JP6893276B1 - 粉粒体散布装置及び粉粒体の散布方法 - Google Patents

Abstract

【課題】定量性よく粉粒体を散布し得る技術を提供すること。【解決手段】排出口２３における搬送手段３による粉粒体Ｐの搬送方向ＭＤの最大長さをＤ、該排出口２３における搬送方向ＭＤと直交する方向ＣＤの最大長さをＷとした場合、Ｗ／Ｄが１００以下である。また、排出口２３からの粉粒体Ｐの１分間当たりの排出量をＭ、搬送手段３による粉粒体Ｐの１分間当たりの散布量の目標値をｍとした場合、Ｍ／ｍが１．５以上である。また、粉粒体Ｐのかさ密度をρ、排出口２３の面積をＳ、排出口２３と搬送手段３との離間距離をＧとした場合、ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が２１／ｍｉｎ以上である。【選択図】図４

Description

本発明は、粉粒体散布装置及びそれを用いた粉粒体の散布方法、並びに該散布方法を用いた粉粒体含有物品及び機能性物品の製造方法に関する。

種々の製品の製造において、連続搬送される基材に対してその幅方向にわたって均一に粉粒体を散布させることが要望されている。斯かる要望に応えることを目的とした技術に関し、例えば特許文献１には、セメント原料等の粉粒体を貯蔵する粉粒体貯槽の排出部構造に関する改良技術が記載されている。前記粉粒体貯槽は、筒状の貯槽本体の下端部に所定の勾配で先窄まりのホッパーが形成され、該ホッパーの下端の排出口に、ベルトフィーダー等の排出手段が設けられて構成されている。前記ホッパーは、その導入部の面積よりも前記排出口の面積が小さく、前記貯槽本体と該排出口との間の側壁が所定勾配の傾斜面となっており、該貯槽本体内に貯留した粉粒体を徐々に小さい断面積に絞って排出するようになっているところ、該ホッパー内では、粉粒体が側方から圧縮されるために、粉粒体の詰まりが生じやすく、粉粒体が排出不能となるという問題があった。特許文献１に記載の技術は、この問題の解決を図るために排出口の縦横比を工夫したものであり、具体的には、排出手段による粉粒体の搬送方向を「ＭＤ」(Machine Direction)、ＭＤと直交する方向を「ＣＤ」(Cross machine Direction)とした場合、「排出口のＭＤの長さ＞排出口のＣＤの長さ」の大小関係が成立するようになされている。

本出願人は先に、粉粒体の貯蔵部を有するホッパーと、該ホッパーの下端の排出口に対して隙間を置いて配置され、該排出口から排出された粉粒体を一方向に搬送して基材上に散布する搬送手段とを備えた粉粒体散布装置を提案した（特許文献２）。特許文献２に記載の粉粒体散布装置においては、排出口のＭＤ／ＣＤ比が、特許文献１に記載のものとは逆に「排出口のＭＤの長さ＜排出口のＣＤの長さ」とされ、また、ホッパーの各部の寸法等が、粉粒体の粒子径との関係で特定範囲に設定されている。特許文献２に記載の粉粒体散布装置によれば、該装置内に設けられた粉粒体用移動路における粉粒体の流れを定常流化し且つ粉粒体の流動性を向上させ得るため、該移動路内で粉粒体の詰まりが発生し難く、連続搬送される基材に対して粉粒体を定量性よく散布することができる。

特開２０００−３３５６８２号公報 特開２０１７−７０９４４号公報

特許文献２に記載の粉粒体散布装置は、粉粒体を高精度に定量散布し得るが、搬送手段による基材に対する粉粒体の単位時間当たりの散布量が比較的多量の場合には、改善の余地がある。

本発明の課題は、定量性よく粉粒体を散布し得る技術を提供することに関する。

本発明は、内部に粉粒体を一時的に貯蔵可能な貯蔵部、該貯蔵部内の粉粒体を排出する排出口、及び、該貯蔵部と該排出口との間を結ぶ粉粒体用移動路を備えたホッパーと、該排出口に対して所定の離間距離を置いて配置され、該排出口から自重による自由落下により排出された粉粒体を所定の一方向に搬送し、連続搬送される基材上に散布する搬送手段とを備えた粉粒体散布装置でであって、
前記排出口における前記搬送手段による粉粒体の搬送方向の最大長さをＤ、該排出口における該搬送方向と直交する方向の最大長さをＷとした場合、Ｗ／Ｄが１００以下であり、
前記排出口からの粉粒体の１分間当たりの排出量をＭ、前記搬送手段による粉粒体の１分間当たりの散布量の目標値をｍとした場合、Ｍ／ｍが１．５以上であり、
本発明の粉粒体散布装置の一実施形態では、粉粒体のかさ密度をρ、前記排出口の面積をＳ、前記排出口と前記搬送手段との離間距離をＧとした場合、ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が２１以上である、粉粒体散布装置である。

また本発明は、連続搬送される基材に対し、前記の本発明の粉粒体散布装置を用いて、粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体の散布方法である。
また本発明は、基材と、該基材に接触するように配置された粉粒体とを備えた粉粒体含有物品の製造方法であって、
連続搬送される基材に対し、前記の本発明の粉粒体散布装置を用いて、粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体含有物品の製造方法である。

本発明によれば、連続搬送される基材に対して、粉粒体を該基材の幅方向（搬送方向と直交する方向）に均一に定量性良く散布することが可能である。

図１は、本発明の粉粒体散布装置の一実施形態を模式的に示す側面図である。 図２は、図１に示す粉粒体散布装置を、搬送手段による粉粒体の搬送方向の下流側から見た様子を模式的に示す正面図である。 図３は、図１に示す粉粒体散布装置におけるホッパーの斜視図である。 図４は、図１に示す粉粒体散布装置における排出口及びその近傍を模式的に示す側面図である。 図５（ａ）及び図５（ｂ）はそれぞれ、ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵される粉粒体の全質量の計測値に基づき、該全質量の単位時間（１分間）当たりの変化量を算出する方法を説明する図である。 図６（ａ）及び図６（ｂ）はそれぞれ、本発明の粉粒体散布装置の他の実施形態の要部（搬送手段）を模式的に示す側面図である。 図７（ａ）及び図７（ｂ）はそれぞれ、本発明の粉粒体散布装置に係る排出口を模式的に示す平面図である。

