JP6895353B2 - レーザ加工装置 - Google Patents

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本発明は、加工テーブルに支持されたワークに対してX,Y,Z軸方向へ移動自在なレーザ加工ヘッドを備えたレーザ加工装置に関する。さらに詳細には、レーザ加工ヘッドに備えたノズルの先端部(下端部)を下側から撮像するカメラを備えた撮像ユニットを前記加工テーブルよりも高位置に備え、かつ前記カメラを備えた移動ケーシングを、レーザ加工ヘッドの移動領域に対して出入自在に備えたレーザ加工装置に関する。
従来、レーザ加工装置において、例えば切断加工などのレーザ加工を行うと、レーザ加工時に発生したスパッタやヒュームなどの粉塵等が、レーザ加工ヘッドに備えたノズルに付着することがある。ノズルの先端部に粉塵等が付着すると、ノズル先端の開口部の真円度が変化する。したがって、ノズルから噴出されるアシストガスの噴流に乱れが生じ、加工不良を生じることがある。よって、ノズルの先端部をCCDカメラによって撮像して形状の異常を検査することが行われている(例えば、特許文献1,2参照)。
特開2005−334922号公報 特許第5272186号公報
前記特許文献1に記載の構成においては、ノズル先端の開口部の検査を行うカメラを備えたノズル検査装置はレーザ加工具の段取りステーションに備えられている。そして、検査を行うカメラユニットは、段取りステーションに上下動自在に備えられている。したがって、レーザ加工ヘッドは、ワークのレーザ加工を行う加工領域以外の段取りステーションへ移動する必要がある。すなわち、レーザ加工ヘッドは、加工領域以外にも大きく移動する必要がある。よって、全体的構成が大きくなる傾向にあり、小型化を図る上において問題がある。
さらに、カメラユニットは上下動する構成であって上方向を指向した構成である。したがって、上下方向のスペースが必要であると共に、カメラユニット上に塵埃が集積し易いという問題がある。
前記特許文献2に記載の構成は、レーザ加工ヘッドと一体的にX軸方向へ移動自在なX軸移動体にY軸方向へ突出した支持バーを備え、この支持バーにCCDカメラを備えた構成である。したがって、レーザ加工ヘッドは、Y軸方向のレーザ加工領域外のCCDカメラの位置へ移動する必要がある。
また、CCDカメラは上方向を指向して備えられているので、飛散した塵埃が集積し易いという問題がある。
本発明のレーザ加工装置は、加工テーブルに支持されたワークに対してX,Y,Z軸方向へ移動自在なレーザ加工ヘッドと、前記レーザ加工ヘッドの移動領域外に配置され、前記レーザ加工ヘッドに備えられているノズルを下側から撮像するカメラを有する撮像ユニットと、を備え、前記撮像ユニットは、前記加工テーブル側に開口を有し、前記開口が出入口とされているケーシングと、前記カメラを有し、前記出入口を介して前記ケーシングに対して出入自在であり、前記ケーシング外へと突出したときに、前記加工テーブルがワークを支持するワーク支持面よりも高位置であって前記レーザ加工ヘッドの移動領域内へ移動位置決め自在とされている移動ケーシングと、前記移動ケーシングが前記ケーシング内へと移動したときに、前記出入口を閉鎖する閉鎖部材と、を含む
上記のレーザ加工装置において、前記移動ケーシングは水平方向に移動可能である。
上記のレーザ加工装置において、前記カメラは、前記移動ケーシング内に水平方向を指向するように配置され、前記撮像ユニットは、前記移動ケーシング内に配置され、前記ノズルの下端部を照明するリングライトと、前記リングライトの下側に配置され、入射する光を前記カメラの方向へと屈曲させるベンドミラーと、をさらに含む。
上記のレーザ加工装置において、前記撮像ユニットは、前記リングライトの上方に、前記レーザ加工ヘッドから照射されるレーザ光を可視光に変換する光学素子をさらに含む。
上記のレーザ加工装置において、前記移動ケーシングの上面には、前記カメラが前記ノズルを下側から撮像するための透孔が形成されており、前記透孔には、防塵用のフィルターが装着されている。
本発明によれば、レーザ加工ヘッドに備えたノズルを下側から撮像するカメラを備えた撮像ユニットは、レーザ加工ヘッドの移動領域外において、加工テーブルのワーク支持面より高位置に備えられている。そして、カメラを内装した移動ケーシングは、前記移動領域内へ移動位置決め自在に備えられている。したがって、レーザ加工ヘッドの移動領域の省スペース化を図ることができる。よって、レーザ加工装置の全体的構成の小型化を図ることができる。また、カメラに対する防塵を効果的に行うことができる。
