JP6965683B2 - キャンロールと長尺基板処理装置 - Google Patents
キャンロールと長尺基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6965683B2 JP6965683B2 JP2017201081A JP2017201081A JP6965683B2 JP 6965683 B2 JP6965683 B2 JP 6965683B2 JP 2017201081 A JP2017201081 A JP 2017201081A JP 2017201081 A JP2017201081 A JP 2017201081A JP 6965683 B2 JP6965683 B2 JP 6965683B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- ring unit
- roll
- sliding contact
- contact surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 108
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 46
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 164
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 91
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 61
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 25
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 22
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 13
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 9
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 8
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 315
- 239000010408 film Substances 0.000 description 204
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 57
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 31
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 25
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 14
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 6
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 6
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910001006 Constantan Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229920001646 UPILEX Polymers 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
- C23C14/205—Metallic material, boron or silicon on organic substrates by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/221—Ion beam deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
- C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットのガス制御用摺接面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットの回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とし、
第2の発明は、
冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有すると共に、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットにおける円筒凸部の回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とするものである。
第1の発明または第2の発明に記載のキャンロールにおいて、
円弧状パッキン部材の長さ方向両端側に形成される上記端部傾斜面における長さ方向の寸法が、回転リングユニットのガス制御用摺接面に所定の間隔をあけて設けられる回転開口部の上記間隔以上に設定されていることを特徴とし、
第4の発明は、
第1の発明〜第3の発明のいずれかに記載のキャンロールにおいて、
上記端部傾斜面が形成された円弧状パッキン部材の長さ方向両端側が固定手段を用いて環状凹溝内に固定され、上記両端側以外の部位が円弧状パッキン部材の背面側に設けられた付勢手段を用いて回転リングユニットのガス制御用摺接面側へ向け付勢して取り付けられていることを特徴とし、
第5の発明は、
第1の発明〜第4の発明のいずれかに記載のキャンロールにおいて、
上記円弧状パッキン部材がフッ素系樹脂で構成されていることを特徴とするものである。
真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットのガス制御用摺接面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットの回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とし、
第7の発明は、
真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有すると共に、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットにおける円筒凸部の回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とするものである。
第6の発明または第7の発明に記載の長尺基板処理装置において、
