０の製造に用いられる転写箔３０を得ることができる。

［基材］
基材１１は、レーザー光線の照射によって、照射前の色から照射前の色とは異なる照射後の色に変わるように構成されていればよく、すなわち、レーザー光線の照射によって第３材料から第４材料に変わる特性を備えるように構成されていればよい。基材１１の形成材料は、無機系材料、金属系材料、有機系材料、および、高分子材料のいずれであってもよい。基材１１の形成材料は、所定の強度以上のレーザー光線によって変性が開始する特性を有する、すなわち、形成材料の変性において、レーザー光線の強度における閾値を有するように構成されていることが好ましい。

基材１１の形成材料は、例えば、レーザーパルスエネルギーを吸収し、吸収したエネルギーが所定のエネルギー以上であることによって炭化などが起こることにより、情報を含むことが可能な材料であってもよい。こうした材料は、例えば、ポリカーボネートを主成分とする材料、および、ポリエステルを主成分とする材料などである。すなわち、炭化前のこれらの材料が第３材料の一例であり、炭化後のこれらの材料が第４材料の一例である。

また、基材１１の形成材料は、例えば、黒色発色層やカラー発色層に用いられる混合物であって、レーザー光線の照射によって発色するように構成された混合物であってもよい。こうした混合物のうち、熱応答性マイクロカプセルを含む混合物は、熱応答性マイクロカプセルを含まない構成と比べて、基材１１を発色させるために必要なエネルギーを低くすることができる点で好ましい。

また、基材１１の形成材料は、例えば、レーザー光線の照射によって変色する変色化合物と、感光性樹脂とを含む混合物であって、レーザー光線の照射によって発色するように構成された混合物であってもよい。感光性樹脂は、例えば、紫外線硬化性樹脂、および、電子線硬化性樹脂などである。こうした混合物においては、混合物が変色するレーザー光線の照射量における閾値を制御する上で、レーザー光線の照射によって変色化合物の改質を促す促進化合物を含むこと、あるいは、促進化合物を感光性樹脂の骨格に結合させることが好ましい。

所定の波長を有するレーザー光線を吸収する特性を有した合成樹脂であって、合成樹脂そのものが、レーザー光線の照射によって第３材料から第４材料に変わる特性を有してもよい。あるいは、基材１１の形成材料は、合成樹脂と合成樹脂の改質を促す無機材料との組み合わせであってもよい。この場合には、合成樹脂は、単独で第３材料から第４材料に変わる特性を有していなくてもよいし、有してもよい。

また、基材１１の形成材料は、例えば、透明樹脂と、光吸収材および感熱着色材の少なくとも一方とを含む混合物であってもよい。

このように、基材１１の形成材料が上述したいずれの場合であっても、基材１１に対してレーザー光線が照射される前の材料であって、レーザー光線の照射によって変性し、かつ、所定の色を有する材料が第３材料であり、変性後の材料が第４材料である。

基材１１は、例えば、上述した基材１１の形成材料を用いて形成されたフィルムであってもよい。また、基材１１は、基材１１の形成材料を溶液に溶解させた塗液、あるいは、液体に分散させた塗液を他の層の１つの面にウェットコーティングすることによって形成されてもよい。また、基材１１は、真空蒸着やスパッタリング法などのドライコーティングを用いて、他の層の１つの面に形成されてもよい。基材１１の厚さは、５０μｍ以上４００μｍ以下であることが好ましい。

［支持基材］
支持基材１３の形成材料は、個人認証媒体１０が各種のカードであるときには、ポリカーボネート（ＰＣ）であることが好ましい。また、支持基材１３の形成材料は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＴの中で非晶質性、すなわち、非結晶性を有するポリエステルであって熱可塑性を有するポリエステル（ＰＥＴＧ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、および、ＡＢＳ樹脂などであることが好ましい。

支持基材１３は、上述した各樹脂から形成される層のうちいずれか１つの層から構成される単層構造を有してもよいし、２つ以上の層から構成される多層構造を有してもよい。支持基材１３の厚さは、５０μｍ以上４００μｍ以下であることが好ましい。

