JP6939022B2 - 触媒反応器 - Google Patents

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Description

本発明は、触媒反応を遂行する触媒反応器に関する。
触媒反応器は、反応流体の流路（以下、反応側流路と称する）と、反応側流路内に設置された触媒構造体或いは反応側流路の内面に担持された触媒と備えており、触媒反応により反応流体の改質、加熱、冷却、他の物質との熱交換等を行う装置である。触媒反応器における反応場を一定に保った上で反応流体の流路の断面積を小さくすると、単位体積当たりの反応流体と触媒の接触面積（比表面積）が向上する。そのため、伝熱効率を高め、反応速度や収率を向上させることができる。特許文献１及び特許文献２には、上述の関連技術が示されている。
特開２００２−１４３６７５号公報 特開２０１４−１５１２４５号公報
反応側流路に触媒構造体が設置される場合、反応側流路と触媒構造体の摩擦を低減して触媒構造体の挿入や取出しを容易にするため、触媒構造体と反応側流路の内面との間に所定のクリアランス（隙間）が設けられる。クリアランスは、触媒構造体の挿入や取出しに不可欠である一方で、反応流体を触媒に反応しないまま流通させてしまう空間でもある。つまり、クリアランスは触媒反応器の反応性能を低下させる要因の１つである。
本発明はこのような事情を鑑みて成されたものであって、触媒構造体の挿入や取出しを容易にしつつ、反応性能を向上させることが可能な触媒反応器の提供を目的とする。
本開示の一態様は触媒反応器であって、反応流体が流れる反応側流路と、前記反応側流路内に収容される第１の触媒構造体及び第２の触媒構造体とを備え、前記第１の触媒構造体は、前記第２の触媒構造体に対向する面の少なくとも一部に第１の傾斜面を含み、前記第２の触媒構造体は、前記第１の触媒構造体に対向する面の少なくとも一部に、前記第１の傾斜面に対向する第２の傾斜面を含み、前記第１の傾斜面及び前記第２の傾斜面は、前記第1の触媒構造体及び前記第２の触媒構造体の配列方向に対して同方向に傾斜し、前記第１の触媒構造体及び前記第２の触媒構造体は、前記第１の傾斜面の少なくとも一部及び前記第２の傾斜面の少なくとも一部が互いに接触した状態で、前記配列方向に対して同一の方向に傾斜し、各前記触媒構造体の傾斜によって、各前記触媒構造体と前記反応側流路の内面との間のクリアランスが、前記反応側流路内で各前記触媒構造体が傾斜していないときの値よりも減少していることを要旨とする。
前記第１の傾斜面は、前記第２の触媒構造体に対向する面の全面に形成されていてもよい。前記第２の傾斜面は、前記第１の触媒構造体に対向する面の全面に形成されていてもよい。
前記反応側流路の内面には、前記第１の傾斜面の端部或いは前記第２の傾斜面の端部に当接する突出部又は段差部が形成されていてもよい。前記配列方向に対する前記第１の傾斜面の傾斜角と前記配列方向に対する前記第２の傾斜面の傾斜角は互いに異なる値を有してもよい。前記第１の傾斜面は、前記第１の触媒構造体のうちの前記第２の触媒構造体に対向する前記面の一部のみに形成されてもよく、 前記第２の傾斜面は、前記第２の触媒構造体のうちの前記第１の触媒構造体に対向する前記面の一部のみに形成されてもよい。
本発明によれば、触媒構造体の挿入や取出しを容易にしつつ、反応性能を向上させることが可能な触媒反応器を提供することができる。
本発明の実施形態に係る触媒反応器の斜視図である。 本発明の実施形態に係る触媒構造体の側面図である。 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面の拡大図である。 本発明の実施形態に係る触媒構造体を反応側流路内に設置を説明するための図である。 本発明の実施形態に係る触媒構造体の変形例を示す図であり、（ａ）は第１変形例、（ｂ）は第２変形例、（ｃ）及び（ｄ）は第３変形例、（ｅ）及び（ｆ）は第４変形例を示す図である。 本発明の実施形態に係る触媒反応器の変形例を触媒構造体の配列方向から見た図である。 本発明の実施形態に係る触媒反応器における反応側流路の変形例を示す図である。 本発明の実施形態に係る触媒反応器における治具を示す図である。
