JP6941231B2 - プラズマ処理機 - Google Patents

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Description

本発明は、プラズマ化されたガスによる処理を行うプラズマ処理機に関する。
プラズマ処理機は、例えば、下記特許文献記載されているように、プラズマ化されたガスであるプラズマ化ガスを放出させるプラズマヘッドを備え、そのプラズマ化ガスをワークの表面に照射するように構成されている。プラズマヘッドには、ガス供給装置から、プラズマ化ガスの元となる反応ガスやその反応ガスを運ぶためのキャリアガスが供給される。プラズマヘッドは、1対の電極を備え、それら電極間に電圧を印加し、それら電極間を通過する反応ガスをプラズマ化させる。そのプラズマ化させたガスおよびキャリアガスは、プラズマヘッドのノズルから放出させられる。
特開2012−129356号公報
発明の解決しようとする課題
上記のようなプラズマ処理機は、開発途上であり、何らかの改良を施すことで、実用性を向上させることが可能である。本発明は、そのような実情に鑑みてなされたものであり、実用性の高いプラズマ照射装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するために、本発明のプラズマ処理機は、
プラズマ化されたガスによる処理を行うプラズマ処理機であって、
電圧が印加された電極間においてガスをプラズマ化し、そのプラズマ化されたガスをノズルから放出するプラズマヘッドと、
プラズマ化するガスを含むガスをプラズマヘッドに供給するガス供給装置と、
ガス供給装置から供給されるガスの圧力を検出する圧力検出器と、
当該プラズマ処理機の制御を司る制御装置と
を備え、
前記制御装置が、
前記電極に電圧を印加した後に前記圧力検出器によって検出されたガスの圧力である電圧印加後ガス圧に基づいて、処理の開始を許容するように構成される。
ちなみに、「プラズマ化するガス」、すなわち、「ガス供給装置から供給されるガス」は、プラズマ化されるガス(反応ガス)だけでなく、後に説明するように、キャリアガス等の他のガスをも含む概念である。
本発明のプラズマ処理機では、電極に電圧を印加後のガスの圧力に基づくことにより、当該プラズマ処理機が適正な処理を行うことができるか否かを簡便に判断することが可能であり、その判断に基づいて処理の開始が許容されることで、適正な処理が担保されることになる。
実施例のプラズマ処理機の全体構成を示す斜視図である。 図1のプラズマ処理機が有するプラズマヘッドとしての照射ヘッドを、カバーを外した状態で示す斜視図である。 図2の照射ヘッドの断面図である。 図1のプラズマ処理機におけるプラズマヘッドへのガスの供給に関する構成を説明するための模式図である。 図1のプラズマヘッドに供給されるガスの圧力の基準的な変化を示すグラフである。 図1のプラズマ処理機の制御装置によって実行される処理開始プログラムを示すフローチャートである。
以下、本発明に係るプラズマ処理機の代表的な実施形態を、実施例のプラズマ処理機として、図を参照しつつ詳しく説明する。なお、本発明は、下記実施例の他、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することができる。
[A]プラズマ処理機の全体構成
実施例のプラズマ処理機は、図1に示すように、ワークWが載置されるテーブル10と、テーブル10の傍らに配置されたシリアルリンク型ロボット(「多間接型ロボット」と呼ぶこともでき、以下、単に「ロボット」と略す)12と、ロボット12に保持されてプラズマ化ガスを照射するためのプラズマヘッド14(以下、単に「ヘッド14」という場合がある)と、ヘッド14への電源でありヘッド14へのガスの供給を担う電源・ガス供給ユニット16と、当該プラズマ処理機の制御を司る制御装置としてのコントローラ18(コンピュータを主要構成要素とするものである)とを含んで構成されている。ちなみに、ロボット12は、ワークにプラズマ化ガスを照射するためにヘッド14を移動させるヘッド移動装置として機能する。