［被覆層］
被覆層１４は、レーザー光線に対する透過性を有するように構成されていればよく、レーザー光線の一部を吸収する特性、反射する特性、または、散乱する特性を有してもよい。被覆層１４において、可視光領域に含まれる光に対する透過率が、６０％以上１００％以下であることが好ましく、８０％以上１００％以下であることがより好ましい。被覆層１４の厚さは、５０μｍ以上４００μｍ以下であることが好ましい。

被覆層１４の形成材料は光透過性を有する樹脂を含む。光透過性を有する樹脂は、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、植物由来ポリカーボネート（バイオＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリシロキサン１，４−ジメチルフタレート（ＰＣＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、透明アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂（ＭＡＢＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロプレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、および、ポリアセタールなどであればよい。

［第１素子情報および第１基材情報］
個人認証媒体１０が含む第１素子情報および第１基材情報は、上述したＩＤに限らず、ＩＤ以外の情報であって、個人の認証に利用することが可能な他の個人認証情報であってよい。個人認証情報には、生体情報と非生体情報との少なくとも一方が含まれてよい。

生体情報は、生体の特徴のうち認証される個人に特有の特徴であり、例えば、人相、指紋、および、静脈などの画像またはパターンである。非生体情報は、生体情報以外の個人情報であって、例えば、氏名、生年月日、年齢、血液型、性別、国籍、住所、本籍地、電話番号、所属、および、身分などを含む。非生体個人情報は、タイピングによって形成された文字であってもよいし、所有者の手書きの署名であってもよいし、これらの組み合わせであってもよい。

［レーザーの種類］
上述したレーザー５０は、例えば、ＣＯ_２レーザーを含む遠赤外線レーザー、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーおよびＮｄ：ＹＶＯレーザーを含む近赤外線パルスレーザー、可視光のパルスレーザー、および、エキシマレーザーなどであればよい。また、レーザー５０は、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーまたはＮｄ：ＹＶＯレーザーの第３高調波を用いた紫外線レーザー、半導体レーザー、フェムト秒レーザー、および、ピコ秒レーザーなどであってもよい。

これらレーザーのうち、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーまたはＮｄ：ＹＶＯレーザーの第３高調波を用いたレーザーは、高解像度である点、および、レーザー光線の波長が紫外線領域に含まれるため、情報部２２および基材１１がレーザー光線に対して高い吸収率を有する点などの観点から好ましい。

また、フェムト秒レーザー、および、ピコ秒レーザーなどの超短パルスレーザーは、レーザー光線が照射された情報部２２および基材１１を高温にしない状態で、情報部２２および基材１１を構成する分子の結合を切断することができる。そのため、情報部２２および基材１１に対して、ほぼ熱を与えない状態で、情報部２２および基材１１に対して情報を含ませることができる。

また、ＹＡＧレーザー、および、半導体レーザーは、他のレーザーと比べて、小型の装置によって大きい熱エネルギーを発する装置とすることができる点、および、オンデマンドにて、情報部２２および基材１１に対して情報を含ませることができる点で好ましい。

以上説明したように、偽造防止構造体の第１実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）光学素子層２１と情報部２２との分離が難しいため、素子構造体１２に対して真正の個人認証媒体１０が有する情報とは異なる情報を付加することが難しい。そのため、光学素子層２１と個人認証媒体１０が含む情報との組み合わせによる偽造を難しくすることができる。

（２）情報部２２の含む第１素子情報は、情報部２２を構成する各情報要素２２ａの形状と、各情報要素２２ａに含まれる第２材料とによって表現されるため、第２材料のみによって情報が表現される構成と比べて、第１素子情報の形状がより鮮明になる。

（３）１つの個人認証媒体１０が、個人認証媒体１０に固有の情報群を含んでいるため、個人認証媒体１０において、例えば第１素子情報が改ざんされたときには、第１素子情報と第１基材情報との間の齟齬によって、第１素子情報が改ざんされたことが把握される。つまり、個人認証媒体１０における情報が改ざんされたことが発覚しないように個人認証媒体１０が含む情報を改ざんすることが難しくなる。