本発明の実施形態に係るレーザ加工装置における加工テーブルと撮像ユニットとの関係を示した斜視説明図である。 本発明の実施形態に係るレーザ加工装置における加工テーブルと撮像ユニットとの関係を示した斜視説明図である。 撮像ユニットと加工テーブル及びレーザ加工ヘッドの関係を示す拡大斜視説明図である。 撮像ユニットの主要な構成を示す斜視説明図である。 レーザ加工ヘッドに備えたノズルと、ノズルを撮像するカメラとの位置的関係を示す説明図である。 撮像ユニットを撮像位置に位置決めするための位置決め手段の構成を示す斜視説明図である。
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明するに、レーザ加工装置の全体的構成は、既によく知られた構成である。したがって、理解を容易にするために、全体的構成を概略的に説明する。図1,2を参照するに、本発明の実施形態に係るレーザ加工装置1は、ベースフレーム3を備えている。このベースフレーム3における左右方向(X軸方向)の両側には、前後方向(Z軸方向)に長いガイドレール5が備えられている。
そして、前記ガイドレール5には門型のキャリッジ6における左右両側のコラム6A,6Bが移動自在に支持されている。このコラム6A,6Bの上部には左右方向のガイドビーム6Cの両端側が一体的に支持されている。そして、このガイドビーム6Cにはヘッドキャリッジ6DがX軸方向へ移動自在に支持されている。このヘッドキャリッジ6Dには、レーザ加工ヘッド6Eが上下動自在に備えられている。
また、前記ベースフレーム3には、加工テーブル7が水平に備えられている。この加工テーブル7には、板状のワークWを支持する複数のスキッド9が備えられている。なお、前記加工テーブル7の構成は公知である。したがって、加工テーブル7の詳細についての説明は省略する。
既に理解されるように、前記加工テーブル7上に板状のワークWを水平に載置位置決めした後、制御装置(図示省略)の制御の下に、レーザ加工ヘッド6EをX,Y,Z軸方向へ移動しつつワークWのレーザ加工を行うことになる。上述のように、ワークWのレーザ加工を行うと、レーザ加工時に発生したスパッタやヒュームなどの塵埃が、レーザ加工ヘッド6Eに備えたノズル37(図3参照)に付着することになる。そして、ノズル37に塵埃等が付着すると、加工不良を生じることがある。
そこで、ノズル37の状態を検査するために、ベースフレーム3の一部には、レーザ加工ヘッド6Eに備えたノズル37を下側から撮像するカメラ31(図4参照)を備えた撮像ユニット11が備えられている。図1,2から理解されるように、撮像ユニット11は、加工テーブル7においてワークWを支持する複数のスキッド9によって構成されるワーク支持面より高位置に備えられている。そして、撮像ユニット11は、加工テーブル7上のワークWのレーザ加工を行うために、レーザ加工ヘッド6Eが移動するX−Z平面の移動領域外に備えられている。すなわち、撮像ユニット11は、加工テーブル7上のワークWのレーザ加工を行う際に、レーザ加工ヘッド6Eと干渉を生じない位置に備えられている。
そして、前記レーザ加工ヘッド6E(図3参照)に備えたノズル37の先端部(下端部)を下側から撮像するために、前記撮像ユニット11は、次のように構成してある。すなわち、撮像ユニット11は、図3に示すように、前記加工テーブル7に近接した位置であって、前記ベースフレーム3の適宜位置に取付けたベース部材13上に装着してある。
ース部材13上には、加工テーブル7側を出入口15Aとして開口したケーシング15が備えられている。そして、ベース部材13上であって、ケーシング15内には、カメラ31(図4参照)を内装した移動ケーシング(移動カバー)17が出入自在に備えられている。すなわち、移動ケーシング17は、X−Z平面において水平に移動可能に備えられている。なお、移動ケーシング17の移動は、直線移動に限ることなく、旋回移動を行うことによって、ケーシング15に対して出入する構成としてもよい。
動ケーシング17は、ケーシング15に対して出入口15Aから加工テーブル側へ突出した場合には、図3に示すように、加工テーブル7におけるスキッド9より上側において加工テーブル7の領域内(レーザ加工装置1におけるレーザ加工ヘッドの移動領域内)へ突出する。そして、移動ケーシング17がケーシング15内へ移動したときには、レーザ加工ヘッド6Eの移動領域外に位置し、レーザ加工ヘッド6Eと干渉するようなことはない。
そして、前記移動ケーシング17内に内装したカメラ31(図4参照)によって、レーザ加工ヘッド6Eに備えたノズル37を下側から撮像するために、前記移動ケーシング17における先端側の上面には、透孔19が備えられている。また、前記移動ケーシング17の先端部には、前記ケーシング15内へ移動ケーシング17が格納されたときに、前記出入口15Aを閉鎖するための閉鎖部材21が備えられている。なお、前記透孔19には、防塵用のフィルターを備えていることが望ましいものである。