ヘッド14は、カバーを外した状態を示す図2、および、断面図である図3を参照しつつ説明すれば、概してセラミック製のハウジング20を有しており、そのハウジング20の内部に、プラズマ化ガスを発生させるための反応室22が形成されている。そして、反応室22に突き出るようにして、1対の電極24が保持されている。また、ハウジング20内には、上方から反応室22に反応ガスを流入させるための反応ガス流路26と、キャリアガスを流入させるための1対のキャリアガス流路28とが形成されている。反応ガス(種ガス)は、酸素(O2)であるが、反応ガス流路26からは、酸素と窒素(N2)との混合気体(例えば、乾燥空気(Air))が、電極24の間に流入させられる(以下、この混合気体をも、便宜的に「反応ガス」と呼び、酸素を「種ガス」と呼ぶ場合があることとする)。キャリアガスは、窒素であり、それぞれのキャリアガス流路28から、それぞれの電極24を取り巻くようにして流入させられる。ヘッド14の下部は、ノズル30とされており、ノズル30には、複数の放出口32が一列に並ぶようにして形成されている。そして、反応室22から下方に向かって各放出口32に繋がるように複数の放出路34が形成されている。
1対の電極24の間には、電源・ガス供給ユニット16の電源部によって、交流の電圧が印加される。この印加によって、例えば、図3に示すように、反応室22内において、1対の電極24の各々の下端の間に、擬似アークAが発生させられる。この擬似アークAを反応ガスが通過する際に、その反応ガスがプラズマ化され、プラズマ化されたガスであるプラズマ化ガスが、キャリアガスとともに、ノズル30から放出(噴出)される。
なお、ノズル30の周囲には、ノズル30を囲うようにしてスリーブ36が設けられている。スリーブ36とノズル30との間の環状空間38には、供給管40を介して、シールドガスとしてのヒートガス(本プラズマ処理機では、空気が採用されている)が供給され、そのヒートガスは、ノズル30から射出されるプラズマ化ガスの周囲を取り巻くようにして、プラズマ化ガスの流れに沿って放出される。ヒートガスは、名前のとおり、プラズマ化ガスの効能を担保するために加熱されたものが放出される。そのため、供給管40の途中には、加熱のためのヒータ42が設けられている。
電源・ガス供給ユニット16は、電源部とガス供給部とを含んで構成されている。電源部は、ヘッド14の1対の電極24間に電圧を印加するための電源を有しており、ガス供給装置として機能するガス供給部は、上述の反応ガス,キャリアガス,シールドガスの供給を行う。ガス供給部によるガスの供給については、以下に詳しく説明する。
[B]ガスの供給
図4に示すように、電源・ガス供給ユニット16には、詳しく言えば、電源・ガス供給ユニット16のガス供給部50には、窒素ガス(N2)の供給源となる窒素ガス発生装置52と、空気(Air)(例えば、乾燥空気である)の供給源となるコンプレッサ54とから、それぞれ、窒素ガス,空気が供給される。ちなみに、窒素ガス発生装置52は、コンプレッサ54から供給される空気から、窒素ガスを分離するように構成されており、また、コンプレッサ54から供給される空気の湿気を取り除くために、ドライヤ55が設けられている。
ガス供給部50は、上述した反応ガスを構成する種ガスとしての酸素を含む空気(Air),反応ガスを構成する窒素ガス(N2),ヘッド14の1対のキャリアガス流路28に対応した2系統のキャリアガスとしての窒素ガス(N2),ヒートガスとなる空気(Air)に対応して、それぞれが流量調節器となるマスフローコントローラ56を有している。便宜的に、マスフローコントローラ56については、5つの各々を区別する必要がある場合には、マスフローコントローラ56a1,56a2,56b〜56dということがあることとする。マスフローコントローラ56a1によって流量調整された空気と、マスフローコントローラ56a2によって流量調整された窒素ガスは、混合器58によって混合され、反応ガス(N2+O2)が生成される。