［第１実施形態の変形例］
なお、上述した第１実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・第１素子情報および第１基材情報は、１つのカテゴリーに含まれる１つの要素を互いに異なる表現によって示してもよい。こうした構成であっても、第１素子情報と第１基材情報とは互いに関連付けられた情報群を構成することが可能であるため、上述した（３）と同様の効果を得ることはできる。

例えば、個人認証媒体１０において、第１素子情報および第１基材情報が含まれるカテゴリーが国名であるとき、第１素子情報および第１基材情報は、国名のうちの１つの要素である「日本」を互いに異なる表現で示してもよい。すなわち、第１素子情報は、文字列であって、「日本」の英語表記である「ＪＡＰＡＮ」を表現し、第１基材情報は、各国名に固有の識別子によって、「日本」を示してもよい。

また、第１素子情報および第１基材情報が「日本」を互いに異なる表現で示す場合には、第１素子情報および第１基材情報のいずれか一方が、「日本」を示す文字列であって、他方が、日本国の国旗を示す画像であってもよい。

・第１素子情報と第１基材情報とのいずれか一方が、シリアルナンバーであって、数字および文字の少なくとも一方を含む文字あるいは文字列であり、他方が、各シリアルナンバーに対して紐付けられた情報であってもよい。

こうした構成では、シリアルナンバーと、各シリアルナンバーに紐付けられた情報とを含む情報群に関するデータベースを用いることによって、第１素子情報と第１基材情報との組み合わせが真正であるか、あるいは、第１素子情報と第１基材情報とのいずれかが改ざんされているかを把握することができる。

なお、シリアルナンバーに関連付けられた情報は、文字、数字、記号、図形、および、所定の画像などの少なくとも１つによって構成されていればよい。

・第１素子情報と第１基材情報とのいずれか一方が、文字、数字、記号、図形、および、所定の画像などの少なくとも１つを含み、他方が、一方の情報に対して紐付けられた暗号であって、一方の情報が真正であることを示すための暗号であってもよい。暗号は、文字、数字、および、図形などの少なくとも１つによって構成することができる。

こうした構成では、１つの情報と、各情報に紐付けられた暗号との組み合わせに関するデータベースを用いることによって、第１素子情報と第１基材情報との組み合わせが真正であるか、あるいは、第１素子情報と第１基材情報とのいずれかが改ざんされているかを把握することができる。

・素子構造体１２は、少なくとも光学素子層２１と情報部２２とを備えていればよい。例えば、光学素子層２１を基材１１の表面１１Ｓに直に形成し、かつ、光学素子層２１のうち、基材１１の表面１１Ｓに接する面とは反対側の面に情報部２２を形成することが可能であれば、剥離層２３と接着層２４とを省略することができる。

・光学素子層２１は、上述したＯＶＤに限らず、他の光学素子を含む層であってもよい。光学素子層は、例えば、光学素子層に入射した光を反射する素子、光学素子層に入射した光を散乱光として射出する素子、光学素子層に入射した入射光を入射光とは異なる色に変換して射出する素子などであってもよい。

・情報部２２は、光学素子層２１に対して基材１１が位置する側に位置してもよい。この場合には、光学素子層２１が、レーザー光線を透過する特性を有していればよい。こうした構成であっても、素子構造体１２が光学素子層２１と情報部とを備える以上は、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。

・個人認証媒体１０として好ましい機械的な強度を基材１１が有する場合には、例えば、支持基材１３と基材１１とによる機械的な強度と同等の効果を得られるだけの厚さを基材１１が有していれば、支持基材１３を省略してもよい。

・個人認証媒体１０は被覆層１４を有していなくてもよく、こうした個人認証媒体１０によっても上述した（１）と同等の効果を得ることができる。ただし、素子構造体１２を個人認証媒体１０の他の要素から分離することを難しくする上では、また、素子構造体１２の損傷を抑える上では、個人認証媒体１０は被覆層１４を有することが好ましい。

