JP6937867B2 - 化合物 - Google Patents

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Description

本発明の一態様は、有機金属錯体に関する。特に、三重項励起エネルギーを発光に変換で
きる有機金属錯体に関する。また、有機金属錯体を用いた発光素子、発光装置、電子機器
、及び照明装置に関する。
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の
一態様の技術分野は、物、物質、方法、または、製造方法に関する。また、本発明の一態
様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・
マター)に関する。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分
野としては、半導体装置、表示装置、液晶表示装置、蓄電装置、記憶装置、撮像装置、そ
れらの駆動方法、または、それらの製造方法等、を一例として挙げることができる。
近年、エレクトロルミネッセンス(Electroluminescence:EL)を
利用した発光素子の研究開発が盛んに行われている。これら発光素子の基本的な構成は、
一対の電極間に発光性の物質を含む層(EL層)を挟んだものである。この素子に電圧を
印加することにより、発光性の物質からの発光が得られる。
上述の発光素子は自発光型であるため、これを用いた表示装置は、視認性に優れ、バック
ライトが不要であり、消費電力が少ない等の利点を有する。さらに、薄型軽量に作製でき
、応答速度が高いなどの利点も有する。
発光物質に有機金属錯体を用い、一対の電極間に当該有機金属錯体を含むEL層を設けた
有機EL素子の場合、一対の電極間に電圧を印加することにより、陰極から電子が、陽極
から正孔(ホール)がそれぞれ発光性のEL層に注入され、電流が流れる。そして、注入
された電子及び正孔が再結合することによって当該有機金属錯体が励起状態となり、励起
された当該有機金属錯体から発光を得ることができる。
有機金属錯体が形成する励起状態の種類としては、一重項励起状態(S)と三重項励起
状態(T)があり、一重項励起状態からの発光が蛍光、三重項励起状態からの発光が燐
光と呼ばれている。また、発光素子におけるそれらの統計的な生成比率は、S:T
1:3であると考えられている。
また、上記有機金属錯体のうち、一重項励起エネルギーを発光に変換することが可能な化
合物は蛍光性化合物(蛍光材料)と呼ばれ、三重項励起エネルギーを発光に変換すること
が可能な化合物は燐光性化合物(燐光材料)と呼ばれる。
また、蛍光材料を用いた発光素子における内部量子効率(注入したキャリアに対して発生
するフォトンの割合)の理論的限界は、S:T=1:3であることを根拠に25%、
燐光材料を用いた発光素子における内部量子効率の理論的限界は、75%とされている。
そのため、蛍光材料を用いた発光素子より、燐光材料を用いた発光素子の方が、高い発光
効率を得ることが可能となる。したがって、三重項励起エネルギーを発光に変換すること
が可能な燐光材料の開発が近年盛んに行われている。特に、その燐光量子収率の高さゆえ
に、イリジウム等を中心金属とする有機金属錯体が注目されている(例えば、特許文献1
、特許文献2、特許文献3参照。)。
特開2007−137872号公報 特開2008−069221号公報 国際公開第2008/035664号
上述した特許文献1乃至特許文献3において報告されているように様々な発光色を示す燐
光材料の開発が進んでいるが、発光効率の優れた赤色材料の報告が少ないのが現状である
そこで、本発明の一態様では、燐光を発光することが可能な新規有機金属錯体を提供する
。または、赤色の燐光を発光することができる新規有機金属錯体を提供する。または、発
光効率の高い新規有機金属錯体を提供する。または、該新規有機金属錯体を用いた発光素
子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供する。
または、発光効率の高い発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供する。
または、信頼性の高い発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供する。ま
たは、消費電力が低い発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供する。ま
たは、新規な発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供する。
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一
態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。なお、これら以外の課題
は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図
面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
本発明の一態様は、金属と、配位子とを有し、配位子は5H−ピリミド[5,4−b]イ
ンドール骨格と、5H−ピリミド[5,4−b]インドール骨格の4位で結合するアリー
ル基とを有し、金属はイリジウムまたは白金であり、5H−ピリミド[5,4−b]イン
ドール骨格の3位及びアリール基は、それぞれ金属に結合することを特徴とする有機金属
錯体である。
また、本発明の別の一態様は、金属と、第1の配位子と、第2の配位子とを有し、第1の
配位子は5H−ピリミド[5,4−b]インドール骨格と、5H−ピリミド[5,4−b
]インドール骨格の4位で結合するアリール基とを有し、第2の配位子はβ−ジケトン構
造、カルボキシル基、フェノール性水酸基、または2つの配位元素がいずれも窒素である
構造を有したモノアニオン性の二座キレート配位子であり、金属はイリジウムまたは白金
であり、第1の配位子が有する5H−ピリミド[5,4−b]インドール骨格の3位及び
アリール基は、それぞれ金属と結合し、第2の配位子と金属が結合した有機金属錯体であ
る。
また、本発明の別の一態様は、一般式(G1)で表される構造を含む有機金属錯体である
Figure 0006937867
但し、一般式(G1)中、Mはイリジウムまたは白金を表す。またArは、置換もしくは
無置換の炭素数6乃至13のアリール基を表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置
換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃
至10のアリール基を表す。
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G2)で表される有機金属錯体である。
Figure 0006937867
但し、一般式(G2)中、Mはイリジウムまたは白金を表し、Lはモノアニオン性の配位
子を表す。またArは、置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリール基を表し、R
乃至Rは、それぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基
、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。また、Mがイリジウ
ムの場合、mは3を表しnは2または3を表し、Mが白金の場合、mは2を表しnは1ま
たは2を表す。
また、一般式(G2)において、モノアニオン性の配位子はβ−ジケトン構造、カルボキ
シル基、フェノール性水酸基、または2つの配位元素がいずれも窒素である構造を有した
モノアニオン性の二座キレート配位子であることが好ましい。特に、β−ジケトン構造を
有するモノアニオン性の二座キレート配位子であると、β−ジケトン構造を有することで
、有機金属錯体の有機溶媒への溶解性が高まり、精製が容易となり好ましい。また、β−
ジケトン構造を有することで、発光効率の高い有機金属錯体を得ることができるため好ま
しい。また、β−ジケトン構造を有することで昇華性が高まり、蒸着性能に優れるという
利点がある。
また、上記各構成において、モノアニオン性の配位子は、一般式(L1)乃至(L7)の
いずれか一であることが好ましい。これらの配位子は配位能力が高く、また、安価に入手
することができる為、有効である。
Figure 0006937867
但し、式中、R71乃至R109は、それぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数
1乃至6のアルキル基、ハロゲン基、ビニル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6の
ハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルコキシ基、又は置換もしく
は無置換の炭素数1乃至6のアルキルチオ基を表す。また、A乃至Aはそれぞれ独立
に窒素、水素と結合する炭素、又は置換基を有する炭素を表し、置換基としては炭素数1
乃至6のアルキル基、ハロゲン基、炭素数1乃至6のハロアルキル基、又はフェニル基を
表す。
また、本発明の別の一態様は、一般式(G3)で表される有機金属錯体である。
Figure 0006937867
但し、一般式(G3)中、Arは置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリール基を
表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアル
キル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。R及びR
はそれぞれ独立に水素、または置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G4)で表される有機金属錯体である。
Figure 0006937867
但し、一般式(G4)中、Arは置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリール基を
表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアル
キル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。
なお、上記一般式(G1)乃至(G4)中の、R乃至Rにおける炭素数1乃至6のア
ルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘ
キシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、ネオヘキシル基、3−メチルペ
ンチル基、2−メチルペンチル基、2−エチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2
,3−ジメチルブチル基等が挙げられる。また、R乃至Rにおける炭素数6乃至10
のアリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。さらに、Ar
における炭素数6乃至13のアリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、
ナフチル基、フルオレニル基などを挙げることができる。
また、本発明の別の一態様は、下記構造式(100)で表される有機金属錯体である。
Figure 0006937867
また、本発明の別の一態様は、下記構造式(127)で表される有機金属錯体である。
Figure 0006937867
また、本発明の一態様である有機金属錯体は燐光を発光することができる。すなわち三重
項励起状態からの発光を得ることが可能であるため、発光素子に適用することにより高効
率化が可能となり、非常に有効である。したがって本発明の一態様は、本発明の一態様で
ある有機金属錯体を用いた発光素子も含むものとする。
また、本発明の一態様は、発光素子を有する発光装置だけでなく、発光装置を有する電子
機器および照明装置も範疇に含めるものである。従って、本明細書中における発光装置と
は、画像表示デバイス、または光源(照明装置含む)を指す。また、発光装置にコネクタ
ー、例えばFPC(Flexible Printed Circuit)もしくはTC
P(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TCP
の先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子にCOG(Chip O
n Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも全て発光装
置に含むものとする。
本発明の一態様により、燐光を発光することが可能な新規有機金属錯体を提供することが
できる。または、赤色の燐光を発光することができる新規有機金属錯体を提供することが
できる。または、発光効率の高い新規有機金属錯体を提供することができる。または、該
新規有機金属錯体を用いた発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供する
ことができる。
または、発光効率の高い発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供するこ
とができる。または、信頼性の高い発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を
提供することができる。または、消費電力が低い発光素子、発光装置、電子機器、もしく
は照明装置を提供することができる。または、新規な有機金属錯体を提供することができ
る。または、新規な発光素子、発光装置、電子機器、もしくは照明装置を提供することが
できる。
発光素子の構造について説明する図。 発光素子の構造について説明する図。 発光装置について説明する図。 電子機器について説明する図。 電子機器について説明する図。 車載表示装置について説明する図。 照明装置について説明する図。 照明装置について説明する図。 タッチパネルの一例を示す図。 タッチパネルの一例を示す図。 タッチパネルの一例を示す図。 タッチセンサのブロック図及びタイミングチャート。 タッチセンサの回路図。 構造式(100)に示す有機金属錯体のH−NMRチャート。 構造式(100)に示す有機金属錯体の紫外・可視吸収スペクトル及び発光スペクトル。 構造式(100)に示す有機金属錯体のLC−MS測定結果を示す図。 構造式(100)に示す有機金属錯体のLC−MS測定結果を示す図。 発光素子について説明する図。 発光素子1の電圧−輝度特性を示す図。 発光素子1の輝度−電流効率特性を示す図。 発光素子1の輝度−外部量子効率特性を示す図。 発光素子1の信頼性を示す図。 発光素子1の発光スペクトルを示す図。
以下、本発明の実施の態様について図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の
説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を
様々に変更し得ることが可能である。従って、本発明は以下に示す実施の形態および実施
例の記載内容に限定して解釈されるものではない。
(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様である有機金属錯体について説明する。
本発明の一態様である有機金属錯体は、金属と、配位子とを有し、配位子は5H−ピリミ
ド[5,4−b]インドール骨格と、5H−ピリミド[5,4−b]インドール骨格の4
位で結合するアリール基とを有し、金属はイリジウムまたは白金であり、5H−ピリミド
[5,4−b]インドール骨格の3位及びアリール基は、それぞれ金属に結合することを
特徴とする有機金属錯体である。なお、本実施の形態で説明する有機金属錯体の一態様は
、下記一般式(G1)で表される構造を含む有機金属錯体である。
Figure 0006937867
一般式(G1)において、Mはイリジウムまたは白金を表す。またArは置換もしくは無
置換の炭素数6乃至13のアリール基を表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換
もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至
10のアリール基を表す。
また、本実施の形態で説明する有機金属錯体の一態様は、下記一般式(G2)で表される
有機金属錯体である。
Figure 0006937867
一般式(G2)において、Mはイリジウムまたは白金を表し、Lはモノアニオン性の配位
子を表す。またArは置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリール基を表し、R
乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、又
は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。また、Mがイリジウムの
場合、mは3を表しnは2または3を表し、Mが白金の場合、mは2を表しnは1または
2を表す。
なお、一般式(G2)におけるモノアニオン性の配位子は、β−ジケトン構造、カルボキ
シル基、フェノール性水酸基、または2つの配位元素がいずれも窒素である構造を有した
モノアニオン性の二座キレート配位子であることが好ましい。特に、β−ジケトン構造を
有するモノアニオン性の二座キレート配位子が好ましい。
具体的にモノアニオン性の配位子は、一般式(L1)乃至(L7)のいずれか一であるこ
とが好ましい。
Figure 0006937867
但し、式中R71乃至R109は、それぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1
乃至6のアルキル基、ハロゲン基、ビニル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のハ
ロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルコキシ基、又は置換もしくは
無置換の炭素数1乃至6のアルキルチオ基を表す。また、A乃至Aは、それぞれ独立
に窒素、水素と結合する炭素、又は置換基を有する炭素を表し、この場合置換基としては
炭素数1乃至6のアルキル基、ハロゲン基、炭素数1乃至6のハロアルキル基、又はフェ
ニル基を表す。