反応ガス,2系統のキャリアガス,ヒートガスは、4本のガスチューブ60を介して、それぞれヘッド14に供給される(図1をも参照)。ちなみに、ガスチューブ60を、以下、単に「チューブ60」と略し、4本の各々を区別する必要がある場合には、チューブ60a〜60dということがあることとする。チューブ60a〜60cを介して供給された反応ガス,2系統のキャリアガスは、ヘッド14内の反応室22において混合され、プラズマ化された酸素を含む混合ガスが、ノズル30から放出される。なお、電源・ガス供給ユニット16内には、4本のチューブ60のマスフローコントローラ56側において、4本のチューブ60を通過するガスの圧力を検出するために、それぞれが圧力検出器である圧力センサ62が設けられている。言い換えれば、圧力センサ62は、各チューブ60とガス供給部50との間に設けられている。ちなみに、圧力センサ62については、4つの各々を区別する必要がある場合には、圧力センサ62a〜62dということとする。なお、各チューブ60に対応して、マスフローコントローラ56a1,56a2および混合器58を、1つのガス供給装置と、マスフローコントローラ56b〜56dを、それぞれ、別のガス供給装置と考えることもできる。
[C]プラズマヘッドに供給されるガスの圧力とそれの変化
反応ガス,2系統のキャリアガス,ヒートガスがチューブ60を介して、ヘッド14に供給される場合、図4から解るように、各チューブ60の各々において圧力損失が発生し、また、ヘッド14においても、キャリアガスおよび反応ガスの系統(以下、「主ガス系統」という場合がある)、ヒートガスの系統(以下、「ヒートガス系統」という場合がある)のそれぞれに圧力損失が発生する。各チューブ60a〜60dにおける圧力損失を、チューブ圧力損失ΔPTA〜ΔPTDとし、それぞれ、主ガス系統のヘッド14における圧力損失を主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHMと、ヒートガス系統のヘッド14における圧力損失をヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHHとすれば、上記圧力センサ62a〜62dによって検出されるガスの圧力である実圧力PA〜PDは、それぞれ、
A=ΔPTA+ΔPHM
B=ΔPTB+ΔPHM
C=ΔPTC+ΔPHM
D=ΔPTD+ΔPHH
となる。
マスフローコントローラ56a1,56a2,56b〜56dによって調整されているそれぞれのガスの流速(単位時間あたりの質量流量)を、FA1,FA2,FB〜FDとすれば、チューブ60a〜60dには、流速FA(=FA1+FA2)〜FDのガスが流れる。処理に応じて各チューブ60に適切にガスが流れている場合における各チューブ60のチューブ圧力損失ΔPTA〜ΔPTDを、基準チューブ圧力損失ΔPTA0〜ΔPTD0とすれば、それら基準チューブ圧力損失ΔPTA0〜ΔPTD0は、それぞれ、各チューブ60を通過するガスの流速FA〜FDと、各チューブ60の長さであるチューブ長L(本プラズマ処理機では、各チューブ60の長さは互いに等しいと考えることができる)に基づいて、下記の式のように定まる。
ΔPTA0=fTA(FA,L)=fTA(FA1+FA2,L)
ΔPTB0=fTB(FB,L)
ΔPTC0=fTC(FC,L)
ΔPTD0=fTD(FD,L)
ここで、fTA( )〜fTD( )は、それぞれ、流速FA〜FD,チューブ長Lをパラメータとする関数である。
一方で、ヘッド14内を適切にガスが流れている場合における主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHM,ヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHHを、基準主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHM0,基準ヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHH0とすれば、それら基準主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHM0,基準ヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHH0は、それぞれ、主ガス系統,ヒートガス系統を流れるガスの流速、つまり、主ガス系統流速FM(=FA+FB+FC),ヒートガス系統流速FH(=FD)と、ヘッド14の温度であるヘッド温度Tとに基づいて、下記の式のように定まる。