・剥離層２３は分散部２３ａを有していなくてもよく、こうした構成であっても、素子構造体１２が光学素子層２１と情報部２２とを備える以上は、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。

・偽造防止構造体は、上述した個人認証媒体１０に限らず、紙幣、および、商品券などの有価証券、美術品などの高級品などの一部として用いられてもよい。またあるいは、偽造防止構造体は、真正品であることが確認されるべき品物に取り付けられるタグであってもよいし、真正品であることが確認されるべき品物を収容する包装体、または、包装体の一部であってもよい。

［第２実施形態］
図１２から図１４を参照して、偽造防止構造体を個人認証媒体として具体化した第２実施形態を説明する。第２実施形態は、第１実施形態と比べて、情報部の構成が異なる。そのため、以下では、こうした相違点を詳しく説明し、第１実施形態と共通する構成には、第１実施形態と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。また、以下では、個人認証媒体の構成、および、実施例を順番に説明する。

［個人認証媒体の構成］
図１２から図１４を参照して、個人認証媒体の構成を説明する。
図１２が示すように、個人認証媒体６０は、上述した個人認証媒体１０と同様、基材１１、支持基材１３、および、被覆層１４を備えている。個人認証媒体６０は素子構造体６１を備え、素子構造体６１において、剥離層２３、光学素子層７１、および、接着層２４がこの順に積み重なっている。

個人認証媒体６０では、光学素子層７１が、情報部の一例である。より詳しくは、光学素子層７１は、レリーフ構造層７１ａと反射層７１ｂとを備え、レリーフ構造層７１ａは、上述した第１材料から構成される第１要素７１ａ１と、第２材料を含む複数の第２要素７１ａ２とを含んでいる。

基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、複数の第２要素７１ａ２は第１素子情報を表現し、各第２要素７１ａ２は、第１素子情報の一部を表現する形状を有している。各第２要素７１ａ２は、第２材料と第１材料とを含むが、第２材料のみから構成されていてもよい。基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第１要素７１ａ１は、互いに隣り合う第２要素７１ａ２の間を埋めている。

こうした個人認証媒体６０では、光学素子層７１と第１素子情報を含む情報部とを分離することが不可能であるため、個人認証媒体６０の偽造をより難しくすることができる。

素子構造体６１において、第１材料は、上述した近赤外線吸収色素と硬化性樹脂とから構成されていればよく、また、第２材料は、近赤外線吸収色素の変性物と、硬化性樹脂の変性物とから構成されていればよい。

図１３は、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視における個人認証媒体６０の平面構造を示している。なお、図１３では、素子構造体６１には、素子構造体６１から射出される回折光を模式的に示す便宜上、ドットが付されている。また、図１３では、説明の便宜上、被覆層１４の図示と剥離層２３の図示とが省略されている。なお、先に参照した図１２は、図１３におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面構造を示している。

図１３が示すように、レリーフ構造層７１ａは、上述した第１素子情報に加えて、第１情報の一例である第２素子情報を含んでいる。

また、基材１１は、第３材料と第４材料とを含んでいる。第３材料は、光透過性を有するとともに、レーザー光線の照射によって第３材料から所定の色を有する第４材料に変わる特性を有している。第４材料は、第２情報の一例である第３基材情報を表現する要素であり、第３基材情報は、第２素子情報を補完し、それによって第２素子情報と第３基材情報とが１つの合成情報を構成している。基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第２素子情報を表現する第２材料の一部と、第３基材情報を表現する第４材料の一部とが連なっている。

個人認証媒体６０の含む合成情報が素子構造体６１と基材１１とに跨っている。そのため、第２素子情報を含む素子構造体６１を偽物の基材に貼り付けることによって合成情報を個人認証媒体に含ませるためには、偽物の基材が含む第３基材情報に対する第２素子情報との位置の精度を真正の個人認証媒体６０と同程度に高めなければならない。それゆえに、個人認証媒体６０の偽造を難しくすることができる。