なお、上記一般式(G1)、(G2)中の、R乃至Rにおける炭素数1乃至6のアル
キル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基
、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキ
シル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、ネオヘキシル基、3−メチルペン
チル基、2−メチルペンチル基、2−エチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,
3−ジメチルブチル基等が挙げられる。また、R乃至Rにおける炭素数6乃至10の
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。さらに、Arに
おける炭素数6乃至13のアリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナ
フチル基、フルオレニル基などを挙げることができる。
なお、本発明の一態様である有機金属錯体は、5H−ピリミド[5,4−b]インドール
骨格において、インドール環とピリミジン環とが縮環した構造を有する。このように、イ
ンドール環とピリミジン環とが縮環した構造とすることにより、有機金属錯体の耐熱性を
向上させることができるので、発光素子に用いた場合に素子の信頼性を向上させることが
できる。また、ピリミジン環を含むことで発光効率を高めることができるので、本発明の
一態様である有機金属錯体により、発光効率の高い赤色発光材料が得られる。
次に、上述した本発明の一態様である有機金属錯体の具体的な構造式を示す(下記構造式
(100)〜(135))。ただし、本発明はこれらに限定されることはない。
Figure 0006937867
Figure 0006937867
Figure 0006937867
Figure 0006937867
Figure 0006937867
なお、上記構造式(100)〜(135)で表される有機金属錯体は、燐光を発光するこ
とが可能な新規物質である。なお、これらの物質は、配位子の種類によっては立体異性体
が存在しうるが、本発明の一態様である有機金属錯体にはこれらの異性体も全て含まれる
次に、上記一般式(G2)で表される有機金属錯体の合成方法の一例について説明する。
≪一般式(G0)で表される4−アリールピリミド[5,4−b]インドール誘導体の合
成方法≫
下記一般式(G0)で表される4−アリールピリミド[5,4−b]インドール誘導体の
合成方法の一例について説明する。下記一般式(G0)で表される4−アリールピリミド
[5,4−b]インドール誘導体は、以下のような簡便な合成スキーム(a)、(a’)
、(a’’)により合成できる。
Figure 0006937867
なお、一般式(G0)において、Arは置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリー
ル基を表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6
のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。
例えば、一般式(G0)で表される4−アリールピリミド[5,4−b]インドール誘導
体は、合成スキーム(a)に示すように、ハロゲン化ピリミジン化合物(A1)とアリー
ルボロン酸(A2)とをカップリングすることにより得られる。
Figure 0006937867
合成スキーム(a)において、Xはハロゲンを表し、Arは置換もしくは無置換の炭素数
6乃至13のアリール基を表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換もしくは無置
換の炭素数1乃至6のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリー
ル基を表す。
また、一般式(G0)で表される4−アリールピリミド[5,4−b]インドール誘導体
は、合成スキーム(a’)に示すように、ピリミド[5,4−b]インドール化合物(A
1’)の水素を水素化ナトリウム、炭酸カリウム、ブチルリチウムなどの強塩基で引き抜
き、塩の生成後、ハロゲン含有化合物(A2’)と反応させることにより得られる。ある
いはまた、合成スキーム(a’’)に示すように、ピリミド[5,4−b]インドール化
合物(A1’)とハロゲン含有化合物(A2’)とのウルマン反応やブッフバルト反応等
を用いることができる。
Figure 0006937867
合成スキーム(a’)及び(a’’)において、Xはハロゲンを表し、Arは置換もしく
は無置換の炭素数6乃至13のアリール基を表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、
置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6
乃至10のアリール基を表す。
上述の化合物(A1)、(A2)、(A1’)、(A2’)は、様々な種類が市販されて
いるか、あるいは合成可能であるため、一般式(G0)で表される4−アリールピリミド
[5,4−b]インドール誘導体は数多くの種類を合成することができる。したがって、
本発明の一態様である有機金属錯体は、その配位子のバリエーションが豊富であるという
特徴がある。
≪一般式(G2)で表される本発明の一態様の有機金属錯体の合成方法≫
一般式(G2)で表される本発明の一態様である有機金属錯体は、下記合成スキーム(b
−1)に示すように、一般式(G0)で表される4−アリールピリミド[5,4−b]イ
ンドール誘導体と、ハロゲンを含むイリジウムまたは白金の化合物(塩化イリジウム、臭
化イリジウム、ヨウ化イリジウム、テトラクロロ白金酸カリウムなど)とを無溶媒、また
はアルコール系溶媒(グリセロール、エチレングリコール、2−メトキシエタノール、2
−エトキシエタノールなど)単独、あるいはアルコール系溶媒1種類以上と水との混合溶
媒を用いて、不活性ガス雰囲気にて加熱することにより、ハロゲンで架橋された構造を有
する有機金属錯体の一種であり、新規物質である複核錯体(B)を得ることができる。加
熱手段として特に限定はなく、オイルバス、サンドバス、又はアルミブロックを用いても
よい。また、マイクロ波を加熱手段として用いることも可能である。
Figure 0006937867
合成スキーム(b−1)において、Xはハロゲンを表し、Arは置換もしくは無置換の炭
素数6乃至13のアリール基を表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換もしくは
無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のア
リール基を表す。また、Mはイリジウムまたは白金を表す。また、Mがイリジウムのとき
はn=2であり、Mが白金のときはn=1である。
さらに、下記合成スキーム(b−2)に示すように、上述の合成スキーム(b−1)で得
られる複核錯体(B)と、モノアニオン性の配位子の原料HLとを、不活性ガス雰囲気に
て反応させることにより、HLのプロトンが脱離してLが中心金属Mに配位し、一般式(
G2)で表される本発明の一態様である有機金属錯体が得られる。加熱手段として特に限
定はなく、オイルバス、サンドバス、又はアルミブロックを用いてもよい。また、マイク
ロ波を加熱手段として用いることも可能である。
Figure 0006937867
合成スキーム(b−2)において、Lはモノアニオン性の配位子を表し、Xはハロゲンを
表し、Arは置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリール基を表し、R乃至R
はそれぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、又は置換も
しくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。また、Mはイリジウムまたは白金
を表す。また、Mがイリジウムのときは、mは3を表しnは2または3を表し、Mが白金
のときは、mは2を表しnは1または2を表す。
また、一般式(G2’)で表される本発明の一態様である有機金属錯体は、下記合成スキ
ーム(c)により合成することができる。一般式(G0)で表される4−アリールピリミ
ド[5,4−b]インドール誘導体と、ハロゲンを含むイリジウムまたは白金の化合物(
塩化イリジウム、臭化イリジウム、ヨウ化イリジウム、テトラクロロ白金酸カリウムなど
)、またはイリジウムまたは白金の有機金属錯体化合物(アセチルアセトナト錯体、ジエ
チルスルフィド錯体等)とを混合した後、加熱することにより、一般式(G2’)で表さ
れる有機金属錯体を得ることができる。また、この加熱プロセスは、一般式(G0)で表
される4−アリールピリミド[5,4−b]インドール誘導体と、ハロゲンを含むイリジ
ウムまたは白金の化合物、またはイリジウムまたは白金の有機金属錯体化合物とをアルコ
ール系溶媒(グリセロール、エチレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキ
シエタノール等)に溶解した後に行ってもよい。加熱手段として特に限定はなく、オイル
バス、サンドバス、又はアルミブロックを用いてもよい。また、マイクロ波を加熱手段と
して用いることも可能である。
Figure 0006937867
合成スキーム(c)において、Arは置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリール
基を表し、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6の
アルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。また、M
はイリジウムまたは白金を表す。また、Mがイリジウムのときはn=3であり、Mが白金
のときはn=2である。
以上、本発明の一態様である有機金属錯体の合成方法の一例について説明したが、本発明
はこれに限定されることはなく、他のどのような合成方法によって合成されても良い。
なお、上述した本発明の一態様である有機金属錯体は、燐光を発光することが可能である
ため、発光材料や発光素子の発光物質として利用できる。
また、本発明の一態様である有機金属錯体を用いることで、発光効率の高い発光素子、発
光装置、電子機器、または照明装置を実現することができる。また、消費電力が低い発光
素子、発光装置、電子機器、または照明装置を実現することができる。
本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いること
ができる。
(実施の形態2)
本実施の形態では、本発明の一態様として実施の形態1で示した有機金属錯体を発光層に
用いた発光素子について図1(A)を用いて説明する。
図1(A)は、第1の電極101と第2の電極103との間にEL層102を有する発光
素子を示した図である。EL層102は、発光層113を含み、発光層113は、実施の
形態1で説明した有機金属錯体を含む。また、EL層102には発光層113の他に、正
孔注入層111、正孔輸送層112、電子輸送層114、電子注入層115などを含んで
形成される。
このような発光素子に対して、電圧を印加することにより、第1の電極101側から注入
された正孔と、第2の電極103側から注入された電子とが、発光層113において、再
結合し、有機金属錯体を励起状態にする。そして、励起状態の有機金属錯体が基底状態に
戻る際に発光する。このように、本発明の一態様である有機金属錯体は、発光素子におけ
る発光物質として機能する。なお、本実施の形態に示す発光素子において、第1の電極1
01は陽極として機能し、第2の電極103は陰極として機能する。
以下に本実施の形態に示す発光素子を作製する上での具体例について説明する。
第1の電極101は陽極として機能するため、仕事関数の大きい(具体的には4.0eV
以上)金属、合金、導電性化合物、およびこれらの混合物などを用いて形成することが好
ましい。具体的には、例えば、酸化インジウム−酸化スズ(ITO:Indium Ti
n Oxide)、ケイ素若しくは酸化ケイ素を含有した酸化インジウム−酸化スズ、酸
化インジウム−酸化亜鉛、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム(I
WZO)等が挙げられる。これらの導電性金属酸化物膜は、通常スパッタリング法により
成膜されるが、ゾル−ゲル法などを応用して作製しても構わない。この他、金(Au)、
白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(
Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、チタン(T
i)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)または金属材料の窒化物(例えば、窒化チタン
)等が挙げられる。また、グラフェンも用いることができる。なお、EL層102におい
て第1の電極101と接する層に後述する複合材料を用いることで、第1の電極101は
、仕事関数に関わらず電極材料を選択することができるようになる。
正孔注入層111は、第1の電極101からのホール注入障壁を低減することでホール注
入を促進する機能を有し、正孔注入性の高い物質を含む層である。例えば、遷移金属酸化
物、フタロシアニン誘導体、あるいは芳香族アミンなどによって形成される。遷移金属酸
化物としてはモリブデン酸化物やバナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、タングステン酸
化物、マンガン酸化物などが挙げられる。フタロシアニン誘導体としては、フタロシアニ
ン(略称:HPc)や銅フタロシアニン(CuPc)などが挙げられる。芳香族アミン
としては、4,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミ
ノ]ビフェニル(略称:DPAB)、N,N’−ビス{4−[ビス(3−メチルフェニル
)アミノ]フェニル}−N,N’−ジフェニル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−
ジアミン(略称:DNTPD)などが挙げられる。また、ポリ(3,4−エチレンジオキ
シチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)(PEDOT/PSS)等の高分子等によ
っても正孔注入層111を形成することができる。
また、正孔注入層111として、正孔輸送性の物質にアクセプター性物質(電子受容体)
を含有させた複合材料を用いることができる。アクセプター性物質により正孔輸送性の物
質から電子が引き抜かれることにより正孔が発生し、正孔注入層111から正孔輸送層1
12を介して発光層113に正孔が注入される。なお、正孔輸送性の物質にアクセプター
性物質を含有させたものを用いることにより、電極の仕事関数に依らず電極を形成する材
料を選ぶことができる。つまり、第1の電極101として仕事関数の大きい材料だけでな
く、仕事関数の小さい材料も用いることができるようになる。アクセプター性物質として
は、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略
称:F−TCNQ)、クロラニル、2,3,6,7,10,11−ヘキサシアノ−1,
4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン(HAT−CN)等の電子吸引基(ハ
ロゲン基やシアノ基)を有する化合物を挙げることができる。特に、HAT−CNのよう
に複素原子を複数有する縮合芳香環に電子吸引基が結合している化合物が、熱的に安定で
あり好ましい。また、遷移金属酸化物を挙げることができる。中でも元素周期表における
第4族乃至第8族に属する金属の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化バナジ
ウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸
化マンガン、酸化レニウムは電子受容性が高いため好ましい。特に、酸化モリブデンは大
気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
複合材料に用いる正孔輸送性の物質としては、芳香族アミン化合物、カルバゾール誘導体
、芳香族炭化水素、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)など、種々
の有機化合物を用いることができる。なお、複合材料に用いる有機化合物としては、正孔
輸送性の高い有機化合物であることが好ましい。具体的には、10−6cm/Vs以上
の正孔移動度を有する物質であることが好ましい。以下では、複合材料における正孔輸送
性の物質として用いることのできる有機化合物を具体的に列挙する。
例えば、芳香族アミン化合物としては、N,N’−ジ(p−トリル)−N,N’−ジフェ
ニル−p−フェニレンジアミン(略称:DTDPPA)、DPAB、DNTPD、1,3
,5−トリス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ベンゼン
(略称:DPA3B)等を挙げることができる。
複合材料に用いることのできるカルバゾール誘導体としては、具体的には、3−[N−(
9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾ
ール(略称:PCzPCA1)、3,6−ビス[N−(9−フェニルカルバゾール−3−
イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA2)、
3−[N−(1−ナフチル)−N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)アミノ]−
9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCN1)等を挙げることができる。
また、複合材料に用いることのできるカルバゾール誘導体としては、他に、4,4’−ジ
(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、1,3,5−トリス[4−(N−カ
ルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)、9−[4−(10−フェニル−9