以下、本発明の実施形態に係る触媒反応器について添付図面に基づいて説明する。なお、各図において共通する部分には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
図１は本実施形態に係る触媒反応器の斜視図である。図１に示すように、本実施形態に係る触媒反応器は、反応側流路１０と、複数の触媒構造体２０とを備えている。なお、図中のＸ、Ｙ、Ｚ方向（軸）は互いに直交しているものとする。
反応側流路１０は筒状の構造を有し、反応対象としての気体或いは液体である反応流体の流通空間１１を形成する。流通空間１１はＺ方向に直交する矩形の断面を有する。図１に示すように、流通空間１１はＺ方向に延伸し、反応流体の流通方向を規定する。即ち、反応流体は流入口１２から流入し、Ｚ方向に流れた後、流出口１３から流出する。本実施形態において、流通空間１１はＺ方向に直交する矩形の断面を有する。この矩形のＹ方向の長さ（高さ）はｈ１であり、Ｘ方向の長さ（幅）はｗ１である。
反応側流路１０の材料は、金属材料（例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ等）、ニッケル（Ｎｉ）基合金（インコネル（登録商標）、ハステロイ（登録商標）、ヘインズ（登録商標））等の耐熱金属）である。反応側流路１０の構造は、これらの何れの材料を用いて予め一体的に形成されてもよく、互いに別体の部材を溶接等で接合して形成されてもよい。
反応側流路１０は互いに平行に複数設けられてもよい。また、反応側流路１０に隣接して熱媒体の流路（図示せず）（以下、熱媒側流路と称する）が設けられていてもよい。熱媒側流路（図示せず）の熱媒体は、反応側流路１０内の反応流体が発生した熱を吸収する、あるいは、反応側流路１０内の反応流体に熱を付与する。即ち、熱媒側流路（図示せず）は反応側流路１０との間で熱交換を行い、反応流体の反応に応じて反応側流路１０を（間接的に反応流体を）冷却または加熱する。
図２は本実施形態に係る触媒構造体２０の側面図である。図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面の拡大図である。図１に示すように、触媒構造体２０は反応側流路１０に対して別体として複数形成され、反応側流路１０内に収容される。触媒構造体２０は反応側流路１０内に着脱可能に収容されてもよく、反応側流路１０内に嵌合した状態で固定されていてもよい。触媒構造体２０が着脱可能に収容される場合、反応側流路１０の再利用が可能となる。一方、反応対象の性質（例えば毒性）により、触媒構造体２０の交換作業が不要の場合もある。この場合、触媒構造体２０は反応側流路１０内に嵌合した状態で固定されていれば十分である。
複数の触媒構造体２０は、反応側流路１０の延伸方向であるＺ方向に配列する（図４参照）。また図２及び図３に示すように、触媒構造体２０は触媒を担持した波板によって構成され、流入口１２側及び流出口１３側が傾斜した箱体状の外形を有する。
反応側流路１０の流通空間１１と同様に、触媒構造体２０の外形もＺ方向に直交する矩形の断面を有する。この矩形のＹ方向の長さ（高さ）はｈ２であり、Ｘ方向の長さ（幅）はｗ２である。これらの値は、流通空間１１内の触媒構造体２０の滑動（着脱）を許容するように、流通空間１１のＹ方向の長さ（高さ）ｈ１やＸ方向の長さ（幅）ｗ１よりも小さな値に設定されている。本実施形態では、ｈ１とｈ２との差によって、Ｙ方向における触媒構造体２０と反応側流路１０の内面１５との間にはクリアランスｇ（図４参照）が生じている。
また、