円弧状パッキン部材の長さ方向両端側に形成される上記端部傾斜面における長さ方向の寸法が、回転リングユニットのガス制御用摺接面に所定の間隔をあけて設けられる回転開口部の上記間隔以上に設定されていることを特徴とし、
第9の発明は、
第6の発明〜第8の発明のいずれかに記載の長尺基板処理装置において、
上記端部傾斜面が形成された円弧状パッキン部材の長さ方向両端側が固定手段を用いて環状凹溝内に固定され、上記両端側以外の部位が円弧状パッキン部材の背面側に設けられた付勢手段を用いて回転リングユニットのガス制御用摺接面側へ向け付勢して取り付けられていることを特徴とし、
第10の発明は、
第6の発明〜第9の発明のいずれかに記載の長尺基板処理装置において、
上記円弧状パッキン部材がフッ素系樹脂で構成されていることを特徴とし、
第11の発明は、
第6の発明〜第10の発明のいずれかに記載の長尺基板処理装置において、
熱負荷の掛かる上記処理がプラズマ処理またはイオンビーム処理であることを特徴とし、
第12の発明は、
第11の発明に記載の長尺基板処理装置において、
上記プラズマ処理またはイオンビーム処理を行う機構が、キャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向していることを特徴とし、
第13の発明は、
第6の発明〜第10の発明のいずれかに記載の長尺基板処理装置において、
熱負荷の掛かる上記処理が、真空成膜処理であることを特徴とし、
第14の発明は、
第13の発明に記載の長尺基板処理装置において、
上記真空成膜処理がキャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向する真空成膜手段による処理であることを特徴とし、
また、第15の発明は、
第14の発明に記載の長尺基板処理装置において、
上記真空成膜手段が、マグネトロンスパッタリングであることを特徴とするものである。
回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットのガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有する円弧状パッキン部材が適用され、固定リングユニットの環状凹溝内にパッキン取付け治具を用いて上記円弧状パッキン部材が取付けられている。
図1に示す長尺耐熱性樹脂フィルムの成膜装置はスパッタリングウェブコータと称される装置であり、ロールツーロール方式で搬送される長尺状耐熱樹脂フィルムの表面に連続的に効率よく成膜処理を施す場合に好適に用いられる。
次に、ガス放出機構付きキャンロールについて図2、図4および図7を参照しながら説明する。本ガス放出機構付きキャンロール56は、図示しない駆動装置により回転中心軸56aを中心として回転駆動される円筒部材10(図2参照)で構成されている。この円筒部材10の外表面に長尺耐熱性樹脂フィルム52を巻き付けながら搬送する搬送経路が画定される。円筒部材10の内表面側には、冷却水等の冷媒が流通する冷媒循環部11(図4および図7参照)がジャケット構造で形成されている。
(3-1)垂直型ロータリージョイント
垂直型ロータリージョイントは、図3〜図5に示すように回転リングユニット21と、固定治具41で回転しないように固定された固定リングユニット22とで構成されている。
平行型ロータリージョイントは、図6〜図8に示すように、円筒基部21aと円筒凸部21bからなる断面凸形状の回転リングユニット21と、回転リングユニット21の上記円筒凸部21bが嵌入されかつ固定治具41で回転しないように固定された固定リングユニット22とで構成されている。
(4-1)従来の円弧状パッキン部材
上記固定リングユニット22の環状凹溝27a内に嵌入される従来の円弧状パッキン部材42は、図9(A)〜(B)に示すように環状凹溝内に嵌入される円弧形状を有しており、かつ、図示外の付勢手段が組み込まれたパッキン取付け治具の先端部を嵌入させる複数の治具収容部42aが円弧状パッキン部材42の一面に設けられている。そして、図9(C)に示すように、付勢手段を有する上記パッキン取付け治具43により回転リングユニットのガス制御用摺接面側へ向け押圧された状態で環状凹溝内に取り付けられている。
本発明に係る円弧状パッキン部材42は、図10(A)〜(B)に示すように、回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットのガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有している点を除いて従来の円弧状パッキン部材と略同一の構造を有している。尚、図10(A)は上記「垂直型ロータリージョイント」に適用される円弧状パッキン部材を示し、図10(B)は上記「平行型ロータリージョイント」に適用される円弧状パッキン部材を示している。
長尺基板として耐熱性樹脂フィルムを例に挙げて本発明に係る長尺基板処理装置の説明を行ったが、本発明に係る長尺基板処理装置で使用する長尺基板には、他の樹脂フィルムはもちろんのこと、金属箔や金属ストリップ等の金属フィルムを用いることが可能である。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのような比較的耐熱性に劣る樹脂フィルムやポリイミドフィルムのような耐熱性樹脂フィルムを例示することができる。
ロータリージョイント(回転リングユニットと固定リングユニット)の直径は約400mmで、かつ、キャンロールのガス導入路14に接続(連通)する回転リングユニットにおける連結配管25の本数は36本に設定した。従って、角度10°(360°/36=10°)間隔のガス制御が可能になる。
滑り性と耐久性を考慮しパッキン部材の材質にフッ素系樹脂[テフロン(登録商標)]を採用し、図9(A)〜(B)に示す従来構造品と図10(A)〜(B)に示す本発明品を用意した。尚、本発明品に係る上記端部傾斜面42bについては、端部傾斜面42bにより回転開口部が塞がれないようにパッキン部材端部を部材厚みの1/3だけ楔状に掘り込んで形成した。パッキン部材端部を必要以上に掘り込んでしまうとパッキン部材の剛性が低下するため好ましくない。パッキン部材端部の剛性が低下してしまうと、パッキン部材の一番端を固定ネジ(パッキン取付け治具)により強く押しつけてもパッキンが歪むだけとなり、パッキン部材の効果が全くなくなってしまう。
図1に示す成膜装置(スパッタリングウェブコータ)を用いて金属膜付長尺耐熱性樹脂フィルムを作製した。長尺の耐熱性樹脂フィルム(以下、フィルム52と称する)には、幅500mm、長さ800m、厚さ25μmの宇部興産株式会社製の耐熱性ポリイミドフィルム「ユーピレックス(登録商標)」を使用した。
次に、「垂直型ロータリージョイント」と「平行型ロータリージョイント」の2種について、従来構造品と本発明品に係る円弧状パッキン部材を用いて成膜実験を行った。
