JP6894403B2 - 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法 - Google Patents

樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6894403B2
JP6894403B2 JP2018099707A JP2018099707A JP6894403B2 JP 6894403 B2 JP6894403 B2 JP 6894403B2 JP 2018099707 A JP2018099707 A JP 2018099707A JP 2018099707 A JP2018099707 A JP 2018099707A JP 6894403 B2 JP6894403 B2 JP 6894403B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
dust
supply
supply module
resin molding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018099707A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019202495A (ja
JP2019202495A5 (ja
Inventor
中嶋 真也
真也 中嶋
冬彦 小河
冬彦 小河
正明 漣
正明 漣
高史 高橋
高史 高橋
晃大朗 北原
晃大朗 北原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Towa Corp
Original Assignee
Towa Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Towa Corp filed Critical Towa Corp
Priority to JP2018099707A priority Critical patent/JP6894403B2/ja
Priority to KR1020190054793A priority patent/KR102243618B1/ko
Priority to CN201910410236.5A priority patent/CN110524798A/zh
Priority to TW108117399A priority patent/TWI720488B/zh
Publication of JP2019202495A publication Critical patent/JP2019202495A/ja
Publication of JP2019202495A5 publication Critical patent/JP2019202495A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6894403B2 publication Critical patent/JP6894403B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/02Transfer moulding, i.e. transferring the required volume of moulding material by a plunger from a "shot" cavity into a mould cavity
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/1753Cleaning or purging, e.g. of the injection unit
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/18Feeding the material into the injection moulding apparatus, i.e. feeding the non-plastified material into the injection unit
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)

