JP7172645B2 - キャンロールと長尺基板処理装置 - Google Patents
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Description
冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、そのガス制御用摺接面に固定リングユニットの周方向に亘って設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、キャンロールの中心軸側に位置する内側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとキャンロールの中心軸から離れた側に位置する外側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングとで囲まれたガス分配部と、外側Xリングと接しない外側内壁面と上記外側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とし、
第2の発明は、
冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、回転リングユニットの円筒基部から離れた側に位置する外側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングと回転リングユニットの円筒基部側に位置する内側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとで囲まれたガス分配部と、内側Xリングと接しない内側内壁面と上記内側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とし、
また、第3の発明は、
第1の発明または第2の発明に記載のキャンロールにおいて、
上記内側Xリングおよび外側Xリングが、フッ素ゴムを主成分とする材料で構成されていることを特徴とするものである。
真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、そのガス制御用摺接面に固定リングユニットの周方向に亘って設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、キャンロールの中心軸側に位置する内側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとキャンロールの中心軸から離れた側に位置する外側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングとで囲まれたガス分配部と、外側Xリングと接しない外側内壁面と上記外側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とし、
第5の発明は、
真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、回転リングユニットの円筒基部から離れた側に位置する外側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングと回転リングユニットの円筒基部側に位置する内側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとで囲まれたガス分配部と、内側Xリングと接しない内側内壁面と上記内側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とするものである。
第4の発明または第5の発明に記載の長尺基板処理装置において、
上記内側Xリングおよび外側Xリングが、フッ素ゴムを主成分とする材料で構成されていることを特徴とし、
第7の発明は、
第4の発明~第6の発明のいずれかに記載の長尺基板処理装置において、
熱負荷の掛かる上記処理が、プラズマ処理またはイオンビーム処理であることを特徴とし、
第8の発明は、
第7の発明に記載の長尺基板処理装置において、
上記プラズマ処理またはイオンビーム処理を行う機構が、キャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向していることを特徴とし、
第9の発明は、
第4の発明~第6の発明のいずれかに記載の長尺基板処理装置において、
熱負荷の掛かる上記処理が、真空成膜処理であることを特徴とし、
また、第10の発明は、
第9の発明に記載の長尺基板処理装置において、
上記真空成膜処理が、キャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向する真空成膜手段による処理であることを特徴とし、
第11の発明は、
第10の発明に記載の長尺基板処理装置において、
上記真空成膜手段が、マグネトロンスパッタリングであることを特徴とする。
固定リングユニットのガス制御用摺接面に設けられた環状凹溝内に内側Xリングと外側Xリングを組み込んで、回転リングユニットのガス制御用摺接面に設けられた回転開口部を介しガス導入路へガスを供給するガス分配部とガスを供給しないガス非分配部が形成される構造になっている。
図1に示す長尺耐熱性樹脂フィルムの成膜装置はスパッタリングウェブコータと称される装置であり、ロールツーロール方式で搬送される長尺耐熱樹脂フィルムの表面に連続的に効率よく成膜処理を施す場合に好適に用いられる。
次に、ガス放出機構付きキャンロールについて図2、図4および図7を参照しながら説明する。本ガス放出機構付きキャンロール56は、図示しない駆動装置により回転中心軸56aを中心として回転駆動される円筒部材10(図2参照)で構成されている。この円筒部材10の外表面に長尺耐熱性樹脂フィルム52を巻き付けながら搬送する搬送経路が画定される。円筒部材10の内表面側には、冷却水等の冷媒が流通する冷媒循環部11(図4および図7参照)がジャケット構造で形成されている。
(3-1)従前の円弧状パッキン部材が用いられた垂直型ロータリージョイント
この垂直型ロータリージョイントは、図3~図5に示すように回転リングユニット21と、固定治具41(図4参照)で回転しないように固定された固定リングユニット22とで構成されている。
従前の円弧状パッキン部材が用いられた垂直型ロータリージョイントにおいては、上述したように、回転リングユニット21のガス制御用摺接面に設けられた複数の回転開口部23aが確実に閉止されるようにするため、パッキン取付け治具43の付勢手段(図示せず)を用いて図9(C)に示すように回転リングユニットのガス制御用摺接面側へ向け付勢した状態で円弧状パッキン部材42が取り付けられている。