以下、本発明をその好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。なお、以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。図面は基本的に模式的なものであり、各寸法の比率などは現実のものとは異なる場合がある。

本発明の粉粒体散布装置は、内部に粉粒体（図中符号Ｐで示す）を一時的に貯蔵可能な貯蔵部（図中符号２０で示す）、該貯蔵部内の粉粒体を排出する排出口（図中符号２３で示す）、及び該貯蔵部と該排出口との間を結ぶ粉粒体用移動路（図中符号２２で示す）を備えたホッパー（図中符号２で示す）を備える。
本発明の粉粒体散布装置の一実施形態では、前記排出口に対して所定の離間距離（図中符号Ｇで示す）を置いて配置され、該排出口から自重による自由落下により排出された粉粒体を所定の一方向（図中符号ＭＤで示す）に搬送し、連続搬送される基材（図中符号１００で示す）上に散布する搬送手段（図中符号３で示す）を備える。
図１〜図４には、本発明の粉粒体散布装置の一実施形態である粉粒体散布装置１又はその要部が示されており、粉粒体散布装置１は前記の構成を備えている。
なお、基材１００及びその搬送装置は、粉粒体散布装置１を構成するものではない。基材１００は、搬送ロール、ベルトコンベア等の公知の搬送装置により連続搬送される。

以下では、搬送手段３による粉粒体Ｐの搬送方向を「ＭＤ」(Machine Direction)、ＭＤと直交する方向を「ＣＤ」(Cross machine Direction)又は「幅方向」とも言う。

ホッパー２は、図１に示す如き側面視すなわちＣＤから見た場合において、上底が下底よりも長い台形形状をなしている貯蔵部２０と、該貯蔵部２０の下端に連接され、該側面視において長方形形状をなす直方体形状の排出部２１とを含んで構成されている。
貯蔵部２０は内部に粉粒体Ｐを貯蔵可能な空間を有し、その内部空間に粉粒体Ｐを一時的に貯蔵可能になされている。粉粒体Ｐは、貯蔵部２０の上部開口から粉体供給装置９０によって貯蔵部２０の内部空間に供給される。
排出部２１は、内部に粉粒体Ｐの移動路２２を有している。排出部２１の下端（貯蔵部２０側とは反対側の端部）には、粉粒体Ｐの排出口２３が形成されており、貯蔵部２０の内部空間と排出口２３とが移動路２２を介して連通している。
ホッパー２は、斯かる構成により、貯蔵部２０の内部に一時的に貯蔵した粉粒体Ｐを、移動路２２を介して排出口２３より排出可能になされている。

本実施形態では、ホッパー２の上部を構成し、粉粒体Ｐが貯蔵される内部空間を有する貯蔵部２０では、図３に示すように、該内部空間を画成する貯蔵部２０の側壁の内面２０ｉの一部が、水平方向及び該水平方向と直交する垂直方向（より具体的には鉛直方向）の双方に交差する傾斜内面２０ｉｓであり、内面２０ｉの残りの部分は、垂直方向（より具体的には鉛直方向）に延びている。傾斜内面２０ｉｓを有する傾斜側壁２０ｓは、ＭＤの一方側、より具体的にはＭＤの下流側に位置している。貯蔵部２０の内面２０ｉは、移動路２２を画成する排出部２１の側壁の内面２１ｉと繋がっている。ホッパー２の内面がこのように構成されていることにより、貯蔵部２０から排出部２１に粉粒体Ｐの集合体が流れ込む際に、その集合体の流動方向と直交する方向の中央部分が周囲部分よりも流動速度が速くなることが抑制されるため、粉粒体Ｐの均一な散布に有利となる。

また本実施形態では、ホッパー２の下部を構成し、粉粒体Ｐの移動路２２を内部に有する排出部２１では、図３に示すように、移動路２２を画成する排出部２１の側壁の全部が、垂直方向（より具体的には鉛直方向）に延びる垂直壁であり、該側壁の内面２１ｉの全部も同方向に延びている。つまり、排出部２１の内部空間（移動路２２及び排出口２３）のＭＤの長さＤ及びＣＤの長さＷは、それぞれ、排出部２１の高さ方向（粉粒体Ｐの排出方向）の全長にわたって一定である。

このように本実施形態では、ホッパー２の高さ方向の上部（貯蔵部２０）は、該上部の内部空間の水平方向に沿う断面（横断面）の面積が、該高さ方向の上方から下方に向かうに従って漸次減少し、また、ホッパー２の高さ方向の下部（排出部２１）は、該下部の内部空間（移動路２２及び排出口２３）の横断面の面積が、該高さ方向において一定となっている。ホッパー２は斯かる構造を有することにより、粉粒体Ｐを排出口２３から安定的に定量排出し得る。

本実施形態では、搬送手段３は、図１に示すように、ホッパー２から排出された粉粒体Ｐを受け取る受取手段（トラフ）３０と、受取手段３０を振動させる振動発生手段３１とを含んで構成されている。
搬送手段３は、ホッパー２の下端に位置する排出口２３に対して所定の離間距離Ｇを置いて配置されており、より具体的には、ホッパー２から排出された粉粒体Ｐを受け取って搬送する受取手段３０の上面３０ａと排出口２３との間に離間距離Ｇの隙間が形成されるように、配置されている。
振動発生手段３１は、受取手段３０の下面３０ｂに固定されている。受取手段３０において、粉粒体Ｐの受け取り及び搬送に利用される（粉粒体Ｐと接触する）のは、ホッパー２（排出口２３）の下方に位置する部分及びその近傍であり、それ以外の部分は基本的に粉粒体Ｐと接触しない粉粒体非接触部であるところ、振動発生手段３１は、受取手段３０の該粉粒体非接触部における下面３０ｂに固定されている。