Description

本発明は、樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法に関するものである。
従来、特許文献1に示すように、樹脂封止半導体製造装置において、熱硬化性樹脂からなる樹脂材料を保管する保管部に自動空調装置を設けて、保管部を所定の温湿度に保つように構成したものがある。具体的には、保管部の温湿度が所定の設定範囲から上下した場合のみ、自動的に除湿、送風を行っている。
しかしながら、樹脂封止半導体製造装置等の樹脂成形装置は、装置内の空間を密閉することが難しい。また、従来の樹脂成形装置は、樹脂材料の粉末などの塵埃が飛散して装置内を汚染するため、装置内の塵埃を空気とともに吸引する構成とされている。
そうすると、上記のように自動空調装置を設けたとしても、保管部の空間に外気が流入するため、保管部の温湿度をコントロールすることが難しい。その結果、例えば吸湿によるボイドや温度上昇による溶解などにより樹脂材料の品質が劣化してしまう。
特開平5−267367号公報
そこで本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであり、樹脂材料の品質の劣化を抑制することをその主たる課題とするものである。
すなわち本発明に係る樹脂成形装置は、樹脂成形を行う樹脂成形モジュールと、前記樹脂成形モジュールに樹脂材料を搬送する搬送機構と、前記樹脂材料を収容するとともに前記搬送機構に前記樹脂材料を供給する樹脂供給モジュールと、前記樹脂供給モジュール内の塵埃を吸引する吸引機構と、少なくとも前記吸引機構を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記吸引機構による吸引を間欠的に行わせることを特徴とする。
このように構成した本発明によれば、樹脂材料の品質の劣化を抑制することができる。
本実施形態の樹脂成形装置の構成を模式的に示す平面図である。 同実施形態のプレス部の要部を示す部分断面図である。 同実施形態の集塵機構の配管構成を示す模式図である。 同実施形態の樹脂供給モジュールを示す概略図である。 同実施形態の樹脂供給モジュールの搬送部の構成を模式的に示す平面図である。 同実施形態の樹脂送出部の湿度測定結果、及び、従来構成の送出部の湿度測定結果を示す図である。 変形実施形態の樹脂供給モジュールを示す概略図である。
次に、本発明について、例を挙げてさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。
本発明の樹脂成形装置は、前述のとおり、樹脂成形を行う樹脂成形モジュールと、前記樹脂成形モジュールに樹脂材料を搬送する搬送機構と、前記樹脂材料を収容するとともに前記搬送機構に前記樹脂材料を供給する樹脂供給モジュールと、前記樹脂供給モジュール内の塵埃を吸引する吸引機構と、少なくとも前記吸引機構を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記吸引機構による吸引を間欠的に行わせることを特徴とする。
この樹脂成形装置であれば、樹脂供給モジュール内の塵埃を吸引する吸引機構による吸引を間欠的に行わせているので、樹脂供給モジュールへの外気の流入を抑制することができ、外気に起因する湿度又は温度の変動による樹脂材料の品質の劣化を抑制することができる。なお、吸引機構により樹脂供給モジュール内の塵埃を吸引しているので、樹脂材料の粉末などの塵埃が飛散して生じる装置内の汚染を低減することができる。
樹脂供給モジュール内の湿度管理を効率良く行うためには、前記樹脂供給モジュール内に除湿されたガスを供給する除湿ガス供給機構を更に備えることが望ましい。
樹脂供給モジュール内の温度管理を効率良く行うためには、前記除湿ガス供給機構は、前記ガスを冷却する冷却器を有することが望ましい。
また、樹脂供給モジュール内の温度管理を効率良く行うためには、前記樹脂供給モジュール内に冷却されたガスを供給する冷却ガス供給機構を更に備えることが望ましい。
前記樹脂供給モジュールは、前記樹脂材料を内部に収容するとともに前記樹脂材料を送出する樹脂送出部と、前記樹脂送出部から送出された樹脂材料を前記搬送機構に供給する樹脂供給部とを備えたものが考えられる。
この構成において、樹脂送出部は樹脂材料を収容していることから、樹脂送出部から樹脂材料の粉末などの塵埃が発生しやすく、また、樹脂送出部に外気が流入することの影響は他の部分に比べて大きくなる。
このため、前記吸引機構は、少なくとも前記樹脂送出部内の塵埃を吸引するものであることが望ましい。
また、前記樹脂送出部及び少なくとも前記樹脂供給部の一部は、カバー体により覆われており、前記除湿ガス供給機構は、少なくとも前記カバー体内部に除湿されたガスを供給するものであることが望ましい。或いは、前記樹脂送出部及び少なくとも前記樹脂供給部の一部は、カバー体により覆われており、前記冷却ガス供給機構は、少なくとも前記カバー体内部に冷却されたガスを供給するものであることが望ましい。
この構成であれば、除湿されたガス又は/及び冷却されたガスをカバー体内部に効率良く留めることができる。
吸引機構の制御を簡単にするためには、前記制御部は、前記吸引機構による吸引を周期的に行わせることが考えられる。前記吸引機構による吸引を周期的に行わせるだけでは、効率良く塵埃を吸引できない場合がある。特に、前記樹脂送出部から前記樹脂供給部に前記樹脂材料が送り出される時に、樹脂材料の粉末などの塵埃が発生しやすい。このため、制御部は、前記周期的な吸引に加えて、少なくとも前記樹脂送出部から前記樹脂供給部に前記樹脂材料を送り出す動作中に、前記吸引機構による吸引を行わせることが望ましい。