表1と表2の結果から「垂直型ロータリージョイント」と「平行型ロータリージョイント」のいずれにおいても、本発明品に係る円弧状パッキン部材が適用された場合、非ラップ部におけるガス漏れを止めることができ、安定した冷却効果が得られることが確認される。
10 円筒部材
11 冷媒循環部
12 回転軸
12a 内側配管
12b 外側配管
14 ガス導入路
15 ガス放出孔
20 ロータリージョイント
21 回転リングユニット
21a 円筒基部
21b 円筒凸部
22 固定リングユニット
23 ガス供給路
23a 回転開口部
23a1 回転開口部(非ラップ部領域に対応する)
23a2 回転開口部(ラップ部領域に対応する)
25 連結配管
26 供給配管
27 ガス分配路
27a 環状凹溝
32 ベアリング
40 冷却水口
41 固定治具
42 円弧状パッキン部材
42a 治具収容部
42b 端部傾斜面
43 パッキン取付け治具
44 ガス導入路
50 真空チャンバー
51 巻出しローラ
52 長尺耐熱性樹脂フィルム(長尺基板)
53、63 フリーローラ
54、62 張力センサロール
55、61 フィードローラ
56 キャンロール
56a 中心軸
57、58、59、60 マグネトロンスパッタリングカソード
64 巻き取りロール
77 回転リングユニットの固定ネジ穴
82 圧力計ポート
83 圧力計ポート
Claims (15)
- 冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットのガス制御用摺接面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットの回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とするキャンロール。 - 冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有すると共に、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットにおける円筒凸部の回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とするキャンロール。 - 円弧状パッキン部材の長さ方向両端側に形成される上記端部傾斜面における長さ方向の寸法が、回転リングユニットのガス制御用摺接面に所定の間隔をあけて設けられる回転開口部の上記間隔以上に設定されていることを特徴とする請求項1または2に記載のキャンロール。
- 上記端部傾斜面が形成された円弧状パッキン部材の長さ方向両端側が固定手段を用いて環状凹溝内に固定され、上記両端側以外の部位が円弧状パッキン部材の背面側に設けられた付勢手段を用いて回転リングユニットのガス制御用摺接面側へ向け付勢して取り付けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のキャンロール。
- 上記円弧状パッキン部材がフッ素系樹脂で構成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のキャンロール。
- 真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットのガス制御用摺接面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットの回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とする長尺基板処理装置。 - 真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの回転軸方向に沿って均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有すると共に、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝により構成されかつ環状凹溝内の所定領域に嵌入された円弧状パッキン部材により上記固定リングユニットのガス制御用摺接面が閉止された固定閉止部と上記ガス制御用摺接面が閉止されない固定開口部を有すると共に真空チャンバー外部の供給配管に連通するガス分配路を有しており、かつ、上記固定開口部は、回転リングユニットにおける円筒凸部の回転開口部が対向する固定リングユニットのガス制御用摺接面上の領域のうち上記長尺基板を巻き付ける角度範囲内で開口し、
上記環状凹溝内の所定領域に嵌入される円弧状パッキン部材は、上記回転リングユニットのガス制御用摺接面と対向する側の一面にその長さ方向端部側から回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面方向へ向かってパッキン部材の厚みが順次厚くなる端部傾斜面を両端側に有すると共に、パッキン取付け治具により上記環状凹溝内に取付けられていることを特徴とする長尺基板処理装置。 - 円弧状パッキン部材の長さ方向両端側に形成される上記端部傾斜面における長さ方向の寸法が、回転リングユニットのガス制御用摺接面に所定の間隔をあけて設けられる回転開口部の上記間隔以上に設定されていることを特徴とする請求項6または7に記載の長尺基板処理装置。
- 上記端部傾斜面が形成された円弧状パッキン部材の長さ方向両端側が固定手段を用いて環状凹溝内に固定され、上記両端側以外の部位が円弧状パッキン部材の背面側に設けられた付勢手段を用いて回転リングユニットのガス制御用摺接面側へ向け付勢して取り付けられていることを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載の長尺基板処理装置。
- 上記円弧状パッキン部材がフッ素系樹脂で構成されていることを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の長尺基板処理装置。
- 熱負荷の掛かる上記処理が、プラズマ処理またはイオンビーム処理であることを特徴とする請求項6〜10のいずれかに記載の長尺基板処理装置。
- 上記プラズマ処理またはイオンビーム処理を行う機構が、キャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向していることを特徴とする請求項11に記載の長尺基板処理装置。
- 熱負荷の掛かる上記処理が、真空成膜処理であることを特徴とする請求項6〜10のいずれかに記載の長尺基板処理装置。
- 上記真空成膜処理が、キャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向する真空成膜手段による処理であることを特徴とする請求項13に記載の長尺基板処理装置。
- 上記真空成膜手段が、マグネトロンスパッタリングであることを特徴とする請求項14に記載の長尺基板処理装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017201081A JP6965683B2 (ja) | 2017-10-17 | 2017-10-17 | キャンロールと長尺基板処理装置 |