搬送手段３は、振動発生手段３１を作動させて受取手段３０を振動させることによって、受取手段３０上の粉粒体Ｐを所定の方向に搬送可能になされている。
粉粒体散布装置１は、図１に示すように、振動発生手段３１に印加する電圧及び／又は周波数を制御する制御手段４を備えており、該制御手段４によって、受取手段３０の振動数及び／又は振幅を制御し、延いては受取手段３０上の粉粒体Ｐの搬送状態を制御する。すなわち、制御手段４による制御下、振動発生手段３１の非作動時には、受取手段３０は振動していないため、受取手段３０上の粉粒体Ｐの搬送は停止又は抑制されている。斯かる状態から振動発生手段３１を作動させると、受取手段３０が振動を開始することによって、受取手段３０上の粉粒体Ｐの停止又は抑制が解除され、粉粒体Ｐは、ＭＤに搬送され、最終的には図１及び図２に示すように、受取手段３０のＭＤの下流側端３ＤＥから自重により自由落下して、受取手段３０の下方を連続搬送されている基材１００上に散布される。

振動発生手段３１によって発生する振動を受取手段３０上の粉粒体Ｐに適切に伝えるようにする観点から、受取手段３０は平板状のものであることが好ましく、より具体的には、図１に示す如き扁平な平板部材が好ましい。更に、排出口２３から排出された粉粒体Ｐを、受取手段３０のＭＤに対して先端部から均一に散布する観点から、ＭＤ以外からの散布を防止するために、受取手段３０の側面にガイドを設けてもよい。斯かる平板部材からなる受取手段３０の材質は特に制限されないが、例えば、各種プラスチックや各種金属などが挙げられる。

振動発生手段３１としては、受取手段３０上の粉粒体Ｐを所望の一方向に搬送させ得る振動成分を発生可能なものであれば良く、例えば、圧電セラミック等の圧電素子、振動フィーダ等の公知の振動発生手段が挙げられる。中でも振動フィーダは、振動発生手段３１として好ましく用いられる。また、振動発生手段３１の振動数は特に制限されないが、粉粒体の搬送性並びに散布の均一性及び定量性等の観点から、好ましくは５０Ｈｚ以上、より好ましくは１００Ｈｚ以上であり、そして、好ましくは５００Ｈｚ以下、より好ましくは３００Ｈｚ以下である。

図１に示すように、ホッパー２には計量装置５が取り付けられている。計量装置５としては、ホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体Ｐの全質量を連続して計量可能なものが用いられる。連続して計量可能とは、計量データのサンプリングタイムが０秒超１秒以下であることを言う。計量装置５によって計量されたホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体Ｐの全質量の計量データは、データの取得のたびに、先に述べた制御手段４に送信されるようになっている。計量装置５の具体例としては電気式計量器が挙げられ、具体的には、ロードセル式計量器や電磁式計量器、音叉式計量器等を用いることができる。

制御手段４は、前述のとおり、受取手段３０の振動数及び／又は振幅を制御する機能を有する。また制御手段４は、計量装置５から送信された計量データを受信できるようになっている。更に制御手段４は、ホッパー２の貯蔵部２０上に設置されている粉体供給装置９０に接続されており、貯蔵部２０内への粉粒体Ｐの供給も制御する機能を有する。制御手段４としては、例えば制御・処理用ソフトウエアがインストールされたコンピュータを用いることができる。

粉粒体散布装置１を用いた散布の対象となる粉粒体Ｐとしては、例えば吸水性ポリマー粒子、砂糖、活性炭、小麦粉、ポリエチレンペレット、ポリプロピレンペレット、ポリエチレンテレフタレートチップ、ポリカーボネートチップ、ポリエチレングラニュール、ポリアクリル酸ブチルビーズ等の有機物の粉粒体や、金属粉、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、ガラス、石灰等の無機物の粉粒体が挙げられる。粉粒体Ｐの形状は特に制限されず、例えば、球状、碁石状、楕円形、楕円柱、針状、キュービック状等が挙げられる。粉粒体散布装置１によれば、粉粒体Ｐが真球状の場合は勿論のこと、真球状以外の形状であっても、基材１００の長手方向（すなわちＭＤ）及び／又はＣＤに均一に定量性良く散布することができる。

基材１００は、シート状の基材であることが好ましいが、シート状の基材に限られない。シート状の基材としては、各種製法による不織布、樹脂フィルム、織物、編み物、紙等、及びこれらのうちの同種又は異種のものを複数枚積層した積層体等が挙げられる。

粉粒体散布装置１は、連続搬送される基材に対し粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体の散布方法に好適に使用できる。
また粉粒体散布装置１は、基材と、該基材に接触するように配置された粉粒体とを備えた粉粒体含有物品の製造方法であって、連続搬送される基材に対し粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体含有物品の製造方法に好適に使用できる。粉粒体が何らかの機能性を有する機能性粉粒体である場合、該機能性粉粒体を含有する粉粒体含有物品は機能性物品である。前記機能性粉粒体の具体例として、吸水性ポリマーの粒子、塩化ナトリウム等の電解質が挙げられる。
粉粒体散布装置１によれば、基材が連続で高速搬送され、且つ該基材への単位面積当たりの散布量が多い機能性物品においても、基材の長手方向（すなわちＭＤ）及びＣＤに均一に定量良く散布することができる。散布量が多い機能性物品は、典型的には後述する吸収性シートである。

前記機能性物品の一例として、発熱体が挙げられる。例えば、連続搬送される基材に対し、粉粒体散布装置１を用いて、粉粒体として吸水性ポリマー又は電解質を散布することにより、シート状の発熱体（発熱シート）を製造できる。このように製造された発熱シートであれば、発熱ムラの少ない、優れた発熱特性を得られることが期待できる。斯かる発熱シートの製造方法において、基材としては、例えば、繊維シートと、該繊維シートの片面に付与され、被酸化性金属及び水を含む発熱組成物とを具備するものを用いることができ、その場合、該繊維シートにおける該発熱組成物が付与された面に粉粒体を散布する。

前記機能性物品の他の一例として、吸収体が挙げられる。例えば、連続搬送される紙や不織布等の繊維シート（基材）に対し、粉粒体散布装置１を用いて、粉粒体として吸水性ポリマーを散布することにより、繊維シートの一面に吸水性ポリマーが散布された構成のシート状の吸収体（吸収性シート）を製造できる。斯かる吸収性シートは、使い捨ておむつや生理用ナプキン等の吸収性物品における吸収体として好適である。