樹脂材料の粉末などの塵埃を効率良く吸引するためには、前記樹脂送出部及び少なくとも前記樹脂供給部の一部は、カバー体により覆われており、前記吸引機構は、前記カバー体の内部の塵埃を吸引するものであることが望ましい。
また、本発明の樹脂成形品の製造方法は、樹脂供給モジュールから搬送機構によって樹脂成形モジュールに樹脂材料を搬送し、前記樹脂成形モジュールによって樹脂成形して樹脂成形品を製造する樹脂成形品の製造方法であって、前記樹脂材料の供給から樹脂成形までの期間の少なくとも一部において、前記樹脂供給モジュール内の塵埃を間欠的に吸引することを特徴とする。
この樹脂成形品の製造方法であれば、樹脂材料の供給から樹脂成形までの期間の少なくとも一部において、樹脂供給モジュール内の塵埃を間欠的に吸引するので、樹脂供給モジュールへの外気の流入を抑制することができ、外気に起因する湿度又は温度の変動による樹脂材料の品質の劣化を抑制することができる。なお、樹脂供給モジュール内の塵埃を吸引するので、樹脂材料の粉末などの塵埃が飛散して生じる装置内の汚染を低減することができる。
<本発明の実施形態>
以下に、本発明に係る樹脂成形装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。
本実施形態の樹脂成形装置1は、トランスファーモールド法を使用した樹脂成形装置である。この樹脂成形装置は、例えば、半導体チップが装着された基板を樹脂成形するものであり、樹脂材料として円柱状をなすタブレット状の熱可塑性樹脂(以下、「樹脂タブレット」という。)を使用するものである。なお、「基板」としては、ガラスエポキシ基板、セラミック基板、樹脂基板、金属基板などの一般的な基板及びリードフレームなどが挙げられる。
具体的に樹脂成形装置1は、図1に示すように、樹脂封止前の基板W(以下、「封止前基板W」という。)及び樹脂タブレットTを供給する供給モジュール2と、樹脂成形する例えば2つの樹脂成形モジュール3A、3Bと、樹脂成形品を搬出するための搬出モジュール4とを、それぞれ構成要素として備えている。なお、構成要素である供給モジュール2と、樹脂成形モジュール3A、3Bと、搬出モジュール4とは、それぞれ他の構成要素に対して互いに着脱されることができ、かつ、交換されることができる。
また、樹脂成形装置1は、供給モジュール2により供給される封止前基板W及び樹脂タブレットTを樹脂成形モジュール3A、3Bに搬送する搬送機構5(以下、「ローダ5」という。)と、樹脂成形モジュール3A、3Bにより樹脂成形された樹脂成形品を搬出モジュール4に搬送する搬送機構6(以下、「アンローダ6」という。)とを備えている。
本実施形態の供給モジュール2は、基板供給モジュール7及び樹脂供給モジュール8を一体化したものである。
基板供給モジュール7は、基板送出部71と、基板供給部72を有している。基板送出部71は、マガジン内の封止前基板Wを基板整列部に送り出すものである。基板供給部72は、基板送出部71から封止前基板Wを受け取り、受け取った封止前基板Wを所定方向に整列させて、ローダ5に受け渡すものである。
樹脂供給モジュール8は、樹脂送出部81と、樹脂供給部82とを有している。樹脂送出部81は、後述するストッカ83から樹脂タブレットTを受け取り、樹脂供給部82に樹脂タブレットTを送り出すものである。樹脂供給部82は、樹脂送出部81から樹脂タブレットTを受け取り、受け取った樹脂タブレットTを所定方向に整列させて、ローダ5に受け渡すものである。
樹脂成形モジュール3A、3Bは、それぞれプレス部31を有している。各プレス部31は、図2に示すように、昇降可能な下型311と、下型311の上方に相対向して固定された上型(図2の上型312参照)と、下型311及び上型312を型締めするための型締め機構313とを有している。下型311は、可動盤314の上面に固定されており、上型312は、上部固定盤315の下面に固定されている。型締め機構313は、可動盤314を上下移動させることによって、上型312及び下型311を型締め又は型開きするものである。
下型311には、ローダ5により搬送された封止前基板Wが装着される装着部311aが形成されている。下型311には、ローダ5により搬送された樹脂タブレットTが装着される複数のポット311bが形成されている。また、下型311には、ポット311b内に樹脂タブレットTを例えば上型312に形成された樹脂通路312a及びキャビティ312bに注入するためのプランジャ316が設けられている。
その他、上型312と下型311とには、それぞれヒータ等の加熱部(図2のヒータ317参照)が埋め込まれている。この加熱部により上型312及び下型311は、通常は180℃程度に加熱される。
<樹脂成形装置1の樹脂成形動作>
以下、本実施形態の樹脂成形装置1の樹脂成形の基本動作を説明する。
基板送出部71は、マガジン内の封止前基板Wを基板供給部72に送り出す。基板供給部72は、受け取った封止前基板Wを所定の方向へ整列させて、ローダ5に引き渡す。これと並行して、樹脂送出部81は、ストッカ83から受け取った樹脂タブレットTを樹脂供給部82に送り出す。樹脂供給部82は、受け取った樹脂タブレットTのうち必要な個数(図1では4個)をローダ5に引き渡す。