ΔPHM0=fHM(FM,T)=fHM(FA+FB+FC,T)
=fHM(FA1+FA2+FB+FC,T)
ΔPHH0=fHH(FH,T)=fHH(FD,T)
ここで、fHM( ),fHH( )は、流速FM,FH,ヘッド温度Tをパラメータとする関数である。電極24に電圧を印加した場合、発生した疑似アークによってヘッド14自体も加熱される。この加熱によって、ヘッド温度Tが高くなれば、基準主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHM0,基準ヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHH0は、ともに大きくなる。
コントローラ18は、基準チューブ圧力損失ΔPTA0〜ΔPTD0,基準主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHM0,基準ヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHH0を求めるためのデータを、上記関数fTA( )〜fTD( ),fHM( ),fHH( )の形式で、若しくは、値が離散的に設定された流速FA〜FD,チューブ長L、流速FM,FH,ヘッド温度Tごとのマトリクスデータの形式で格納しており、それらのデータと、マスフローコントローラ56a1,56a2,56b〜56dによって実際に調整されているそれぞれのガスの流速FA1,FA2,FB〜FD、取り付けられているチューブ60のチューブ長L、ヘッド温度Tとに基づいて、実際にプラズマ処理を行っている際の、若しくは、実際にプラズマ処理を行う前の基準チューブ圧力損失ΔPTA0〜ΔPTD0,基準主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHM0,基準ヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHH0を求め、その結果に基づいて、基準となるガス圧である基準圧力PA0〜PD0を、下記式に従って求めるようにされている。
A0=ΔPTA0+ΔPHM0
B0=ΔPTB0+ΔPHM0
C0=ΔPTC0+ΔPHM0
D0=ΔPTD0+ΔPHH0
なお、ヘッド14の加熱の程度、つまり、ヘッド温度Tは、概ね、1対の電極24に印加したときに流れる電流、すなわち、供給電流Iに依存するものとなっている。処理に応じた適切な供給電流Iは、基準供給電流I0として設定されている。電圧の印加前は、供給電流Iは流れておらず、ヘッド温度Tは、常温である初期温度T0となっていると考えれば、電圧の印加後のヘッド温度Tは、基準供給電流I0が電極24間に通電された場合における通電の開始時からの経過時間Δtに従って上昇する。このことに鑑み、上記基準主ガス系統ヘッド圧力損失ΔPHM0,基準ヒートガス系統ヘッド圧力損失ΔPHH0は、簡単に言えば、次式で定まるヘッド温度Tに基づいて求められる。
T=T0+α・Δt α:係数
ここで、説明を単純化するために、圧力センサ62a〜62dによって検出されるガスの圧力である実圧力PA〜PD、および、基準となるガス圧である基準圧力PA0〜PD0を、実圧力Pおよび基準圧力P0として、一元化して扱う。つまり、反応ガス,2系統のキャリアガス,ヒートガスの供給経路(チューブ60等)およびヘッド14内におけるそれらのガスの流れ,疑似アークの発生状態等に異常が発生していない限り、当該プラズマ処理機の始動から電極24に電圧を印加して処理を開始するまでの間、実圧力PA〜PDも互いに同様の変化を、また、基準圧力PA0〜PD0も互いに同様の変化を呈するため、それら、実圧力PA〜PD,基準圧力PA0〜PD0を、特段の区別を必要としない場合において、単一のものとして扱うのである。