−アントラセニル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、1,4−ビス
[4−(N−カルバゾリル)フェニル]−2,3,5,6−テトラフェニルベンゼン等を
用いることができる。
また、複合材料に用いることのできる芳香族炭化水素としては、例えば、2−tert−
ブチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:t−BuDNA)、2−t
ert−ブチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン、9,10−ビス(3,5
−ジフェニルフェニル)アントラセン(略称:DPPA)、2−tert−ブチル−9,
10−ビス(4−フェニルフェニル)アントラセン(略称:t−BuDBA)、9,10
−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、9,10−ジフェニルアントラセ
ン(略称:DPAnth)、2−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuAnt
h)、9,10−ビス(4−メチル−1−ナフチル)アントラセン(略称:DMNA)、
2−tert−ブチル−9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン
、9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン、2,3,6,7−テ
トラメチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン、2,3,6,7−テトラメチ
ル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン、9,9’−ビアントリル、10,10
’−ジフェニル−9,9’−ビアントリル、10,10’−ビス(2−フェニルフェニル
)−9,9’−ビアントリル、10,10’−ビス[(2,3,4,5,6−ペンタフェ
ニル)フェニル]−9,9’−ビアントリル、アントラセン、テトラセン、ルブレン、ペ
リレン、2,5,8,11−テトラ(tert−ブチル)ペリレン等が挙げられる。また
、この他、ペンタセン、コロネン等も用いることができる。このように、1×10−6
/Vs以上の正孔移動度を有し、炭素数14から42である芳香族炭化水素を用いる
ことがより好ましい。
なお、複合材料に用いることのできる芳香族炭化水素は、ビニル骨格を有していてもよい
。ビニル基を有している芳香族炭化水素としては、例えば、4,4’−ビス(2,2−ジ
フェニルビニル)ビフェニル(略称:DPVBi)、9,10−ビス[4−(2,2−ジ
フェニルビニル)フェニル]アントラセン(略称:DPVPA)等が挙げられる。
また、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(略称:PVK)やポリ(4−ビニルトリフェニ
ルアミン)(略称:PVTPA)、ポリ[N−(4−{N’−[4−(4−ジフェニルア
ミノ)フェニル]フェニル−N’−フェニルアミノ}フェニル)メタクリルアミド](略
称:PTPDMA)、ポリ[N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ビス(
フェニル)ベンジジン](略称:Poly−TPD)等の高分子化合物を用いることもで
きる。
正孔注入層を形成することによって、正孔の注入性が良好となり、駆動電圧の小さい発光
素子を得ることが可能となる。
なお、正孔注入層は、上述したアクセプター性物質を単独で形成しても良い。この場合、
アクセプター性物質が正孔輸送層から電子を引き抜き、正孔輸送層に正孔注入することが
できる。アクセプター性物質は引き抜いた電子を陽極へ輸送する。
正孔輸送層112は、正孔輸送性の物質を含む層である。正孔輸送性の物質としては、例
えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称
:NPBまたはα−NPD)やN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフ
ェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’,
4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)
、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリ
フェニルアミン(略称:MTDATA)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビ
フルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)、4−フ
ェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BP
AFLP)などの芳香族アミン化合物等を用いることができる。ここに述べた物質は、主
に10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。また、上述の正孔注入層
111の複合材料における正孔輸送性の物質として挙げた有機化合物も正孔輸送層112
に用いることができる。また、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外
のものを用いてもよい。また、PVKやPVTPA等の高分子化合物を用いることもでき
る。なお、正孔輸送性の物質を含む層は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が
二層以上積層したものとしてもよい。
発光層113は、発光物質を含む層である。なお、発光物質としては、実施の形態1で示
した有機金属錯体を用いることができ、さらにこの有機金属錯体(ゲスト材料)よりも三
重項励起エネルギーの大きい物質をホスト材料として含む層であってもよい。また、発光
物質に加えて、発光層におけるキャリア(電子及びホール)の再結合の際に励起錯体(エ
キサイプレックスとも言う)を形成することができる組み合わせとなる2種類の有機化合
物(上記ホスト材料のいずれかであってもよい)を含む構成としてもよい。
ホスト材料、及び励起錯体を形成することができる2種類の有機化合物に用いることがで
きる有機化合物としては、例えば、2,3−ビス(4−ジフェニルアミノフェニル)キノ
キサリン(略称:TPAQn)、NPBのようなアリールアミン骨格を有する化合物の他
、CBP、4,4’,4’’−トリス(カルバゾール−9−イル)トリフェニルアミン(
略称:TCTA)等のカルバゾール誘導体や、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ピ
リジナト]亜鉛(略称:Znpp)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンズオ
キサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX))、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)
(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(略称:BAlq)、トリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム(略称:Alq)等の金属錯体が好ましい。また、PVKのような高
分子化合物を用いることもできる。
なお、発光層113において、有機金属錯体(ゲスト材料)と、上述したホスト材料ある
いは上述した励起錯体を形成することができる2種類の有機化合物とを含んで形成するこ
とにより、発光層113からは、発光効率の高い燐光発光を得ることができる。
また、発光層113は、図1(A)に示す単層構造だけに限らず、図1(B)に示すよう
な2層以上の積層構造であってもよい。また、本発明の一態様である有機金属錯体ととも
に一重項励起エネルギーを発光に変える発光物質、または三重項励起エネルギーを発光に
変える発光物質を用いることもできる。この場合、これらの発光物質は上記有機金属錯体
と同一の層に存在しても良く、異なる層に存在していても良い。なお、これらの発光物質
の発光色を異なるものにすることで、素子全体として所望の色の発光を得ることができる
。例えば、3つの発光層が存在する場合、第1の発光層の発光色が赤色、第2の発光層の
発光色が緑色、第3の発光層の発光色が青色とすることで、発光素子全体としては白色発
光を得ることができる。また、例えば、2つの発光層が存在する場合、第1の発光層の発
光色と第2の発光層の発光色を補色の関係になるようにすることで、発光素子全体として
白色発光する発光素子を得ることも可能である。なお、補色とは、混合すると無彩色にな
る色同士の関係をいう。つまり、補色の関係にある色の光を混合すると、白色発光を得る
ことができる。なお、上記発光物質としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
一重項励起エネルギーを発光に変える発光物質としては、例えば、蛍光を発する物質(蛍
光性化合物)が挙げられる。
蛍光を発する物質としては、N,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フ
ェニル]−N,N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)
、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)
トリフェニルアミン(略称:YGAPA)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4
’−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)トリフェニルアミン(略称:2YGAP
PA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル
]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、ペリレン、2,5,8,1
1−テトラ−tert−ブチルペリレン(略称:TBP)、4−(10−フェニル−9−
アントリル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルア
ミン(略称:PCBAPA)、N,N’’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,
10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス[N,N’,N’−トリフェニル−1,4−
フェニレンジアミン](略称:DPABPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(9,
10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略
称:2PCAPPA)、N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル
]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPP
A)、N,N,N’,N’,N’’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベ
ンゾ[g,p]クリセン−2,7,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、クマ
リン30、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,9−ジフェニル−9H
−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’
−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾー
ル−3−アミン(略称:2PCABPhA)、N−(9,10−ジフェニル−2−アント
リル)−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPA
PA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]
−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPABPh
A)、9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−N−[4−(9H−カルバ
ゾール−9−イル)フェニル]−N−フェニルアントラセン−2−アミン(略称:2YG
ABPhA)、N,N,9−トリフェニルアントラセン−9−アミン(略称:DPhAP
hA)、クマリン545T、N,N’−ジフェニルキナクリドン、(略称:DPQd)、
ルブレン、5,12−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−6,11−ジフェニル
テトラセン(略称:BPT)、2−(2−{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エ
テニル}−6−メチル−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:DC
M1)、2−{2−メチル−6−[2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−
ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロ
パンジニトリル(略称:DCM2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェ
ニル)テトラセン−5,11−ジアミン(略称:p−mPhTD)、7,14−ジフェニ
ル−N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)アセナフト[1,2−a]
フルオランテン−3,10−ジアミン(略称:p−mPhAFD)、2−{2−イソプロ
ピル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1
H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリ
デン}プロパンジニトリル(略称:DCJTI)、2−{2−tert−ブチル−6−[
2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベ
ンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパ
ンジニトリル(略称:DCJTB)、2−(2,6−ビス{2−[4−(ジメチルアミノ
)フェニル]エテニル}−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:B
isDCM)、2−{2,6−ビス[2−(8−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチ
ル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル
)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:BisDCJ
TM)などが挙げられる。
三重項励起エネルギーを発光に変える発光物質としては、例えば、燐光を発する物質(燐
光性化合物)や熱活性化遅延蛍光(TADF)材料が挙げられる。なお、TADF材料に
おける遅延蛍光とは、通常の蛍光と同様のスペクトルを持ちながら、寿命が著しく長い発
光をいう。その寿命は、10−6秒以上、好ましくは10−3秒以上である。
燐光を発する物質としては、ビス{2−[3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル]ピリジナト−N,C2’}イリジウム(III)ピコリナート(略称:[Ir(C
ppy)(pic)])、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジ
ナト−N,C2’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:FIracac
)、トリス(2−フェニルピリジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(ppy)
])、ビス(2−フェニルピリジナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(
略称:[Ir(ppy)(acac)])、トリス(アセチルアセトナト)(モノフェ
ナントロリン)テルビウム(III)(略称:[Tb(acac)(Phen)])、
ビス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[
Ir(bzq)(acac)])、ビス(2,4−ジフェニル−1,3−オキサゾラト
−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(dpo)
(acac)])、ビス{2−[4’−(パーフルオロフェニル)フェニル]ピリジナト
−N,C2’}イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(p−PF−
ph)(acac)])、ビス(2−フェニルベンゾチアゾラト−N,C2’)イリジ
ウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(bt)(acac)])、ビス
[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジナト−N,C3’]イリジウム(
III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(btp)(acac)])、ビス(1
−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(
略称:[Ir(piq)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス[2,3−ビ