次に、ローダ5が、受け取った2枚の封止前基板Wと4個の樹脂タブレットTとを、プレス部31へ同時に搬送する。ローダ5は、封止前基板Wを下型311の装着部311aに、樹脂タブレットTを下型311に形成されたポット311bの内部に、それぞれ供給する。
その後、型締め機構313を用いて上型312と下型311とを型締めする。そして、各ポット311b内の樹脂タブレットTを加熱して溶融させて流動性樹脂を生成し、プランジャ316によって流動性樹脂を押圧する。これにより、流動性樹脂は、樹脂通路312aを通して上型312に形成されたキャビティ312bの内部に注入される。引き続き、硬化に必要な所要時間だけ流動性樹脂を加熱することによって、流動性樹脂を硬化させて硬化樹脂を形成する。これにより、キャビティ312b内の半導体チップとその周辺の基板とは、キャビティ312bの形状に対応して成形された硬化樹脂(封止樹脂)内に封止される。
次に、硬化に必要な所要時間の経過後において、上型312と下型311とを型開きして、封止済基板(図示なし)を離型する。その後、アンローダ6を使用して、プレス部31により樹脂封止された封止済基板(樹脂成形品)を、搬出モジュール4の基板収容部41に収容する。
上記の一連の動作を含む樹脂成形装置1全体の動作は、制御部9により制御される。この制御部9は、図1においては、供給モジュール2に設けているが他のモジュールに設けてもよい。なお、制御部9は、例えば、CPU、内部メモリ、AD変換器、入出力インバータ等を有する専用又は汎用のコンピュータから構成される。
<集塵機構(吸引機構)及び樹脂供給モジュール8の構成>
そして、本実施形態の樹脂成形装置1は、樹脂成形モジュール3A、3B及び樹脂供給モジュール8で発生する塵埃を空気とともに吸引して集塵する集塵機構10をさらに備えている。
具体的に集塵機構10は、図3に示すように、集塵機101と、当該集塵機101と各モジュール3A、3B、8とを接続して塵埃を空気とともに吸引する接続管102と、開閉弁V1〜V3とを備えている。本実施形態の集塵機101は、搬出モジュール4に設けられているが、これに限られない。
接続管102は、各樹脂成形モジュール3A、3B及び樹脂供給モジュール8に接続されている。樹脂成形モジュール3A、3Bにおける接続管102の開口は、上型312又は下型311のクリーニング時に発生する塵埃を集塵しやすくするために、上型312又は下型311の近傍に設けられている。なお、樹脂供給モジュール8における接続管102の構成は後述する。
また、接続管102の所要箇所には、塵埃を吸引するモジュールを切り替えるための開閉弁V1〜V3が設けられている。ここで、開閉弁V1又はV2は、樹脂成形モジュール3A、3Bからの集塵及びその停止を切り替えるための開閉弁である。また、開閉弁V3は、樹脂供給モジュール8からの集塵及びその停止を切り替えるための開閉弁である。これら開閉弁V1〜V3は電動弁であり、制御部9によりその開閉が制御される。
具体的に制御部9は、樹脂成形後における上型312又は下型311のクリーニング時には、上型312又は下型311から出る塵埃を集塵するために、樹脂成形モジュール3A、3Bと集塵機101とを接続管102を介して接続する。具体的に制御部9は、開閉弁V1又はV2を開ける。このとき、樹脂成形モジュール3A、3Bからの集塵を優先するために、樹脂供給モジュール8側の開閉弁V3は閉じた状態とする。
一方、制御部9は、樹脂成形後における上型312又は下型311のクリーニング前、つまり、樹脂タブレットTの供給から樹脂成形までの間は、樹脂供給モジュール8と集塵機101とを接続管102を介して接続する。具体的に制御部9は、開閉弁V3を開ける。このとき、上型312又は下型311のクリーニングは行わないため、樹脂成形モジュール3A、3B側の開閉弁V1、V2は閉じた状態とする。これらの制御により、集塵機101は常時運転した状態となる。
次に、樹脂供給モジュール8における集塵機構10の構成を説明する。
本実施形態の樹脂供給モジュール8は、図4及び図5に示すように、多数の樹脂タブレットTを収容するとともに当該樹脂タブレットTを送り出す樹脂送出部81と、当該樹脂送出部81により送り出された樹脂タブレットTを搬送機構に供給する樹脂供給部82とを有している。
樹脂送出部81は、収容容器811とホッパー812とを備える。ホッパー812は例えば図4の横方向に振動可能な構成となっており、収容容器811は受け部側に傾斜した傾斜面を備えた構成となっている。ストッカ83から投入された樹脂タブレットTは、収容容器811の傾斜面に落下し、ホッパー812の振動によって受け部821に送り出される。
収容容器811は、上壁及び一方の側壁が開口する例えば箱形状をなすものであり、前記一方の側壁が下方となるように傾斜して設けられている。また、収容容器811の上部には、多数の樹脂タブレットTが収容されたストッカ83が設けられており、当該ストッカ83から樹脂タブレットTが上壁の開口を介して収容容器811内に投入される。
樹脂供給部82は、いわゆるパーツフィーダを用いたものであり、収容容器811の一方の側壁の開口から送り出された樹脂タブレットTを受け止める受け部821と、当該受け部821を振動させて樹脂タブレットTを移動させる振動部822と、振動により移動する樹脂タブレットTを一列状に配列させる配列部823と、当該配列部823により配列された樹脂材料を複数個ずつ整列させてローダ5に受け渡すための樹脂整列部824とを有している。本実施形態では、配列部823は、樹脂タブレットTを横倒し状態で配列させるものであり、樹脂整列部824は、横倒し状態の樹脂タブレットTを起立状態に回転させて整列させるものである。