粉粒体散布装置１を用いて、連続搬送されるシート状の基材１００上に粉粒体Ｐを散布する場合には、ホッパー２における排出口２３を通じて該ホッパー２内に貯留されている粉粒体Ｐを自重により自由落下させ、搬送手段３の受取手段３０上に散布する。粉粒体Ｐの落下に連れてホッパー２内での粉粒体Ｐの貯留量は次第に減少してくる。ホッパー２内での粉粒体Ｐの量は、ホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体Ｐの全質量の形で計量装置５によって連続的に計量される。なお、以下の説明においては、簡便のため、ホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体Ｐの全質量のことを「ホッパー込み粉粒体質量」とも言う。ホッパー込み粉粒体質量Ａの連続計量に先立ち、粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー込み粉粒体質量Ａ_１を予め測定しておくことが好ましい。粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー込み粉粒体質量Ａ_１を予め測定しておくことで、ホッパー２から落下した粉粒体Ｐの重量Ａ_Ｐを、Ａ_１−Ａの計算から容易に算出することができる。

シート状の基材１００上に粉粒体Ｐを定量で安定的に散布するためには、搬送手段３における受取手段３０上に落下した粉粒体Ｐが、定量で基材１００上に散布されるように、受取手段３０の振幅や振動数を制御することが望ましい。受取手段３０の振幅や振動数は、振動発生手段３１によって制御される。振動発生手段３１による振動の制御は、具体的には以下の基準に従い行われることが好ましい。すなわち、ホッパー込み粉粒体質量Ａを連続的に測定し、ホッパー込み粉粒体質量Ａの単位時間当たりの変化量ΔＡを算出する。ΔＡは（Ａ_ａ−Ａ_ｂ）／ｔで定義される。Ａ_ａは、ある時刻でのホッパー込み粉粒体質量であり、Ａ_ｂは、時間ｔ経過後のホッパー込み粉粒体質量である。ΔＡは制御手段４において演算される。ホッパー２の質量は不変であるから、ΔＡは、ホッパー２内における粉粒体Ｐの質量の減少速度に等しい。制御手段４は、この質量減少速度ΔＡに応じて、搬送手段３の搬送能力を制御し、該搬送手段３によって基材１００上に散布される粉粒体Ｐの単位時間当たりの散布量Ｍ１を、単位時間当たりの目標散布量ｍに一致させる搬送能力制御操作を行う。搬送能力制御操作においては、例えばΔＡが目標散布量ｍよりも少ない場合には、搬送手段３の搬送能力を高めて散布量Ｍ１を増加させる操作を行う。逆に、ΔＡが目標散布量ｍよりも多い場合には、搬送手段３の搬送能力を低めて散布量Ｍ１を減少させる操作を行う。

このように、制御手段４は、ホッパー込み粉粒体質量Ａの単位時間（例えば１分間）当たりの変化量（質量減少速度）ΔＡを測定し、且つ搬送手段３による粉粒体Ｐの単位時間（例えば１分間）当たりの散布量（散布量の実測値）Ｍが、搬送手段３による粉粒体Ｐの単位時間（例えば１分間）当たりの散布量の目標値ｍと一致するように、該変化量ΔＡに応じて搬送手段３の搬送能力の制御を行う。
搬送手段３の搬送能力は、例えば振動発生手段３１の振動の振幅若しくは周波数又はそれら両者を制御することで変更が可能である。振動発生手段３１の制御には、例えばＰ制御（比例制御）、ＰＩ制御又はＰＩＤ制御などの公知のフィードバック制御方法を採用することができる。これらの各種の制御方法における係数は、トライアル・アンド・エラーによって決定することができる。

ホッパー込み粉粒体質量の質量減少速度ΔＡは、種々の方法で算出することができる。例えば所定時間ｔ（秒）毎にホッパー込み粉粒体質量を計量し、計量した該ホッパー込み粉粒体質量と、ｔ（秒）前に計量した該ホッパー込み粉粒体質量との差分を算出し、その値をｔ（秒）で除した値を質量減少速度ΔＡと定義することができる。ｔの値は１秒以上３００秒以下であることが好ましい。一例として、図５（ａ）に示すとおり、５秒ごとにホッパー込み粉粒体質量を測定し、最新の測定値と、５秒前の測定値との差分をとり、その差分を５秒で除すことで、質量減少速度ΔＡを算出できる。

別法として、所定時間ｓ（秒）毎にホッパー込み粉粒体質量を計量し、計量した該ホッパー込み粉粒体質量と、ｔ（秒）（ただしｓ≦ｔである。）前に計量した該ホッパー込み粉粒体質量との差分を算出し、その値をｔ（秒）で除した値を質量減少速度ΔＡと定義することもできる。ｓとｔとの関係は、ｔ／ｓの値が１以上３０００以下であることが好ましい。またｓの値は０．１秒以上１０秒以下であることが好ましい。ｔの値はｓの値よりも大きいことを条件として、１秒以上３００秒以下であることが好ましい。一例として、図５（ｂ）に示すとおり、１秒ごとにホッパー込み粉粒体質量を測定し、最新の測定値と、５秒前の測定値との差分をとり、その差分を５秒で除すことで、質量減少速度ΔＡを算出できる。

図５（ａ）に示す質量減少速度ΔＡの算出方法は、図５（ｂ）に示す質量減少速度ΔＡの算出方法よりも、制御手段４０における演算の負荷が小さいという利点を有する。一方、図５（ｂ）に示す質量減少速度ΔＡの算出方法は、図５（ａ）に示す質量減少速度ΔＡの算出方法よりも精密に質量減少速度ΔＡを算出できるという利点がある。

搬送手段３による粉粒体Ｐの１分間当たりの目標散布量ｍは、本発明の効果が顕著になる観点から、好ましくは１g／ｍｉｎ以上であり、より好ましくは５０g／ｍｉｎ以上、更に好ましくは１００ｇ／ｍｉｎ以上である。
また、ハンドリングのしやすさの観点から、好ましくは１０００００g／ｍｉｎ以下、より好ましくは１００００ｇ／ｍｉｎ以下、更に好ましくは５０００ｇ／ｍｉｎ以下である。
ところで、粉粒体散布装置１は、連続搬送される基材１００に対して粉粒体Ｐを高精度に定量散布可能にすることを主要課題の１つとしており、これを可能にするために、粉粒体散布装置１では下記(i)及び(ii)が採用されている。
(i)排出口２３におけるＭＤの最大長さをＤ、該排出口２３におけるＣＤの最大長さをＷとした場合、Ｗ／Ｄが１００以下である（Ｗ／Ｄ≦１００）。
(ii)排出口２３からの粉粒体Ｐの単位時間当たりの排出量、具体的には１分間当たりの排出量をＭ、搬送手段３による粉粒体Ｐの１分間当たりの散布量の目標値をｍとした場合、Ｍ／ｍが１．５以上である（Ｍ／ｍ≧１．５）。
前記Ｗ／Ｄ及び前記Ｍ／ｍの単位は、それぞれ、無次元である。