触媒構造体２０は、Ｚ方向における一方側の面２１の少なくとも一部に傾斜面（第１の傾斜面）２１ａを含む。また、触媒構造体２０は、Ｚ方向における他方側の面２２の少なくとも一部に傾斜面（第２の傾斜面）２２ａを含む。例えば図２に示すように、傾斜面２１ａは面２１の全面に形成され、傾斜面２２ａは面２２の全面に形成されている。傾斜面２１ａ及び傾斜面２２ａは、Ｚ方向（即ち触媒構造体２０の配列方向）に対して同一の方向に傾斜している。例えば、Ｚ方向に対する傾斜面２１ａの傾斜角αとＺ方向に対する傾斜面２２ａの傾斜角βは互いに等しい。
図３に示すように、触媒構造体２０は上述の外形を含めた全体の構造を規定する基材２３と、基材２３の表面に形成された触媒層２４とを有する。基材２３は、流通空間１１をＺ方向に延伸する複数の空間に区画する構造を有し、例えば図３に示すように、Ｘ方向に起伏する波板によって構成される。なお、基材２３はＸ方向及びＹ方向に二次元的に配列し、Ｚ方向に延伸する複数の細管からなる複合体であってもよい。
基材２３が波板で構成される場合、基材２３は、流通空間１１を上述の複数の空間に仕切る複数の仕切部２５と、仕切部２５の縁部を連結する連結部２６とを有する。仕切部２５と連結部２６は一体的に形成され、全体として波板を構成する。例えば、各仕切部２５はＹ−Ｚ平面に平行に設けられ、各連結部２６はＸ方向に沿って仕切部２５を跨ぎながら交互に位置し、隣接する２つの仕切部２５を連結する。なお、連結部２６は平面でもよく曲面でもよい。何れの場合も連結部２６は、触媒構造体２０が流通空間１１内で傾斜したときに流通空間１１の内面１５に近づく面及び離れる面に位置する。換言すれば、触媒構造体２０の傾斜は或る軸を支点とする回転とも言えるので、連結部２６はこの回転方向に向かう面に配されているとも言える。後述の通り、連結部２６は、触媒構造体２０が隣の触媒構造体に接触しながら傾斜するときに、隣の触媒構造体の仕切部に当接し、仕切部２５が隣の触媒構造体の間に浸入することを防止する。
なお、基材２３の材質は、Ｆｅ（鉄）、Ｃｒ（クロム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｙ（イットリウム）を主成分とする耐熱合金、例えば、Ｆｅｃｒａｌｌｏｙ（登録商標）等の金属である。触媒層２４の担体は、触媒反応器で遂行する反応によって適宜選択される。担体は、例えば、Ａｌ２Ｏ３（アルミナ）、ＴｉＯ２（チタニア）、ＺｒＯ２（ジルコニア）、ＣｅＯ２（セリア）、ＳｉＯ２（シリカ）の群から選択される１または複数である。触媒層２４の触媒（活性金属）は、触媒反応器で遂行する反応によって適宜選択される。触媒は、例えば、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｏ（コバルト）、Ｆｅ（鉄）、Ｐｔ（白金）、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）、Ｐｄ（パラジウム）の群から選択される１または複数である。
図４は、本実施形態に係る触媒構造体２０を反応側流路１０内に設置を説明するための図である。説明の便宜上、Ｚ方向を水平方向とする。また、反応側流路１０内に挿入される２つの触媒構造体２０の一方を第１の触媒構造体２０Ａと称し、他方を第２の触媒構造体２０Ｂと称する。
上述の通り、第１の触媒構造体２０Ａは、第２の触媒構造体２０Ｂに対向する面２１の少なくとも一部に傾斜面（第１の傾斜面）２１ａを含む。一方、第２の触媒構造体２０Ｂは、第１の触媒構造体２０Ａに対向する面２２の少なくとも一部に、第１の傾斜面に対向する傾斜面（第２の傾斜面）２２ａを含む。傾斜面２１ａ及び傾斜面２２ａは、各触媒構造体２０Ａ、２０Ｂの配列方向（即ちＺ方向）に対して同方向に傾斜している。後述の通り、第１の触媒構造体２０Ａ及び第２の触媒構造体２０Ｂは、傾斜面２１ａの少なくとも一部及び傾斜面２２ａの少なくとも一部が互いに接触した状態で、配列方向に対して同一の方向に傾斜する。