ここで、受け部821には、図5に示すように、当該受け部821内の樹脂タブレットTが少なくなってきたことを検出する例えば接触式の第1検出センサS1が設けられている。制御部9は、この第1検出センサS1の検出信号により、受け部821に樹脂タブレットTを補充させる必要がある場合に、樹脂送出部81のホッパー812を振動させて、収容容器811から樹脂タブレットTを受け部821に供給する。
また、配列部823には、図5に示すように、当該配列部823に所定数の樹脂タブレットTが配列されているかを検出する例えば光透過型の第2検出センサS2が設けられている。制御部9は、この第2検出センサS2の検出信号により、配列部823に所定数の樹脂タブレットTが配列されていない場合に、振動部822を起動させて、配列部823に所定数の樹脂タブレットTが配列されるようにする。
この構成において、樹脂供給モジュール8に接続される集塵機構10の接続管102は、図3及び図4に示すように、収容容器811に接続される第1接続管102aと、受け部821に接続される第2接続管102bと、配列部823に接続される第3接続管102cと、樹脂整列部824に接続される第4接続管102dとを有している。
本実施形態では、第1接続管102aは、収容容器811の底部に開口している。第2接続管102bは、受け部821の底部に開口している。第3接続管102cは、配列部823の底部に開口している。第4接続管102dは、樹脂整列部824の近傍に開口している。なお、各接続管102a〜102dの開口位置は上記に限られず、各部における塵埃を集塵できる位置であれば良い。
本実施形態の第1〜第4接続管102a〜102dは、途中で分岐して構成されており、当該分岐点には、第1〜第4接続管102a〜102dの開閉を一括して切り替えるための樹脂供給モジュール8側の開閉弁V3が設けられている(図3参照)。
この開閉弁V3が開放されることにより、第1〜第4接続管102a〜102dによる集塵が行われ、開閉弁V3が閉じられることにより、第1〜第4接続管102a〜102dによる集塵が停止する。
そして、この開閉弁V3を制御する制御部9は、樹脂成形完了までの間(樹脂タブレットTの供給から樹脂成形までの動作中)において、開閉弁V3の開閉を間欠的に制御することによって、集塵機構10による集塵を間欠的に行わせる。
具体的に制御部9は、集塵機構10による集塵を周期的に行わせる。例えば、開閉弁V3を60秒間閉状態(集塵しない状態)にし、15秒間開状態(集塵する状態)にする。なお、開閉弁V3を閉状態とする期間及び開状態とする期間については、供給ガスの温度、湿度、風量等に応じて変更可能である。ここで、開閉弁V3を閉状態にしている間は、その他の開閉弁V1又はV2を開状態にする。これにより、常時運転されている集塵機101の破損を防ぐことができる。
また、制御部9は、上記の周期的な開閉制御に加えて、樹脂送出部81から樹脂供給部82に樹脂タブレットTを送り出す動作中に、樹脂供給モジュール8側の開閉弁V3を開けて、集塵機構10の第1〜第4接続管102a〜102dによる集塵を行わせる。樹脂送出部81から樹脂タブレットTを送り出す動作中はホッパー812により収容容器811が振動して塵埃が発生しやすいためである。
具体的に制御部9は、前記第1検出センサS1の検出信号に基づいて樹脂送出部81のホッパー812を振動させる場合に、開閉弁V3を開ける。そして、制御部9は、第1検出センサS1の検出信号に基づいて樹脂送出部81のホッパー812の振動を停止させる場合に、開閉弁V3を閉じる。
その他、制御部9は、受け部821を振動させている間は、集塵機構10による集塵を停止させることもできる。受け部821を振動させている間に吸引を行うと、受け部821の底面に形成された吸引口(集塵口)に樹脂タブレットTが吸着されて、樹脂タブレットTが移動できなくなるからである。
具体的に制御部9は、第2検出センサS2の検出信号に基づいて振動部822を停止させる場合に、開閉弁V3を開ける。一方、制御部9は、第2検出センサS2の検出信号に基づいて振動部822を起動させる場合に、開閉弁V3を閉じる。
なお、上記では、第1〜第4接続管102a〜102dによる集塵/停止を1つの開閉弁V3により切り替えているが、第1〜第4接続管102a〜102dのそれぞれに開閉弁を設けることにより、接続管102a〜102d毎に集塵/停止を切り替えるように構成しても良い。
そして、本実施形態では、図4に示すように、樹脂送出部81及び少なくとも樹脂供給部82の一部は、カバー体11により取り囲まれて覆われている。カバー体11は、樹脂供給モジュール8の筐体(図示なし)とは別に設けられて、樹脂送出部81及び少なくとも樹脂供給部82の一部を覆うものである。具体的には、樹脂送出部81と樹脂供給部82の少なくとも受け部821がカバー体11により取り囲まれて覆われている。これにより、樹脂送出部81に接続された第1接続管102a及び樹脂供給部82に接続された第2、第3接続管102b、102cにより吸引される空間の容積を小さくして、塵埃の集塵効率を向上させることができる。
また、本実施形態の樹脂成形装置1は、図4に示すように、樹脂供給モジュール8に除湿されたガス(例えば空気)を供給するガス供給機構12を備えている。