ところで、移動ケーシング17がケーシング15内へ格納された際に、ケーシング15の出入口15Aを閉鎖する構成は、上記構成に代えて、次のごとき構成とすることも可能である。すなわち、ケーシング15の出入口15Aに、閉鎖部材21を回動自在に備える。そして、トーションスプリング等によって、閉鎖部材21を常に閉じる方向に付勢した構成とする。すなわち、移動ケーシング17によって押されることにより閉鎖部材21が付勢力に抗して開かれる構成とすることも可能である。
したがって、前記移動ケーシング17がケーシング15内に格納されたときには、前記閉鎖部材21によって出入口15Aが閉鎖される。よって、例えばケーシング15に近接した位置においてレーザ加工が行われた場合であっても、スパッタやヒューム等の塵埃が内部に入り込むようなことがないものである。すなわち、移動ケーシング17に内装されたカメラ等の光学機器を塵埃等から保護することができるものである。
図4に示すように、撮像ユニット11は、ベース部材13(図4には図示省略)上に、ボルト等の取付具によって一体的に取付ける支持ベース23を備えている。そして、支持ベース23上には、支持ベース23に備えたZ軸方向のガイド部材25に沿ってZ軸方向へ移動自在な箱状のキャリッジベース27が備えられている。また、支持ベース23には、キャリッジベース27を往復動するための、往復作動用アクチュエータの例としての流体圧シリンダ29が備えられている。したがって、キャリッジベース27は、流体圧シリンダ29の作動によってZ軸方向に往復動される。
前記キャリッジベース27には、レーザ加工ヘッド6Eに備えたノズル37を下側から撮像するためのカメラ31を備えたカメラアセンブリ33が装着されている。そして、上記カメラアセンブリ33を覆うように、前記移動ケーシング17(図4においては図示省略)が前記キャリッジベース27に取付けてある。そして、前記キャリッジベース27及び移動ケーシング17を出入自在に格納するための前記ケーシング15(図4には図示省略)が前記支持ベース23に取付けてある。
ところで、前記流体圧シリンダ29によって往復動される前記キャリッジベース27は、前記ケーシング15の外部へ突出移動されたときには、位置決めストッパーなどの位置決め手段30によって、予め設定した所定位置に正確に位置決めされるものである。
前記位置決め手段30は、図6に詳細に示すように、前記支持ベース23の上面に取付けた支持ブロック30Aを備えている。この支持ブロック30Aには、前記キャリッジベース27(図6には図示省略)の下面に取付けた支持ブロック30Bが当接したときの衝撃を吸収するためのショックアブソーバーなどのごとき衝撃吸収部材30Cが備えられている。そして、前記支持ブロック30Bには、前記支持ブロック30Aに形成した当接面30Dに当接自在な調節ネジ30Eが備えられている。
したがって、前記ケーシング15からキャリッジベース27を、加工テーブル7上へ突出作動すると、キャリッジベース27は、前記位置決め手段30によって、予め設定した撮像位置に正確に位置決めされるものである。この際、調節ネジ30Eが支持ブロック30Aの当接面30Dに当接するときには、前記衝撃吸収部材30Cの作用によって、衝撃が抑制されている。したがって、キャリッジベース27の位置決めを正確にかつ迅速に行い得るものである。
前記カメラアセンブリ33は、図4,5に概略的に示すように、前記キャリッジベース27に水平に備えられたベースプレート35を備えている。そして、このベースプレート35には、前記カメラ31がZ軸方向を指向して水平に取付けられている。また、前記ベースプレート35には、レーザ加工ヘッド6Eに備えたノズル37をカメラ31によって下方から撮像するときに、ノズル37を下方向から照明するリングライト39が備えられている。
前記リングライト39は、上下方向の透孔41の内周面に複数のLED40を備えた構成である。そして、前記透孔41の上部には、レーザ加工ヘッド6Eから照射されたレーザ光LBを可視光に変換する光学素子43が備えられている。この光学素子43は、例えば株式会社住田光学ガラスのナノ結晶含有ガラス(YAGLASS−T)として知られている。そして、前記リングライト39の下側には、前記透孔41を透過した光を前記カメラ31方向に屈曲するためのベンドミラー45が備えられている。
動ケーシング17を加工テーブル7の上方に移動し(図3参照)、キャリッジベース27を、位置決め手段30によって基準位置に位置決めする。そして、この基準位置に位置決めされたリングライト39の上方位置にノズル37を位置決めする。すなわち、リングライト39の軸心とノズル37の軸心とが一致するように、レーザ加工ヘッド6Eを位置決めする。そして、ノズル37をカメラ31によって撮像することにより、ノズル37の先端部の状態を観察することができる。