前記(i)に関し、排出部２１の下端に位置する排出口２３の平面視形状は、排出部２１内の移動路２２における粉粒体Ｐの流れに少なからず影響を及ぼす。本発明者の知見によれば、前記Ｗ／Ｄの値が比較的小さい、すなわち排出口２３の平面視形状が、ＣＤに短くＭＤに長く且つ両者の差が比較的小さいものであると、移動路２２において粉粒体Ｐにかかる外力（せん断力ないし摩擦力）を低減でき、移動路２２内での粉粒体Ｐの流れを均一にできる。斯かる傾向は、特に１分間当たりの目標散布量ｍが比較的多量の場合に顕著であり、前記Ｗ／Ｄの値が比較的大きい設定で基材１００に対して多量の粉粒体Ｐを散布しようとすると、基材１００のＣＤにおける粉粒体Ｐの散布量が不均一となる等の不都合が生じやすく、最悪の場合、移動路２２ないし排出口２３が粉粒体Ｐで閉塞されて排出不良を招くおそれがある。以上を考慮し、不都合の発生を防止するべく採用されたのが、前記の「Ｗ／Ｄ≦１００」の大小関係である。

前記Ｗ／Ｄは、少なくとも１００以下であり、好ましくは８０以下、より好ましくは４０以下である。また、前記Ｗ／Ｄの下限については、ＣＤにおける粉粒体Ｐの散布量を均一にする目的の観点から、好ましくは１以上、より好ましくは１０以上、更に好ましくは１３以上である。

本実施形態では、排出口２３は、平面視においてＣＤに長い形状をなしている。具体的には図３に示すように、排出口２３は長方形形状をなし、その長手方向がＣＤに一致している。つまり本実施形態では、前記Ｗ／Ｄが１を超えている。移動路２２の水平方向に沿う断面（横断面）の形状も、排出口２３の平面視形状と同じく長方形形状である。

排出口２３の最大長さＤ及びＷは、それぞれ、粉粒体Ｐの物性（粒子径、かさ密度等）、前記目標散布量ｍなどに応じて適宜調整すればよく、特に制限されない。例えば、最大粒子径ｒが１ｍｍ、かさ密度ρが１ｇ／ｃｍ^３の粉粒体Ｐを、１分間当たりの前記目標散布量ｍが１０〜１００ｇ／分となるように散布する場合、最大長さＤ及びＷは、それぞれ、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒを基準として、下記のように設定することができる。
排出口２３の最大長さＤと粉粒体Ｐの最大粒子径ｒとの比［Ｄ／ｒ］は、好ましくは２以上、より好ましくは６以上、そして、好ましくは３０以下、より好ましくは１８以下。
排出口２３の最大長さＷと粉粒体Ｐの最大粒子径ｒとの比［Ｗ／ｒ］は、好ましくは３以上、より好ましくは５０以上、そして、好ましくは１０００以下、より好ましくは２００以下である。
前記Ｄ／ｒ及び前記Ｗ／ｒの単位は、それぞれ、無次元である。

なお、移動路２２におけるＭＤの最大長さは、排出口２３の最大長さＤと同じに設定することができ、移動路２２におけるＣＤの最大長さは、排出口２３の最大長さＷと同じに設定することができる。

粉粒体Ｐの最大粒子径ｒは公知の方法により測定することができる。具体的には例えば、乾式篩法（ＪＩＳ Ｚ８８１５：１９９４）、動的光散乱法、レーザー回折法、遠心沈降法、重力沈降法、画像イメージング法、ＦＦＦ（フィールド・フロー・フラクショネーション）法、静電気検知体法、コールター法等が挙げられる。これらの中でも、レーザー回折法又はコールター法で測定した最大粒子径ｒを採用することが、再現性と精度の点から好ましい。対象とする粉粒体の粒子径が５ｍｍ程度以下であれば、レーザー回折法を用いて粉粒体の最大粒子径ｒを測定することが好ましい。

前記(ii)に関し、「Ｍ／ｍ≧１．５」という大小関係が成立するということは、単位時間（１分間）に粉粒体Ｐが排出口２３から自重による自由落下により排出される質量（排出量Ｍ）が、同単位時間（１分間）に搬送手段３から基材１００に対して散布されるべき粉粒体Ｐの質量（目標散布量ｍ）の１．５倍以上であることを意味する。
例えば、移動路２２内での粉粒体Ｐの流れが不均一になるなどして、排出口２３からの排出量Ｍが減少した場合に、前述したように、制御手段４による変化量ΔＡに応じた搬送手段３の搬送能力の制御を実施する。具体的には例えば、制御手段４による制御下で振動発生手段３１の振動の振幅及び／又は周波数を高めることで、基材１００に対する粉粒体Ｐの単位時間（１分間）当たりの散布量Ｍ１を増加させようとする。ここで、Ｍ／ｍ≧１．５の関係が成立している場合には、目標散布量ｍに対して十分に多量の粉粒体Ｐが搬送手段３に対して排出されるので、搬送手段３の搬送能力を制御するだけでも排出口２３からの排出量Ｍを調整するための時間的余裕が確保できる。前述したように、移動路２２内での粉粒体Ｐの流れが不均一になる現象は、特に目標散布量ｍが比較的多量の場合に起こりやすいので、Ｍ／ｍ≧１．５の大小関係の成立は、斯かる場合に特に有効であると言える。

前記Ｍ／ｍは、少なくとも１．５以上であり、好ましくは２以上、より好ましくは３以上である。また、前記Ｍ／ｍの上限については、移動路２２内での粉粒体Ｐの流れをより一層均一にする観点から、好ましくは８０以下、より好ましくは８以下である。