より詳しくは、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、レリーフ構造層７１ａは、第２要素７１ａ２とは異なる位置に第３要素７１ａ３を含んでいる。第３要素７１ａ３は、第２要素７１ａ２と同様、少なくとも第２材料を含んでいればよく、例えば第１材料と第２材料とを含んでいるが、第２材料のみから構成されてもよい。第３要素７１ａ３は、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第２素子情報を表現する形状を有している。

基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、基材１１は、第１基材情報部１１ａとは異なる部分に、第３基材情報部１１ｃを含んでいる。第３基材情報部１１ｃは、少なくとも第４材料を含んでいればよく、例えば第３材料と第４材料とを含んでいるが、第４材料のみから構成されてもよい。第３基材情報部１１ｃは、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第３基材情報を表現する形状を有している。

合成情報は、個人認証媒体６０の所有者の上半身像である。素子構造体６１の第３要素７１ａ３は、上半身像の一部を表現し、基材１１の第３基材情報部１１ｃは、上半身像の残りの部分を表現している。

図１４が示すように、レリーフ構造層７１ａは、第３要素７１ａ３を含み、第３要素７１ａ３の一部は、レリーフ構造層７１ａの外縁を含んでいる。基材１１は、第３基材情報部１１ｃを含み、第３基材情報部１１ｃの一部は、素子構造体６１の厚さ方向において、レリーフ構造層７１ａの外縁と重なっている。言い換えれば、上述したように、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、レリーフ構造層７１ａの第３要素７１ａ３と、基材１１の第３基材情報部１１ｃとが、互いに連なっている。

［実施例］
２５μｍの厚さを有し、かつ、透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを支持層として準備し、支持層の１つの面に下記の組成を有する剥離層用インキを塗布した。そして、１２０℃にて４５秒間にわたって塗液を乾燥させ、１μｍの厚さを有する剥離層を形成した。

次いで、下記の組成を有するレリーフ構造層用インキを塗布し、１２０℃にて４５秒間にわたって塗液を乾燥させ、３μｍの厚さを有する前駆層を剥離層の上に形成した。その後、前駆層のうち、剥離層に接する面とは反対側の面に、ロールエンボス法を用いてレリーフパターンを有するレリーフ面を形成した。これにより、光学素子層のレリーフ構造層を得た。

真空蒸着法によって、反射層として１０００Åの厚さを有する硫化亜鉛層をレリーフ面の上に形成した。次いで、下記の組成を有する接着層用インキを、乾燥後の厚さが２μｍとなるように塗布して接着層を形成した。これにより、素子構造体を形成するための転写箔を得た。

［剥離層用インキ］
ポリアミドイミド系樹脂 ４０部
ジメチルアセトアミド ３０部
テトラヒドロフラン ３０部

［レリーフ構造層用インキ］
レーザー発色インキ（Ｅｌｂｉｍａ Ｚ１１７） ２２部
ＵＶ硬化型アクリル樹脂 ７５部
イルガキュア１８４ ３部

［接着層用インキ］
ポリウレタン樹脂 ３０部
メチルエチルケトン ７０部

素子構造体を１００μｍの厚さを有する基材（Bayer社製、Makrofol ID4-4 laserable）（Makrofolは登録商標）に対して、ホットスタンプを用いて転写した。このとき、ホットスタンプのうち、転写箔に接する面である版面の温度を１３１℃に設定し、ホットスタンプが転写箔を基材に向けて押し付ける圧力を１．２ｔに設定した。そして、転写箔から支持層を剥離した。

４００μｍの厚さを有する支持基材と、１２５μｍの厚さを有する被覆層（Bayer社製、Makrofol ID6-2_000000）を準備し、支持基材と被覆層との間に素子構造体を有した基材を挟んでラミネートした。これらの層をラミネートするときには、油圧成型機において、温度を１９０℃に設定し、圧力を１００ｋｇｆ／ｃｍ^２に設定した状態で３分間ラミネートし、次いで、温度を２５℃に設定し、圧力を１００ｋｇｆ／ｃｍ^２に設定した状態で３分間ラミネートした。これにより、積層体を得た。