まず、第１の触媒構造体２０Ａが反応側流路１０の開口部（例えば流入口１２）に挿入され、所定の位置に配置される。その後、第２の触媒構造体２０Ｂが反応側流路１０の開口部（例えば流入口１２）に挿入される。第２の触媒構造体２０Ｂは第１の触媒構造体２０Ａに当接し、第１の触媒構造体２０Ａを押圧する。このとき、第２の触媒構造体２０Ｂの傾斜面２２ａは、第１の触媒構造体２０Ａの傾斜面２１ａに摺動可能に当接しつつ、傾斜面２１ａを押圧する。この押圧により、傾斜面２１ａにはＹ方向への力が加わり、第１の触媒構造体２０Ａの傾斜面２１ａ側がＹ方向に移動する。
即ち、傾斜面２２ａを含む第２の触媒構造体２０Ｂの突出構造が、第１の触媒構造体２０Ａと反応側流路１０の内面１５との間に挿入される楔として機能し、第１の触媒構造体２０Ａの傾斜面２１ａ側の部分をＹ方向に押し上げる（掬い上げる）。また、傾斜面２１ａは、この突出構造の挿入を補助（ガイド）する。この結果、第１の触媒構造体２０ＡはＺ方向に対して傾斜し、第１の触媒構造体２０Ａの傾斜面２１ａの縁部が、挿入当初に接触していた反応側流路１０の内面１５と第１の触媒構造体２０Ａを挟んで反対側の内面１５に当接する。
第２の触媒構造体２０Ｂは、その次に挿入された触媒構造体２０によって押圧され、第１の触媒構造体２０Ａと同様に傾斜する。このような作業が繰り返され、各触媒構造体２０はＺ方向に配列すると共に、Ｚ方向に傾斜する（図４参照）。つまり、第１の触媒構造体２０Ａ及び第２の触媒構造体２０Ｂは、傾斜面２１ａの少なくとも一部及び傾斜面２２ａの少なくとも一部が互いに接触した状態で、Ｚ方向（配列方向）に対して傾斜する。
上述の通り、Ｙ方向における触媒構造体２０と反応側流路１０の内面１５との間には、長さ（高さ）ｈ１と長さ（高さ）ｈ２との差によるクリアランスｇ（図４参照）が生じている。第１の触媒構造体２０Ａは、このクリアランスｇによって生じた開口部分を極力塞ぐように傾斜する。従って、クリアランスｇ内を流れる反応流体は触媒構造体２０を通過することになる。換言すれば、触媒構造体２０に接触することなく反応側流路１０を通過してしまう反応流体の量（割合）が減少する。これにより、反応流体と触媒構造体２０との反応を促進させることができる。つまり、触媒反応器の反応性能を向上させることができる。一方、クリアランスｇが設けられていることから、触媒構造体２０と触媒構造体２０の内面１５との間の摩擦は低減されている。従って、触媒構造体２０の挿入や取出しが容易な点は維持される。
本実施形態において、傾斜面２１ａは、Ｚ方向における一方側の面２１の全面に形成されている。同様に、傾斜面２２ａは、Ｚ方向における他方側の面２２の全面に形成されている。第１の触媒構造体２０Ａと第２の触媒構造体２０Ｂに着目すれば、傾斜面２１ａは、第１の触媒構造体２０Ａにおいて第２の触媒構造体２０Ｂに対向する面の全面に形成され、傾斜面２２ａは、第２の触媒構造体２０Ｂにおいて第１の触媒構造体２０Ａに対向する面の全面に形成されている。このような面は容易であるため、触媒構造体２０を大量に製造する際には製造コストの削減に寄与する。また、流通空間１１における反応流体との接触面積を極力大きくすることができる。
なお、触媒構造体２０は上下を逆にして挿入されてもよい。その場合、傾斜面２１ａを含む第１の触媒構造体２０Ａの突出構造が、第２の触媒構造体２０Ｂと反応側流路１０の内面１５との間に挿入される楔として機能し、第２の触媒構造体２０Ｂの傾斜面２２ａ側の部分をＹ方向に押し上げる（掬い上げる）。
図５は、本実施形態に係る触媒構造体２０の変形例を示す図であり、（ａ）は第１変形例、（ｂ）は第２変形例、（ｃ）及び（ｄ）は第３変形例、（ｅ）及び（ｆ）は第４変形例を示す図である。図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、Ｚ方向に対する傾斜面２１ａの傾斜角αとＺ方向に対する傾斜面２２ａの傾斜角βは互いに異なる値でもよい。即ち、図５（ａ）に示すように傾斜角αは傾斜角βよりも小さくてもよく、図５（ｂ）に示すように、傾斜角αは傾斜角βよりも大きくてもよい。何れの場合も、隣接する２つの触媒構造体２０、２０間の摩擦を低減させることでき、Ｚ方向に対する触媒構造体２０の傾斜を容易にする。