具体的にガス供給機構12は、ガスを冷却する冷却器121を有しており、当該冷却器121によりガスを冷却することによってガスを除湿している。この場合、ガス供給機構12は除湿ガス供給機構としても冷却ガス供給機構としても働く。この除湿されたガスは、外気よりも湿度が低いものである。また、ガス供給機構12は、冷却器121により冷却及び除湿されたガスを樹脂供給モジュール8内に供給する供給管122を有している。この供給管122は、例えば、樹脂送出部81に向かってガスを導出することが考えられるが、樹脂供給モジュール8内にガスを導入するものであれば、特に限定されない。また、供給管122の導出口は、1つであってもよいし、複数であっても良い。除湿ガス供給機構は、除湿フィルターを用いて除湿した圧縮空気を供給してもよい。ガス供給機構として、除湿ガス供給機構及び冷却ガス供給機構の両方を設けてもよい。
本実施形態では、樹脂送出部81及び樹脂供給部82がカバー体11で覆われているので、供給管122はカバー体11の内部に配管されている。これにより、除湿されたガス又は/及び冷却されたガスをカバー体11の内部に効率良く留めることができ、樹脂材料を収容する雰囲気の温度及び湿度を効率良く低下させることができる。
<実験結果>
以上により構成した樹脂供給モジュール8の樹脂送出部81の湿度制御結果を図6に示す。なお、図6には、比較例として、同じ装置構成において集塵を連続的に行った場合の湿度制御結果も示している。また、図6において横軸は任意としている。
図6から分かるように、本実施形態では、集塵機構10による集塵及びその停止のタイミングに合わせて湿度の増減が繰り返されている。集塵機構10による集塵中は湿度が上昇し、その停止中は湿度が低下する。本実施形態では、集塵を間欠的に行っていることから、外気の影響を受けにくくなり、湿度の最小値が36.2%であり、最大値が39.8%に抑えられている。一方、比較例では、連続的に集塵動作を行っていることから、外気の影響が大きく、湿度の最小値は36.9%であるものの、最大値が42.7%まで上昇している。
本実施形態には5箇所のピークがあり、左から4番目以外のピークは周期的な吸引による結果であり、左から4番目のピークは周期的な吸引に加えて、樹脂送出部81から樹脂供給部82に樹脂材料を送り出す動作中に行った吸引による結果である。
<本実施形態の効果>
本実施形態の樹脂成形装置1によれば、樹脂タブレットTの供給から樹脂成形までの動作中において、集塵機構10による集塵を間欠的に行わせているので、樹脂供給モジュール8への外気の流入を抑制することができ、外気に起因する湿度又は温度の変動による樹脂タブレットTの品質の劣化を抑制することができる。なお、集塵機構10により樹脂供給モジュール8内の塵埃を集塵しているので、樹脂タブレットTの粉末などの塵埃が飛散して生じる装置内の汚染を低減することができる。
特に本実施形態では、集塵機構10により樹脂送出部81内の塵埃を吸引しているので、樹脂タブレットTの粉末などの塵埃が発生しやすい部位から集中的に塵埃を吸引することができ、塵埃による汚染を効率良く低減することができる。このとき、樹脂送出部81への集塵を間欠的に行っているので、集塵を行いつつ、樹脂送出部81に流入する外気を低減して樹脂タブレットTの品質の劣化を抑制することができる。
<その他の実施形態>
例えば、図7に示すように、樹脂供給モジュール8の上部に清浄空気供給機構13を設けても良い。この清浄空気供給機構13は、清浄した空気を樹脂供給モジュール8に向けて供給するものである。この清浄空気供給機構13を設けることによって、塵埃の飛散を低減することができる。また、この清浄空気を除湿して樹脂供給モジュール8に向けて供給しても良い。
前記実施形態の樹脂材料がタブレット状をなすものであったが、その他、シート状、粒状、顆粒状、又は粉状といった固体状の樹脂材料であっても良い。
前記実施形態では搬送機構5が封止前基板Wと樹脂タブレットTとを同時に下型311まで搬送する構成であったが、封止前基板Wと樹脂タブレットTとを別々に下型311まで搬送する構成であっても良い。
樹脂供給モジュール8は樹脂材料を整列した状態で搬送機構5に受け渡すものであれば、前記実施形態の構成に限られない。
前記実施形態の集塵機構は、樹脂成形モジュール及び樹脂供給モジュールに共通のものであったが、樹脂成形モジュール及び樹脂供給モジュールそれぞれに別個の集塵機構を設けても良い。
前記実施形態の樹脂成形装置1は吸引機構と集塵機とを組み合わせた集塵機構10を有する構成であったが、吸引ポンプにより樹脂供給モジュール8内の塵埃を吸引する吸引機構を有する構成であっても良い。
前記実施形態では樹脂供給モジュール8と基板供給モジュール7とを1つのモジュールとして構成しているが、樹脂供給モジュール8と基板供給モジュール7とを別々のモジュールとしても良い。
前記実施形態では、2つの樹脂成形モジュールを有する構成であったが、樹脂成形モジュールは1つであっても良いし、3つ以上であっても良い。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
1・・・樹脂成形装置
3A、3B・・・樹脂成形モジュール
5・・・搬送機構(ローダ)
8・・・樹脂供給モジュール
81・・・樹脂送出部
82・・・樹脂供給部
9・・・制御部
10・・・集塵機構(吸引機構)
11・・・カバー体
12・・・ガス供給機構(除湿ガス供給機構、冷却ガス供給機構)
121・・・冷却器