CN201880067481.4A CN111225995B (zh) | 2017-10-17 | 2018-10-04 | 筒辊与长条基板处理装置 |
PCT/JP2018/037167 WO2019078015A1 (ja) | 2017-10-17 | 2018-10-04 | キャンロールと長尺基板処理装置 |
EP18868418.7A EP3699319A4 (en) | 2017-10-17 | 2018-10-04 | SEALED ROLLER AND LONG SUBSTRATE HANDLING DEVICE |
KR1020207009753A KR102648451B1 (ko) | 2017-10-17 | 2018-10-04 | 캔 롤과 장척 기판 처리 장치 |
TW107136138A TWI766112B (zh) | 2017-10-17 | 2018-10-15 | 罐狀輥與長形基板處理裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017201081A JP6965683B2 (ja) | 2017-10-17 | 2017-10-17 | キャンロールと長尺基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019073774A JP2019073774A (ja) | 2019-05-16 |
JP6965683B2 true JP6965683B2 (ja) | 2021-11-10 |
Family
ID=66173589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017201081A Active JP6965683B2 (ja) | 2017-10-17 | 2017-10-17 | キャンロールと長尺基板処理装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3699319A4 (ja) |
JP (1) | JP6965683B2 (ja) |
KR (1) | KR102648451B1 (ja) |
CN (1) | CN111225995B (ja) |
TW (1) | TWI766112B (ja) |
WO (1) | WO2019078015A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6953992B2 (ja) * | 2017-10-19 | 2021-10-27 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理装置の管理方法 |
CN113636386B (zh) * | 2021-08-18 | 2023-07-25 | 安徽思瑞盟新材料有限公司 | 一种包装缠膜装置及pet光学薄膜的制备方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3414048A (en) | 1967-12-26 | 1968-12-03 | United States Steel Corp | Contact drum and method for heat exchange with traveling strip |
JPS62247073A (ja) | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Ulvac Corp | 巻取式真空装置 |
JPH0247073A (ja) | 1988-08-09 | 1990-02-16 | Brother Ind Ltd | 画像露光装置 |
JPH0298994A (ja) | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Ibiden Co Ltd | ポリイミド絶縁層上への導体層形成方法 |
JP3447070B2 (ja) | 1992-09-17 | 2003-09-16 | 三井化学株式会社 | フレキシブル回路基板用材料 |
JP3585998B2 (ja) | 1995-06-22 | 2004-11-10 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置 |
WO2002070778A1 (en) | 2001-03-05 | 2002-09-12 | Applied Process Technologies | Apparatus and method for web cooling in a vacuum coating chamber |
LV13253B (en) | 2003-06-30 | 2005-03-20 | Sidrabe As | Device and method for coating roll substrates in vacuum |
US7837836B2 (en) * | 2004-02-12 | 2010-11-23 | Seagate Technology Llc | Method and apparatus for multi-stage sputter deposition of uniform thickness layers |
CN101573477B (zh) * | 2006-12-28 | 2011-01-19 | 日矿金属株式会社 | 用于铜箔的表面处理的辊装置 |
CN101910453B (zh) * | 2007-12-28 | 2016-03-09 | 株式会社爱发科 | 成膜装置及成膜方法 |
TWI397604B (zh) * | 2008-04-17 | 2013-06-01 | Ulvac Inc | 捲取式真空成膜裝置 |
CN102725436B (zh) * | 2010-01-26 | 2014-08-06 | 松下电器产业株式会社 | 薄膜的制造装置、薄膜的制造方法及基板输送辊 |
JP5516388B2 (ja) * | 2010-12-24 | 2014-06-11 | 住友金属鉱山株式会社 | ガス導入機構を備えたキャンロールおよびこれを用いた長尺基板の処理装置ならびに処理方法 |
DE202012100123U1 (de) * | 2012-01-13 | 2012-01-31 | Vtd Vakuumtechnik Dresden Gmbh | Vakuumeinrichtung zur Behandlung von auf Substratträgern angeordneten Substraten |
JP2013196848A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Nitto Denko Corp | 有機el素子の製造方法及び製造装置 |