上述の通り、傾斜面２２ａは、傾斜面２２ａに対向する触媒構造体２０の傾斜面２１ａ側の部分をＹ方向に押し上げる。この機能を損なわない限り、傾斜面２１ａ及び傾斜面２２ａは、それぞれを含む面の一部に形成されていてもよい。例えば図５（ｃ）及び図５（ｄ）に示すように、傾斜面２１ａは面２１の一部に形成され、傾斜面２２ａも傾斜面２１ａと対応する面２２の一部に形成される。或いは、図５（ｅ）及び図５（ｆ）に示すように、傾斜面２１ａが面２１の一部に形成される一方で、傾斜面２２ａは面２２の全面に形成されていてもよい。
図６は、本実施形態に係る触媒反応器の変形例を触媒構造体２０の配列方向（Ｚ方向）から見た図である。この変形例のように、反応側流路１０の流通空間１１の断面及び触媒構造体２０の断面は矩形に限られない。即ち、反応側流路１０は直径ｄ１の円形の断面をもった流通空間１１を有してもよく、触媒構造体２０の外形は直径ｄ２（＜ｄ１）の円形の断面を有する円筒状に形成されてもよい。また、傾斜面２１ａと傾斜面２２ａは、Ｚ方向に対して同方向に傾斜しているだけでなく、触媒構造体２０の中心軸を基準として互いにねじれの関係（位置）にあってもよい。傾斜面２１ａと傾斜面２２ａがねじれの関係にある場合、傾斜面２１ａと傾斜面２２ａがねじれの関係にない場合よりも、クリアランスｇ（＝ｄ１−ｄ２）によって生じた開口部分を極力塞ぐことが可能である。その他の構成については上述の実施形態と同一である。
図７は、本実施形態に係る触媒反応器における反応側流路の変形例を示す図である。図７に示すように、反応側流路１０の内面１５には、傾斜面２１ａの端部或いは傾斜面２２ａの端部に当接する突出部１６が形成されていてもよい。突出部１６は反応側流路１０の内側に向けて内面１５から突出しており、触媒構造体２０が挿入される反応側流路１０の開口部（例えば流入口１２）と反対側の開口部（例えば流出口１３）の近傍に位置する。突出部１６は最初に反応側流路１０に挿入された触媒構造体２０の傾斜面２１ａの端部或いは傾斜面２２ａの端部に当接し、当該触媒構造体２０の更なる挿入（移動）を規制する。これにより、図中の矢印で示すように、最初に挿入された触媒構造体２０を傾斜させることが容易になり、挿入された触媒構造体２０の不測の移動も規制できる。なお、図中の点線で示すように、突出部１６の代わりに段差部１７が形成されてもよい。段差部１７は、反応側流路１０の内面１５において触媒構造体２０が配置される部分１５ａと触媒構造体２０が配置されない部分１５ｂとの境界に形成され、部分１５ｂは部分１５ａよりも反応側流路１０の内側に位置する。
図８は、本実施形態に係る触媒反応器における治具３０を示す図である。この図に示すように、図７に示す突出部１６や段差部１７の代わりに、治具３０を用いてもよい。治具３０は例えばＴ字状の形状を有し、図７に示す突出部１６や段差部１７と同様に、触媒構造体２０の移動を規制する。ただし、突出部１６や段差部１７とは違い、治具３０は反応側流路１０内に着脱可能に設けられる。また、治具３０は反応側流路１０の流入口１２側と流出口１３側のうちの少なくとも一方に設置される。
図８に示すように、治具３０は、反応側流路１０の内面１５上に設置されるストッパ３１と、ストッパ３１の位置を規定すると共にストッパ３１を支持する支持部３２とを備える。ストッパ３１と支持部３２は個別に形成されてもよく、一体的に形成されてもよい。ストッパ３１は反応側流路１０の内面１５に沿って反応側流路１０の延伸方向に直交する方向（即ちＸ方向）に延伸する棒状に形成され、反応側流路１０の内面１５上に位置する。また、ストッパ３１は、傾斜面２１ａの端部或いは傾斜面２２ａの端部に当接している。ストッパ３１は、例えば、反応側流路１０と同様の金属材料を用いて形成されている。