ス(4−フルオロフェニル)キノキサリナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(F
dpq)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(3,5−ジメチル−2−フ
ェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−Me)(aca
c)])、(アセチルアセトナト)ビス(5−イソプロピル−3−メチル−2−フェニル
ピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−iPr)(acac)
])、(アセチルアセトナト)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリジウム
(III)(略称:[Ir(tppr)(acac)])、ビス(2,3,5−トリフ
ェニルピラジナト)(ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(t
ppr)(dpm)])、(アセチルアセトナト)ビス(6−tert−ブチル−4−
フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tBuppm)(ac
ac)])、(アセチルアセトナト)ビス(4,6−ジフェニルピリミジナト)イリジウ
ム(III)(略称:[Ir(dppm)(acac)])、2,3,7,8,12,
13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィリン白金(II)(略称:
PtOEP)、トリス(1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト)(モノフェナ
ントロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(DBM)(Phen)])、ト
リス[1−(2−テノイル)−3,3,3−トリフルオロアセトナト](モノフェナント
ロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(TTA)(Phen)])などが挙
げられる。
また、TADF材料としては、例えば、フラーレンやその誘導体、プロフラビン等のアク
リジン誘導体、エオシン等が挙げられる。また、マグネシウム(Mg)、亜鉛(Zn)、
カドミウム(Cd)、スズ(Sn)、白金(Pt)、インジウム(In)、もしくはパラ
ジウム(Pd)等を含む金属含有ポルフィリンが挙げられる。該金属含有ポルフィリンと
しては、例えば、プロトポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Proto IX)
)、メソポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Meso IX))、ヘマトポルフ
ィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Hemato IX))、コプロポルフィリンテト
ラメチルエステル−フッ化スズ錯体(SnF(Copro III−4Me))、オク
タエチルポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(OEP))、エチオポルフィリン−
フッ化スズ錯体(SnF(Etio I))、オクタエチルポルフィリン−塩化白金錯
体(PtClOEP)等が挙げられる。さらに、2−(ビフェニル−4−イル)−4,
6−ビス(12−フェニルインドロ[2,3−a]カルバゾール−11−イル)−1,3
,5−トリアジン(PIC−TRZ)等のπ電子過剰型複素芳香環及びπ電子不足型複素
芳香環を有する複素環化合物を用いることもできる。なお、π電子過剰型複素芳香環とπ
電子不足型複素芳香環とが直接結合した物質は、π電子過剰型複素芳香環のドナー性とπ
電子不足型複素芳香環のアクセプター性が共に強く、SとTのエネルギー差が小さく
なるため、特に好ましい。
電子輸送層114は、電子輸送性の高い物質(電子輸送性化合物ともいう)を含む層であ
る。電子輸送層114には、Alq、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミ
ニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリ
ウム(略称:BeBq)、BAlq、Zn(BOX)、ビス[2−(2−ヒドロキシ
フェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ))などの金属錯体を用いる
ことができる。また、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル
)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−ter
t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:O
XD−7)、3−(4’−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4’’−
ビフェニル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチ
ルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−
トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:Bphen)、
バソキュプロイン(略称:BCP)、4,4’−ビス(5−メチルベンゾオキサゾール−
2−イル)スチルベン(略称:BzOs)などの複素芳香族化合物も用いることができる
。また、ポリ(2,5−ピリジンジイル)(略称:PPy)、ポリ[(9,9−ジヘキシ
ルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(ピリジン−3,5−ジイル)](略称:PF
−Py)、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(2,2
’−ビピリジン−6,6’−ジイル)](略称:PF−BPy)のような高分子化合物を
用いることもできる。ここに述べた物質は、主に10−6cm/Vs以上の電子移動度
を有する物質である。なお、正孔よりも電子の輸送性の高い物質であれば、上記以外の物
質を電子輸送層114として用いてもよい。
また、電子輸送層114は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が2層以上積層
された構造としてもよい。
電子注入層115は第2の電極103からの電子注入障壁を低減することで電子注入を促
進する機能を有し、電子注入性の高い物質を含む層である。例えば元素周期表における第
1族金属、第2族金属、あるいはこれらの酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩などを用いるこ
とができる。具体的には、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ
化カルシウム(CaF)、リチウム酸化物(LiOx)等の化合物を用いることができ
る。また、フッ化エルビウム(ErF)のような希土類金属化合物を用いることができ
る。また、電子注入層115にエレクトライドを用いてもよい。該エレクトライドとして
は、例えば、カルシウムとアルミニウムの混合酸化物に電子を高濃度添加した物質等が挙
げられる。なお、上述した電子輸送性材料と、電子供与性を示す材料の複合材料を用いる
こともできる。電子供与性を示す材料としては、元素周期表における第1族金属、第2族
金属、あるいはこれらの酸化物などを挙げることができる。また、上述した電子輸送層1
14を構成する物質を用いることもできる。
また、電子注入層115に、有機化合物とドナー性物質(電子供与体)とを混合してなる
複合材料を用いてもよい。このような複合材料は、ドナー性物質によって有機化合物に電
子が発生するため、電子注入性および電子輸送性に優れている。この場合、有機化合物と
しては、発生した電子の輸送に優れた材料であることが好ましく、具体的には、例えば上
述した電子輸送層114を構成する物質(金属錯体や複素芳香族化合物等)を用いること
ができる。ドナー性物質としては、有機化合物に対し電子供与性を示す物質であればよい
。具体的には、元素周期表における第1族金属や第2族金属や希土類金属が好ましく、リ
チウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、エルビウム、イッテルビウム等が挙げら
れる。また、アルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物が好ましく、リチウム酸化物
、カルシウム酸化物、バリウム酸化物等が挙げられる。また、酸化マグネシウムのような
ルイス塩基を用いることもできる。また、テトラチアフルバレン(略称:TTF)等の有
機化合物を用いることもできる。
なお、上述した正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113、電子輸送層114
、電子注入層115は、それぞれ、蒸着法(真空蒸着法を含む)、印刷法(例えば、凸版
印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法、平版印刷法、孔版印刷法等)、インクジェット法
、塗布法等の方法で形成することができる。
第2の電極103を形成する物質としては、仕事関数の小さい(具体的には3.8eV以
下)金属、合金、導電性化合物、およびこれらの混合物などを用いることができる。この
ような陰極材料の具体例としては、リチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金
属、およびマグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)やストロンチウム(Sr)等の元
素周期表第2族金属、およびこれらを含む合金(MgAg、AlLi)等が挙げられる。
またユウロピウム(Eu)やイッテルビウム(Yb)等の希土類金属およびこれらを含む
合金等が挙げられる。しかしながら、第2の電極103と電子輸送層との間に、電子注入
層を設けることにより、仕事関数の大小に関わらず、Al、Ag、ITO、ケイ素若しく
は酸化ケイ素を含有した酸化インジウム−酸化スズ等様々な導電性材料を第2の電極10
3として用いることができる。これら導電性材料は、真空蒸着法やスパッタリング法など
の乾式法、インクジェット法、スピンコート法等を用いて成膜することが可能である。ま
た、ゾル−ゲル法を用いて湿式法で形成しても良いし、金属材料のペーストを用いて湿式
法で形成してもよい。
上述した発光素子は、第1の電極101および第2の電極103との間に与えられる電位
差により電流が流れ、EL層102において正孔と電子とが再結合することにより発光す
る。そして、この発光は、第1の電極101および第2の電極103のいずれか一方また
は両方を通って外部に取り出される。従って、第1の電極101および第2の電極103
のいずれか一方、または両方が透光性を有する電極となる。
以上により説明した発光素子は、有機金属錯体に基づく燐光発光が得られることから、蛍
光性化合物のみを用いた発光素子に比べて、高効率な発光素子を実現することができる。
なお、本実施の形態で示した発光素子は、本発明の一態様である有機金属錯体を適用して
作製される発光素子の一例である。また、上記発光素子を備えた発光装置の構成としては
、パッシブマトリクス型の発光装置やアクティブマトリクス型の発光装置の他、マイクロ
キャビティー(微小光共振器)構造の発光装置などを作製することができ、これらは、い
ずれも本発明に含まれるものとする。
なお、アクティブマトリクス型の発光装置の場合において、トランジスタ(TFT)の構
造は、特に限定されない。例えば、スタガ型や逆スタガ型のTFTを適宜用いることがで
きる。また、TFT基板に形成される駆動用回路についても、N型およびP型のTFTか
らなるものでもよいし、N型のTFTまたはP型のTFTのいずれか一方のみからなるも
のであってもよい。また、TFTに用いられる半導体膜の結晶性についても特に限定され
ない。例えば、非晶質半導体膜、結晶性半導体膜を用いることができる。また、半導体材
料としては、元素周期表における第13族半導体、第14族(ケイ素等)半導体、化合物
半導体、酸化物半導体、有機半導体等を用いることができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて用いる
ことができるものとする。
(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様である有機金属錯体をEL材料としてEL層に用い、
電荷発生層を挟んでEL層を複数有する構造の発光素子(以下、タンデム型発光素子とい
う)について説明する。
本実施の形態に示す発光素子は、図2(A)に示すように一対の電極(第1の電極201
および第2の電極204)間に、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL
層202(2))を有するタンデム型発光素子である。
本実施の形態において、第1の電極201は、陽極として機能する電極であり、第2の電
極204は陰極として機能する電極である。なお、第1の電極201および第2の電極2
04は、実施の形態2と同様な構成を用いることができる。また、複数のEL層(第1の
EL層202(1)、第2のEL層202(2))は、実施の形態2で示したEL層と両
方とも同様な構成であっても良いが、いずれか一方が同様の構成であっても良い。すなわ
ち、第1のEL層202(1)と第2のEL層202(2)は、同じ構成であっても異な
る構成であってもよく、その構成は実施の形態2と同様なものを適用することができる。
また、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))の間には
、電荷発生層205が設けられている。電荷発生層205は、第1の電極201と第2の
電極204に電圧を印加したときに、一方のEL層に電子を注入し、他方のEL層に正孔
を注入する機能を有する。本実施の形態の場合には、第1の電極201に第2の電極20
4よりも電位が高くなるように電圧を印加すると、電荷発生層205から第1のEL層2
02(1)に電子が注入され、第2のEL層202(2)に正孔が注入される。
なお、電荷発生層205は、光の取り出し効率の点から、可視光に対して透光性を有する
(具体的には、電荷発生層205の可視光の透過率が、40%以上)ことが好ましい。ま
た、電荷発生層205は、第1の電極201や第2の電極204よりも低い導電率であっ
ても機能する。
電荷発生層205は、正孔輸送性の高い有機化合物にアクセプター性物質が添加された構
成であっても、電子輸送性の高い有機化合物にドナー性物質が添加された構成であっても
よい。また、これらの両方の構成が積層されていても良い。
正孔輸送性の高い有機化合物にアクセプター性物質が添加された構成とする場合において
、正孔輸送性の高い有機化合物としては、例えば、NPBやTPD、TDATA、MTD
ATA、BSPBなどの芳香族アミン化合物等を用いることができる。ここに述べた物質
は、主に10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子よりも
正孔の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わない。
また、アクセプター性物質としては、F−TCNQやクロラニル等を挙げることができ
る。また元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物を挙げることができ
る。具体的には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブ
デン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムは電子受容性が高いため好ましい
。中でも特に、酸化モリブデンは大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため
好ましい。
一方、電子輸送性の高い有機化合物にドナー性物質が添加された構成とする場合において
、電子輸送性の高い有機化合物としては、例えば、Alq、Almq、BeBq、B
Alqなど、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等を用いることが
できる。また、この他、Zn(BOX)、Zn(BTZ)などのオキサゾール系、チ
アゾール系配位子を有する金属錯体なども用いることができる。さらに、金属錯体以外に
も、PBDやOXD−7、TAZ、Bphen、BCPなども用いることができる。ここ
に述べた物質は、主に10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する物質である。なお
、正孔よりも電子の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わな
い。
また、ドナー性物質としては、アルカリ金属または希土類金属または元素周期表における
第2族、第13族に属する金属およびその酸化物、炭酸塩を用いることができる。具体的
には、リチウム(Li)、セシウム(Cs)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca
)、イッテルビウム(Yb)、インジウム(In)、酸化リチウム、炭酸セシウムなどを
用いることが好ましい。また、テトラチアナフタセンのような有機化合物をドナー性物質
として用いてもよい。
なお、上述した材料を用いて電荷発生層205を形成することにより、EL層が積層され
た場合における駆動電圧の上昇を抑制することができる。
本実施の形態では、EL層を2層有する発光素子について説明したが、図2(B)に示す
ように、n層(ただし、nは3以上)のEL層(202(1)〜202(n))を積層し
た発光素子についても、同様に適用することが可能である。一対の電極間に複数のEL層
を有する場合、EL層とEL層との間にそれぞれ電荷発生層(205(1)〜205(n
−1))を配置することで、電流密度を低く保ったまま、高輝度領域での発光が可能であ
る。電流密度を低く保てるため、長寿命素子を実現できる。また、大きな発光面を有する