ＹＶＯ４レーザー（Ｋｅｙｅｎｃｅ（株）製、ＭＤ−Ｖ９６００Ａ）を用いて積層体にレーザー光線を照射し、第１素子情報、第１基材情報、および、合成情報を含む個人認証媒体を得た。

基材から被覆層を剥がすことによって個人認証媒体から素子構造体を取り出しても、素子構造体が含む光学素子層と、レリーフ構造層の第２要素とを分離することが不可能であった。そのため、素子構造体に対して、レリーフ構造層の第２要素が表現する第１情報以外の情報を付加することができなかった。それゆえに、実施例の個人認証媒体によれば、個人認証媒体の偽造が難しいことが認められた。

以上説明したように、偽造防止構造体の第２実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（４）光学素子層７１と情報部とを分離することが不可能であるため、個人認証媒体６０の偽造をより難しくすることができる。

（５）個人認証媒体６０の含む合成情報が素子構造体６１と基材１１とに跨るため、第２素子情報を含む素子構造体６１を偽物の基材に貼り付けることによって合成情報を個人認証媒体に含ませるためには、偽物の基材が含む第３基材情報に対する第２素子情報との位置の精度を真正の個人認証媒体６０と同程度に高めなければならない。それゆえに、個人認証媒体６０の偽造を難しくすることができる。

［第２実施形態の変形例］
なお、上述した第２実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・レリーフ構造層７１ａの一部に情報部が含まれていてもよい。すなわち、レリーフ構造層７１ａの一部が第１材料と第２材料とから形成される一方で、それ以外の部分は、第１材料とは異なる材料であって、レーザー光線の照射前の状態と、レーザー光線の照射後の状態とで異ならない特性を有した材料で形成されていてもよい。レリーフ構造層７１ａが情報部を含む以上は、上述した（４）と同等の効果を得ることはできる。

・光学素子層７１はレリーフ型の回折格子層に限らず、他の光学素子を含む層であってもよい。こうした構成であっても、光学素子層が情報部を含んでいれば、上述した（４）と同等の効果を得ることはできる。

・合成情報は、上半身像に限らず、例えば、上述した生体情報のうちの少なくとも１つであってもよいし、非生体情報のうちの少なくとも１つであってもよい。

［第３実施形態］
図１５を参照して、偽造防止構造体を個人認証媒体として具体化した第３実施形態を説明する。第３実施形態は、第２実施形態と比べて、情報部の構成が異なる。そのため、以下では、こうした相違点を詳しく説明し、第２実施形態と共通する構成には、第２実施形態と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。

［個人認証媒体の構成］
図１５を参照して、個人認証媒体の構成を説明する。
図１５が示すように、個人認証媒体８０は、上述した個人認証媒体６０と同様、基材１１、支持基材１３、および、被覆層１４を備えている。個人認証媒体８０は素子構造体８１を備え、素子構造体８１において、剥離層２３、情報層９１、光学素子層９２、および、接着層２４がこの順に積み重なっている。光学素子層９２は、レリーフ構造層９２ａと反射層９２ｂとを備えている。

個人認証媒体８０において、第１素子情報を含む情報部は、第１材料と第２材料とを含む層状を有した情報層９１である。情報層９１は、光学素子層９２に対して基材１１の位置する側とは反対側に位置するとともに、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において光学素子層９２と重なっている。

情報層９１は、上述した第１材料から構成される第１要素９１ａと、第２材料を含む複数の第２要素９１ｂとを含んでいる。基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、各第２要素９１ｂは、第１素子情報の一部を表現する形状を有している。各第２要素９１ｂは、第２材料と第１材料とを含むが、第２材料のみから構成されていてもよい。基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第１要素９１ａは、互いに隣り合う第２要素９１ｂの間を埋めている。