前記Ｍ／ｍの調整は、任意に設定される目標散布量ｍに対し、排出口２３からの粉粒体Ｐの単位時間（１分間）当たりの排出量Ｍを適宜調整することで実施でき、また、排出量Ｍの調整は、排出口２３の平面視形状及び寸法（最大長さＤ，Ｗ）を適宜調整することで実施できる。粉粒体Ｐは排出口２３から自重による自由落下によって排出されるので、その単位時間（１分間）当たりの排出量Ｍは、排出口２３の形状及び寸法に依るとことが大きいためである。

このように、前記(i)及び(ii)は何れも、粉粒体Ｐの単位時間（１分間）当たりの散布量（目標散布量ｍ）が比較的多い場合にも対応できるように採用されたもので、且つ排出口２３と密接に関連するものである。そうすると、前記(i)及び(ii)を満たすように排出口２３が構成されることにより、粉粒体Ｐの単位時間（１分間）当たりの散布量が比較的多い場合でも、基材１００に対して粉粒体ＰをＣＤに均一に定量性良く散布可能になることが期待できる。

本発明者が種々検討した結果、目標散布量ｍが比較的多い場合には、前記(i)及び(ii)に加え以下の(iii)を満たすことが好ましいことが判明した。すなわち、図４に示すように、排出口２３を搬送手段３（受取手段３０の上面３０ａ）に向けて仮想的に延長した場合に排出口２３と搬送手段３との間の隙間に形成される、排出口２３の仮想延長領域２３Ｖが、目標散布量ｍとの関係で特定範囲にあることが重要であることを知見した。
(iii)粉粒体Ｐのかさ密度をρ、排出口２３の面積をＳ、排出口２３と搬送手段３との離間距離をＧとした場合、ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が２１／ｍｉｎ以上である［ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）≧２０］。前記ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）の単位は［／ｍｉｎ］である。

前記(iii)に関し、ρ×Ｓ×Ｇは、仮想延長領域２３Ｖ（図４参照）の体積と同体積の粉粒体Ｐの質量に相当する。本発明者の知見によれば、仮想延長領域２３Ｖの体積が大きくなる、あるいは目標散布量ｍが小さくなると、粉粒体Ｐの基材１００に対する散布精度が低下する傾向がある。斯かる傾向を考慮し、種々検討した結果導き出されたのが、前記の「ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）≧２０」という大小関係である。ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が２１／ｍｉｎ以上であることにより、前記(i)及び(ii)との相乗効果によって本発明の所定の効果は奏される。すなわち、移動路２２における粉粒体Ｐの流れを定常流化し且つ粉粒体Ｐの流動性が向上するため、粉粒体Ｐの単位時間（１分間）当たりの散布量（目標散布量ｍ）が比較的多い場合でも、また、粉粒体Ｐが真球状ではない場合や粒度分布が比較的広い場合でも、粉粒体Ｐの詰まりが発生し難く、連続搬送される基材１００に対し、ＭＤ（基材１００の長手方向）及びＣＤ（基材１００の幅方向）の双方において、粉粒体Ｐを均一且つ高精度に定量散布し得る。

前記ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）は、少なくとも２１／ｍｉｎ以上であり、好ましくは３０／ｍｉｎ以上、より好ましくは５０／ｍｉｎ以上、更に好ましくは１００／ｍｉｎ以上である。また、前記ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）の上限については、搬送手段３上での粉粒体Ｐの流れをより一層均一にする観点から、好ましくは１０００／ｍｉｎ以下、より好ましくは８００／ｍｉｎ以下、更に好ましくは６５０／ｍｉｎ以下である。

粉粒体Ｐのかさ密度ρは公知の方法により測定することができる。本発明に係るかさ密度ρは、一定容積の容器内に粉粒体Ｐを充填し、該容器の内容積を粉粒体Ｐの充填体積としたときの密度である。利用可能な測定法の具体例として、例えばＪＩＳＺ２５０４:２０１２、ＪＩＳＺ２５１２：２０１２に準ずる測定法などがある。
前記ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）の調整は、任意に設定される目標散布量ｍ、固有値である粉粒体Ｐのかさ密度ρに対し、排出口２３の面積Ｓ及び／又は排出口２３と搬送手段３との離間距離Ｇを、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒを基準として適宜調整することで実施できる。
排出口２３の面積Ｓと粉粒体Ｐの最大粒子径ｒの二乗値との比［Ｓ／（ｒ×ｒ）］は、好ましくは４以上、より好ましくは１０００以上、そして、好ましくは５０００以下、より好ましくは１１００以下である。前記Ｓ／（ｒ×ｒ）の単位は無次元である。
離間距離Ｇと粉粒体Ｐの最大粒子径ｒとの比［Ｇ／ｒ］は、好ましくは１以上、より好ましくは３以上、更に好ましくは５以上、そして、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下である。前記Ｇ／ｒの単位は無次元である。

粉粒体Ｐの単位時間（１分間）当たりの散布量（目標散布量ｍ）が多くなると、移動路２２等のホッパー２の内部において粉粒体Ｐの流れが不均一になりやすい傾向があるところ、これはホッパー２内で粉粒体Ｐにかかる外力（せん断力ないし摩擦力）が増加することによるものと推察される。また、このホッパー２内で粉粒体Ｐにかかる外力はｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）と密接に関連する。よって、この「ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）」を適切に制御することで、前記(i)ないし(iii)を満たすことによる作用効果と相俟って、基材１００のＣＤに粉粒体Ｐを均一に定量性良く散布することをより一層確実に行うことが可能となる。前記ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）の単位は［ｍｍ^３／ｍｉｎ］である。
前記ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）の上限については、主として、粉粒体Ｐが移動路２２を画成する排出部２１の側壁の内面２１ｉに係留する不都合を防止することで、粉粒体Ｐの流れの均一化を図る観点から、好ましくは１０００００ｍｍ^３／ｍｉｎ以下、より好ましくは８００００ｍｍ^３／ｍｉｎ以下である。
前記ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）の下限については、主として、粉粒体Ｐの流れの乱れを防止することで、粉粒体Ｐの流れの均一化を図る観点から、好ましくは１５００ｍｍ^３／ｍｉｎ以上、より好ましくは３００００ｍｍ^３／ｍｉｎ以上である。
前記ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）の調整は、任意に設定される目標散布量ｍ、固有値である粉粒体Ｐのかさ密度ρに対し、排出口２３（移動路２２）におけるＭＤの最大長さＤを適宜調整することで実施できる。