この際、ノズル37からレーザ光LBを光学素子43に照射すると、光学素子43においてレーザ光LBが照射された位置に輝点を生じることになる。よって、ノズル37の中心とレーザ光LBの光軸が一致しているか否かの観察を行うこともできる。すなわち、本実施形態によれば、ノズル37におけるノズル孔の形状、すなわちノズル孔の直径や粉塵の付着状態及びノズル孔の中心とレーザ光の軸心とが一致しているか否かを観察することができるものである。
よって、レーザ加工ヘッド6Eに装着してあるノズル37におけるノズル径が適正径であるか否か、及びノズル37の中心とレーザ光LBの軸心が一致しているか否かを観察できるものである。換言すればレーザ加工開始前にノズル37を観察して、ノズル37に起因する加工不良を事前に防止することができるものである。
以上のごとき説明から理解されるように、本実施形態によれば、レーザ加工ヘッド6Eに備えたノズル37を下側から撮像するカメラ31を備えた撮像ユニット11は、常態においては、図1に示すように、加工テーブル7の外側に位置する。そして、ノズル37を撮像する際には、図2,3に示すように、カメラ31を備えた移動ケーシング17は加工テーブル7の上方の基準位置に位置決め自在に備えられている。したがって、レーザ加工ヘッド6Eの移動領域は加工テーブル7に対応した領域であってよいこととなり、レーザ加工ヘッド6Eの移動領域(移動範囲)を抑制することができる。よって、レーザ加工装置の全体的構成の小型化を図ることができる。
また、撮像ユニット11に備えた移動ケーシング17は、加工テーブル7の上方の基準位置に移動位置決め自在であることにより、従来の一般的なレーザ加工装置に対して撮像ユニット11を後付け的に容易に装着することも可能である。
また、前記構成においては、カメラ31は水平方向を指向して備えられているので、撮像ユニット11の高さ寸法を抑制することができる。そして、前記カメラ31は、移動ケーシング17によって覆われており、しかもケーシング15内に格納される構成である。したがって、カメラ31に対しての防塵効果は大きなものである。
なお、本発明は、前述したごとき実施形態に限るものではなく、適宜の変更を行うことにより、その他の形態でもって実施可能である。例えば、レーザ加工装置としては、パイプ材や型鋼を、長手方向の軸心回りに回転しつつレーザ加工を行うレーザ加工装置にも実施可能である。すなわち、レーザ加工装置は、板状のワークのレーザ切断加工を行うレーザ加工装置に限るものではないものである。
1 レーザ加工装置
7 加工テーブル
9 スキッド
11 撮像ユニット
15 ケーシング
15A 出入口
17 移動ケーシング(移動カバー)
19 透孔
21 閉鎖部材
23 支持ベース
27 キャリッジベース
31 カメラ
33 カメラアセンブリ
35 ベースプレート
37 ノズル
39 リングライト
43 光学素子

Claims (5)

  1. 加工テーブルに支持されたワークに対してX,Y,Z軸方向へ移動自在なレーザ加工ヘッドと、
    前記レーザ加工ヘッドの移動領域外に配置され、前記レーザ加工ヘッドに備えられているノズルを下側から撮像するカメラを有する撮像ユニットと、
    を備え、
    前記撮像ユニットは、
    前記加工テーブル側に開口を有し、前記開口が出入口とされているケーシングと、
    前記カメラを有し、前記出入口を介して前記ケーシングに対して出入自在であり、前記ケーシング外へと突出したときに、前記加工テーブルがワークを支持するワーク支持面よりも高位置であって前記レーザ加工ヘッドの移動領域内へ移動位置決め自在とされている移動ケーシングと、
    前記移動ケーシングが前記ケーシング内へと移動したときに、前記出入口を閉鎖する閉鎖部材と、
    を含むレーザ加工装置。
  2. 前記移動ケーシングは水平方向に移動可能である請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 前記カメラは、前記移動ケーシング内に水平方向を指向するように配置され、
    前記撮像ユニットは、
    記移動ケーシング内に配置され、前記ノズルの下端部を照明するリングライトと、
    前記リングライトの下側に配置され、入射する光を前記カメラの方向へと屈曲させるベンドミラーと、
    をさらに含む請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
  4. 前記撮像ユニットは、前記リングライトの上方に、前記レーザ加工ヘッドから照射されるレーザ光を可視光に変換する光学素子をさらに含む請求項3に記載のレーザ加工装置。
  5. 前記移動ケーシングの上面には、前記カメラが前記ノズルを下側から撮像するための透孔が形成されており、
    前記透孔には、防塵用のフィルターが装着されている
    請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
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