Claims (10)

  1. 樹脂成形を行う樹脂成形モジュールと、
    前記樹脂成形モジュールに樹脂材料を搬送する搬送機構と、
    前記樹脂材料を収容するとともに前記搬送機構に前記樹脂材料を供給する樹脂供給モジュールと、
    前記樹脂供給モジュール内の塵埃を吸引する吸引機構と、
    少なくとも前記吸引機構を制御する制御部とを備え、
    前記制御部は、前記吸引機構により間欠的な吸引をするように、集塵する状態と集塵しない状態とを設定された間隔で繰り返し行うように周期的に行わせ、前記集塵する状態と前記集塵しない状態とをそれぞれの状態について設定された時間で繰り返し行う、樹脂成形装置。
  2. 前記樹脂供給モジュール内に除湿されたガスを供給する除湿ガス供給機構を更に備える、請求項1記載の樹脂成形装置。
  3. 前記除湿ガス供給機構は、前記ガスを冷却する冷却器を有する、請求項2記載の樹脂成形装置。
  4. 前記樹脂供給モジュール内に冷却されたガスを供給する冷却ガス供給機構を更に備える、請求項2記載の樹脂成形装置。
  5. 前記樹脂供給モジュールは、前記樹脂材料を内部に収容するとともに前記樹脂材料を送出する樹脂送出部と、前記樹脂送出部から送出された樹脂材料を前記搬送機構に供給する樹脂供給部とを備え、
    前記吸引機構は、少なくとも前記樹脂送出部内の塵埃を吸引するものである、請求項1記載の樹脂成形装置。
  6. 前記樹脂供給モジュール内に除湿されたガスを供給する除湿ガス供給機構を更に備え、
    前記樹脂送出部及び少なくとも前記樹脂供給部の一部は、カバー体により覆われており、
    前記除湿ガス供給機構は、少なくとも前記カバー体内部に除湿されたガスを供給するものである、請求項5記載の樹脂成形装置。
  7. 前記樹脂供給モジュール内に冷却されたガスを供給する冷却ガス供給機構を更に備え、
    前記樹脂送出部及び少なくとも前記樹脂供給部の一部は、カバー体により覆われており、
    前記冷却ガス供給機構は、少なくとも前記カバー体内部に冷却されたガスを供給するものである、請求項5記載の樹脂成形装置。
  8. 前記制御部は、前記吸引機構による吸引を周期的に行わせるとともに、少なくとも前記樹脂送出部から前記樹脂供給部に前記樹脂材料を送り出す動作中に前記吸引機構による吸引を行わせる、請求項5記載の樹脂成形装置。
  9. 前記樹脂送出部及び少なくとも前記樹脂供給部の一部は、カバー体により覆われており、
    前記吸引機構は、前記カバー体の内部の塵埃を吸引するものである、請求項5記載の樹脂成形装置。
  10. 樹脂供給モジュールから搬送機構によって樹脂成形モジュールに樹脂材料を搬送し、前記樹脂成形モジュールによって樹脂成形して樹脂成形品を製造する樹脂成形品の製造方法であって、
    前記樹脂材料の供給から樹脂成形までの期間の少なくとも一部において、前記樹脂供給モジュール内の塵埃の間欠的な吸引をするように、集塵する状態と集塵しない状態とを設定された間隔で繰り返し行うように周期的に行い、前記集塵する状態と前記集塵しない状態とをそれぞれの状態について設定された時間で繰り返し行う、樹脂成形品の製造方法。
JP2018099707A 2018-05-24 2018-05-24 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法 Active JP6894403B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018099707A JP6894403B2 (ja) 2018-05-24 2018-05-24 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法
KR1020190054793A KR102243618B1 (ko) 2018-05-24 2019-05-10 수지 성형 장치, 및 수지 성형품의 제조 방법
CN201910410236.5A CN110524798A (zh) 2018-05-24 2019-05-17 树脂成形装置及树脂成形品的制造方法
TW108117399A TWI720488B (zh) 2018-05-24 2019-05-21 樹脂成形裝置及樹脂成形品的製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018099707A JP6894403B2 (ja) 2018-05-24 2018-05-24 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019202495A JP2019202495A (ja) 2019-11-28
JP2019202495A5 JP2019202495A5 (ja) 2020-07-16
JP6894403B2 true JP6894403B2 (ja) 2021-06-30