上述のように一元化すれば、マスフローコントローラ56の調整によって流速Fのガスがヘッド14に供給された場合の時間tの経過に伴う基準圧力P0の変化は、図5に示すようなものとなる。詳しく説明すれば、当該プラズマ処理機の始動開始により流速Fのガスの供給は開始され、基準圧力P0は上昇し、t1の時点で、基準圧力P0は、P0Aにおいて飽和する。そして、その後電極24への電圧の印加を開始すれば、基準供給電流I0が電極24間に流れた状態で疑似アークが発生し、時間tの経過とともに、つまり、経過時間Δtの増加に伴って、ヘッド温度Tは徐々に上昇し、基準圧力P0も徐々に高くなっていく。当該プラズマ処理機に上記異常が発生していない場合、つまり、正常である場合には、実圧力Pも、基準圧力P0に沿って変化する。
[D]プラズマ処理機における異常の検知と処理開始の許容
上述したようなガスの圧力の変化を考慮して、本プラズマ処理機では、制御装置であるコントローラ18が、検出された実圧力Pに基づいて、プラズマ処理機の異常を検知するとともに、当該プラズマ処理機による処理の開始を許容するように構成されている。
具体的に説明すれば、仮に、チューブ60が抜けていたり、また、チューブ60においてガスの漏れが生じていた場合等には、図5におけるt1の時点において、実圧力Pが基準圧力P0にまでは到達しない。そこで、(P0−P)が、閾圧差ΔP1を超えている場合には、チューブ60の抜け,ガスの漏れ等に起因する減圧異常が生じていることが検知される。逆に、ヘッド14のノズル30の詰りや、チューブ60の折れ曲がりがあった場合等には、t1の時点において、実圧力Pが基準圧力P0をある程度大きく超えてしまう。そこで、(P−P0)が、閾圧差ΔP2を超えている場合には、ノズル30の詰りやチューブ60の折れ曲がり等に起因する増圧異常が生じていることが検知される。
ちなみに、減圧異常の場合、圧力センサ62a〜62dのいずれの検出による実圧力Pが基準圧力P0にまでは到達しないかによって、どのチューブ60に異常が発生しているかが特定される。また、増圧異常の場合、圧力センサ62a〜62dのいずれの検出による実圧力Pが基準圧力P0をある程度大きく超えているかによって、例えば、どのチューブ60が曲がっているかが特定され、圧力センサ62a〜62cの各々の検出による実圧力Pが全て基準圧力P0をある程度大きく超えているときには、例えば、ノズル30の詰りが生じていると特定される。
上述の減圧異常,増圧異常が発生している場合には、コントローラ18は、作業者に対して、異常の内容の通知とともに警告を発する。減圧異常も増圧異常も生じていない場合には、コントローラ18は、ヘッド14の電極24に所定の電圧の印加を開始する。つまり、本プラズマ処理機では、電極24に電圧を印加する前に圧力センサ62によって検出されたガスの圧力(電圧印加前ガス圧)に基づいて、その印加前ガス圧が、設定圧(P0−ΔP1)に到達したことを必要条件として、かつ、その印加前ガス圧が、その設定圧より高く設定された設定圧(P0+ΔP2)以下であることを必要条件として、電極24への電圧の印可を開始するように構成されており、ガスの流れに対する異常、詳しく言えば、ガス供給装置であるガス供給部50から供給されるガスのヘッド14までの経路(例えば、チューブ60)と、ノズル30を含むヘッド14内のガスの経路との両方の異常を、早期に検知することが可能とされているのである。なお、それら2つの経路の一方の異常だけを検知するようにしてもよい。
また、電極24に電圧が印加されて、電極24間に電流Iが流れた場合には、ヘッド14が加熱されて、実圧力Pが徐々に上昇していくが、例えば、電極24の消耗,電源の失陥等に起因して適正な電流I(基準供給電流I0)が流れない事態、言い換えれば、電極24間の放電の状態が適切でない事態(アーク異常)が起きている場合には、基準圧力P0に対して実圧力Pが上昇しない、若しくは、上昇が遅くなってしまう。そこで、図5におけるt2の時点において、(P0−P)が閾圧差ΔP3を超えている場合には、アーク異常が生じていることが検知される。