この垂直型ロータリージョイントは、図10~図12に示すように回転リングユニット21と、固定治具41(図11参照)で回転しないように固定された固定リングユニット22とで構成されている。
本発明の垂直型ロータリージョイントによれば、固定リングユニット22のガス制御用摺接面に設けられた環状凹溝127a内に内側Xリング142aと外側Xリング142b組み込んで、回転リングユニット21のガス制御用摺接面に設けられた回転開口部23aを介しガス導入路14へガスを供給するガス分配部100aとガスを供給しないガス非分配部100bが形成される構造になっている。
(4-1)従前の円弧状パッキン部材が用いられた平行型ロータリージョイント
この平行型ロータリージョイントは、図6~図8に示すように、円筒基部21aと円筒凸部21bからなる断面凸形状の回転リングユニット21と、回転リングユニット21の上記円筒凸部21bが嵌入されかつ固定治具41(図7参照)で回転しないように固定された固定リングユニット22とで構成されている。
従前の円弧状パッキン部材が用いられた平行型ロータリージョイントにおいても、回転リングユニット21のガス制御用摺接面に設けられた複数の回転開口部23aが確実に閉止されるようにするため、パッキン取付け治具43の付勢手段(図示せず)を用いて図9(C)に示すように回転リングユニットのガス制御用摺接面側へ向け付勢した状態で円弧状パッキン部材42が取り付けられている。
この平行型ロータリージョイントは、図13~図15に示すように回転リングユニット21と、固定治具41(図14参照)で回転しないように固定された固定リングユニット22とで構成されている。
本発明の平行型ロータリージョイントによれば、固定リングユニット22のガス制御用摺接面に設けられた環状凹溝127a内に内側Xリング142aと外側Xリング142b組み込んで、回転リングユニット21のガス制御用摺接面に設けられた回転開口部23aを介しガス導入路14へガスを供給するガス分配部100aとガスを供給しないガス非分配部100bが形成される構造になっている。
長尺基板として耐熱性樹脂フィルムを例に挙げて本発明に係る長尺基板処理装置の説明を行ったが、本発明に係る長尺基板処理装置で使用する長尺基板には、他の樹脂フィルムはもちろんのこと、金属箔や金属ストリップ等の金属フィルムを用いることが可能である。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのような比較的耐熱性に劣る樹脂フィルムやポリイミドフィルムのような耐熱性樹脂フィルムを例示することができる。
ロータリージョイント(回転リングユニットと固定リングユニット)の直径は約400mmで、かつ、キャンロールのガス導入路14に接続(連通)する回転リングユニットにおける連結配管25の本数は36本に設定した。従って、角度10°(360°/36=10°)間隔のガス制御が可能になる。
図1に示す成膜装置(スパッタリングウェブコータ)を用いて金属膜付長尺耐熱性樹脂フィルムを作製した。長尺の耐熱性樹脂フィルム(以下、フィルム52と称する)には、幅500mm、長さ800m、厚さ25μmの宇部興産株式会社製の耐熱性ポリイミドフィルム「ユーピレックス(登録商標)」を使用した。
次に、上記4種の「円弧状パッキン部材が用いられた垂直型ロータリージョイント」、「内側Xリングと外側Xリングが用いられた垂直型ロータリージョイント」、「円弧状パッキン部材が用いられた平行型ロータリージョイント」および「内側Xリングと外側Xリングが用いられた平行型ロータリージョイント」を用いて成膜実験を行った。
(1)表1と表2の結果から「垂直型ロータリージョイント」と「平行型ロータリージョイント」のいずれにおいても、ガス漏れ防止手段として「内側Xリングと外側Xリング」が適用された場合、非ラップ部におけるガス漏れを止めることができ、安定した冷却効果が得られることが確認される。
11 冷媒循環部
12 回転軸
12a 内側配管
12b 外側配管
14 ガス導入路
15 ガス放出孔
20 ロータリージョイント
21 回転リングユニット
21a 円筒基部
21b 円筒凸部
22 固定リングユニット
23 ガス供給路
23a 回転開口部
25 連結配管
26 供給配管
27 ガス分配路
27a 環状凹溝
32 ベアリング
40 冷却水口
41 固定治具
42 円弧状パッキン部材
42a 治具収容部
43 パッキン取付け治具
50 真空チャンバー
51 巻き出しロール
52 長尺耐熱性樹脂フィルム(長尺基板)
53、63 フリーローラ
54、62 張力センサロール
55、61 フィードローラ
56 キャンロール
56a 中心軸
57、58、59、60 マグネトロンスパッタリングカソード
64 巻き取りロール
77 回転リングユニットの固定ネジ穴
82 圧力計ポート
83 圧力計ポート
100a ガス分配部
100b ガス非分配部
126 導入部
127a 環状凹溝
127b 内側内壁面
127c 外側内壁面
142a 内側Xリング
142b 外側Xリング
Claims (11)
- 冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、そのガス制御用摺接面に固定リングユニットの周方向に亘って設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、キャンロールの中心軸側に位置する内側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとキャンロールの中心軸から離れた側に位置する外側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングとで囲まれたガス分配部と、外側Xリングと接しない外側内壁面と上記外側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とするキャンロール。 - 冷媒が循環する冷媒循環部と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路と、これ等複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントとを備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて冷却するキャンロールであって、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しないように制御するキャンロールにおいて、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、回転リングユニットの円筒基部から離れた側に位置する外側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングと回転リングユニットの円筒基部側に位置する内側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとで囲まれたガス分配部と、内側Xリングと接しない内側内壁面と上記内側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とするキャンロール。 - 上記内側Xリングおよび外側Xリングが、フッ素ゴムを主成分とする材料で構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載されたキャンロール。
- 真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられかつキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が垂直に形成されている回転リングユニットと固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットの上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、そのガス制御用摺接面に固定リングユニットの周方向に亘って設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、キャンロールの中心軸側に位置する内側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとキャンロールの中心軸から離れた側に位置する外側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングとで囲まれたガス分配部と、外側Xリングと接しない外側内壁面と上記外側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とする長尺基板処理装置。 - 真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷の掛かる処理を施す処理手段と、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設された複数のガス導入路およびそれら複数のガス導入路の各々に真空チャンバー外部のガスを供給するロータリージョイントを有すると共に循環する冷媒で冷却された外周面に長尺基板を部分的に巻き付けて冷却するキャンロールとを備え、
上記複数のガス導入路の各々は、キャンロールの中心軸方向に沿って略均等な間隔をあけて外周面側に開口する複数のガス放出孔を有しており、上記ロータリージョイントは、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置しているガス導入路にはガスを供給しかつ長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路にはガスを供給しない構造を有する長尺基板処理装置において、
上記ロータリージョイントが、キャンロールと同心軸状に設けられた円筒基部と円筒凸部からなる断面凸形状の回転リングユニットと、上記回転リングユニットの円筒凸部が嵌入されてキャンロールの中心軸に対しそれぞれのガス制御用摺接面が平行に形成される円筒状の固定リングユニットとで構成され、
上記回転リングユニットは、複数の上記ガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、これ等複数のガス供給路の各々は、連通するガス導入路のキャンロール外周面上の角度位置に対応した角度位置で開口する回転開口部を回転リングユニットにおける円筒凸部の上記ガス制御用摺接面に有しており、
上記固定リングユニットは、固定リングユニットの円筒内周面に周方向に亘り設けられた環状凹溝を有し、該環状凹溝内には、回転リングユニットの円筒基部から離れた側に位置する外側内壁面の全領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた外側Xリングと回転リングユニットの円筒基部側に位置する内側内壁面の一部領域に亘って内壁面と接するように組み込まれた内側Xリングとで囲まれたガス分配部と、内側Xリングと接しない内側内壁面と上記内側Xリングとで囲まれたガス非分配部が設けられ、かつ、上記環状凹溝のガス分配部には真空チャンバー外部の供給配管と連通する導入部が設けられており、
長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置している上記ガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス分配部に対向してガスを供給し、長尺基板を巻き付ける角度範囲内に位置していないガス導入路には、回転リングユニットの回転開口部が固定リングユニットの上記ガス非分配部に対向してガスを供給しないよう制御することを特徴とする長尺基板処理装置。 - 上記内側Xリングおよび外側Xリングが、フッ素ゴムを主成分とする材料で構成されていることを特徴とする請求項4または5に記載された長尺基板処理装置。
- 熱負荷の掛かる上記処理が、プラズマ処理またはイオンビーム処理であることを特徴とする請求項4~6のいずれかに記載の長尺基板処理装置。
- 上記プラズマ処理またはイオンビーム処理を行う機構が、キャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向していることを特徴とする請求項7に記載の長尺基板処理装置。
- 熱負荷の掛かる上記処理が、真空成膜処理であることを特徴とする請求項4~6のいずれかに記載の長尺基板処理装置。
- 上記真空成膜処理が、キャンロールの外周面で画定される搬送経路に対向する真空成膜手段による処理であることを特徴とする請求項9に記載の長尺基板処理装置。
- 上記真空成膜手段が、マグネトロンスパッタリングであることを特徴とする請求項10に記載の長尺基板処理装置。
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