基材１００のＣＤに均一に定量性良く粉粒体Ｐを散布する観点から、排出口２３におけるＭＤの最大長さＤの、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒ（図４参照）に対する比、すなわちＤ／ｒは、好ましくは２以上、より好ましくは６以上である。すなわち「２≦Ｄ／ｒ」が成立することが好ましい。斯かる構成により、排出口２３において粉粒体Ｐの詰まりが発生することを効果的に防止できる。また、前記Ｄ／ｒの上限については、移動路２２内での粉粒体Ｐの流れの均一化を図る目的の観点から、好ましくは３０倍以下、より好ましくは１５倍以下である。

基材１００のＣＤに均一に定量性良く粉粒体Ｐを散布する観点から、移動路２２は、粉粒体Ｐの排出方向の長さＨ（図２及び図３参照）が粉粒体Ｐの最大粒子径ｒの１倍以上である（１≦Ｈ／ｒ）ことも好ましい。斯かる構成により、移動路２２において粉粒体Ｐの詰まりが発生することを効果的に防止でき、基材１００に対して粉粒体ＰをＣＤに均一に定量性良く散布することができる。移動路２２の長さＨの、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒに対する比、すなわちＨ／ｒは、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上である。移動路２２の長さＨの上限値としては、粉粒体Ｐの流れの定常流化の観点からは制限されないが、装置の適正な大きさの観点から決定することができ、例えば、Ｈ／ｒの上限は１００以下であることが好ましい。

ホッパー２内における粉粒体Ｐの流れの定常流化及び流動性の更なる向上の観点から、ホッパー２における粉粒体Ｐと接触する内面の水平方向に対する角度θ１（図１参照）が、粉粒体Ｐの安息角θ（図４参照）以上であることが好ましい。なお、ホッパー２における粉粒体Ｐと接触する内面が、傾斜内面２０ｉｓの如き、水平方向及び鉛直方向の双方に交差する傾斜内面である場合、該内面の水平方向に対する角度θ１は、鋭角側の角度を指す。
本実施形態では、図３に示すように、ホッパー２（貯蔵部２０及び排出部２１）の側壁は、傾斜内面２０ｉｓを有する貯蔵部２０の傾斜側壁２０ｓ以外は全て、水平方向と直交する垂直方向（より具体的には鉛直方向）に延びる垂直壁であり、それら垂直壁の内面２０ｉ，２１ｉの水平方向に対する角度θ１は、９０°であって粉粒体Ｐの安息角θよりも大きく、また、傾斜内面２０ｉｓの水平方向に対する角度θ１は、粉粒体Ｐの安息角θと同じかそれよりも大きくなされている。
ホッパー２における粉粒体Ｐと接触する内面の水平方向に対する角度θ１と粉粒体Ｐの安息角θとの比は、θ１／θとして、好ましくは１．２以上、より好ましくは１．５以上である。θ１は、好ましくは１．２θ以上であって９０°以下、更に好ましくは１．５θ以上であって９０°以下である。

基材１００に対する粉粒体Ｐの散布精度を安定的に向上させる観点から、図４に示すとおり、排出口２３の中心を通って垂直方向（鉛直方向）に延びる仮想直線ＶＬと搬送手段３（受取手段３０の上面３０ａ）との交点２３Ａは、離間距離Ｇ、粉粒体Ｐの安息角θとの関係において、搬送手段３におけるＭＤの下流側端３ＤＥからＧ／ｔａｎθ以上１５Ｇ以下の範囲に位置していることが好ましい。換言すれば、搬送手段３（受取手段３０）の下流側端３ＤＥと交点２３Ａとの離間距離Ｌは、Ｇ／ｔａｎθ以上１５Ｇ以下であることが好ましい。斯かる離間距離Ｌが短いほど、粉粒体Ｐの散布精度の点で好ましいが、離間距離Ｌが短すぎると、排出口２３から排出された粉粒体Ｐが、搬送手段３と接触せずに直接その下方に位置する基材１００に散布されてしまうおそれがあり、散布精度の安定的な向上を却って阻害するおそれがある。離間距離Ｌは、Ｇ／ｔａｎθ以上１０Ｇ以下であることが更に好ましい。

図６には、本発明の粉粒体散布装置の他の実施形態の要部が示されている。後述する他の実施形態については、前記粉粒体散布装置１と異なる構成部分を主として説明し、同様の構成部分は同一の符号を付して説明を省略する。特に説明しない構成部分は、前記粉粒体散布装置１についての説明が適宜適用される。

図６に示す粉粒体散布装置１Ａ，１Ｂは、それぞれ搬送手段が、前記粉粒体散布装置１と異なる。
図６（ａ）に示す粉粒体散布装置１Ａにおける搬送手段３Ａは、ホッパー２の排出口２３の下方に配置され、回転軸周りに回転する円筒状の搬送ロール３２を含んで構成されており、排出口２３から排出された粉粒体Ｐを搬送ロール３２の外周面で受け取り、その受け取り位置から搬送ロール３２の回転により、搬送ロール３２の下方に位置する基材（図示せず）に向けて落下させて該基材に散布するようになされている。
図６（ｂ）に示す粉粒体散布装置１Ｂにおける搬送手段３Ｂは、駆動ロール３３及び従動ロール３４に架け渡された無端状の搬送ベルト３５を含んで構成されており、排出口２３から排出された粉粒体Ｐを搬送ベルト３５で受け取り、その受け取り位置から搬送ベルト３５の移動により、搬送ベルト３５の下方に位置する基材（図示せず）に向けて落下させて該基材に散布するようになされている。

以上、本発明をその好ましい実施形態に基づき説明したが、本発明は前記実施形態に何ら制限されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、ホッパー２の排出部２１における排出口２３の平面視形状は、図３に示す如き長方形形状に限定されず、円形、楕円形、多角形形状等、任意に設定可能であり、例えば、図７（ａ）に示す如き長楕円形状、あるいは、図７（ｂ）に示す如き一方向に長い五角形以上の多角形形状とすることができる。尤も、前述したように、排出口２３の平面視形状は、ＣＤの最大長さがＭＤの最大長さよりも長いような、「一方向に長い形状」であることが好ましく、図示の排出口２３の何れもその具体例である。
また、排出口２３がＣＤに複数の区画に分割され、排出部２１が該複数の区画に１対１で対応する複数の移動路２２を有していてもよく、その場合、複数の移動路２２（排出口２３）それぞれにおいて、前述の移動路２２に関する説明が適用される。
前述した本発明の実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。