アーク異常が生じている場合には、コントローラ18は、作業者に対して、異常の内容の通知とともに警告を発する。アーク異常が生じていない場合には、処理の開始が許容される。つまり、本プラズマ処理機では、電極24に電圧を印加した後に圧力センサ62によって検出されたガスの圧力である電圧印加後ガス圧に基づいて、その電圧印加後ガス圧が設定圧(P0−ΔP3)に到達したことを必要条件として、処理の開始を許容するように構成されているのである。詳しく言えば、電圧印加後ガス圧に基づいて、電極24間の放電の状態が適切であることを認知し、その認知に基づいて、処理の開始を許容するように構成されているのである。したがって、本プラズマ処理機では、例えば、電極24間を流れる電流Iを検出するための電流センサ,ヘッド14の温度を検出する温度センサに依らずとも、アーク異常を検知することが可能とされ、また、それらのセンサの検出に基づくアーク異常の検知とともに、圧力センサ62の検出に基づくアーク異常の検知を行えば、より確実なアーク異常の検知が可能となるのである。なお、電圧印加後ガス圧が設定圧(P0−ΔP3)に到達したことを必要条件として処理の開始を許容することは、電圧印加後ガス圧と電圧印加前ガス圧との差が設定差に到達したことを条件として処理の開始を許容することと、等価であると考えることができる。
なお、処理の開始を許容するための上述の手法では、電極24への電圧の印加の開始から設定時間Δt(=t2−t1)の経過後における電圧印加後ガス圧に基づいて、処理の開始を許容するようにしていたが、例えば、電極24への電圧の印加の開始後の実圧力Pの上昇勾配が設定勾配以上であることを条件に、処理の開始を許容するような手法や、電極24への電圧の印加の開始後の実圧力Pが設定圧となった時点がその開始の時点から設定時間以上経過していないことを条件に、処理の開始を許容するような手法を採用することも可能である。
[D]処理の開始を許容するまでの流れ
当該プラズマ処理機において上記処理の開始を許容するために、コントローラ18は、図6にフローチャートを示す処理開始プログラムを実行する。このプログラムは、当該プラズマ処理機が稼働させられた時点から、短い時間ピッチで繰り返し実行される。以下に、そのプログラムに従うコントローラ18の処理の流れを、そのフローチャートに沿って説明する。
まず、ステップ1(以下、「S1」と略す。他のステップも同様である)において、タイムカウンタのカウント値tがカウントアップされる。ちなみに、このカウント値tは、当該プログラムの最初の実行時には、0にセットされている。続くS2において、異常フラグFAの値が“1”であるか否かが判断される。この異常フラグFAは、上述の減圧異常,増圧異常,アーク異常のいずれかと認定された場合に“1”とされるフラグであり、フラグ値は、当該プログラムの最初の実行時には、“0”にセットされている。すでに異常が認定されている場合には、以下のステップはスキップされる。
異常が未だ認定されていないときには、次のS3において、電圧印加フラグFBの値が“1”であるか否かが判断される。電圧印加フラグFBは、既に電極24間に電圧が印加されている場合に“1”とされるフラグであり、フラグ値は、当該プログラムの最初の実行時には、“0”にセットされている。未だ電圧が印加されていない場合には、続くS4において、タイムカウンタのカウント値tに基づいて、当該プラズマ処理機の稼働の開始から、設定時間t1が経過した否かが判断される。設定時間t1が経過していない場合には、当該プログラムの1回の実行を終了する。
S4において設定時間t1が経過したと判断された場合には、S5において、タイムカウンタのカウント値tにおける基準圧力P0から実圧力Pを減じた値が、閾圧差ΔP1を超えているか否かが判断され、超えている場合には、S6において、上述の減圧異常と認定され、S7において、減圧異常である旨の警告が発せられるとともに、異常フラグFAが“1”とされる。
S5において上記基準圧力P0から実圧力Pを減じた値が閾圧差ΔP1以下である場合には、続くS8において、実圧力Pから基準圧力P0を減じた値が、閾圧差ΔP2を超えているか否かが判断され、超えている場合には、S9において、上述の増圧異常と認定され、S7において、増圧異常である旨の警告が発せられるとともに、異常フラグFAが“1”とされる。
S8において実圧力Pから基準圧力P0を減じた値が閾圧差ΔP2以下であると判断された場合には、S10において、電極24への電圧の印加が開始され、電極24間に疑似アークが発生させられる。そして、電圧印加フラグFBの値が“1”とされる。