発光装置、電子機器、及び照明装置等に応用した場合は、電極材料の抵抗による電圧降下
を小さくできるので、大面積での均一発光が可能となる。
また、それぞれのEL層の発光色を異なるものにすることで、発光素子全体として、所望
の色の発光を得ることができる。例えば、2つのEL層を有する発光素子において、第1
のEL層の発光色と第2のEL層の発光色を補色の関係になるようにすることで、発光素
子全体として白色発光する発光素子を得ることも可能である。なお、補色とは、混合する
と無彩色になる色同士の関係をいう。つまり、補色の関係にある色の光を互いに混合する
と、白色発光を得ることができる。
また、3つのEL層を有する発光素子の場合でも同様であり、例えば、第1のEL層の発
光色が赤色であり、第2のEL層の発光色が緑色であり、第3のEL層の発光色が青色で
ある場合、発光素子全体としては、白色発光を得ることができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用い
ることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態では、本発明の一態様である有機金属錯体をEL層に用いた発光素子を有す
る発光装置について説明する。
なお、上記発光装置は、パッシブマトリクス型の発光装置でもアクティブマトリクス型の
発光装置でもよい。また、本実施の形態に示す発光装置には、他の実施形態で説明した発
光素子を適用することが可能である。
本実施の形態では、まずアクティブマトリクス型の発光装置について図3を用いて説明す
る。
なお、図3(A)は発光装置を示す上面図であり、図3(B)は図3(A)を鎖線A−A
’で切断した断面図である。本実施の形態に係るアクティブマトリクス型の発光装置は、
素子基板301上に設けられた画素部302と、駆動回路部(ソース線駆動回路)303
と、駆動回路部(ゲート線駆動回路)304a及び駆動回路部(ゲート線駆動回路)30
4bを有する。画素部302、駆動回路部303、駆動回路部304a及び駆動回路部3
04bは、シール材305によって、素子基板301と封止基板306との間に封止され
ている。
また、素子基板301上には、駆動回路部303、駆動回路部304a及び駆動回路部3
04bに外部からの信号(例えば、ビデオ信号、クロック信号、スタート信号、又はリセ
ット信号等)や電位を伝達する外部入力端子を接続するための引き回し配線307が設け
られる。ここでは、外部入力端子としてFPC308を設ける例を示している。なお、こ
こではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基板(PWB)が取
り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、そ
れにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。
次に、断面構造について図3(B)を用いて説明する。素子基板301上には駆動回路部
及び画素部が形成されているが、ここでは、ソース線駆動回路である駆動回路部303と
、画素部302が示されている。
駆動回路部303はFET309とFET310とを組み合わせた構成について例示して
いる。なお、FET309とFET310を含む駆動回路部303は、単極性(N型また
はP型のいずれか一方のみ)のトランジスタを含む回路で形成されても良いし、N型のト
ランジスタとP型のトランジスタを含むCMOS回路で形成されても良い。また、本実施
の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバー一体型を示すが、必ずしもその必要
はなく、基板上ではなく外部に駆動回路を形成することもできる。
また、画素部302はスイッチング用FET(図示せず)と、電流制御用FET312と
を有し、電流制御用FET312の配線(ソース電極又はドレイン電極)は、発光素子3
17aおよび発光素子317bの第1の電極(陽極)(313a、313b)と電気的に
接続されている。また、本実施の形態においては、各発光素子に対して2つのFET(ス
イッチング用FET、電流制御用FET312)を用いる構成を示したが、これに限定さ
れない。各発光素子に3つ以上のFETと、容量素子とを組み合わせる構成としてもよい
FET309、310、312としては、例えば、スタガ型や逆スタガ型のトランジスタ
を適用することができる。FET309、310、312に用いることのできる半導体材
料としては、例えば、元素周期表における第13族半導体、第14族(ケイ素等)半導体
、化合物半導体、酸化物半導体、有機半導体材料を用いることができる。また、該半導体
材料の結晶性については、特に限定されず、例えば、非晶質半導体膜、または結晶性半導
体膜を用いることができる。特に、FET309、310、312としては、酸化物半導
体を用いると好ましい。該酸化物半導体としては、例えば、In−Ga酸化物、In−M
−Zn酸化物(Mは、Al、Ga、Y、Zr、La、Ce、またはNd)等が挙げられる
。FET309、310、312として、例えば、エネルギーギャップが2eV以上、好
ましくは2.5eV以上、さらに好ましくは3eV以上の酸化物半導体材料を用いること
で、トランジスタのオフ電流を低減することができる。
また、第1の電極313には、光学調整のための導電膜を積層してもよい。例えば、図3
(B)に示すように発光素子317aと発光素子317bは、取り出す光の波長が異なる
ため、導電膜320aと導電膜320bとは膜厚を変えて形成される。また、第1の電極
313や導電膜320a及び導電膜320bの端部を覆うように絶縁物からなる隔壁31
4が形成される。ここでは、隔壁314として、ポジ型の感光性アクリル樹脂を用いて形
成する。また、本実施の形態では、第1の電極313を陽極として用いる。
また、隔壁314の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにするのが
好ましい。隔壁314の形状を上記のように形成することで、隔壁314の上層に形成さ
れる膜の被覆性を良好なものとすることができる。例えば、隔壁314の材料として、ネ
ガ型の感光性樹脂、或いはポジ型の感光性樹脂のいずれかを使用することができ、有機化
合物に限らず無機化合物、例えば、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化シリコン等を
使用することができる。
発光素子317a及び発光素子317bは、第1の電極313、EL層315及び第2の
電極316との積層構造であり、EL層315は、少なくとも発光層が設けられている。
また、EL層315には、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入
層、電荷発生層等を適宜設けることができる。
なお、第1の電極313、EL層315及び第2の電極316に用いる材料としては、実
施の形態2に示す材料を用いることができる。また、第1の電極313は、領域321に
おいて、駆動回路部303を通して引き回し配線307と電気的に接続されFPC308
を介して外部信号が入力される。さらに、第2の電極316は、領域322において、引
き回し配線323と電気的に接続され、ここでは図示しないが、FPC308を介して外
部信号が入力される。
また、図3(B)に示す断面図では発光素子317a及び発光素子317bを2つのみ図
示しているが、画素部302において、複数の発光素子がマトリクス状に配置されている
ものとする。画素部302には、3種類(R、G、B)の発光が得られる発光素子をそれ
ぞれ選択的に形成し、フルカラー表示可能な発光装置を形成することができる。また、3
種類(R、G、B)の発光が得られる発光素子の他に、例えば、ホワイト(W)、イエロ
ー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)等の発光が得られる発光素子を形成してもよい
。例えば、3種類(R、G、B)の発光が得られる発光素子に上述の数種類の発光が得ら
れる発光素子を追加することにより、色純度の向上、消費電力の低減等の効果が得ること
ができる。さらに、量子ドットとの組み合わせにより発光効率を向上させ、消費電力を低
減させた発光装置としてもよい。なお、発光層の形成には、発光素子の発光色などに応じ
て異なる材料を用いた発光層を形成する塗り分け方式でもよいし、複数の発光素子が同じ
材料を用いて形成された共通の発光層に、カラーフィルタを組み合わせる方式でもよい。
さらに、シール材305で封止基板306を素子基板301と貼り合わせることにより、
素子基板301、封止基板306、およびシール材305で囲まれた空間318に発光素
子317a及び発光素子317bが備えられた構造になっている。また、封止基板306
には、カラーフィルタ324a及び324bが設けられていてもよい。その際、隣り合う
カラーフィルタの間には、黒色層(ブラックマトリクス)325が設けられており、発光
素子317a及び発光素子317bで得られた発光は、カラーフィルタ324a及びカラ
ーフィルタ324bを介して外部に取り出される。
なお、空間318には、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール
材305で充填される構成も含むものとする。また、シール材を塗布して貼り合わせる場
合には、UV処理や熱処理等のいずれか、またはこれらを組み合わせて行うのが好ましい
なお、シール材305にはエポキシ系樹脂やガラスフリットを用いるのが好ましい。また
、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、
封止基板306に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiber−R
einforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエス
テルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。シール材として
ガラスフリットを用いる場合には、接着性の観点から素子基板301及び封止基板306
はガラス基板であることが好ましい。
以上のようにして、アクティブマトリクス型の発光装置を得ることができる。
また、本発明の一態様である有機金属錯体をEL層に用いた発光素子を有する発光装置と
しては、上述したアクティブマトリクス型の発光装置のみならずパッシブマトリクス型の
発光装置とすることもできる。
パッシブマトリクス型の発光装置の場合における画素部の断面図を図3(C)に示す。
図3(C)に示すように、基板351上には、第1の電極352と、EL層354と、第
2の電極353とを有する発光素子350が形成される。なお、第1の電極352は、島
状であり、一方向にストライプ状に複数形成されている。また、第1の電極352上およ
び第1の電極352の端部を埋めるように絶縁膜355が形成されている。
また、絶縁膜355上には絶縁材料を用いてなる隔壁356が設けられる。隔壁356の
側壁は、基板面に近くなるに伴って、一方の側壁と他方の側壁との間隔が狭くなるような
傾斜を有する。つまり、隔壁356の短辺方向の断面は、台形状であり、底辺(絶縁膜3
55の面方向と同様の方向を向き、絶縁膜355と接する辺)の方が上辺(絶縁膜355
の面方向と同様の方向を向き、絶縁膜355と接しない辺)よりも短い。このように、隔
壁356を設けることで、静電気等に起因した発光素子の不良を防ぐことができる。なお
、この絶縁膜355は、第1の電極352上の一部に開口部を有しており、隔壁356を
形成した後、EL層354を形成することによりその開口部において、第1の電極352
と接するEL層354が形成される。
さらに、EL層354形成後、第2の電極353が形成される。従って、第2の電極35
3は、EL層354上、場合によっては、絶縁膜355上に第1の電極352と接するこ
となく形成される。なお、EL層354と第2の電極353は、隔壁356を形成した後
に形成されるので、隔壁356上にも順次積層される。
なお、封止の方法については、アクティブマトリクス型の発光装置の場合と同様に行うこ
とができるので、説明は省略する。
以上のようにして、パッシブマトリクス型の発光装置を得ることができる。
また、素子基板301の種類は、特定のものに限定されることはない。一例としては、半
導体基板(例えば単結晶基板又はシリコン基板)、SOI基板、ガラス基板、石英基板、
プラスチック基板、ステンレス・スチル基板、やタングステン基板などの金属基板、貼り
合わせフィルム、繊維状の材料を含む紙、又は基材フィルムなどの可撓性基板が挙げられ
る。ガラス基板の一例としては、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス
、又はソーダライムガラスなどがある。可撓性基板の一例としては、以下のものが挙げら
れる。ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、
ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリプ
ロピレン、ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド
、アラミド、エポキシ樹脂などに代表されるプラスチックがある。または、アクリル樹脂
等の合成樹脂などがある。さらに、無機蒸着フィルム、又は紙類などがある。
半導体基板、単結晶基板、又はSOI基板などを用いることによって、特性、サイズ、又
は形状などのばらつきが少なく、サイズの小さいトランジスタを製造することができる。
また、このようなトランジスタによって回路を構成すると、回路の低消費電力化、又は回
路の高集積化を図ることができる。
素子基板301として上述した可撓性基板を用いる場合には、可撓性基板上に発光素子や
トランジスタを直接形成してもよい。または、ベース基板上に剥離層を介して発光素子や
トランジスタを一部または全部形成した後、ベース基板より分離し、可撓性基板に転載し
てもよい。このような剥離層を用いて別の基板に転載して作製することにより、耐熱性の
劣る基板や直接形成が難しい可撓性基板上に発光素子やトランジスタを形成することがで
きる。上述の剥離層には、例えば、タングステン膜と酸化シリコン膜との無機膜の積層構
造や、ポリイミド等の有機樹脂膜を用いることができる。
つまり、ある基板を用いてトランジスタまたは発光素子を形成し、その後、別の基板にト
ランジスタまたは発光素子を転置し、別の基板上にトランジスタまたは発光素子を配置し
てもよい。トランジスタまたは発光素子が転置される基板の一例としては、上述したトラ
ンジスタまたは発光素子を形成することが可能な基板に加え、紙基板、セロファン基板、
アラミドフィルム基板、ポリイミドフィルム基板、石材基板、木材基板、布基板(天然繊
維(絹、綿、麻)、合成繊維(ナイロン、ポリウレタン、ポリエステル)若しくは再生繊
維(アセテート、キュプラ、レーヨン、再生ポリエステル)などを含む)、皮革基板、又
はゴム基板などがある。これらの基板を用いることにより、特性のよいトランジスタの形
成、消費電力の小さいトランジスタの形成、壊れにくい装置の製造、耐熱性の付与、軽量
化、又は薄型化を図ることができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成を適宜組み合わせて用い
ることができる。
(実施の形態5)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光装置を適用して完成させた様々な電子機器
の一例について説明する。
発光装置を適用した電子機器として、例えば、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジ
ョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオ
カメラなどのカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置と
もいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの固定型ゲー
ム機などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を図4と図5に示す。また、発光装置
を適用した電子機器を、自動車のフロントガラスやダッシュボードにも搭載することがで
きる。本発明の一態様である自動車を図6に示す。
図4(A)は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置7100は、筐
体7101に表示部7103が組み込まれている。表示部7103により、映像を表示す
ることが可能であり、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)
であってもよい。なお、本発明の一態様である発光装置を表示部7103に用いることが
できる。また、ここでは、スタンド7105により筐体7101を支持した構成を示して
いる。
テレビジョン装置7100の操作は、筐体7101が備える操作スイッチや、別体のリモ
コン操作機7110により行うことができる。リモコン操作機7110が備える操作キー
7109により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部7103に表示され
る映像を操作することができる。また、リモコン操作機7110に、当該リモコン操作機
7110から出力する情報を表示する表示部7107を設ける構成としてもよい。
なお、テレビジョン装置7100は、受信機やモデムなどを備えた構成としてもよい。受
信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線又は無
線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)又は双方
向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である
図4(B)はコンピュータであり、本体7201、筐体7202、表示部7203、キー
ボード7204、外部接続ポート7205、ポインティングデバイス7206等を含む。
なお、コンピュータは、本発明の一態様である発光装置をその表示部7203に用いるこ
とにより作製することができる。また、表示部7203は、タッチセンサ(入力装置)を
搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。
図4(C)は、スマートウオッチであり、筐体7302、表示パネル7304、操作ボタ
ン7311、7312、接続端子7313、バンド7321、留め金7322、等を有す
る。
ベゼル部分を兼ねる筐体7302に搭載された表示パネル7304は、非矩形状の表示領
域を有している。表示パネル7304は、時刻を表すアイコン7305、その他のアイコ
ン7306等を表示することができる。また、表示パネル7304は、タッチセンサ(入
力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。
なお、図4(C)に示すスマートウオッチは、様々な機能を有することができる。例えば
、様々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示部に表示する機能、タッチパネ
ル機能、カレンダー、日付又は時刻などを表示する機能、様々なソフトウェア(プログラ
ム)によって処理を制御する機能、無線通信機能、無線通信機能を用いて様々なコンピュ
ータネットワークに接続する機能、無線通信機能を用いて様々なデータの送信又は受信を
行う機能、記録媒体に記録されているプログラム又はデータを読み出して表示部に表示す
る機能、等を有することができる。
また、筐体7302の内部に、スピーカ、センサ(力、変位、位置、速度、加速度、角速
度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電
圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定あるいは検知する
機能を含むもの)、マイクロフォン等を有することができる。なお、スマートウオッチは
、発光装置をその表示パネル7304に用いることにより作製することができる。
図4(D)は、携帯電話機(スマートフォンを含む)の一例を示している。携帯電話機7
400は、筐体7401に、表示部7402、マイク7406、スピーカ7405、カメ
ラ7407、外部接続部7404、操作用ボタン7403などを備えている。また、本発
明の一態様に係る発光素子を、可撓性を有する基板に形成して発光装置を作製した場合、
図4(D)に示すような曲面を有する表示部7402に適用することが可能である。
図4(D)に示す携帯電話機7400は、表示部7402を指などで触れることで、情報
を入力することができる。また、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、
表示部7402を指などで触れることにより行うことができる。
表示部7402の画面は主として3つのモードがある。第1は、画像の表示を主とする表
示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示
モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。
例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部7402を文字の入力を
主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合
、表示部7402の画面のほとんどにキーボード又は番号ボタンを表示させることが好ま
しい。
また、携帯電話機7400内部に、ジャイロセンサや加速度センサ等の検出装置を設ける
ことで、携帯電話機7400の向き(縦か横か)を判断して、表示部7402の画面表示
を自動的に切り替えるようにすることができる。
また、画面モードの切り替えは、表示部7402を触れること、又は筐体7401の操作
用ボタン7403の操作により行われる。また、表示部7402に表示される画像の種類
によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画
のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
また、入力モードにおいて、表示部7402の光センサを用い、表示部7402のタッチ
操作による入力が一定期間ないと判断される場合には、画面のモードを入力モードから表
示モードに切り替えるように制御してもよい。
表示部7402は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部74
02に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。ま
た、表示部に近赤外光を発光するバックライト又は近赤外光を発光するセンシング用光源
を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
さらに、携帯電話機(スマートフォンを含む)の別の構成として、図4(D−1)や図4
(D−2)のような構造を有する携帯電話機に適用することもできる。
なお、図4(D−1)や図4(D−2)のような構造を有する場合には、文字情報や画像
情報などを筐体7500(1)、7500(2)の第1面7501(1)、7501(2
)だけでなく、第2面7502(1)、7502(2)に表示させることができる。この
ような構造を有することにより、携帯電話機を胸ポケットに収納したままの状態で、第2
面7502(1)、7502(2)などに表示された文字情報や画像情報などを使用者が
容易に確認することができる。
また、図5(A)、(B)、(C)に、折りたたみ可能な携帯情報端末9310を示す。
図5(A)に展開した状態の携帯情報端末9310を示す。図5(B)に展開した状態又
は折りたたんだ状態の一方から他方に変化する途中の状態の携帯情報端末9310を示す
。図5(C)に折りたたんだ状態の携帯情報端末9310を示す。携帯情報端末9310
は、折りたたんだ状態では可搬性に優れ、展開した状態では、継ぎ目のない広い表示領域
により表示の一覧性に優れる。
表示パネル9311はヒンジ9313によって連結された3つの筐体9315に支持され
ている。なお、表示パネル9311は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネ
ル(入出力装置)であってもよい。また、表示パネル9311は、ヒンジ9313を介し
て2つの筐体9315間を屈曲させることにより、携帯情報端末9310を展開した状態
から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。本発明の一態様の発光装置を
表示パネル9311に用いることができる。表示パネル9311における表示領域931
2は折りたたんだ状態の携帯情報端末9310の側面に位置する表示領域である。表示領
域9312には、情報アイコンや使用頻度の高いアプリやプログラムのショートカットな
どを表示させることができ、情報の確認やアプリなどの起動をスムーズに行うことができ
る。
実施の形態1に記載の有機化合物を含む発光素子は、自動車のフロントガラスやダッシュ
ボードにも搭載することができる。図6に実施の形態2に記載の発光素子を自動車のフロ
ントガラスやダッシュボードに用いる一態様を示す。表示領域5000乃至表示領域50
05は実施の形態1に記載の有機化合物を含む発光素子を用いて設けられた表示である。
表示領域5000と表示領域5001は自動車のフロントガラスに設けられた実施の形態
1に記載の有機化合物を含む発光素子を搭載した表示装置である。実施の形態1に記載の
有機化合物を含む発光素子は、第1の電極と第2の電極とを、透光性を有する電極で作製
することによって、反対側が透けて見える、いわゆるシースルー状態の表示装置とするこ
とができる。シースルー状態の表示であれば、自動車のフロントガラスに設置したとして
も、視界の妨げになることなく設置することができる。なお、駆動のためのトランジスタ
などを設ける場合には、有機半導体材料による有機トランジスタや、酸化物半導体を用い
たトランジスタなど、透光性を有するトランジスタを用いると良い。
表示領域5002はピラー部分に設けられた実施の形態1に記載の有機化合物を含む発光
素子を搭載した表示装置である。表示領域5002には、車体に設けられた撮像手段から
の映像を映し出すことによって、ピラーで遮られた視界を補完することができる。また、
同様に、ダッシュボード部分に設けられた表示領域5003は車体によって遮られた視界
を、自動車の外側に設けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、死角を補い
、安全性を高めることができる。見えない部分を補完するように映像を映すことによって
、より自然に違和感なく安全確認を行うことができる。
表示領域5004や表示領域5005はナビゲーション情報、速度計や回転計、走行距離
、燃料、ギア状態、エアコンの設定など、その他様々な情報を提供することができる。表
示は使用者の好みに合わせて適宜その表示項目やレイアウトを変更することができる。な
お、これら情報は表示領域5000乃至表示領域5003にも設けることができる。また
、表示領域5000乃至表示領域5005は照明装置として用いることも可能である。
以上のようにして、本発明の一態様である発光装置を適用して電子機器を得ることができ
る。なお、適用できる電子機器は、本実施の形態に示したものに限らず、あらゆる分野の
電子機器に適用することが可能である。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用い
ることができる。
(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を適用して作製される照明装置の構成
について図7を用いて説明する。
図7(A)、(B)、(C)、(D)には、照明装置の断面図の一例を示す。なお、図7
(A)、(B)は基板側に光を取り出すボトムエミッション型の照明装置であり、図7(
C)、(D)は、封止基板側に光を取り出すトップエミッション型の照明装置である。
図7(A)に示す照明装置4000は、基板4001上に発光素子4002を有する。ま
た、基板4001の外側に凹凸を有する基板4003を有する。発光素子4002は、第
1の電極4004と、EL層4005と、第2の電極4006を有する。
第1の電極4004は、電極4007と電気的に接続され、第2の電極4006は電極4
008と電気的に接続される。また、第1の電極4004と電気的に接続される補助配線
4009を設けてもよい。なお、補助配線4009上には、絶縁層4010が形成されて
いる。
また、基板4001と封止基板4011は、シール材4012で接着されている。また、
封止基板4011と発光素子4002の間には、乾燥剤4013が設けられていることが
好ましい。なお、基板4003は、図7(A)のような凹凸を有するため、発光素子40
02で生じた光の取り出し効率を向上させることができる。
また、基板4003に代えて、図7(B)の照明装置4100のように、基板4001の
外側に拡散板4015を設けてもよい。
図7(C)の照明装置4200は、基板4201上に発光素子4002を有する。発光素
子4002は第1の電極4204と、EL層4205と、第2の電極4206とを有する
第1の電極4204は、電極4207と電気的に接続され、第2の電極4206は電極4
208と電気的に接続される。また第2の電極4206と電気的に接続される補助配線4
209を設けてもよい。また、補助配線4209の下部に、絶縁層4210を設けてもよ
い。
基板4201と凹凸のある封止基板4202は、シール材4212で接着されている。ま
た、封止基板4202と発光素子4002の間にバリア膜4213および平坦化膜421
4を設けてもよい。なお、封止基板4202は、図7(C)のような凹凸を有するため、
発光素子4002で生じた光の取り出し効率を向上させることができる。
また、封止基板4202に代えて、図7(D)の照明装置4300のように、発光素子4
002の上に拡散板4215を設けてもよい。
なお、本実施の形態で示すEL層4005、4205に、本発明の一態様である有機金属
錯体を適用することができる。この場合、消費電力の低い照明装置を提供することができ
る。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用い
ることができる。
(実施の形態7)
本実施の形態では、実施の形態4で説明した発光装置を適用した応用品である照明装置の
一例について、図8を用いて説明する。
図8は、発光装置を室内の照明装置8001として用いた例である。なお、発光装置は大
面積化も可能であるため、大面積の照明装置を形成することもできる。その他、曲面を有
する筐体を用いることで、発光領域が曲面を有する照明装置8002を形成することもで
きる。本実施の形態で示す発光装置に含まれる発光素子は薄膜状であり、筐体のデザイン
の自由度が高い。したがって、様々な意匠を凝らした照明装置を形成することができる。
さらに、室内の壁面に大型の照明装置8003を備えても良い。
また、発光装置をテーブルの表面に用いることによりテーブルとしての機能を備えた照明
装置8004とすることができる。なお、その他の家具の一部に発光装置を用いることに
より、家具としての機能を備えた照明装置とすることができる。
以上のように、発光装置を適用した様々な照明装置が得られる。なお、これらの照明装置
は本発明の一態様に含まれるものとする。
また、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用い
ることができる。
(実施の形態8)
本実施の形態においては、本発明の一態様の発光素子または本発明の一態様の発光装置を
有するタッチパネルについて、図9乃至図13を用いて説明を行う。
図9(A)、(B)は、タッチパネル2000の斜視図である。なお、図9(A)、(B
)において、明瞭化のため、タッチパネル2000の代表的な構成要素を示す。
タッチパネル2000は、表示部2501とタッチセンサ2595とを有する(図9(B
)参照)。また、タッチパネル2000は、基板2510、基板2570、及び基板25
90を有する。なお、基板2510、基板2570、及び基板2590はいずれも可撓性
を有する。
表示部2501は、基板2510上に複数の画素及び該画素に信号を供給することができ
る複数の配線2511を有する。複数の配線2511は、基板2510の外周部にまで引
き回され、その一部が端子2519を構成している。端子2519はFPC2509(1
)と電気的に接続する。
基板2590には、タッチセンサ2595と、タッチセンサ2595と電気的に接続する
複数の配線2598とを有する。複数の配線2598は、基板2590の外周部に引き回
され、その一部は端子2599を構成する。そして、端子2599はFPC2509(2
)と電気的に接続される。なお、図9(B)では明瞭化のため、基板2590の裏面側(
基板2510と対向する面側)に設けられるタッチセンサ2595の電極や配線等を実線
で示している。
タッチセンサ2595として、例えば静電容量方式のタッチセンサを適用できる。静電容
量方式としては、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等がある。
投影型静電容量方式としては、主に駆動方式の違いから自己容量方式、相互容量方式など
がある。相互容量方式を用いると同時多点検出が可能となるため好ましい。
まず、投影型静電容量方式のタッチセンサを適用する場合について、図9(B)を用いて
説明する。なお、投影型静電容量方式の場合には、指等の検知対象の近接または接触を検
知することができる、様々なセンサを適用することができる。
投影型静電容量方式のタッチセンサ2595は、電極2591と電極2592とを有する
。電極2591と電極2592は、複数の配線2598のうちのそれぞれ異なる配線と電
気的に接続する。また、電極2592は、図9(A)、(B)に示すように、一方向に繰
り返し配置された複数の四辺形が角部で配線2594により、一方向に接続される形状を
有する。電極2591も同様に複数の四辺形が角部で接続される形状を有するが、接続さ
れる方向は、電極2592が接続される方向と交差する方向となる。なお、電極2591
が接続される方向と、電極2592が接続される方向とは、必ずしも直交する関係にある
必要はなく、0度を超えて90度未満の角度をなすように配置されてもよい。
なお、配線2594の電極2592との交差部の面積は、できるだけ小さくなる形状が好
ましい。これにより、電極が設けられていない領域の面積を低減でき、透過率のバラツキ
を低減できる。その結果、タッチセンサ2595を透過する光の輝度のバラツキを低減す
ることができる。
なお、電極2591及び電極2592の形状はこれに限定されず、様々な形状を取りうる
。例えば、複数の電極2591をできるだけ隙間が生じないように配置し、絶縁層を介し
て電極2592を複数設ける構成としてもよい。このとき、隣接する2つの電極2592
の間に、これらとは電気的に絶縁されたダミー電極を設けると、透過率の異なる領域の面
積を低減できるため好ましい。
次に、図10を用いて、タッチパネル2000の詳細について説明する。図10は、図9
(A)に示す一点鎖線X1−X2間の断面図に相当する。
タッチセンサ2595は、基板2590上に千鳥格子状に配置された電極2591及び電
極2592と、電極2591及び電極2592を覆う絶縁層2593と、隣り合う電極2
591を電気的に接続する配線2594とを有する。
また、配線2594の下方には、接着層2597が設けられる。接着層2597は、タッ
チセンサ2595が表示部2501に重なるように、基板2590を基板2570に貼り
合わせている。
電極2591及び電極2592は、透光性を有する導電材料を用いて形成する。透光性を
有する導電性材料としては、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化
物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を用いることができる。
なお、グラフェンを含む膜を用いることもできる。グラフェンを含む膜は、例えば酸化グ
ラフェンを含む膜を還元して形成することができる。還元する方法としては、熱を加える
方法等を挙げることができる。
例えば、透光性を有する導電性材料を基板2590上にスパッタリング法により成膜した
後、フォトリソグラフィ法等の様々なパターニング技術により、不要な部分を除去して、
電極2591及び電極2592を形成することができる。
また、絶縁層2593に用いる材料としては、例えば、アクリル、エポキシなどの樹脂、
シロキサン結合を有する樹脂の他、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化アルミニウム
などの無機絶縁材料を用いることもできる。
また、絶縁層2593に設けられた開口部に配線2594を形成することにより、隣接す
る電極2591が電気的に接続される。透光性の導電性材料は、タッチパネルの開口率を
高めることができるため、配線2594に好適に用いることができる。また、電極259
1及び電極2592より導電性の高い材料は、電気抵抗を低減できるため配線2594に
好適に用いることができる。
一対の電極2591は、配線2594により電気的に接続されている。また、一対の電極
2591の間には、電極2592が設けられている。
また、配線2598は、電極2591または電極2592と電気的に接続される。なお、
配線2598の一部は、端子として機能する。配線2598には、例えば、アルミニウム
、金、白金、銀、ニッケル、チタン、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト
、銅、またはパラジウム等の金属材料や、該金属材料を含む合金材料を用いることができ
る。
また、端子2599により、配線2598とFPC2509(2)とが電気的に接続され
る。なお、端子2599には、様々な異方性導電フィルム(ACF:Anisotrop
ic Conductive Film)や、異方性導電ペースト(ACP:Aniso
tropic Conductive Paste)などを用いることができる。
また、接着層2597は、透光性を有する。例えば、熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂を用
いることができ、具体的には、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、また
はシロキサン系樹脂を用いることができる。
表示部2501は、マトリクス状に配置された複数の画素を有する。該画素は表示素子と
、該表示素子を駆動する画素回路とを有する。
基板2510及び基板2570としては、例えば、水蒸気の透過率が10−5g/(m
・day)以下、好ましくは10−6g/(m・day)以下である可撓性を有する材
料を好適に用いることができる。または、基板2510の熱膨張率と、基板2570の熱
膨張率とが、およそ等しい材料を用いると好適である。例えば、線膨張率が1×10−3
/K以下、好ましくは5×10−5/K以下、より好ましくは1×10−5/K以下であ
る材料を好適に用いることができる。
また、封止層2560は、空気より大きい屈折率を有すると好ましい。また、図10(A
)に示すように、封止層2560側に光を取り出す場合は、封止層2560は光学素子を
兼ねることができる。
また、表示部2501は、画素2502Rを有する。また、画素2502Rは発光モジュ
ール2580Rを有する。
画素2502Rは、発光素子2550Rと、発光素子2550Rに電力を供給することが
できるトランジスタ2502tとを有する。なお、トランジスタ2502tは、画素回路
の一部として機能する。また、発光モジュール2580Rは、発光素子2550Rと、着
色層2567Rとを有する。
発光素子2550Rは、下部電極と、上部電極と、下部電極と上部電極の間にEL層とを
有する。
また、封止層2560が光を取り出す側に設けられている場合、封止層2560は、発光
素子2550Rと着色層2567Rに接する。
着色層2567Rは、発光素子2550Rと重なる位置にある。これにより、発光素子2
550Rが発する光の一部は着色層2567Rを透過して、図中に示す矢印の方向の発光
モジュール2580Rの外部に射出される。
また、表示部2501には、光を射出する方向に遮光層2567BMが設けられる。遮光
層2567BMは、着色層2567Rを囲むように設けられている。
また、表示部2501は、画素に重なる位置に反射防止層2567pを有する。反射防止
層2567pとして、例えば円偏光板を用いることができる。
表示部2501には、絶縁層2521が設けられる。絶縁層2521はトランジスタ25
02tを覆う。なお、絶縁層2521は、画素回路に起因する凹凸を平坦化するための機
能を有する。また、絶縁層2521に不純物の拡散を抑制できる機能を付与してもよい。
これにより、不純物の拡散によるトランジスタ2502t等の信頼性の低下を抑制できる
また、発光素子2550Rは、絶縁層2521の上方に形成される。また、発光素子25
50Rが有する下部電極には、該下部電極の端部に重なる隔壁2528が設けられる。な
お、基板2510と、基板2570との間隔を制御するスペーサを、隔壁2528上に形
成してもよい。
走査線駆動回路2503g(1)は、トランジスタ2503tと、容量素子2503cと
を有する。なお、駆動回路を画素回路と同一の工程で同一基板上に形成することができる
また、基板2510上には、信号を供給することができる配線2511が設けられる。ま
た、配線2511上には、端子2519が設けられる。また、端子2519には、FPC
2509(1)が電気的に接続される。また、FPC2509(1)は、画像信号及び同
期信号等の信号を供給する機能を有する。なお、FPC2509(1)にはプリント配線
基板(PWB)が取り付けられていても良い。
また、表示部2501には、様々な構造のトランジスタを適用することができる。なお、
図10(A)においては、ボトムゲート型のトランジスタを適用する場合について、例示
している。図10(A)に示す、トランジスタ2502t及びトランジスタ2503tに
は、酸化物半導体を含む半導体層をチャネル領域として用いることができる。または、ト
ランジスタ2502t及びトランジスタ2503tには、アモルファスシリコンを含む半
導体層をチャネル領域として用いることができる。または、トランジスタ2502t及び
トランジスタ2503tには、レーザーアニールなどの処理により結晶化させた多結晶シ
リコンを含む半導体層をチャネル領域として用いることができる。
また、トップゲート型のトランジスタを適用する場合の表示部2501の構成を図10(
B)に示す。
トップゲート型のトランジスタの場合、ボトムゲート型のトランジスタに用いることので
きる半導体層と同様の構成の他、多結晶シリコン基板または単結晶シリコン基板から転置
された膜等を含む半導体層をチャネル領域として用いてもよい。
次に、図10に示す構成と異なる構成のタッチパネルについて、図11を用いて説明する
図11は、タッチパネル2001の断面図である。図11に示すタッチパネル2001は
、図10に示すタッチパネル2000と、表示部2501に対するタッチセンサ2595
の位置が異なる。ここでは異なる構成について詳細に説明し、同様の構成を用いることが
できる部分は、タッチパネル2000の説明を援用する。
着色層2567Rは、発光素子2550Rと重なる位置にある。また、図11(A)に示
す発光素子2550Rは、トランジスタ2502tが設けられている側に光を射出する。
これにより、発光素子2550Rが発する光の一部は、着色層2567Rを透過して、図
中に示す矢印の方向の発光モジュール2580Rの外部に射出される。
表示部2501は、光を射出する方向に遮光層2567BMを有する。遮光層2567B
Mは、着色層2567Rを囲むように設けられている。
タッチセンサ2595は、表示部2501の基板2510側に設けられている(図11(
A)参照)。
接着層2597は、基板2510と基板2590の間にあり、表示部2501とタッチセ
ンサ2595を貼り合わせる。
また、表示部2501には、様々な構造のトランジスタを適用することができる。なお、
図11(A)においては、ボトムゲート型のトランジスタを適用する場合について例示し
ている。また、図11(B)には、トップゲート型のトランジスタを適用する場合につい
て例示している。
次に、タッチパネルの駆動方法の一例について、図12を用いて説明を行う。
図12(A)は、相互容量方式のタッチセンサの構成を示すブロック図である。図12(
A)では、パルス電圧出力回路2601、電流検出回路2602を示している。なお、図
12(A)では、パルス電圧が与えられる電極2621をX1−X6として、電流の変化
を検知する電極2622をY1−Y6として、それぞれ6本の配線で例示している。また
、図12(A)は、電極2621と、電極2622とが重畳することで形成される容量2
603を示している。なお、電極2621と電極2622とはその機能を互いに置き換え
てもよい。
パルス電圧出力回路2601は、X1−X6の配線に順にパルスを印加するための回路で
ある。X1−X6の配線にパルス電圧が印加されることで、容量2603を形成する電極
2621と電極2622との間に電界が生じる。この電極間に生じる電界が遮蔽等により
容量2603の相互容量に変化を生じさせることを利用して、被検知体の近接、または接
触を検出することができる。
電流検出回路2602は、容量2603での相互容量の変化による、Y1−Y6の配線で
の電流の変化を検出するための回路である。Y1−Y6の配線では、被検知体の近接、ま
たは接触がないと検出される電流値に変化はないが、検出する被検知体の近接、または接
触により相互容量が減少する場合には電流値が減少する変化を検出する。なお電流の検出
は、積分回路等を用いて行えばよい。
次に、図12(B)には、図12(A)で示す相互容量方式のタッチセンサにおける入出
力波形のタイミングチャートを示す。図12(B)では、1フレーム期間で各行列での被
検知体の検出を行うものとする。また、図12(B)では、被検知体を検出しない場合(
非タッチ)と被検知体を検出する場合(タッチ)との2つの場合について示している。な
おY1−Y6の配線については、検出される電流値に対応する電圧値とした波形を示して
いる。
X1−X6の配線には、順にパルス電圧が与えられ、該パルス電圧にしたがってY1−Y
6の配線での波形が変化する。被検知体の近接または接触がない場合には、X1−X6の
配線の電圧の変化に応じてY1−Y6の波形が一様に変化する。一方、被検知体が近接ま
たは接触する箇所では、電流値が減少するため、これに対応する電圧値の波形も変化する
。このように、相互容量の変化を検出することにより、被検知体の近接または接触を検知
することができる。
また、図12(A)ではタッチセンサとして配線の交差部に容量2603のみを設けるパ
ッシブマトリクス型のタッチセンサの構成を示したが、トランジスタと容量とを備えたア
クティブマトリクス型のタッチセンサとしてもよい。図13にアクティブマトリクス型の
タッチセンサに含まれる一つのセンサ回路の例を示している。
図13に示すセンサ回路は、容量2603と、トランジスタ2611と、トランジスタ2
612と、トランジスタ2613とを有する。
トランジスタ2613はゲートに信号G2が与えられ、ソースまたはドレインの一方に電
圧VRESが与えられ、他方が容量2603の一方の電極およびトランジスタ2611の
ゲートと電気的に接続する。トランジスタ2611は、ソースまたはドレインの一方がト
ランジスタ2612のソースまたはドレインの一方と電気的に接続し、他方に電圧VSS
が与えられる。トランジスタ2612は、ゲートに信号G1が与えられ、ソースまたはド
レインの他方が配線MLと電気的に接続する。容量2603の他方の電極には電圧VSS
が与えられる。
次に、図13に示すセンサ回路の動作について説明する。まず信号G2としてトランジス
タ2613をオン状態とする電位が与えられることで、トランジスタ2611のゲートが
接続されるノードnに電圧VRESに対応した電位が与えられる。次に、信号G2として
トランジスタ2613をオフ状態とする電位が与えられることで、ノードnの電位が保持
される。続いて、指等の被検知体の近接または接触により、容量2603の相互容量が変
化することに伴い、ノードnの電位がVRESから変化する。
読み出し動作は、信号G1にトランジスタ2612をオン状態とする電位を与える。ノー
ドnの電位に応じてトランジスタ2611に流れる電流、すなわち配線MLに流れる電流
が変化する。この電流を検出することにより、被検知体の近接または接触を検出すること
ができる。
トランジスタ2611、トランジスタ2612、及びトランジスタ2613としては、酸
化物半導体層をチャネル領域が形成される半導体層に用いることが好ましい。とくにトラ
ンジスタ2613にこのようなトランジスタを適用することにより、ノードnの電位を長
期間に亘って保持することが可能となり、ノードnにVRESを供給しなおす動作(リフ
レッシュ動作)の頻度を減らすことができる。
本実施の形態は、少なくともその一部を本明細書中に記載する他の実施の形態と適宜組み
合わせて実施することができる。
≪合成例1≫
本実施例では、実施形態1の構造式(100)で表される本発明の一態様である有機金属
錯体、ビス[2−(5−エチル−5H−4−ピリミド[5,4−b]インドリル−κN3
)フェニル−κC](2,4−ペンタンジオナト−κO,O’)イリジウム(III)
(略称:[Ir(pidrpm)(acac)])の合成方法について説明する。なお
、[Ir(pidrpm)(acac)]の構造を以下に示す。
Figure 0006937867
<ステップ1; 4−フェニル−5H−ピリミド[5,4−b]インドールの合成>
まず、4−クロロ−5H−ピリミド[5,4−b]インドール1.00gとフェニルボロ
ン酸0.90g、炭酸ナトリウム0.78g、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム(II)ジクロリド(略称:Pd(PPhCl)0.020g、水20mL、
DMF20mLを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、内部をアルゴン置換した。この
反応容器にマイクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射することで加熱した。
その後この反応溶液に水を加え、ジクロロメタンにて有機層を抽出した。得られた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。乾燥した後の溶液をろ過した。
このろ液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、酢酸エチルを展開溶媒とするシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、目的のピリミジン誘導体4−フェニル−5H−ピリ
ミド[5,4−b]インドールの黄白色粉末を、収率75%で得た。なお、マイクロ波の
照射はマイクロ波合成装置(CEM社製 Discover)を用いた。ステップ1の合
成スキームを下記(A−1)に示す。
Figure 0006937867
<ステップ2; 5−エチル−4−フェニルピリミド[5,4−b]インドール(略称:
Hpidrpm)の合成>
次に、上記ステップ1で得た4−フェニル−5H−ピリミド[5,4−b]インドール0
.89gとdryDMF18mLを100mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置
換した。ここに水素化ナトリウム(60%、dispersion in Paraff
in Liquid)0.44gを加え、室温で30分間攪拌した。その後、ヨードエタ
ン0.58mLを滴下し、室温で18時間撹拌した。得られた反応溶液を水100mLに
注ぎ、析出した固体を吸引ろ過した。得られた固体を、酢酸エチルを展開溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的のピリミジン誘導体Hpidrpmの黄
白色粉末を、収率78%で得た。ステップ2の合成スキームを下記(A−2)に示す。
Figure 0006937867
<ステップ3; ジ−μ−クロロ−テトラキス[2−(5−エチル−5H−4−ピリミド
[5,4−b]インドリル−κN3)フェニル−κC]ジイリジウム(III)(略称:
[Ir(pidrpm)Cl])の合成>
次に、2−エトキシエタノール15mLと水5mL、上記ステップ2で得たHpidrp
m0.91g、塩化イリジウム水和物(IrCl・HO)(ヘレウス社製)0.48
gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マ
イクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射し、反応させた。この反応溶液の溶
媒を留去した後、得られた残渣にメタノールを加えて吸引ろ過し、メタノールで洗浄して
、複核錯体[Ir(pidrpm)Cl]の赤褐色粉末を収率78%で得た。また、
ステップ3の合成スキームを下記(A−3)に示す。
Figure 0006937867
<ステップ4; ビス[2−(5−エチル−5H−4−ピリミド[5,4−b]インドリ
ル−κN3)フェニル−κC](2,4−ペンタンジオナト−κO,O’)イリジウム
(III)(略称:[Ir(pidrpm)(acac)]の合成>
次に、2−エトキシエタノール20mL、上記ステップ3で得た複核錯体[Ir(pid
rpm)Cl]0.97g、アセチルアセトン(略称:Hacac)0.19g、炭
酸ナトリウム0.67gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン
置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 100W)を60分間照射した。ここ
で更にHacac0.19gを加え、再度マイクロ波(2.45GHz 100W)を6
0分間照射することで加熱した。この反応溶液の溶媒を留去し、得られた残渣にメタノー
ルを加えて吸引ろ過した。得られた固体を水、メタノールで洗浄した。得られた固体を、
ヘキサン:酢酸エチル=2:1を展開溶媒とするフラッシュカラムクロマトグラフィーに
より精製し、ジクロロメタンとメタノールの混合溶媒にて再結晶することにより、本発明
の一態様である有機金属錯体[Ir(pidrpm)(acac)]の赤色粉末を、収
率56%で得た。得られた赤色粉末0.48gを、トレインサブリメーション法により昇
華精製した。昇華精製条件は、圧力2.7Pa、アルゴンガスを流量5mL/minで流
しながら、285℃で固体を加熱した。昇華精製後、目的物の赤色固体を収率83%で得
た。ステップ4の合成スキームを下記(A−4)に示す。
Figure 0006937867
なお、上記ステップ4で得られた赤色粉末の核磁気共鳴分光法(H−NMR)による分
析結果を下記に示す。また、H−NMRチャートを図14に示す。このことから、本合
成例1において、上述の構造式(100)で表される本発明の一態様である有機金属錯体
[Ir(pidrpm)(acac)]が得られたことがわかった。
H−NMR.δ(CDCl):1.06(t,6H),1.74(s,6H),4.