Family

ID=68659654

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018099707A Active JP6894403B2 (ja) 2018-05-24 2018-05-24 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6894403B2 (ja)
KR (1) KR102243618B1 (ja)
CN (1) CN110524798A (ja)
TW (1) TWI720488B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7284514B2 (ja) * 2020-05-11 2023-05-31 アピックヤマダ株式会社 樹脂モールド装置及びクリーニング方法
JP7360365B2 (ja) * 2020-07-14 2023-10-12 Towa株式会社 樹脂材料供給装置、樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法
JP7465843B2 (ja) * 2021-04-08 2024-04-11 Towa株式会社 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法
JP2024044401A (ja) * 2022-09-21 2024-04-02 Towa株式会社 樹脂供給装置、樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法
CN117341162B (zh) * 2023-10-25 2024-08-16 宁国市格斯特密封件有限公司 一种橡胶密封件加工装置及其加工方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05267367A (ja) * 1992-03-23 1993-10-15 Fujitsu Miyagi Electron:Kk 樹脂封止半導体製造装置
JP3200211B2 (ja) * 1992-12-01 2001-08-20 アピックヤマダ株式会社 半導体封止装置
JP3519521B2 (ja) * 1995-11-10 2004-04-19 株式会社サイネックス 半導体封入モールド装置
JPH09246298A (ja) * 1996-03-13 1997-09-19 Toshiba Corp 半導体モールド装置
JP3516195B2 (ja) * 1996-05-28 2004-04-05 東京エレクトロン株式会社 塗布膜形成方法及びその装置
CN2378179Y (zh) * 1999-07-05 2000-05-17 王邦枝 改进的塑胶料粒除湿机
JP2002313829A (ja) * 2001-04-19 2002-10-25 Mitsubishi Electric Corp 半導体樹脂封止装置用金型のクリーニング装置
JP3879638B2 (ja) * 2002-09-13 2007-02-14 松下電器産業株式会社 半導体樹脂封止装置
TW200618881A (en) * 2004-08-30 2006-06-16 Zeon Corp Regenerated resin molded body, molding method of regenerated resin molded body and method of obtaining regenerated resin stamper
JP2008260280A (ja) * 2007-03-20 2008-10-30 Mitsubishi Chemicals Corp ペレット形状のポリエステルの輸送方法および貯蔵方法
JP2010247429A (ja) * 2009-04-15 2010-11-04 Apic Yamada Corp 樹脂封止装置とこれを用いた樹脂封止方法
TWI585908B (zh) * 2010-11-25 2017-06-01 山田尖端科技股份有限公司 樹脂模塑裝置與樹脂模塑方法
KR20140120153A (ko) * 2013-04-02 2014-10-13 에스티엑스조선해양 주식회사 열수 주입 파이프라인을 이용한 천연가스 하이드레이트의 해리 장치 및 방법
CN203580062U (zh) * 2013-09-16 2014-05-07 吴焕雄 一种可调节式过滤器
CN205263685U (zh) * 2015-12-07 2016-05-25 贵州省华腾农业科技有限公司 一种冷却房温湿度调整装置
CN106239832A (zh) * 2016-07-25 2016-12-21 信易电热机械有限公司 一种除湿干燥送料装置
JP6212609B1 (ja) * 2016-08-19 2017-10-11 Towa株式会社 樹脂成形装置及び樹脂成形品製造方法
CN206383403U (zh) * 2017-01-11 2017-08-08 东莞市广为塑料机械有限公司 一种除湿干燥系统输送闭环回路

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190134473A (ko) 2019-12-04
TWI720488B (zh) 2021-03-01
JP2019202495A (ja) 2019-11-28
KR102243618B1 (ko) 2021-04-23
TW202003192A (zh) 2020-01-16
CN110524798A (zh) 2019-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6894403B2 (ja) 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法
KR101192547B1 (ko) 수지 밀봉 성형 장치
JP5985402B2 (ja) 樹脂封止装置及び樹脂封止方法
JP2007125783A (ja) 電子部品の樹脂封止成形装置
KR102455987B1 (ko) 성형 금형, 성형 장치, 성형품의 제조 방법 및 수지 몰드 방법
WO2012005027A1 (ja) 樹脂封止電子部品の製造方法及び電子部品の樹脂封止装置
JP2008279599A (ja) 電子部品の圧縮成形方法及び装置
CN107756707B (zh) 树脂成形装置及树脂成形品制造方法
JP2022155897A (ja) 樹脂封止装置
NL2014802B1 (en) Modular system for moulding electronic components and kit-of-parts for assembling such a modular system.
CN107914355B (zh) 树脂材料供给装置及方法、树脂成形装置及树脂成形品制造方法
JP2008221622A (ja) 電子部品の圧縮成形方法
JP6861776B1 (ja) 樹脂供給機構、樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法
JP2004266153A (ja) 樹脂封止成形装置
TWI718447B (zh) 成型模、樹脂成型裝置及樹脂成型品的製造方法
JP4707364B2 (ja) 電子部品の樹脂封止成形方法及び装置
JP7417507B2 (ja) 樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法
WO2024171547A1 (ja) 搬送機構、樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法
JP2024044401A (ja) 樹脂供給装置、樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法
JP7430144B2 (ja) クリーニング機構、樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法
KR19990079753A (ko) 터블릿 공급장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200526

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200602

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210216

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210331

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210506

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210603

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6894403

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250