JP6069979B2 (ja) | 2012-09-08 | 2017-02-01 | 住友金属鉱山株式会社 | ガス放出機構付きキャンロール及びこれを搭載した長尺基板の処理装置並びにこれを用いた長尺基板の処理方法 |
JP2015021172A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | 日東電工株式会社 | スパッタ装置 |
KR20160014897A (ko) * | 2014-07-30 | 2016-02-12 | (주)에스엔텍 | 막 형성 장치용 롤 |
CN204097560U (zh) * | 2014-10-13 | 2015-01-14 | 蒋绍洪 | 光学级类钻石薄膜间歇式圆筒镀膜装置 |
JP6201162B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2017-09-27 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理方法 |
JP6451558B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2019-01-16 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロール及びこれを用いた長尺基板の処理方法 |
KR101736483B1 (ko) * | 2015-09-18 | 2017-05-16 | 에스케이씨하스디스플레이필름(유) | 배리어 필름을 제조하기 위한 방법 및 장치 |
JP6508080B2 (ja) * | 2016-02-05 | 2019-05-08 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロールと長尺体の処理装置および処理方法 |
JP6842031B2 (ja) * | 2016-08-23 | 2021-03-17 | 住友金属鉱山株式会社 | ロールツーロール方式の表面処理装置並びにこれを用いた成膜方法及び成膜装置 |
-
2017
- 2017-10-17 JP JP2017201081A patent/JP6965683B2/ja active Active
-
2018
- 2018-10-04 WO PCT/JP2018/037167 patent/WO2019078015A1/ja unknown
- 2018-10-04 KR KR1020207009753A patent/KR102648451B1/ko active IP Right Grant
- 2018-10-04 EP EP18868418.7A patent/EP3699319A4/en active Pending
- 2018-10-04 CN CN201880067481.4A patent/CN111225995B/zh active Active
- 2018-10-15 TW TW107136138A patent/TWI766112B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111225995B (zh) | 2022-07-08 |
EP3699319A1 (en) | 2020-08-26 |
TWI766112B (zh) | 2022-06-01 |
WO2019078015A1 (ja) | 2019-04-25 |
TW201924500A (zh) | 2019-06-16 |
KR20200072477A (ko) | 2020-06-22 |
KR102648451B1 (ko) | 2024-03-15 |
CN111225995A (zh) | 2020-06-02 |
JP2019073774A (ja) | 2019-05-16 |
EP3699319A4 (en) | 2021-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI739892B (zh) | 卷對卷方式之表面處理裝置及包含其之成膜裝置、以及卷對卷方式之表面處理方法及包含其之成膜方法 | |
JP5516388B2 (ja) | ガス導入機構を備えたキャンロールおよびこれを用いた長尺基板の処理装置ならびに処理方法 | |
JP6950506B2 (ja) | 長尺基板の処理装置と処理方法 | |
JP6508080B2 (ja) | キャンロールと長尺体の処理装置および処理方法 | |
JP5488477B2 (ja) | キャンロール、長尺樹脂フィルム基板の処理装置及び処理方法 | |
JP6965683B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置 | |
JP6953992B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理装置の管理方法 | |
JP6451558B2 (ja) | キャンロール及びこれを用いた長尺基板の処理方法 | |
JP6201162B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理方法 | |
JP5888154B2 (ja) | ガス放出機構付きキャンロール及びそれを備えた長尺基板の処理装置及び処理方法 | |
JP6269385B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理方法 | |
JP6575399B2 (ja) | ロールツーロール処理装置及び処理方法 | |
JP7172645B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置 | |
JP6217621B2 (ja) | ガス放出機構を備えたキャンローラ並びにこれを用いた長尺基板の処理装置及び処理方法 | |
JP6319116B2 (ja) | 長尺基板の表面処理装置と表面処理方法 | |
JP2017214613A (ja) | 帯状物の搬送制御方法及びこれを用いた帯状物の処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210427 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210518 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210921 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211004 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6965683 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |