JP6900064B2 - 配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機 - Google Patents
配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機 Download PDFInfo
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Description
本発明は、オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機に関し、より詳しくはオリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御したオリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機に関する。
シロキサン結合は、シリコーンポリマーや機能性シロキサン化合物の基本骨格を構成する結合であり、シロキサン結合形成法の開発が古くから活発に行われてきた。しかしながら、シロキサンの配列を制御してオリゴシロキサンを合成する手法は限られている。
正宗らは、ピリジン存在下でのシラノールとクロロシランの縮合反応によるシロキサン結合形成とヒドロシランと水との脱水素縮合を組み合わせることで、シロキサンデンドリマーの逐次的な合成を達成している（非特許文献１参照）。一方、Ｋｕｎｇらもシラノールとクロロシランの縮合反応によるシロキサン結合形成を応用して、シランジオールとジクロロシランを順次反応させて配列制御オリゴシロキサンを合成する手法を報告している（非特許文献２参照）。しかしながら、上記の反応で使用するシランモノマー（クロロヒドロシランやシランジオール）の入手には制限がある上、シロキサン結合形成反応後に生じるピリジン塩酸塩を取り除く作業が必要である。そのため、本手法にて多様な配列制御オリゴシロキサンを迅速かつ簡便に合成することは困難である。
一方、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランはアルコキシシランとヒドロシランの縮合反応を触媒することが知られている（特許文献１、非特許文献２）。また、同触媒は、カルボニル化合物のヒドロシリル化（非特許文献３）にも用いられている。
一方、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランはアルコキシシランとヒドロシランの縮合反応を触媒することが知られている（特許文献１、非特許文献２）。また、同触媒は、カルボニル化合物のヒドロシリル化（非特許文献３）にも用いられている。
Ｈ．Ｕｃｈｉｄａ， Ｙ．Ｋａｂｅ， Ｋ．Ｙｏｓｈｉｎｏ， Ａ．Ｋａｗａｍａｔａ， Ｔ．Ｔｓｕｍｕｒａｙａ， Ｓ．Ｍａｓａｍｕｎｅ， Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ． １９９０， １１２， ７０７７−７０７９．
Ｚ．Ｃｈａｎｇ， Ｍ．Ｃ．Ｋｕｎｇ， Ｈ．Ｈ．Ｋｕｎｇ，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ． ２００４， ２０６−２０７．
Ｊ．Ｃｈｏｊｎｏｗｓｋｉ， Ｓ．Ｒｕｂｉｎｓｚｔａｊｎ， Ｊ．Ａ．Ｃｅｌｌａ， Ｗ．Ｆｏｒｔｕｎｉａｋ， Ｍ．Ｃｙｐｒｙｋ， Ｊ．Ｋｕｒｊａｔａ， Ｋ．Ｋａｚｍｉｅｒｓｋｉ， Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００５， ２４， ６０７７−６０８４．
Ｄ．Ｊ．Ｐａｒｋｓ， Ｗ．Ｅ．Ｐｉｅｒｓ， Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ． １９９６， １１８， ９４４０−９４４１．
本発明は、オリゴシロキサンを効率よく製造することができるオリゴシロキサンの製造方法及びオリゴシロキサン合成機を提供すること、特にオリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御することができるオリゴシロキサンの製造方法及びオリゴシロキサン合成機を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ルイス酸性を有するホウ素化合物を触媒とするアルコキシシランとジヒドロシランの縮合反応と、ルイス酸性を有するホウ素化合物を触媒するヒドロシロキサンとカルボニル化合物のヒドロシリル化反応を組み合わせることによって、オリゴシロキサンを効率よく製造することができること、さらにこの縮合反応とヒドロシリル化反応を交互に繰り返すことによって、オリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御することができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。
即ち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程、及び
ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合工程で生成した前記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化工程を含むことを特徴とするオリゴシロキサンの製造方法。
（式（ｂ）中、Ｒは炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は−ＣＨＲ’２で表される基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。式（ｂ）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
（式（Ｅ）及び式（ｆ）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｆ）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
＜２＞ 前記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランが、下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランであり、
下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランが、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて生成したものである、＜１＞に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
（式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基
を表す。）
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
＜３＞ ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及び
ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を含むことを特徴とするオリゴシロキサンの製造方法。
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
（式（ｂ’）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
＜４＞ 前記縮合工程及び前記ヒドロシリル化工程が、１つの反応器内で行われる、＜１＞〜＜３＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜５＞ 前記縮合工程において使用した前記ルイス酸性を有するホウ素化合物を、前記ヒドロシリル化工程に使用する、＜１＞、＜２＞及び＜４＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜６＞ 前記ヒドロシリル化工程において使用した前記ルイス酸性を有するホウ素化合物を、前記縮合工程に使用する、＜３＞又は＜４＞に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜７＞ 前記オリゴシロキサンが下記式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）の何れかで表される、＜１＞〜＜６＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
（式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を、Ｒｘはそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、ｉは２〜２０の整数を、ｊは１〜２０の整数を、ｋは１〜２０の整数を表す。）
＜８＞ ２以上の前記縮合工程及び２以上の前記ヒドロシリル化工程を含み、前記縮合工程と前記ヒドロシリル化工程が交互に行われる、＜１＞〜＜７＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜９＞ ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合反応、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合反応で生成した前記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化反応を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記縮合反応及び前記ヒドロシリル化反応を行う反応器、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前
記反応器に移送するヒドロシラン移送機構、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反
応器に移送するカルボニル化合物移送機構、並びに
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するように前記ヒドロシラン移送機構を操作すること、及び前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するように前記カルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機。
（式（ｂ）中、Ｒは炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は−ＣＨＲ’２で表される基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。式（ｂ）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
（式（Ｅ）及び式（ｆ）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｆ）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
＜１０＞ ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記ヒドロシリル化反応及び前記縮合反応を行う反応器、
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するヒドロシラン移送機構、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するカルボニル化合物移送機構、並びに
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するように前記ヒドロシラン移送機構を操作すること、及び前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するように前記カルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機。
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
（式（ｂ’）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
＜１１＞ 下記式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）の何れかで表されるオリゴシロキサン。
（式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を、Ｒｘはそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、ｉは２〜２０の整数を、ｊは１〜２０の整数を、ｋは１〜２０の整数を表す。）
ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合工程で生成した前記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化工程を含むことを特徴とするオリゴシロキサンの製造方法。
＜２＞ 前記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランが、下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランであり、
下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランが、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて生成したものである、＜１＞に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
を表す。）
＜３＞ ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及び
ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を含むことを特徴とするオリゴシロキサンの製造方法。
＜４＞ 前記縮合工程及び前記ヒドロシリル化工程が、１つの反応器内で行われる、＜１＞〜＜３＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜５＞ 前記縮合工程において使用した前記ルイス酸性を有するホウ素化合物を、前記ヒドロシリル化工程に使用する、＜１＞、＜２＞及び＜４＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜６＞ 前記ヒドロシリル化工程において使用した前記ルイス酸性を有するホウ素化合物を、前記縮合工程に使用する、＜３＞又は＜４＞に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜７＞ 前記オリゴシロキサンが下記式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）の何れかで表される、＜１＞〜＜６＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜８＞ ２以上の前記縮合工程及び２以上の前記ヒドロシリル化工程を含み、前記縮合工程と前記ヒドロシリル化工程が交互に行われる、＜１＞〜＜７＞の何れかに記載のオリゴシロキサンの製造方法。
＜９＞ ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合反応、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合反応で生成した前記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化反応を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記縮合反応及び前記ヒドロシリル化反応を行う反応器、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前
記反応器に移送するヒドロシラン移送機構、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反
応器に移送するカルボニル化合物移送機構、並びに
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するように前記ヒドロシラン移送機構を操作すること、及び前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するように前記カルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機。
＜１０＞ ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記ヒドロシリル化反応及び前記縮合反応を行う反応器、
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するヒドロシラン移送機構、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するカルボニル化合物移送機構、並びに
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するように前記ヒドロシラン移送機構を操作すること、及び前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するように前記カルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機。
＜１１＞ 下記式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）の何れかで表されるオリゴシロキサン。
本発明によれば、オリゴシロキサンを効率よく製造することができる。また、任意の置換基配列を有するオリゴシロキサンを製造することができる。
本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。
＜オリゴシロキサンの製造方法＞
本発明の一態様であるオリゴシロキサンの製造方法（以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。）は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程（以下、「縮合工程」と略す場合がある。）、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、縮合工程で生成した式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化工程（以下、「ヒドロシリル化工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
（式（ｂ）中、Ｒは炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は−ＣＨＲ’２で表される基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。式（ｂ）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
（式（Ｅ）及び式（ｆ）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｆ）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
また、本発明の他の一態様は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を含むことを特徴とする。
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
（式（ｂ’）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
アルコキシシランやクロロシランの加水分解／縮合によるシロキサン結合形成法では、生成するシロキサンの置換基の配列を精密に制御することは原理的に不可能である。また、近年では触媒的なシロキサン結合形成法も開発されてはいるが、シロキサン結合形成を逐次的に反復して行うことで、オリゴシロキサンのシロキサン結合の配列を制御する技術は報告されていないのが現状である。
本発明者らは、ルイス酸性を有するホウ素化合物を触媒とするアルコキシシランとジヒドロシランの縮合反応と、ルイス酸性を有するホウ素化合物を触媒するヒドロシロキサンとカルボニル化合物のヒドロシリル化反応を組み合わせることによって、オリゴシロキサンを効率よく製造することができること、さらにこの縮合反応とヒドロシリル化反応を交互に繰り返すことによって、オリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御することができることを見出したのである。本発明の一態様においては、「縮合工程」及び「ヒドロシリル化工程」の両方の工程を連続して行うことが特徴であり、出発原料に応じ「縮合工程」及び「ヒドロシリル化工程」のいずれの工程から行ってもよい。 なお、式（ａ）、（ｂ）、（ｂ’）、（ｃ）、（ｄ）、及び（ｆ）中の波線は、その先の構造が任意であることを意味する。
また、「縮合工程」は式（ｂ）または（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランが、「ヒドロシリル化工程」は式（ｄ）または（ａ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物が、１：１（物質量）で反応することに限られないものとする。例えば、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランが２以上のアルコキシ基（−ＯＲ）を有する場合、「縮合工程」と「ヒドロシリル化工程」が下記式で表される反応のように進行することもあり得る。
また、「オリゴシロキサン」とは、ジシロキサン、トリシロキサン、テトラシロキサン等の−（ＳｉＯ）ｍ−（ｍ＝２〜２０）結合を有する化合物を意味するものとする。オリゴシロキサンは分岐構造を有していてもよいし、環状構造を有していてもよい。
以下、少なくとも「縮合工程」に続いて「ヒドロシリル化工程」を行う場合を例として、「縮合工程」、「ヒドロシリル化工程」等について詳細に説明する。
本発明の一態様であるオリゴシロキサンの製造方法（以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。）は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程（以下、「縮合工程」と略す場合がある。）、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、縮合工程で生成した式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化工程（以下、「ヒドロシリル化工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
また、本発明の他の一態様は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を含むことを特徴とする。
アルコキシシランやクロロシランの加水分解／縮合によるシロキサン結合形成法では、生成するシロキサンの置換基の配列を精密に制御することは原理的に不可能である。また、近年では触媒的なシロキサン結合形成法も開発されてはいるが、シロキサン結合形成を逐次的に反復して行うことで、オリゴシロキサンのシロキサン結合の配列を制御する技術は報告されていないのが現状である。
本発明者らは、ルイス酸性を有するホウ素化合物を触媒とするアルコキシシランとジヒドロシランの縮合反応と、ルイス酸性を有するホウ素化合物を触媒するヒドロシロキサンとカルボニル化合物のヒドロシリル化反応を組み合わせることによって、オリゴシロキサンを効率よく製造することができること、さらにこの縮合反応とヒドロシリル化反応を交互に繰り返すことによって、オリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御することができることを見出したのである。本発明の一態様においては、「縮合工程」及び「ヒドロシリル化工程」の両方の工程を連続して行うことが特徴であり、出発原料に応じ「縮合工程」及び「ヒドロシリル化工程」のいずれの工程から行ってもよい。 なお、式（ａ）、（ｂ）、（ｂ’）、（ｃ）、（ｄ）、及び（ｆ）中の波線は、その先の構造が任意であることを意味する。
また、「縮合工程」は式（ｂ）または（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランが、「ヒドロシリル化工程」は式（ｄ）または（ａ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物が、１：１（物質量）で反応することに限られないものとする。例えば、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランが２以上のアルコキシ基（−ＯＲ）を有する場合、「縮合工程」と「ヒドロシリル化工程」が下記式で表される反応のように進行することもあり得る。
以下、少なくとも「縮合工程」に続いて「ヒドロシリル化工程」を行う場合を例として、「縮合工程」、「ヒドロシリル化工程」等について詳細に説明する。
（縮合工程）
縮合工程は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する工程であるが、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランの具体的種類は、特に限定されず、製造目的であるオリゴシロキサンに応じて適宜選択されるべきである。なお、少なくとも「ヒドロシリル工程」に続いて「縮合化工程」を行う場合、「式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシラン」を「式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシラン」と読み替える。
式（ｂ）中のＲは、「炭素原子数１〜２０の炭化水素基」、又は「−ＣＨＲ’２で表される基」を、Ｒ’はそれぞれ独立して「水素原子」、又は「炭素原子数１〜８の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」は、分岐構造、環状構造のそれぞれを有していてもよく、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。
Ｒが炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒが芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒとしては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニルメチル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
Ｒ’が炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは７以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ’としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニルメチル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
−Ｏ−ＣＨＲ’２で表される基としては、下記式で表されるものが挙げられる。
縮合工程は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する工程であるが、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランの具体的種類は、特に限定されず、製造目的であるオリゴシロキサンに応じて適宜選択されるべきである。なお、少なくとも「ヒドロシリル工程」に続いて「縮合化工程」を行う場合、「式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシラン」を「式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシラン」と読み替える。
Ｒが炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒが芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒとしては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニルメチル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
Ｒ’が炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは７以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ’としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニルメチル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
−Ｏ−ＣＨＲ’２で表される基としては、下記式で表されるものが挙げられる。
Ｒが−ＣＨＲ’２で表される基である、即ち、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランが、下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランである場合、式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランは、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて生成したものであってもよい。
（式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。）
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランとしては、アルコキシモノシラン、ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンが挙げられる。以下、「アルコキシモノシラン」、「ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサン」ついて詳細に説明する。
アルコキシモノシランとしては、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）の何れかで表されるアルコキシシランが挙げられる。
（式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒは炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は−ＣＨＲ’２で表される基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。）
式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）中のＲ１は、それぞれ独立して「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子が窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等を含む１価の官能基で置換されていてもよいほか、炭化水素基の炭素骨格内部の炭素原子が窒素原子、酸素原子、硫黄原子等を含む２価以上の官能基（連結基）で置換されていてもよいことを意味する。また、「炭化水素基」は、分岐構造、環状構造のそれぞれを有していてもよく、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。
Ｒ１の炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒ１が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ１の炭化水素基に含まれる官能基としては、エーテル基（オキサ基，−Ｏ−）、チオエーテル基（チア基，−Ｓ−）、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。なお、官能基がアルケニル基、アルキニル基等、炭素原子を含む場合、炭化水素基の炭素数に含める。
従って、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」炭素原子数１〜２０の炭化水素基には、例えば−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｂｒのようにハロゲンを含んでいる炭素数２の炭化水素基、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３のようにエーテル基を炭素骨格の内部に含んでいる炭素数２の炭化水素基、及び−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ３のようにチア基を炭素骨格の内部に含んでいる炭素数４の炭化水素基等が含まれる。
具体的なＲ１としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）の何れかで表されるアルコキシシランとしては、下記式で表されるものが挙げられる。
アルコキシモノシランとしては、下記式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）の何れかで表されるアルコキシシランが挙げられる。
式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）中のＲ１は、それぞれ独立して「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子が窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等を含む１価の官能基で置換されていてもよいほか、炭化水素基の炭素骨格内部の炭素原子が窒素原子、酸素原子、硫黄原子等を含む２価以上の官能基（連結基）で置換されていてもよいことを意味する。また、「炭化水素基」は、分岐構造、環状構造のそれぞれを有していてもよく、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。
Ｒ１の炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒ１が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ１の炭化水素基に含まれる官能基としては、エーテル基（オキサ基，−Ｏ−）、チオエーテル基（チア基，−Ｓ−）、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。なお、官能基がアルケニル基、アルキニル基等、炭素原子を含む場合、炭化水素基の炭素数に含める。
従って、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」炭素原子数１〜２０の炭化水素基には、例えば−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｂｒのようにハロゲンを含んでいる炭素数２の炭化水素基、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３のようにエーテル基を炭素骨格の内部に含んでいる炭素数２の炭化水素基、及び−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ３のようにチア基を炭素骨格の内部に含んでいる炭素数４の炭化水素基等が含まれる。
具体的なＲ１としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）の何れかで表されるアルコキシシランとしては、下記式で表されるものが挙げられる。
「ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサン」とは、アルコキシ基（−ＯＲ）を有するオリゴシロキサンを意味し、分岐構造、環状構造のそれぞれを有していてもよいものとする。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンのケイ素原子数は、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンのアルコキシ基（−ＯＲ）の数は、通常１以上であり、通常４以下、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンに含まれる置換基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基が挙げられる。なお、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義である。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンとしては、下記式（Ｂ−５）〜（Ｂ−６）の何れかで表されるアルコキシオリゴシロキサンが挙げられる。
（式（Ｂ−５）〜（Ｂ−６）中、Ｒ１はそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒは炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は−ＣＨＲ’２で表される基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を、ｎは０〜１８の整数を表す。）
なお、式（Ｂ−５）〜（Ｂ−６）中のＲ１は、式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）中のＲ１と同様のものが挙げられる。
式（Ｂ−５）〜（Ｂ−６）の何れかで表されるアルコキシオリゴシロキサンとしては、下記式で表されるものが挙げられる。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンのケイ素原子数は、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンのアルコキシ基（−ＯＲ）の数は、通常１以上であり、通常４以下、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンに含まれる置換基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基が挙げられる。なお、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義である。
ケイ素原子数２〜２０のアルコキシオリゴシロキサンとしては、下記式（Ｂ−５）〜（Ｂ−６）の何れかで表されるアルコキシオリゴシロキサンが挙げられる。
なお、式（Ｂ−５）〜（Ｂ−６）中のＲ１は、式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）中のＲ１と同様のものが挙げられる。
式（Ｂ−５）〜（Ｂ−６）の何れかで表されるアルコキシオリゴシロキサンとしては、下記式で表されるものが挙げられる。
式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランの具体的種類は、特に限定されず、製造目的であるオリゴシロキサンに応じて適宜選択されるべきである。
式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランとしては、下記式（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）の何れかで表されるヒドロシランが挙げられる。
（式（Ｃ−１）〜（Ｃ−２）中、Ｒ２はそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表す。）
式（Ｃ−１）〜（Ｃ−２）中のＲ２は、それぞれ独立して「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義である。
Ｒ２の炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒ１が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ２の炭化水素基に含まれる官能基としては、エーテル基（オキサ基，−Ｏ−）、チオエーテル基（チア基，−Ｓ−）、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
Ｒ２としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
式（Ｃ−１）〜（Ｃ−２）の何れかで表されるヒドロシランとしては、下記式で表されるものが挙げられる。
式（Ｃ−１）〜（Ｃ−２）中のＲ２は、それぞれ独立して「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義である。
Ｒ２の炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒ１が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ２の炭化水素基に含まれる官能基としては、エーテル基（オキサ基，−Ｏ−）、チオエーテル基（チア基，−Ｓ−）、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
Ｒ２としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
式（Ｃ−１）〜（Ｃ−２）の何れかで表されるヒドロシランとしては、下記式で表されるものが挙げられる。
縮合工程における式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランの使用量（仕込量）は、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランのアルコキシ基（−ＯＲ）の物質量に対して、通常０．５当量以上、好ましくは０．９当量以上、より好ましくは０．９５当量以上であり、通常１．５当量以下、好ましくは１．１当量以下、より好ましくは１．０５当量以下である。上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
縮合工程におけるルイス酸性を有するホウ素化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。なお、ルイス酸性を有するホウ素化合物は、１種類に限られず、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
ルイス酸性を有するホウ素化合物としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３）、トリス（ペンタクロロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｃｌ５）３）、トリフェニルボラン（ＢＰｈ３）等が挙げられるが、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが特に好ましい。上記のものであると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
ルイス酸性を有するホウ素化合物としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３）、トリス（ペンタクロロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｃｌ５）３）、トリフェニルボラン（ＢＰｈ３）等が挙げられるが、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが特に好ましい。上記のものであると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
縮合工程におけるルイス酸性を有するホウ素化合物の使用量（仕込量）は、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランに対して物質量換算で、通常０．０１ｍｏｌ％以上、好ましくは０．１ｍｏｌ％以上、より好ましくは１ｍｏｌ％以上であり、通常２０ｍｏｌ％以下、好ましくは１０ｍｏｌ％以下、より好ましくは５ｍｏｌ％以下である。上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
縮合工程は、溶媒を使用することが好ましい。溶媒の種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、具体的にはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。この中でもトルエンが特に好ましい。
上記のものであると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
上記のものであると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
縮合工程の反応温度は、通常０℃以上、好ましくは１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、通常８０℃以下、好ましくは６０℃以下、より好ましくは４０℃以下である。
縮合工程の反応時間は、通常１分以上、好ましくは５分以上、より好ましくは１０分以上であり、通常１２時間以下、好ましくは６時間以下、より好ましくは１時間以下である。
縮合工程は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
縮合工程の反応時間は、通常１分以上、好ましくは５分以上、より好ましくは１０分以上であり、通常１２時間以下、好ましくは６時間以下、より好ましくは１時間以下である。
縮合工程は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
（ヒドロシリル化工程）
ヒドロシリル化工程は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、縮合工程で生成した式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成する工程であるが、式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。なお、少なくとも「ヒドロシリル工程」に続いて「縮合化工程」を行う場合、「式（ｄ）で表される構造を有するアルコキシシラン」を「式（ａ）で表される構造を有するアルコキシシラン」と読み替える。
式（Ｅ）中のＲ’は、それぞれ独立して「水素原子」、又は「炭素原子数１〜８の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」は、Ｒの場合と同義である。
Ｒ’が炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは７以下、より好ましくは６以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ’としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニルメチル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物としては、下記式で表されるホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、３−ペンタノン、アセトフェノン、ベンゾフェノンが挙げられる。
ヒドロシリル化工程は、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、縮合工程で生成した式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成する工程であるが、式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。なお、少なくとも「ヒドロシリル工程」に続いて「縮合化工程」を行う場合、「式（ｄ）で表される構造を有するアルコキシシラン」を「式（ａ）で表される構造を有するアルコキシシラン」と読み替える。
Ｒ’が炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは７以下、より好ましくは６以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ’としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニルメチル基（−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。
式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物としては、下記式で表されるホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、３−ペンタノン、アセトフェノン、ベンゾフェノンが挙げられる。
ヒドロシリル化工程における式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物の使用量（仕込量）は、式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンの水素原子（Ｓｉ−Ｈ）の物質量に対して、通常０．５当量以上、好ましくは０．９当量以上、より好ましくは０．９５当量以上であり、通常１．５当量以下、好ましくは１．１当量以下、より好ましくは１．０５当量以下である。上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
ヒドロシリル化工程におけるルイス酸性を有するホウ素化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。なお、ルイス酸性を有するホウ素化合物は、１種類に限られず、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
ルイス酸性を有するホウ素化合物としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３）、トリス（ペンタクロロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｃｌ５）３）、トリフェニルボラン（ＢＰｈ３）等が挙げられるが、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが特に好ましい。上記のものであると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
なお、ヒドロシリル化工程に使用するルイス酸性を有するホウ素化合物は、縮合工程において使用したものであってもよい。縮合工程において使用したルイス酸性を有するホウ素化合物をそのまま使用することによって、縮合工程後の精製等を省略することができ、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。特に縮合工程とヒドロシリル化工程が、１つの反応器内で行われることによって、縮合工程とヒドロシリル化工程を連続的に行うことができ、非常に効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。同様に、少なくとも「ヒドロシリル工程」に続いて「縮合化工程」を行う場合は、ヒドロシリル化工程において使用したルイス酸性を有するホウ素化合物を、縮合工程に使用してもよい。
ルイス酸性を有するホウ素化合物としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３）、トリス（ペンタクロロフェニル）ボラン（Ｂ（Ｃ６Ｃｌ５）３）、トリフェニルボラン（ＢＰｈ３）等が挙げられるが、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが特に好ましい。上記のものであると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
なお、ヒドロシリル化工程に使用するルイス酸性を有するホウ素化合物は、縮合工程において使用したものであってもよい。縮合工程において使用したルイス酸性を有するホウ素化合物をそのまま使用することによって、縮合工程後の精製等を省略することができ、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。特に縮合工程とヒドロシリル化工程が、１つの反応器内で行われることによって、縮合工程とヒドロシリル化工程を連続的に行うことができ、非常に効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。同様に、少なくとも「ヒドロシリル工程」に続いて「縮合化工程」を行う場合は、ヒドロシリル化工程において使用したルイス酸性を有するホウ素化合物を、縮合工程に使用してもよい。
ヒドロシリル化工程におけるルイス酸性を有するホウ素化合物の使用量（仕込量）は、式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンに対して物質量換算で、通常０．０１ｍｏｌ％以上、好ましくは０．１ｍｏｌ％以上、より好ましくは１ｍｏｌ％以上であり、通常２０ｍｏｌ％以下、好ましくは１０ｍｏｌ％以下、より好ましくは５ｍｏｌ％以下である。上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
ヒドロシリル化工程は、溶媒を使用することが好ましい。溶媒の種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、具体的にはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。この中でもトルエンが特に好ましい。
上記のものであるとより効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
なお、ヒドロシリル化工程に使用する溶媒は、縮合工程において使用したものであってもよい。縮合工程において使用したルイス酸性を有するホウ素化合物と溶媒をそのまま使用することによって、縮合工程後の精製等を省略することができ、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。特に縮合工程とヒドロシリル化工程が、１つの反応器内で行われることによって、縮合工程とヒドロシリル化工程を連続的に行うことができ、非常に効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
上記のものであるとより効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
なお、ヒドロシリル化工程に使用する溶媒は、縮合工程において使用したものであってもよい。縮合工程において使用したルイス酸性を有するホウ素化合物と溶媒をそのまま使用することによって、縮合工程後の精製等を省略することができ、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。特に縮合工程とヒドロシリル化工程が、１つの反応器内で行われることによって、縮合工程とヒドロシリル化工程を連続的に行うことができ、非常に効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
ヒドロシリル化工程の反応温度は、通常０℃以上、好ましくは１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、通常８０℃以下、好ましくは６０℃以下、より好ましくは４０℃以下である。
ヒドロシリル化工程の反応時間は、通常１分以上、好ましくは５分以上、より好ましくは１０分以上であり、通常１２時間以下、好ましくは６時間以下、より好ましくは１時間以下である。
ヒドロシリル化工程は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
ヒドロシリル化工程の反応時間は、通常１分以上、好ましくは５分以上、より好ましくは１０分以上であり、通常１２時間以下、好ましくは６時間以下、より好ましくは１時間以下である。
ヒドロシリル化工程は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
上記範囲内であると、より効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
本発明の製造方法は、縮合工程とヒドロシリル化工程を含むことを特徴とするが、本発明の製造方法の好ましい態様として、２以上の縮合工程及び２以上のヒドロシリル化工程を含み、縮合工程とヒドロシリル化工程が交互に行われる態様が挙げられる。なお、「２以上の縮合工程及び２以上のヒドロシリル化工程を含み、縮合工程とヒドロシリル化工程が交互に行われる」とは、第１縮合工程、第１ヒドロシリル化工程、第２縮合工程、第２ヒドロシリル化工程、第３縮合工程、第３ヒドロシリル化工程、・・・のように、縮合工程とヒドロシリル化工程が交互に繰り返されることを意味する。ヒドロシリル化工程で生成した式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンは、「−ＣＨＲ’２で表される基」を有することになるため、下記式で表されるように、新たな縮合工程における式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランとなり得、縮合工程とヒドロシリル化工程が交互に繰り返すことができるのである。
縮合工程は、式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランに応じた新たなシロキサン構造を導入する役割を果たし、ヒドロシリル化工程は、アルコキシ基を再生させる役割を果たすため、これらを交互に繰り返すことによって、シロキサン構造を伸長させることになる。かかる態様では、所望のシロキサン構造をオリゴシロキサンに１つ１つ導入していくことになるため、得られるオリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御することができるのである。
なお、縮合工程とヒドロシリル化工程の回数は、通常２０以下、好ましくは１２以下、より好ましくは８以下である。なお、縮合工程及びヒドロシリル化工程の何れの工程から行ってもよいし、縮合工程及びヒドロシリル化工程の何れの工程で反応を終了してもよい。
なお、縮合工程とヒドロシリル化工程の回数は、通常２０以下、好ましくは１２以下、より好ましくは８以下である。なお、縮合工程及びヒドロシリル化工程の何れの工程から行ってもよいし、縮合工程及びヒドロシリル化工程の何れの工程で反応を終了してもよい。
本発明の製造方法の好ましい態様として、２以上の縮合工程及び２以上のヒドロシリル化工程を含み、縮合工程とヒドロシリル化工程が交互に行われる態様を前述したが、かかる態様を利用して、オリゴシロキサンのシロキサン構造を下記（ｉ）〜（ｉｖ）のように伸長させることができる。
（ｉ）単一方向型
シロキサン構造を一方向に伸長させて、一本鎖状のオリゴシロキサンを生成する（下記式参照。）。
（ｉｉ）双方向型
シロキサン構造を二方向に伸長させて、一本鎖状のオリゴシロキサンを生成する（下記式参照。）。
（ｉｉｉ）収束型
伸長させたシロキサン構造を収束させて、一本鎖状のオリゴシロキサンを生成する。
（ｉｖ）収束−単一方向型
収束させたシロキサン構造から、さらに一方向にシロキサン構造を伸長させて、分岐状のオリゴシロキサンを生成する。
（ｖ）環化型
２官能性以上のシロキサン化合物を収束させて、環状のオリゴシロキサンを生成する。また、環化させたシロキサン構造から、さらにシロキサン構造を伸長させることもできる。また、４官能性のシロキサン化合物を収束させて、スピロシロキサンを生成させることもできる。
（ｉ）単一方向型
シロキサン構造を一方向に伸長させて、一本鎖状のオリゴシロキサンを生成する（下記式参照。）。
シロキサン構造を二方向に伸長させて、一本鎖状のオリゴシロキサンを生成する（下記式参照。）。
伸長させたシロキサン構造を収束させて、一本鎖状のオリゴシロキサンを生成する。
収束させたシロキサン構造から、さらに一方向にシロキサン構造を伸長させて、分岐状のオリゴシロキサンを生成する。
２官能性以上のシロキサン化合物を収束させて、環状のオリゴシロキサンを生成する。また、環化させたシロキサン構造から、さらにシロキサン構造を伸長させることもできる。また、４官能性のシロキサン化合物を収束させて、スピロシロキサンを生成させることもできる。
＜オリゴシロキサン合成機＞
本発明の製造方法によって、オリゴシロキサンを効率よく製造することができることを前述したが、本発明の製造方法を実施することができる下記のオリゴシロキサン合成機（以下、「本発明の合成機」と略す場合がある。）も本発明の一態様である。
ルイス酸性を有するホウ素化合物（以下、「ホウ素化合物」と略す場合がある。）の存在下、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシラン（以下、「アルコキシシラン」と略す場合がある。）と式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシラン（以下、「ヒドロシラン」と略す場合がある。）を反応させて式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合反応（以下、「縮合反応」と略す場合がある。）、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、縮合反応で生成した式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物（以下、「カルボニル化合物」と略す場合がある。）を反応させて式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化反応（以下、「ヒドロシリル化反応」と略す場合がある。）を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
縮合反応及びヒドロシリル化反応を行う反応器（以下、「反応器」と略す場合がある。）、
ヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器（以下、「ヒドロシラン収容容器」と略す場合がある。）、
カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器（以下、「カルボニル化合物収容容器」と略す場合がある。）、
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するヒドロシラン移送機構（以下、「ヒドロシラン移送機構」と略す場合がある。）、
カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するカルボニル化合物移送機構（以下、「カルボニル化合物移送機構」と略す場合がある。）、並びに
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するようにヒドロシラン移送機構を操作すること、及びカルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するようにカルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置（以下、「制御装置」と略す場合がある。）
を備える、オリゴシロキサン合成機。
また、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、ヒドロシリル化工程で生成した式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記ヒドロシリル化反応及び前記縮合反応を行う反応器、
ヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器、
カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するヒドロシラン移送機構、
カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するカルボニル化合物移送機構、並びに
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するようにヒドロシラン移送機構を操作すること、及びカルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するようにカルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機、も本発明の一態様である。
本発明の製造方法によって、オリゴシロキサンを効率よく製造することができることを前述したが、本発明の製造方法を実施することができる下記のオリゴシロキサン合成機（以下、「本発明の合成機」と略す場合がある。）も本発明の一態様である。
ルイス酸性を有するホウ素化合物（以下、「ホウ素化合物」と略す場合がある。）の存在下、式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシラン（以下、「アルコキシシラン」と略す場合がある。）と式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシラン（以下、「ヒドロシラン」と略す場合がある。）を反応させて式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合反応（以下、「縮合反応」と略す場合がある。）、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、縮合反応で生成した式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物（以下、「カルボニル化合物」と略す場合がある。）を反応させて式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化反応（以下、「ヒドロシリル化反応」と略す場合がある。）を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
縮合反応及びヒドロシリル化反応を行う反応器（以下、「反応器」と略す場合がある。）、
ヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器（以下、「ヒドロシラン収容容器」と略す場合がある。）、
カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器（以下、「カルボニル化合物収容容器」と略す場合がある。）、
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するヒドロシラン移送機構（以下、「ヒドロシラン移送機構」と略す場合がある。）、
カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するカルボニル化合物移送機構（以下、「カルボニル化合物移送機構」と略す場合がある。）、並びに
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するようにヒドロシラン移送機構を操作すること、及びカルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するようにカルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置（以下、「制御装置」と略す場合がある。）
を備える、オリゴシロキサン合成機。
また、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、ヒドロシリル化工程で生成した式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記ヒドロシリル化反応及び前記縮合反応を行う反応器、
ヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器、
カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するヒドロシラン移送機構、
カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するカルボニル化合物移送機構、並びに
ヒドロシランをヒドロシラン収容容器から反応器に移送するようにヒドロシラン移送機構を操作すること、及びカルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器から反応器に移送するようにカルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機、も本発明の一態様である。
（オリゴシロキサン合成機の第１の実施形態）
本発明の合成機として、図１の構成を有するオリゴシロキサン合成機が挙げられる。
図１のオリゴシロキサン合成機１０１は、縮合反応及びヒドロシリル化反応を行う反応器１０２、ヒドロシランを収容しておく複数のヒドロシラン収容容器１０３、カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器１０４、ヒドロシランをヒドロシラン収容容器１０３から反応器１０２に、カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器１０４から反応器１０２に移送するための送液管１０５、オリゴシロキサン合成機１０１全体の制御を行う制御装置１０６を備えている。また、ヒドロシラン収容容器１０３とカルボニル化合物収容容器１０４は、それぞれ電磁弁１０８が取り付けられた送気管１０７を介してガスボンベ１０９に接続しており、ガスボンベ１０９から供給される気体の圧力を利用して、ヒドロシランとカルボニル化合物をそれぞれ反応器１０２に移送できるようになっている。なお、電磁弁１０８は、それぞれ制御装置１０６によって開閉を制御できるようになっている。即ち、オリゴシロキサン合成機１０１は、ヒドロシラン移送機構とカルボニル化合物移送機構を備え、制御装置１０６は、ヒドロシランの移送とカルボニル化合物の移送を制御することができるのである。
オリゴシロキサン合成機１０１は、例えば下記（１）〜（４）の操作を行うことによって、オリゴシロキサンを製造することができる。
（１）反応器１０２にアルコキシシランとホウ素化合物と溶媒を投入する。
（２）ヒドロシランをヒドロシラン収容容器１０３から反応器１０２に移送して縮合反応を開始する。
（３）カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器１０４から反応器１０２に移送してヒドロシリル化反応を開始する。
（４）（２）の操作と（３）の操作を製造目的のオリゴシロキサンに応じて繰り返す。
（２）の操作と（３）の操作は、制御装置１０６を利用して自動で行うことができるため、オリゴシロキサン合成機１０１は、任意の置換基配列を有するオリゴシロキサンを効率よく製造することができるのである。
以下、「反応器」、「ヒドロシラン収容容器」、「カルボニル化合物収容容器」、「ヒドロシラン移送機構」、「カルボニル化合物移送機構」、「制御装置」等について詳細に説明する。
本発明の合成機として、図１の構成を有するオリゴシロキサン合成機が挙げられる。
図１のオリゴシロキサン合成機１０１は、縮合反応及びヒドロシリル化反応を行う反応器１０２、ヒドロシランを収容しておく複数のヒドロシラン収容容器１０３、カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器１０４、ヒドロシランをヒドロシラン収容容器１０３から反応器１０２に、カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器１０４から反応器１０２に移送するための送液管１０５、オリゴシロキサン合成機１０１全体の制御を行う制御装置１０６を備えている。また、ヒドロシラン収容容器１０３とカルボニル化合物収容容器１０４は、それぞれ電磁弁１０８が取り付けられた送気管１０７を介してガスボンベ１０９に接続しており、ガスボンベ１０９から供給される気体の圧力を利用して、ヒドロシランとカルボニル化合物をそれぞれ反応器１０２に移送できるようになっている。なお、電磁弁１０８は、それぞれ制御装置１０６によって開閉を制御できるようになっている。即ち、オリゴシロキサン合成機１０１は、ヒドロシラン移送機構とカルボニル化合物移送機構を備え、制御装置１０６は、ヒドロシランの移送とカルボニル化合物の移送を制御することができるのである。
オリゴシロキサン合成機１０１は、例えば下記（１）〜（４）の操作を行うことによって、オリゴシロキサンを製造することができる。
（１）反応器１０２にアルコキシシランとホウ素化合物と溶媒を投入する。
（２）ヒドロシランをヒドロシラン収容容器１０３から反応器１０２に移送して縮合反応を開始する。
（３）カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器１０４から反応器１０２に移送してヒドロシリル化反応を開始する。
（４）（２）の操作と（３）の操作を製造目的のオリゴシロキサンに応じて繰り返す。
（２）の操作と（３）の操作は、制御装置１０６を利用して自動で行うことができるため、オリゴシロキサン合成機１０１は、任意の置換基配列を有するオリゴシロキサンを効率よく製造することができるのである。
以下、「反応器」、「ヒドロシラン収容容器」、「カルボニル化合物収容容器」、「ヒドロシラン移送機構」、「カルボニル化合物移送機構」、「制御装置」等について詳細に説明する。
反応器の形状としては、丸底、平底、管状等が挙げられる。
反応器の口部の数は、通常１〜１０である。
反応器の素材としては、ガラス、樹脂、金属等が挙げられる。なお、反応器は、オートクレーブ等の耐圧性容器であってもよい。
反応器の容量は、通常５〜５００ｍｌである。
反応器の口部の数は、通常１〜１０である。
反応器の素材としては、ガラス、樹脂、金属等が挙げられる。なお、反応器は、オートクレーブ等の耐圧性容器であってもよい。
反応器の容量は、通常５〜５００ｍｌである。
ヒドロシラン収容容器とカルボニル化合物収容容器の素材としては、ガラス、樹脂、金属等が挙げられる。
ヒドロシラン収容容器の数は、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、さらに好ましくは４以上であり、通常５０以下である。ヒドロシランは、オリゴシロキサンのシロキサン構造の構成要素となるため、ヒドロシラン収容容器の数が多いと、その数に応じてオリゴシロキサンに多様な置換基を導入することができる。
カルボニル化合物収容容器の数は、１であってもよい。
ヒドロシラン収容容器の数は、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、さらに好ましくは４以上であり、通常５０以下である。ヒドロシランは、オリゴシロキサンのシロキサン構造の構成要素となるため、ヒドロシラン収容容器の数が多いと、その数に応じてオリゴシロキサンに多様な置換基を導入することができる。
カルボニル化合物収容容器の数は、１であってもよい。
ヒドロシラン移送機構とカルボニル化合物移送機構は、図１のオリゴシロキサン合成機１０１のように、気体の圧力を利用するもののほか、シリンジ等を用いた自動注入器が挙げられる。
ヒドロシラン移送機構とカルボニル化合物移送機構に利用される気体としては、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスが挙げられる。
ヒドロシラン移送機構とカルボニル化合物移送機構が、図１のオリゴシロキサン合成機１０１のように送液管を利用するものである場合、送液管は反応器に直接接続するほか、注入器、収容容器等を介して接続してもよい。
ヒドロシラン移送機構とカルボニル化合物移送機構に利用される気体としては、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスが挙げられる。
ヒドロシラン移送機構とカルボニル化合物移送機構が、図１のオリゴシロキサン合成機１０１のように送液管を利用するものである場合、送液管は反応器に直接接続するほか、注入器、収容容器等を介して接続してもよい。
本発明の合成機は、反応器、ヒドロシラン収容容器、カルボニル化合物収容容器、ヒドロシラン移送機構、カルボニル化合物移送機構、制御装置のほかに、反応器内を加熱する加熱機構（以下、「加熱機構」と略す場合がある。）、反応器内の反応溶液を撹拌する撹拌機構（以下、「撹拌機構」と略す場合がある。）、ホウ素化合物を収容しておくホウ素化合物収容容器、溶媒を収容しておく溶媒収容容器、ホウ素化合物をホウ素化合物収容容器から反応器に移送するホウ素化合物移送機構、溶媒を溶媒収容容器から反応器に移送する溶媒移送機構、廃液を収容する廃液収容容器、廃液を反応器から廃液収容容器に移送する廃液移送機構、温度センサー、残量センサー等を含むものであってもよい。
加熱機構としては、恒温槽、オイルバス、マントルヒーター等が、撹拌機構としては、スターラー式、撹拌翼式、反応器反転式等が挙げられる。なお、図１のオリゴシロキサン合成機１０１は、加熱機構として恒温槽１１０を、撹拌機構としてスターラー１１１を備えている。
加熱機構としては、恒温槽、オイルバス、マントルヒーター等が、撹拌機構としては、スターラー式、撹拌翼式、反応器反転式等が挙げられる。なお、図１のオリゴシロキサン合成機１０１は、加熱機構として恒温槽１１０を、撹拌機構としてスターラー１１１を備えている。
制御装置は、ヒドロシランの移送とカルボニル化合物の移送のほかに、加熱機構、撹拌機構等を備えるオリゴシロキサン合成機の場合、これらの機構のそれぞれを操作できるようになっていることが好ましい。これらの機構を操作できることによって、制御装置によってオリゴシロキサン合成機全体の制御を一括管理することができる。
制御装置としては、コンピュータが、より好ましくは市販のパーソナルコンピュータが挙げられる。
制御装置には、自動合成制御を行うプログラム（以下、「自動合成制御プログラム」と略す場合がある。）を記憶させておくことが好ましい。
自動合成制御プログラムは、時間等の条件に応じて、ヒドロシランの移送、カルボニル化合物の移送、反応器内の加熱、反応溶液の撹拌等のそれぞれの操作を自動で行うように設定できることが好ましい。このようなプログラムであると、縮合反応とヒドロシリル化反応を自動で交互に行うことができ、任意の置換基配列を有するオリゴシロキサンを効率よく製造することができる。
制御装置としては、コンピュータが、より好ましくは市販のパーソナルコンピュータが挙げられる。
制御装置には、自動合成制御を行うプログラム（以下、「自動合成制御プログラム」と略す場合がある。）を記憶させておくことが好ましい。
自動合成制御プログラムは、時間等の条件に応じて、ヒドロシランの移送、カルボニル化合物の移送、反応器内の加熱、反応溶液の撹拌等のそれぞれの操作を自動で行うように設定できることが好ましい。このようなプログラムであると、縮合反応とヒドロシリル化反応を自動で交互に行うことができ、任意の置換基配列を有するオリゴシロキサンを効率よく製造することができる。
（オリゴシロキサン合成機の第２の実施形態）
本発明の合成機として、図２の構成を有するオリゴシロキサン合成機も挙げられる。
図２のオリゴシロキサン合成機２０１は、縮合反応及び／又はヒドロシリル化反応を行う複数の反応器２０２、ヒドロシランを収容しておく複数のヒドロシラン収容容器２０３、カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器２０４、ヒドロシランをヒドロシラン収容容器２０３から反応器２０２に、カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器２０４から反応器２０２に移送するための送液管２０５、オリゴシロキサン合成機２０１全体の制御を行う制御装置２０６を備えている。また、オリゴシロキサン合成機２０１は、アルコキシシラン収容容器２１２、反応生成物を反応器から別の反応器に移送するための送液管２１３、生成したオリゴシロキサンを回収する回収管２１４を備えており、反応器から別の反応器に反応生成物を次々に移送することができる、いわゆるフローシステムであり、連続的により効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
なお、図２のオリゴシロキサン合成機は、アルコキシシランを収容しておくアルコキシシラン収容容器、反応生成物を反応器から別の反応器に移送する反応生成物移送機構、オリゴシロキサンを系外に移送するオリゴシロキサン移送機構を備えていると言える。
本発明の合成機として、図２の構成を有するオリゴシロキサン合成機も挙げられる。
図２のオリゴシロキサン合成機２０１は、縮合反応及び／又はヒドロシリル化反応を行う複数の反応器２０２、ヒドロシランを収容しておく複数のヒドロシラン収容容器２０３、カルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器２０４、ヒドロシランをヒドロシラン収容容器２０３から反応器２０２に、カルボニル化合物をカルボニル化合物収容容器２０４から反応器２０２に移送するための送液管２０５、オリゴシロキサン合成機２０１全体の制御を行う制御装置２０６を備えている。また、オリゴシロキサン合成機２０１は、アルコキシシラン収容容器２１２、反応生成物を反応器から別の反応器に移送するための送液管２１３、生成したオリゴシロキサンを回収する回収管２１４を備えており、反応器から別の反応器に反応生成物を次々に移送することができる、いわゆるフローシステムであり、連続的により効率良くオリゴシロキサンを製造することができる。
なお、図２のオリゴシロキサン合成機は、アルコキシシランを収容しておくアルコキシシラン収容容器、反応生成物を反応器から別の反応器に移送する反応生成物移送機構、オリゴシロキサンを系外に移送するオリゴシロキサン移送機構を備えていると言える。
＜オリゴシロキサン＞
本発明の製造方法によって、オリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御することができることを前述したが、本発明の製造方法によって製造することができる下記式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）の何れかで表されるオリゴシロキサンも本発明の一態様である。
本発明の製造方法によって、オリゴシロキサンの置換基の配列を精密に制御することができることを前述したが、本発明の製造方法によって製造することができる下記式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）の何れかで表されるオリゴシロキサンも本発明の一態様である。
（式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を、Ｒｘはそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、ｉは２〜２０の整数を、ｊは１〜２０の整数を、ｋは１〜２０の整数を表す。）
なお、式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中のＲ１は、式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）中のＲ１と同様のものが、式（Ｇ−２）、（Ｇ−４）、（Ｇ−６）及び（Ｇ−８）中のＲ’は、式（ｂ）中のＲ’と同様のものが挙げられる。
また、式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中のシロキシ基（−ＯＳＲｘ ２−）の少なくとも１つは、その他のシロキシ基とはＲｘの炭化水素基の組み合わせが異なるものであることが好ましい。
なお、式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中のＲ１は、式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）中のＲ１と同様のものが、式（Ｇ−２）、（Ｇ−４）、（Ｇ−６）及び（Ｇ−８）中のＲ’は、式（ｂ）中のＲ’と同様のものが挙げられる。
また、式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中のシロキシ基（−ＯＳＲｘ ２−）の少なくとも１つは、その他のシロキシ基とはＲｘの炭化水素基の組み合わせが異なるものであることが好ましい。
また、式（Ｇ−９）〜（Ｇ−１４）で表される環状のオリゴシロキサンとしては、以下に示すオリゴシロキサンが環形成の容易さの観点から、好ましい。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
＜実施例１＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、３，３，５，５，７，７−ヘキサエチル−１，１，１−トリメチル−９，９−ジフェニルペンタシロキサンが収率８３％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．７４−７．７３（ｍ、４Ｈ）、７．２２−７．１７（ｍ、６Ｈ）、５．８９（ｓ、１Ｈ）、１．０８−１．０４（ｍ、１８Ｈ）、０．６８（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６４（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６０（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．１８（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、３，３，５，５，７，７−ヘキサエチル−１，１，１−トリメチル−９，９−ジフェニルペンタシロキサンが収率８３％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．７４−７．７３（ｍ、４Ｈ）、７．２２−７．１７（ｍ、６Ｈ）、５．８９（ｓ、１Ｈ）、１．０８−１．０４（ｍ、１８Ｈ）、０．６８（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６４（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６０（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．１８（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例２＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、５，５，７，７，９，９−ヘキサエチル−１，１，１−トリメチル−３，３−ジフェニルペンタシロキサンが収率７０％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８５−７．８３（ｍ、４Ｈ）、７．２６−７．１９（ｍ、６Ｈ）、４．８５（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．４Ｈｚ、１Ｈ）、１．０８（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０２（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．７３−０．５９（ｍ、１２Ｈ）、０．１８（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、５，５，７，７，９，９−ヘキサエチル−１，１，１−トリメチル−３，３−ジフェニルペンタシロキサンが収率７０％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８５−７．８３（ｍ、４Ｈ）、７．２６−７．１９（ｍ、６Ｈ）、４．８５（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．４Ｈｚ、１Ｈ）、１．０８（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０２（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．７３−０．５９（ｍ、１２Ｈ）、０．１８（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例３＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、７，７，９，９−テトラエチル−１，１，１−トリメチル−３，３，５，５−テトラフェニルペンタシロキサンが収率５８％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８８−７．８６（ｍ、４Ｈ）、７．８２−７．８０（ｍ、４Ｈ）、７．２１−７．１７（ｍ、１２Ｈ）、４．７９（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、１Ｈ）、０．９８（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、６Ｈ）、０．９６（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、６Ｈ）、０．６１−０．５５（ｍ、８Ｈ）、０．０９（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、７，７，９，９−テトラエチル−１，１，１−トリメチル−３，３，５，５−テトラフェニルペンタシロキサンが収率５８％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８８−７．８６（ｍ、４Ｈ）、７．８２−７．８０（ｍ、４Ｈ）、７．２１−７．１７（ｍ、１２Ｈ）、４．７９（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、１Ｈ）、０．９８（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、６Ｈ）、０．９６（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、６Ｈ）、０．６１−０．５５（ｍ、８Ｈ）、０．０９（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例４＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（８８．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（９２．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。１５分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。１５分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、１，１−ジエチル−１−イソプロポキシ−５，５，５−トリメチル−３，３−ジフェニルトリシロキサンが収率８６％で生成していることを１ＨＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８４−７．８３（ｍ、４Ｈ）、４．１３（ｓｅｐｔｅｔ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、１Ｈ）、１．１４（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、６Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、６Ｈ）、０．６８（ｑ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、４Ｈ）、０．１７（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
次いで、Ｐｈ２ＳｉＨ２（９２．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えて、３０度に昇温した。３０分後、３，３−ジエチル−１−イソプロポキシ−７，７，７−トリメチル−１，１，５，５−テトラフェニルテトラシロキサンが収率７４％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８４−７．８２（ｍ、４Ｈ）、７．８１−７．７９（ｍ、４Ｈ）、４．２３（ｓｅｐｔｅｔ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、１Ｈ）、１．１７（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、６Ｈ）、１．０１（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．６９（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．１５（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
さらに、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする５，５，９，９−テトラエチル−１，１，１−トリメチル−３，３，７，７−テトラフェニルペンタシロキサンを収率７０％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８２−７．７８（ｍ、８Ｈ）、７．２０−７．１８（ｍ、１２Ｈ）、４．９５（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、１Ｈ）、１．０２（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．９４（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．７１（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６８−０．６１（ｍ、４Ｈ）、０．１５（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（８８．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（９２．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。１５分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。１５分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、１，１−ジエチル−１−イソプロポキシ−５，５，５−トリメチル−３，３−ジフェニルトリシロキサンが収率８６％で生成していることを１ＨＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８４−７．８３（ｍ、４Ｈ）、４．１３（ｓｅｐｔｅｔ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、１Ｈ）、１．１４（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、６Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、６Ｈ）、０．６８（ｑ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、４Ｈ）、０．１７（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
次いで、Ｐｈ２ＳｉＨ２（９２．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えて、３０度に昇温した。３０分後、３，３−ジエチル−１−イソプロポキシ−７，７，７−トリメチル−１，１，５，５−テトラフェニルテトラシロキサンが収率７４％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８４−７．８２（ｍ、４Ｈ）、７．８１−７．７９（ｍ、４Ｈ）、４．２３（ｓｅｐｔｅｔ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、１Ｈ）、１．１７（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、６Ｈ）、１．０１（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．６９（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．１５（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
さらに、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする５，５，９，９−テトラエチル−１，１，１−トリメチル−３，３，７，７−テトラフェニルペンタシロキサンを収率７０％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８２−７．７８（ｍ、８Ｈ）、７．２０−７．１８（ｍ、１２Ｈ）、４．９５（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、１Ｈ）、１．０２（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．９４（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．７１（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６８−０．６１（ｍ、４Ｈ）、０．１５（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例５＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、ＭｅＰｈＳｉＨ２（２７．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、エタノール（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、ｉＰｒ２ＳｉＨ２（３２．８μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。終夜撹拌した後、７，７−ジエチル−９，９−ジイソプロピル−１，１，１，３−テトラメチル−３，５，５−トリフェニルペンタシロキサンが収率６４％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８９−７．８６（ｍ、４Ｈ）、７．７３−７．７２（ｍ、２Ｈ）、７．２４−７．１７（ｍ、９Ｈ）、４．５５（ｔ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、１．０６−１．０１（ｍ、１８Ｈ）、０．９３−０．８４（ｍ、２Ｈ）、０．６９−０．６４（ｍ、４Ｈ）、０．４４（ｓ、３Ｈ）、０．０９（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（５．１ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）をトルエン（１．０ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（３５．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、ＭｅＰｈＳｉＨ２（２７．５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（３７μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（２６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、エタノール（１５μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、ｉＰｒ２ＳｉＨ２（３２．８μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。終夜撹拌した後、７，７−ジエチル−９，９−ジイソプロピル−１，１，１，３−テトラメチル−３，５，５−トリフェニルペンタシロキサンが収率６４％で生成していることを１Ｈ ＮＭＲ測定によって確認した。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８９−７．８６（ｍ、４Ｈ）、７．７３−７．７２（ｍ、２Ｈ）、７．２４−７．１７（ｍ、９Ｈ）、４．５５（ｔ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、１．０６−１．０１（ｍ、１８Ｈ）、０．９３−０．８４（ｍ、２Ｈ）、０．６９−０．６４（ｍ、４Ｈ）、０．４４（ｓ、３Ｈ）、０．０９（ｓ、９Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例６＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５ｍＬ）に溶解させた。この溶液に３−ペンタノン（９４．５μＬ，０．９０ｍｍｏｌ）、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン（１２７．１μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（１４７．４μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（１０３．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（１０３．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（１０３．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする１，１，３，３，５，５，１７，１７，１９，１９，２１，２１−ドデカエチル−１，２１−ジイソプロポキシ−９，９，１１，１１，１３，１３−ヘキサメチル−７，７，１５，１５−テトラフェニルウンデカシロキサンを収率４４％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８９−７．８８（ｍ、８Ｈ）、７．２７−７．２５（ｍ、８Ｈ）、７．２３−７．２０（ｍ、４Ｈ）、４．１４（ｓｅｐｔｅｔ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、２Ｈ）、１．１９（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、１２Ｈ）、１．１２−１．０９（ｍ、３６Ｈ）、０．７４（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、８Ｈ）、０．６８−０．６３（ｍ、１６Ｈ）、０．２５（ｓ、１２Ｈ）、０．１５（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５ｍＬ）に溶解させた。この溶液に３−ペンタノン（９４．５μＬ，０．９０ｍｍｏｌ）、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン（１２７．１μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、Ｐｈ２ＳｉＨ２（１４７．４μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（１０３．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（１０３．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（１０３．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌｌ）を加えた。３０分後、アセトン（５８．８μＬ，０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする１，１，３，３，５，５，１７，１７，１９，１９，２１，２１−ドデカエチル−１，２１−ジイソプロポキシ−９，９，１１，１１，１３，１３−ヘキサメチル−７，７，１５，１５−テトラフェニルウンデカシロキサンを収率４４％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８９−７．８８（ｍ、８Ｈ）、７．２７−７．２５（ｍ、８Ｈ）、７．２３−７．２０（ｍ、４Ｈ）、４．１４（ｓｅｐｔｅｔ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、２Ｈ）、１．１９（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、１２Ｈ）、１．１２−１．０９（ｍ、３６Ｈ）、０．７４（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、８Ｈ）、０．６８−０．６３（ｍ、１６Ｈ）、０．２５（ｓ、１２Ｈ）、０．１５（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例７＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５
ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（８８．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（９２．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、ＰｈＳｉＨ３（３０．７μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする５，５，９，９−テトラエチル−１，１，１，１３，１３，１３−ヘキサメチル−３，３，７，１１，１１−ペンタフェニルヘプタシロキサンを収率６１％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８０−７．７８（ｍ、８Ｈ）、７．７３−７．７１（ｍ、２Ｈ）、７．２１−７．１７（ｍ、１５Ｈ）、５．４６（ｓ、１Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．００（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．７１（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６７（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．１５（ｓ、１８Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５
ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（８８．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）、Ｐｈ２ＳｉＨ２（９２．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、ＰｈＳｉＨ３（３０．７μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする５，５，９，９−テトラエチル−１，１，１，１３，１３，１３−ヘキサメチル−３，３，７，１１，１１−ペンタフェニルヘプタシロキサンを収率６１％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８０−７．７８（ｍ、８Ｈ）、７．７３−７．７１（ｍ、２Ｈ）、７．２１−７．１７（ｍ、１５Ｈ）、５．４６（ｓ、１Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．００（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．７１（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．６７（ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、４Ｈ）、０．１５（ｓ、１８Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例８＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（８８．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。１５分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。１５分後、ＰｈＳｉＨ３（３０．７μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１８．４μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を加えて８０℃に昇温した。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（３２．４μＬ，０．２５ｍｍｏｌｌ）を加えた。３時間後、反応溶液を室温に戻し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする５−｛（ジエチルシリル）オキシ}−３，３，７，７−テトラエチル−１，１，１，９，９，９−ヘキサメチル−５−フェニルペンタシロキサンを収率４４％で得た。１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．９４−７．９２（ｍ、２Ｈ）、７．２８−７．２６（ｍ、２Ｈ）、７．２２−７．１９（ｍ、１Ｈ）、４．９４（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、１Ｈ）、１．１０（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０９（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．８０−０．６６（ｍ、１２Ｈ）、０．１８（ｓ、１８Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１２．８ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）をトルエン（２．５ｍＬ）に溶解させた。この溶液にＭｅ３ＳｉＯｉＰｒ（８８．２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）、Ｅｔ２ＳｉＨ２（６４．９μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。１５分後、アセトン（３６．８μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。１５分後、ＰｈＳｉＨ３（３０．７μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、アセトン（１８．４μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を加えて８０℃に昇温した。３０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（３２．４μＬ，０．２５ｍｍｏｌｌ）を加えた。３時間後、反応溶液を室温に戻し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする５−｛（ジエチルシリル）オキシ}−３，３，７，７−テトラエチル−１，１，１，９，９，９−ヘキサメチル−５−フェニルペンタシロキサンを収率４４％で得た。１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．９４−７．９２（ｍ、２Ｈ）、７．２８−７．２６（ｍ、２Ｈ）、７．２２−７．１９（ｍ、１Ｈ）、４．９４（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、１Ｈ）、１．１０（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０９（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、１．０５（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、６Ｈ）、０．８０−０．６６（ｍ、１２Ｈ）、０．１８（ｓ、１８Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例９＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１０．２ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解させた。この溶液に３−ペンタノン（１８９μＬ，１．８ｍｍｏｌ）、ＨＭｅ２ＳｉＯＳｉＭｅ２ＯＳｉＭｅ２Ｈ（２５４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、ＰｈＳｉＨ３（１１２μＬ，０．９０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする２，２，４，４，６，６−ヘキサメチル−８−フェニル−１，３，５，７，２，４，６，８−テトラオキサテトラシロカンを収率３７％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．７７−７．７５（ｍ、２Ｈ）、７．２２−７．１７（ｍ、３Ｈ）、５．４５（ｓ、１Ｈ）、０．２５（ｓ、６Ｈ）、０．２０（ｓ、３Ｈ）、０．１６（ｓ、３Ｈ）、０．１５（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（１０．２ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解させた。この溶液に３−ペンタノン（１８９μＬ，１．８ｍｍｏｌ）、ＨＭｅ２ＳｉＯＳｉＭｅ２ＯＳｉＭｅ２Ｈ（２５４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、ＰｈＳｉＨ３（１１２μＬ，０．９０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする２，２，４，４，６，６−ヘキサメチル−８−フェニル−１，３，５，７，２，４，６，８−テトラオキサテトラシロカンを収率３７％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．７７−７．７５（ｍ、２Ｈ）、７．２２−７．１７（ｍ、３Ｈ）、５．４５（ｓ、１Ｈ）、０．２５（ｓ、６Ｈ）、０．２０（ｓ、３Ｈ）、０．１６（ｓ、３Ｈ）、０．１５（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ．
＜実施例１０＞
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（６．３ｍｇ，０．０１３ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた。この溶液にアセトン（７４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ２Ｈ）４（９３μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、ＰｈＳｉＨ３（６２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。６０分後、アセトン（３７μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。９０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（７２μＬ，０．５５ｍｍｏｌｌ）を加えた。６０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする４，１２−ビス（（ジエチルシリル）オキシ）−２，２，６，６，１０，１０，１４，１４−オクタメチル−４，１２−ジフェニル−１，３，５，７，９，１１，１３，１５−オクタオキサ−２，４，６，８，１０，１２，１４−ヘプタシラスピロ［７．７］ペンタデカンを収率４４％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８９−７．８７（ｍ、４Ｈ）、７．２４−７．１８（ｍ、６Ｈ）、４．９０（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、２Ｈ）、１．３（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、１２Ｈ）、０．７４−０．６３（ｍ、８Ｈ）、０．３８（ｓ、６Ｈ）、０．３２（ｓ、６Ｈ）、０．２２（ｓ、６Ｈ）、０．１６（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ．
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（６．３ｍｇ，０．０１３ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた。この溶液にアセトン（７４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ２Ｈ）４（９３μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を順に加えて撹拌した。３０分後、ＰｈＳｉＨ３（６２μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。６０分後、アセトン（３７μＬ，０．５０ｍｍｏｌ）を加えた。９０分後、Ｅｔ２ＳｉＨ２（７２μＬ，０．５５ｍｍｏｌｌ）を加えた。６０分後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて触媒を除去した。粗生成物をリサイクル分取ＧＰＣで精製することにより、目的とする４，１２−ビス（（ジエチルシリル）オキシ）−２，２，６，６，１０，１０，１４，１４−オクタメチル−４，１２−ジフェニル−１，３，５，７，９，１１，１３，１５−オクタオキサ−２，４，６，８，１０，１２，１４−ヘプタシラスピロ［７．７］ペンタデカンを収率４４％で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：７．８９−７．８７（ｍ、４Ｈ）、７．２４−７．１８（ｍ、６Ｈ）、４．９０（ｑｕｉｎｔｅｔ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、２Ｈ）、１．３（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、１２Ｈ）、０．７４−０．６３（ｍ、８Ｈ）、０．３８（ｓ、６Ｈ）、０．３２（ｓ、６Ｈ）、０．２２（ｓ、６Ｈ）、０．１６（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ．
本発明の製造方法によって製造されたオリゴシロキサンは、電子機器、電気機械、自動車、化粧品等に利用されるシリコーンオイル、シリコーンゴム等として利用することができる。
１０１ オリゴシロキサン合成機
１０２ 反応器
１０３ ヒドロシラン収容容器
１０４ カルボニル化合物収容容器
１０５ 送液管
１０６ 制御装置
１０７ 送気管
１０８ 電磁弁
１０９ ガスボンベ
１１０ 恒温槽
１１１ スターラー
２０１ オリゴシロキサン合成機
２０２ 反応器
２０３ ヒドロシラン収容容器
２０４ カルボニル化合物収容容器
２０５ 送液管
２０６ 制御装置
２０７ 送気管
２０８ 電磁弁
２０９ ガスボンベ
２１０ 恒温槽
２１２ アルコキシシラン収容容器
２１３ 送液管
２１４ 回収管
１０２ 反応器
１０３ ヒドロシラン収容容器
１０４ カルボニル化合物収容容器
１０５ 送液管
１０６ 制御装置
１０７ 送気管
１０８ 電磁弁
１０９ ガスボンベ
１１０ 恒温槽
１１１ スターラー
２０１ オリゴシロキサン合成機
２０２ 反応器
２０３ ヒドロシラン収容容器
２０４ カルボニル化合物収容容器
２０５ 送液管
２０６ 制御装置
２０７ 送気管
２０８ 電磁弁
２０９ ガスボンベ
２１０ 恒温槽
２１２ アルコキシシラン収容容器
２１３ 送液管
２１４ 回収管
Claims (10)
- ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程、及び
ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合工程で生成した前記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化工程を含むことを特徴とするオリゴシロキサンの製造方法。
（式（ｂ）中、Ｒは炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は−ＣＨＲ’２で表される基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。式（ｂ）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
（式（Ｅ）及び式（ｆ）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｆ）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。） - 前記式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシシランが、下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランであり、
前記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランが、ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて生成したものである、請求項１に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
（式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。）
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。） - ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及び
ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を含むことを特徴とするオリゴシロキサンの製造方法。
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８
の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
（式（ｂ’）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。） - 前記縮合工程及び前記ヒドロシリル化工程が、１つの反応器内で行われる、請求項１〜３の何れか１項に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
- 前記縮合工程において使用した前記ルイス酸性を有するホウ素化合物を、前記ヒドロシリル化工程に使用する、請求項１、２、及び４の何れか１項に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
- 前記ヒドロシリル化工程において使用した前記ルイス酸性を有するホウ素化合物を、前記縮合工程に使用する、請求項３又は４に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
- 前記オリゴシロキサンが下記式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）の何れかで表される、請求項１〜６の何れか１項に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
（式（Ｇ−１）〜（Ｇ−１４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を、Ｒｘはそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、ｉは２〜２０の整数を、ｊは１〜２０の整数を、ｋは１〜２０の整数を表す。） - ２以上の前記縮合工程及び２以上の前記ヒドロシリル化工程を含み、前記縮合工程と前記ヒドロシリル化工程が交互に行われる、請求項１〜７の何れか１項に記載のオリゴシロキサンの製造方法。
- ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ｂ）で表される構造を有するアル
コキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合反応、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合反応で生成した前記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｆ）で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化反応を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記縮合反応及び前記ヒドロシリル化反応を行う反応器、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを収容しておくヒドロシラン収容容器、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するヒドロシラン移送機構、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するカルボニル化合物移送機構、並びに
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記ヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するように前記ヒドロシラン移送機構を操作すること、及び前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するように前記カルボニル化合物移送機構を操作することを含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機。
（式（ｂ）中、Ｒは炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は−ＣＨＲ’２で表される基を、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。）
（式（Ｅ）及び式（ｆ）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｆ）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。） - ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランと下記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランを生成するヒドロシリル化工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記ヒドロシリル化工程で生成した下記式（ｂ’）で表される構造を有するアルコキシシランと下記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｄ）で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程を行って、オリゴシロキサンを合成するオリゴシロキサン合成機であって、
前記ヒドロシリル化反応及び前記縮合反応を行う反応器、
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを収容しておく第１のヒドロシラン収容容器、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を収容しておくカルボニル化合物収容容器、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを収容しておく第２のヒドロシラン収容容器、
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを前記第１のヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送する第１のヒドロシラン移送機構、
前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するカルボニル化合物移送機構、
前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記第２のヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送する第２のヒドロシラン移送機構、並びに
前記式（ａ）で表される構造を有するヒドロシランを前記第１のヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するように前記第１のヒドロシラン移送機構を操作すること、前記式（Ｅ）で表されるカルボニル化合物を前記カルボニル化合物収容容器から前記反応器に移送するように前記カルボニル化合物移送機構を操作すること、及び前記式（ｃ）で表される構造を有するヒドロシランを前記第２のヒドロシラン収容容器から前記反応器に移送するように前記第２のヒドロシラン移送機構を操作すること、を含む制御を行う制御装置
を備える、オリゴシロキサン合成機。
（式（Ｅ）及び式（ｂ’）中、Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜８の炭化水素基を表す。但し、式（Ｅ）の２つのＲ’と式（ｂ’）の２つのＲ’は同一の組み合わせとなる。）
（式（ｂ’）で表される構造と式（ｃ）で表される構造は異なる化合物にそれぞれ含まれていてもよいし、一分子中に含まれていてもよい。）
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017039778 | 2017-03-02 | ||
| JP2017039778 | 2017-03-02 | ||
| JP2018010706 | 2018-01-25 | ||
| JP2018010706 | 2018-01-25 | ||
| PCT/JP2018/007759 WO2018159756A1 (ja) | 2017-03-02 | 2018-03-01 | 配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2018159756A1 JPWO2018159756A1 (ja) | 2019-12-19 |
| JP6900064B2 true JP6900064B2 (ja) | 2021-07-07 |
Family
ID=63370436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019503108A Active JP6900064B2 (ja) | 2017-03-02 | 2018-03-01 | 配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10975107B2 (ja) |
| JP (1) | JP6900064B2 (ja) |
| DE (1) | DE112018001105T5 (ja) |
| WO (1) | WO2018159756A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7153337B2 (ja) * | 2019-02-07 | 2022-10-14 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | スピロシロキサン化合物、主鎖中にスピロシロキサン構造を有する定序性ポリシロキサン及びそれらの製造方法 |
| JP2023010076A (ja) | 2021-07-09 | 2023-01-20 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4160775A (en) * | 1978-03-28 | 1979-07-10 | Union Carbide Corporation | Process for the preparation of novel organosilicon compounds |
| JPH0798863B2 (ja) | 1990-02-08 | 1995-10-25 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| US5206328A (en) | 1990-02-08 | 1993-04-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for the production of an organopolysiloxane |
| US5188903A (en) * | 1991-07-30 | 1993-02-23 | The Dow Chemical Company | Siloxane-containing glycidyl esters, curable compositions and cured products |
| US5359109A (en) | 1993-06-16 | 1994-10-25 | Osi Specialties, Inc. | Surface-active siloxane coating compounds and their use in coatings |
| US6043388A (en) | 1998-12-21 | 2000-03-28 | General Electric Company | Method for preparation of organohydrogen polysiloxanes |
| JP3915869B2 (ja) * | 2000-08-17 | 2007-05-16 | 信越化学工業株式会社 | 鎖状低分子シロキサンの製造方法 |
| WO2003093349A1 (en) * | 2002-05-01 | 2003-11-13 | Dow Corning Corporation | Organohydrogensilicon compounds |
| US7241851B2 (en) | 2002-12-30 | 2007-07-10 | Momentive Performance Materials Inc. | Silicone condensation reaction |
| US7064173B2 (en) | 2002-12-30 | 2006-06-20 | General Electric Company | Silicone condensation reaction |
| EP1460098B1 (de) * | 2003-03-21 | 2006-06-14 | Goldschmidt GmbH | Verfahren zur Herstellung von organisch modifizierten Polyorganosiloxanen |
| DE102004039911A1 (de) * | 2004-08-18 | 2006-02-23 | Goldschmidt Gmbh | Katalytisches System für die dehydrogenative Kondensation von Polyorganosiloxanen mit Alkoholen und ein Verfahren zur Herstellung von organisch modifizierten Polyorganosiloxanen |
| JP6311983B2 (ja) * | 2014-06-20 | 2018-04-18 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | シロキサン化合物の製造方法 |
| JP6264309B2 (ja) | 2015-02-24 | 2018-01-24 | 信越化学工業株式会社 | シロキシ基を有するビスシリルエタン化合物及びその製造方法 |
| JP6550626B2 (ja) | 2015-09-18 | 2019-07-31 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 対称性を有するオリゴシロキサンの重縮合による周期ポリシロキサンの製造方法 |
| WO2017154848A1 (ja) | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | シリルアセタール、オリゴシロキサン、及びそれらの製造方法 |
| JP6786034B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2020-11-18 | 国立大学法人九州大学 | ヒドロシリル化反応、水素化反応およびヒドロシラン還元反応用触媒 |
| KR20180129333A (ko) * | 2017-05-26 | 2018-12-05 | 기초과학연구원 | 실릴화 촉매, 이의 제조방법 및 이를 이용하는 실릴화된 화합물의 제조방법 |
| CN108164704B (zh) * | 2017-12-23 | 2021-03-23 | 广东新翔星科技股份有限公司 | 高折射率加成型有机硅封装胶用粘结促进剂的制备方法 |
| DE112018006623T5 (de) * | 2017-12-27 | 2020-09-03 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Verfahren zur Herstellung von Tetraalkoxysilan |
-
2018
- 2018-03-01 JP JP2019503108A patent/JP6900064B2/ja active Active
- 2018-03-01 DE DE112018001105.4T patent/DE112018001105T5/de active Pending
- 2018-03-01 WO PCT/JP2018/007759 patent/WO2018159756A1/ja active Application Filing
- 2018-03-01 US US16/490,761 patent/US10975107B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE112018001105T5 (de) | 2019-12-19 |
| JPWO2018159756A1 (ja) | 2019-12-19 |
| US10975107B2 (en) | 2021-04-13 |
| US20200079803A1 (en) | 2020-03-12 |
| WO2018159756A1 (ja) | 2018-09-07 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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