65−4.81(m,4H),5.19(s,1H),6.54(d,2H),6.75
(t,2H),6.97(t,2H),7.46(t,2H),7.69−7.75(m
,4H),7.88(d,2H),8.41(d,2H),9.07(s,2H).
次に、[Ir(pidrpm)(acac)]の紫外可視線吸収スペクトル法(UV)
による解析を行った。UVスペクトルの測定は紫外可視分光光度計((株)日本分光製
V550型)を用い、ジクロロメタン溶液(0.092mmol/L)を用いて、室温で
測定を行った。また、[Ir(pidrpm)(acac)]の発光スペクトルを測定
した。発光スペクトルの測定は蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製 FS920)を用
い、脱気したジクロロメタン溶液(0.092mmol/L)を用いて、室温で測定を行
った。測定結果を図15に示す。横軸は波長、縦軸はモル吸光係数および発光強度を表す
図15に示す通り、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(pidrpm)(ac
ac)]は、610nmに発光ピークを有しており、ジクロロメタン溶液からは朱色の発
光が観測された。
次に、本実施例で得られた[Ir(pidrpm)(acac)]を液体クロマトグラ
フ質量分析(Liquid Chromatography Mass Spectro
metry,略称:LC/MS分析)によって分析した。
LC/MS分析は、LC(液体クロマトグラフィー)分離をウォーターズ社製Acqui
ty UPLC(登録商標)により、MS分析(質量分析)をウォーターズ社製Xevo
G2 Tof MSにより行った。LC分離で用いたカラムはAcquity UPL
C(登録商標) BEH C8 (2.1×100mm 1.7μm)、カラム温度は4
0℃とした。移動相は移動相Aをアセトニトリル、移動相Bを0.1%ギ酸水溶液とした
。また、サンプルは任意の濃度の[Ir(pidrpm)(acac)]をクロロホル
ムに溶解し、アセトニトリルで希釈して調整し、注入量は5.0μLとした。
LC分離には移動相の組成を変化させるグラジエント法を用い、測定開始後0分から1分
までが、移動相A:移動相B=50:50、その後組成を変化させ、10分における移動
相Aと移動相Bとの比が移動相A:移動相B=95:5となるようにした。比率はリニア
に変化させた。
MS分析では、エレクトロスプレーイオン化法(ElectroSpray Ioniz
ation、略称:ESI)によるイオン化を行い、キャピラリー電圧は3.0kV、サ
ンプルコーン電圧は30V、検出はポジティブモードで行った。なお、測定する質量範囲
はm/z=100〜1200とした。
以上の条件で分離、イオン化されたm/z=836.25の成分を衝突室(コリジョンセ
ル)内でアルゴンガスと衝突させてプロダクトイオンに解離させた。アルゴンを衝突させ
る際のエネルギー(コリジョンエネルギー)は30eVおよび70eVとした。コリジョ
ンエネルギー30eVで解離させたプロダクトイオンを飛行時間(TOF)型MSで検出
した結果を図16、コリジョンエネルギー70eVの結果を図17に示す。
図16の結果から、構造式(100)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、[
Ir(pidrpm)(acac)]は、主としてm/z=737.20付近にプロダ
クトイオンが検出されることがわかった。なお、図17に示す結果は、[Ir(pidr
pm)(acac)]に由来する特徴的な結果を示すものであることから、混合物中に
含まれる[Ir(pidrpm)(acac)]を同定する上での重要なデータである
といえる。
なお、m/z=737.20付近のプロダクトイオンは、構造式(100)の化合物にお
けるアセチルアセトンとプロトンが離脱した状態のカチオンと推定され、本発明の一態様
である有機金属錯体の特徴の一つである。
本実施例では、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(pidrpm)(acac
)](構造式(100))を発光層に用いた発光素子1について図18を用いて説明する
。なお、本実施例で用いる材料の化学式を以下に示す。
Figure 0006937867
≪発光素子1の作製≫
まず、ガラス製の基板900上に酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパ
ッタリング法により成膜し、陽極として機能する第1の電極901を形成した。なお、そ
の膜厚は110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板900上に発光素子1を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し
、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着
装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板900を30
分程度放冷した。
次に、第1の電極901が形成された面が下方となるように、基板900を真空蒸着装置
内に設けられたホルダーに固定した。本実施例では、真空蒸着法により、EL層902を
構成する正孔注入層911、正孔輸送層912、発光層913、電子輸送層914、電子
注入層915が順次形成される場合について説明する。
真空装置内を10−4Paに減圧した後、1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−
イル)ベンゼン(略称:DBT3P−II)と酸化モリブデンとを、DBT3P−II:
酸化モリブデン=4:2(質量比)となるように共蒸着することにより、第1の電極90
1上に正孔注入層911を形成した。膜厚は20nmとした。なお、共蒸着とは、異なる
複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
次に、BPAFLPを20nm蒸着することにより、正孔輸送層912を形成した。
次に、正孔輸送層912上に発光層913を形成した。2−[3’−(ジベンゾチオフェ
ン−4−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mD
BTBPDBq−II)、N−(1,1’−ビフェニル−4−イル)−N−[4−(9−
フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−9,9−ジメチル−9H−フル
オレン−2−アミン(略称:PCBBiF)、[Ir(pidrpm)(acac)]
を、2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:[Ir(pidrpm)(acac
)]=0.8:0.2:0.01(質量比)となるように共蒸着した。なお、膜厚は40
nmの膜厚とした。
次に、発光層913上に2mDBTBPDBq−IIを20nm蒸着した後、Bphen
を10nm蒸着することにより、電子輸送層914を形成した。さらに電子輸送層914
上に、フッ化リチウムを1nm蒸着することにより、電子注入層915を形成した。
最後に、電子注入層915上にアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着し、陰
極となる第2の電極903形成し、発光素子1を得た。なお、上述した蒸着過程において
、蒸着は全て抵抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子1の素子構造を表1に示す。
Figure 0006937867
また、作製した発光素子1は、大気に曝されないように窒素雰囲気のグローブボックス内
において封止した(シール材を素子の周囲に塗布し、UV処理、および80℃にて1時間
熱処理を行った)。
≪発光素子1の動作特性≫
作製した発光素子1の動作特性について測定した。なお、測定は室温(25℃に保たれた
雰囲気)で行った。
まず、発光素子1の電圧−輝度特性を図19に示す。なお、図19において、縦軸は輝度
(cd/m)、横軸は電圧(V)を示す。また、発光素子1の輝度−電流効率特性を図
20に示す。なお、図20において、縦軸は電流効率(cd/A)、横軸は輝度(cd/
)を示す。また、発光素子1の輝度−外部量子効率特性を図21に示す。なお、図2
1において、縦軸は外部量子効率(%)、横軸は輝度(cd/m)を示す。
図19乃至図21より、本発明の一態様である発光素子1は、高効率な素子であることが
わかった。また、1000cd/m付近における発光素子1の主な初期特性値を以下の
表2に示す。
Figure 0006937867
上記結果から、本実施例で作製した発光素子1は、良好な電流効率、及び高い外部量子効
率で、且つ低い駆動電圧で発光が得られた。
また、発光素子1についての信頼性試験を行った。信頼性試験の結果を図22に示す。図
22において、縦軸は初期輝度を100%とした時の規格化輝度(%)を示し、横軸は素
子の駆動時間(h)を示す。なお、信頼性試験は、初期輝度を5000cd/mに設定
し、電流密度一定の条件で発光素子1を駆動させた。その結果、発光素子1の100時間
後の輝度は、初期輝度のおよそ92%を保っていた。
従って、発光素子1は、高い信頼性を示すことがわかった。また、本発明の一態様である
有機金属錯体を発光素子に用いることにより、長寿命の発光素子が得られることがわかっ
た。
また、発光素子1に2.5mA/cmの電流密度で電流を流した際の発光スペクトルを
、図23に示す。図23に示す通り、発光素子1の発光スペクトルは596nmにピーク
を有しており、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(pidrpm)(acac
)]の発光に由来していることが示唆される。
101 第1の電極
102 EL層
103 第2の電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 電子輸送層
115 電子注入層
201 第1の電極
202 EL層
204 第2の電極
205 電荷発生層
301 素子基板
302 画素部
303 駆動回路部
304a 駆動回路部
304b 駆動回路部
305 シール材
306 封止基板
307 配線
308 FPC
309 FET
310 FET
312 電流制御用FET
313 第1の電極
314 隔壁
315 EL層
316 第2の電極
317a 発光素子
317b 発光素子
318 空間
320a 導電膜
320b 導電膜
321 領域
322 領域
323 配線
324a カラーフィルタ
324b カラーフィルタ
325 黒色層(ブラックマトリクス)
350 発光素子
351 基板
352 第1の電極
353 第2の電極
354 EL層
355 絶縁膜
356 隔壁
900 基板
901 第1の電極
902 EL層
903 第2の電極
911 正孔注入層
912 正孔輸送層
913 発光層
914 電子輸送層
915 電子注入層
2000 タッチパネル
2001 タッチパネル
2501 表示部
2502R 画素
2502t トランジスタ
2503c 容量素子
2503g 走査線駆動回路
2503t トランジスタ
2509 FPC
2510 基板
2511 配線
2519 端子
2521 絶縁層
2528 隔壁
2550R 発光素子
2560 封止層
2567BM 遮光層
2567p 反射防止層
2567R 着色層
2570 基板
2580R 発光モジュール
2590 基板
2591 電極
2592 電極
2593 絶縁層
2594 配線
2595 タッチセンサ
2597 接着層
2598 配線
2599 端子
2601 パルス電圧出力回路
2602 電流検出回路
2603 容量
2611 トランジスタ
2612 トランジスタ
2613 トランジスタ
2621 電極
2622 電極
4000 照明装置
4001 基板
4002 発光素子
4003 基板
4004 第1の電極
4005 EL層
4006 第2の電極
4007 電極
4008 電極
4009 補助配線
4010 絶縁層
4011 封止基板
4012 シール材
4013 乾燥剤
4015 拡散板
4100 照明装置
4200 照明装置
4201 基板
4202 封止基板
4204 第1の電極
4205 EL層
4206 第2の電極
4207 電極
4208 電極
4209 補助配線
4210 絶縁層
4212 シール材
4213 バリア膜
4214 平坦化膜
4215 拡散板
4300 照明装置
5000 表示領域
5001 表示領域
5002 表示領域
5003 表示領域
5004 表示領域
5005 表示領域
7100 テレビジョン装置
7101 筐体
7103 表示部
7105 スタンド
7107 表示部
7109 操作キー
7110 リモコン操作機
7201 本体
7202 筐体
7203 表示部
7204 キーボード
7205 外部接続ポート
7206 ポインティングデバイス
7302 筐体
7304 表示パネル
7305 アイコン
7306 アイコン
7311 操作ボタン
7312 操作ボタン
7313 接続端子
7321 バンド
7322 留め金
7400 携帯電話機
7401 筐体
7402 表示部
7403 操作用ボタン
7404 外部接続部
7405 スピーカ
7406 マイク
7407 カメラ
7500 筐体
7501 第1面
7502 第2面
8001 照明装置
8002 照明装置
8003 照明装置
8004 照明装置
9310 携帯情報端末
9311 表示パネル
9312 表示領域
9313 ヒンジ
9315 筐体

Claims (2)

  1. 下記式(G0)で表される化合物(ただし、R がメチル基である場合を除く)
    Figure 0006937867

    (ただし、式(G0)中、Arは、置換もしくは無置換の炭素数6乃至13のアリール基を表し、R 乃至R は、それぞれ独立に、水素、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6乃至10のアリール基を表す。)
  2. 下記式で表される化合物。
    Figure 0006937867


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