光学素子層９２が情報部を含む場合には、情報部は、光学素子層９２の形成や光学素子層９２の機能を損なわない材料で形成されることが必要になる。この点で、個人認証媒体８０の素子構造体８１によれば、情報層９１が光学素子層９２とは異なる層であるため、情報層９１を構成する材料の自由度が高まる。

以上説明したように、偽造防止構造体の第３実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（６）情報層９１が光学素子層９２と異なる層であるため、情報層９１を構成する材料の自由度が高まる。

［第３実施形態の変形例］
なお、上述した第３実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・剥離層２３が情報層の一例であってもよい。すなわち、剥離層２３が、上述した第１材料から構成される第１要素と、第２材料を含む複数の第２要素とを含んでもよい。そして、各第２要素が、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第１素子情報の一部を表現する形状を有してもよい。こうした構成であっても、情報層の一例である剥離層２３と光学素子層９２とが互いに異なる層であるため、上述した（６）と同等の効果を得ることはできる。

・接着層２４が情報層の一例であってもよい。すなわち、接着層が、上述した第１材料から構成される第１要素と、第２材料を含む複数の第２要素とを含んでもよい。そして、各第２要素が、基材１１の表面１１Ｓと対向する平面視において、第１素子情報の一部を表現する形状を有してもよい。この場合には、光学素子層９２が、レーザー光線を透過する特性を有していればよい。こうした構成であっても、情報層の一例である接着層２４と光学素子層９２とが互いに異なる層であるため、上述した（６）と同等の効果を得ることはできる。

Claims (5)

1. 表面を有する基材と、
   前記表面に位置する素子構造体と、を備え、
   前記素子構造体に対して、前記基材の位置する側とは反対側が観察側であり、
   前記素子構造体は、
   前記観察側に向けて所定の光を射出する光学素子層と、
   所定の情報を含む情報部と、を備え、
   前記情報部は、
   光透過性を有する第１材料であって、レーザー光線の照射によって前記第１材料とは異なる光物性を有する第２材料に変わる特性を有した前記第１材料と、
   前記情報を表現する前記第２材料と、を含み、
   前記情報部は、複数の情報要素から構成され、
   前記各情報要素は、当該情報要素の略全体に分散する前記第１材料と、当該情報要素の略全体に分散する前記第２材料と、を含むとともに、前記表面と対向する平面視において、前記情報の一部を表現する形状を有し、
   前記光学素子層は、前記情報要素のなかの前記第１材料が前記第２材料に変わることによって変性した変性部を前記情報要素と接する部分に備え、かつ前記第１材料と前記第２材料とを含まず、
   前記素子構造体は、前記基材の前記表面に位置する面とは反対側の面である表示面を有するとともに、前記表示面を介して、前記情報部の含む情報を表示するように構成されている
   偽造防止構造体。
2. 前記光学素子層が、前記情報部を含む
   請求項１に記載の偽造防止構造体。
3. 前記情報部は、前記第１材料と前記第２材料とを含む層状を有した情報層であり、
   前記情報層は、前記表面と対向する平面視において前記光学素子層と重なっている
   請求項１に記載の偽造防止構造体。
4. 前記情報は、第１情報であり、
   前記基材は、
   光透過性を有する第３材料であって、レーザー光線の照射によって所定の色を有する第４材料に変わる特性を有した前記第３材料と、
   前記第１情報に関連付けられて前記第１情報とともに前記偽造防止構造体に固有の情報群を構成する第２情報を表現する前記第４材料と、を含む
   請求項１から３のいずれか一項に記載の偽造防止構造体。
5. 前記情報は、第１情報であり、
   前記基材は、
   光透過性を有する第３材料であって、レーザー光線の照射によって所定の色を有する第４材料に変わる特性を有した前記第３材料と、
   前記第１情報を補完し、それによって前記第１情報とともに合成情報を構成する第２情報を表現する前記第４材料と、を含み、
   前記表面と対向する平面視において、
   前記第１情報を表現する前記第２材料の一部と、前記第２情報を表現する前記第２材料の一部とが連なっている
   請求項１から３のいずれか一項に記載の偽造防止構造体。

Images