支持部３２は、ストッパ３１に当接した触媒構造体２０と反対側の位置に置かれ、当該ストッパ３１を支持する。支持部３２は反応側流路１０の延伸方向（即ちＺ方向）に延伸する棒状に形成され、当該ストッパ３１を支持する。支持部３２の一端はストッパ３１に接触（接続）する。一方、支持部３２の他端は、例えば、反応側流路１０の流出口１３或いは流入口１２に面した壁面１８に当接する。壁面１８は、例えば、反応側流路１０と連続的に繋がっている流路の内面である。或いは、支持部３２の他端は、締結部材（図示せず）を用いて、壁面１８や反応側流路１０の内面１５に固定されてもよい。なお、ストッパ３１と同じく、支持部３２も、例えば、反応側流路１０と同様の金属材料を用いて形成される。ただし、支持部３２はバネなどの弾性部材で構成されてもよい。
上述の通り、治具３０は反応側流路１０に対して着脱可能に設けられる。従って、突出部１６や段差部１７のように、内面１５自体に加工を施す必要が無い。従って、触媒構造体２０の形状に応じた寸法や形状を容易に設定できる。また、段差部１７を形成した場合と比べて、下流側の反応側流路１０の断面積を狭めないので、反応側流路１０における圧損の増加を抑制できる。
本発明は上述の実施形態に限定されず、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
１０…反応側流路、１１…流通空間、１２…流入口、１３…流出口、１５…内面、１６…突出部、１７…段差部、２０…触媒構造体、２０Ａ…第１の触媒構造体、２０Ｂ…第２の触媒構造体、２１…面、２１ａ…傾斜面（第１の傾斜面）、２２…面、２２ａ…傾斜面（第２の傾斜面）、２３…基材、２４…触媒層、２５…仕切部、２６…連結部、ｄ１…直径、ｄ２…直径、ｇ…クリアランス、３０…治具、３１…ストッパ、３２…支持部

Claims (5)

  1. 反応流体が流れる反応側流路と、
    前記反応側流路内に収容される第１の触媒構造体及び第２の触媒構造体と
    を備え、
    前記第１の触媒構造体は、前記第２の触媒構造体に対向する面の少なくとも一部に第１の傾斜面を含み、
    前記第２の触媒構造体は、前記第１の触媒構造体に対向する面の少なくとも一部に、前記第１の傾斜面に対向する第２の傾斜面を含み、
    前記第１の傾斜面及び前記第２の傾斜面は、前記第１の触媒構造体及び前記第２の触媒構造体の配列方向に対して同方向に傾斜し、
    前記第１の触媒構造体及び前記第２の触媒構造体は、前記第１の傾斜面の少なくとも一部及び前記第２の傾斜面の少なくとも一部が互いに接触した状態で、前記配列方向に対して同一の方向に傾斜し、
    各前記触媒構造体の傾斜によって、各前記触媒構造体と前記反応側流路の内面との間のクリアランスが、前記反応側流路内で各前記触媒構造体が傾斜していないときの値よりも減少している
    触媒反応器。
  2. 前記第１の傾斜面は、前記第２の触媒構造体に対向する面の全面に形成され、
    前記第２の傾斜面は、前記第１の触媒構造体に対向する面の全面に形成されている
    請求項１に記載の触媒反応器。
  3. 前記反応側流路の内面には、前記第１の傾斜面の端部或いは前記第２の傾斜面の端部に当接する突出部又は段差部が形成されている請求項１または２に記載の触媒反応器。
  4. 前記配列方向に対する前記第１の傾斜面の傾斜角と前記配列方向に対する前記第２の傾斜面の傾斜角は互いに異なる値を有する請求項１に記載の触媒反応器。
  5. 前記第１の傾斜面は、前記第１の触媒構造体のうちの前記第２の触媒構造体に対向する前記面の一部のみに形成され、
    前記第２の傾斜面は、前記第２の触媒構造体のうちの前記第１の触媒構造体に対向する前記面の一部のみに形成される請求項１に記載の触媒反応器。
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