電圧の印加後、すなわち、S3において、電極24に既に電圧が印加されていると判断された場合には、S4以降のステップはスキップされ、S11において、タイムカウンタのカウント値tに基づいて、当該プラズマ処理機の稼働の開始から、設定時間t2が経過した否か、すなわち、電圧が印加されてからの上記経過時間Δtが経過したか否かが判断される。設定時間t2が経過していない場合には、当該プログラムの1回の実行を終了する。
S11において設定時間t2が経過したと判断された場合には、S12において、タイムカウンタのカウント値tにおける基準圧力P0から実圧力Pを減じた値が、閾圧差ΔP3を超えているか否かが判断され、超えている場合には、S13において、上述のアーク異常と認定され、S7において、アーク異常である旨の警告が発せられるとともに、異常フラグFAが“1”とされる。
S12において上記基準圧力P0から実圧力Pを減じた値が閾圧差ΔP3以下である場合には、続くS14において、当該プラズマ処理機によるワークへのプラズマ処理の開始が許容される。この許容がなされることで、当該プログラムの繰り返しの実行が終了させられる。なお、当該プログラムに従う処理は、当該プラズマ処理機の稼働時に実行されるようにされていたが、1のワークに対するプラズマ処理が終了し、次のワークに対するプラズマ処理を行おうとする毎に実行されてもよい。
14:プラズマヘッド 16:電源・ガス供給ユニット 18:コントローラ〔制御装置〕 24:電極 30:ノズル 50:ガス供給部〔ガス供給装置〕 60:ガスチューブ 62:圧力センサ〔圧力検出器〕 P:実圧力 P0:基準圧力

Claims (7)

  1. プラズマ化されたガスによる処理を行うプラズマ処理機であって、
    電圧が印加された電極間においてガスをプラズマ化し、そのプラズマ化されたガスをノズルから放出するプラズマヘッドと、
    プラズマ化するガスを含むガスをプラズマヘッドに供給するガス供給装置と、
    ガス供給装置から供給されるガスの圧力を検出する圧力検出器と、
    当該プラズマ処理機の制御を司る制御装置と
    を備え、
    前記制御装置が、
    前記電極に電圧を印加した後に前記圧力検出器によって検出されたガスの圧力である電圧印加後ガス圧に基づいて、処理の開始を許容するように構成されたプラズマ処理機。
  2. 前記制御装置が、前記電圧印加後ガス圧に基づいて、前記電極間の放電の状態が適切であることを認知し、その認知に基づいて、処理の開始を許容するように構成された請求項1に記載のプラズマ処理機。
  3. 前記制御装置が、前記電圧印加後ガス圧が設定圧に到達したことを条件として処理の開始を許容するように構成された請求項1または請求項2に記載のプラズマ処理機。
  4. 前記制御装置が、前記電極への電圧の印加の開始から設定時間経過後における前記電圧印加後ガス圧に基づいて、処理の開始を許容するように構成された請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載のプラズマ処理機。
  5. 前記制御装置が、
    さらに、前記電極に電圧を印加する前に前記圧力検出器によって検出されたガスの圧力である電圧印加前ガス圧に基づいて、前記電極への電圧の印可を開始するように構成された請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載のプラズマ処理機。
  6. 前記制御装置が、
    前記電圧印加後ガス圧と前記電圧印加前ガス圧との差が、設定差に到達したことを条件として処理の開始を許容するように構成された請求項5に記載のプラズマ処理機。
  7. 前記制御装置が、
    前記電圧印加前ガス圧に基づいて、前記ガス供給装置から供給されるガスの前記プラズマヘッドまでの経路と、前記ノズルを含む前記プラズマヘッド内のガスの経路との少なくとも一方の異常を検知するように構成された請求項5または請求項6に記載のプラズマ処理機。
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