＜１＞
内部に粉粒体を一時的に貯蔵可能な貯蔵部、該貯蔵部内の粉粒体を排出する排出口、及び、該貯蔵部と該排出口との間を結ぶ粉粒体用移動路を備えたホッパーと、該排出口に対して所定の離間距離を置いて配置され、該排出口から自重による自由落下により排出された粉粒体を所定の一方向に搬送し、連続搬送される基材上に散布する搬送手段とを備えた粉粒体散布装置であって、
前記排出口における前記搬送手段による粉粒体の搬送方向の最大長さをＤ、該排出口における該搬送方向と直交する方向の最大長さをＷとした場合、Ｗ／Ｄが１００以下であり、
前記排出口からの粉粒体の１分間当たりの排出量をＭ、前記搬送手段による粉粒体の１分間当たりの散布量の目標値をｍとした場合、Ｍ／ｍが１．５以上であり、
粉粒体のかさ密度をρ、前記排出口の面積をＳ、前記排出口と前記搬送手段との離間距離をＧとした場合、ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が２１／ｍｉｎ以上である、粉粒体散布装置。
＜２＞
前記Ｗ／Ｄが、８０以下、好ましくは４０以下である、前記＜１＞に記載の粉粒体散布装置。
＜３＞
前記Ｗ／Ｄが、１以上、好ましくは１０以上である、前記＜１＞又は＜２＞に記載の粉粒体散布装置。
＜４＞
前記ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が、３０／ｍｉｎ以上、好ましくは５０／ｍｉｎ以上、より好ましくは１００／ｍｉｎ以上である、前記＜１＞〜＜３＞の何れか1項に記載の粉粒体散布装置。
＜５＞
前記ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が、１０００／ｍｉｎ以下、好ましくは８００／ｍｉｎ以下、より好ましくは６５０／ｍｉｎ以下である、前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜６＞
前記Ｍ／ｍが８０以下であり、好ましくは８以下である、前記＜１＞〜＜５＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜７＞
前記Ｍ／ｍが２以上、好ましくは３以上である、前記＜１＞〜＜６＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜８＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）が１０００００ｍｍ^３／ｍｉｎ以下、好ましくは８００００ｍｍ^３／ｍｉｎ以下である、前記＜１＞〜＜７＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜９＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、前記ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）が１５００ｍｍ^３／ｍｉｎ以上、好ましくは３００００ｍｍ^３／ｍｉｎ以上である、前記＜１＞〜＜８＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。

＜１０＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｄ／ｒが、２以上、好ましくは６以上である、前記＜１＞〜＜９＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１１＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｄ／ｒが、３０以下、好ましくは１８以下である、前記＜１＞〜＜１０＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１２＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｗ／ｒが、３以上、好ましくは５０以上である、前記＜１＞〜＜１１＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１３＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｗ／ｒが、１０００以下、好ましくは２００以下である、前記＜１＞〜＜１２＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１４＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｓ／（ｒ×ｒ）が、４以上、好ましくは１０００以上である、前記＜１＞〜＜１３＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１５＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｓ／（ｒ×ｒ）が、５０００以下、好ましくは１１００以下である、前記＜１＞〜＜１４＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１６＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｇ／ｒが、１以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上である、前記＜１＞〜＜１５＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１７＞
粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、Ｇ／ｒが、２０以下、好ましくは１０以下である、前記＜１＞〜＜１６＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１８＞
前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵される粉粒体の全質量を連続して計量する計量装置と、該全質量の単位時間当たりの変化量を測定し、且つ前記搬送手段による粉粒体の単位時間当たりの散布量が前記目標値ｍと一致するように、該変化量に応じて該搬送手段の搬送能力の制御を行う制御手段とを備えた、前記＜１＞〜＜１７＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜１９＞
前記搬送手段は、前記ホッパーから排出された粉粒体を受け取る受取手段と、該受取手段を振動させる振動発生手段とを含む、前記＜１＞〜＜１８＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜２０＞
前記振動発生手段は、前記受取手段の粉粒体非接触部における下面に固定されている、前記＜１９＞に記載の粉粒体散布装置。
＜２１＞
前記制御手段は、前記振動発生手段に印加する電圧及び／又は周波数を制御する、前記＜１９＞又は＜２０＞に記載の粉粒体散布装置。
＜２２＞
前記計量装置が粉粒体の全質量を連続して計量するとは、計量データのサンプリングタイムが０秒超１秒以下であることを言う、前記＜１８＞〜＜２１＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
＜２３＞
前記制御手段は、前記ホッパーの前記貯蔵部上に設置されている粉体供給装置に接続されており、該貯蔵部内への粉粒体の供給も制御する機能を有する、前記＜１８＞〜＜２２＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。

＜２４＞
連続搬送される基材に対し、前記＜１＞〜＜２３＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置を用いて、粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体の散布方法。
＜２５＞
前記ｍが、１g／ｍｉｎ以上、好ましくは５０g／ｍｉｎ以上、より好ましくは１００ｇ／ｍｉｎ以上である、前記＜２４＞に記載の粉粒体の散布方法。
＜２６＞
前記ｍが、１０００００g／ｍｉｎ以下、好ましくは１００００ｇ／ｍｉｎ以下、より好ましくは５０００ｇ／ｍｉｎ以下である、前記＜２４＞又は＜２５＞に記載の粉粒体の散布方法。

＜２７＞
基材と、該基材に接触するように配置された粉粒体とを備えた粉粒体含有物品の製造方法であって、
連続搬送される基材に対し、前記＜１＞〜＜２３＞の何れか１項に記載の粉粒体散布装置を用いて、粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体含有物品の製造方法。
＜２８＞
前記粉粒体が吸水性ポリマー又は電解質である、前記＜２７＞に記載の粉粒体含有物品の製造方法。
＜２９＞
前記ｍが、１g／ｍｉｎ以上、好ましくは５０g／ｍｉｎ以上、より好ましくは１００ｇ／ｍｉｎ以上である、前記＜２７＞又は＜２８＞に記載の粉粒体含有物品の製造方法。
＜３０＞
前記ｍが、１０００００g／ｍｉｎ以下、好ましくは１００００ｇ／ｍｉｎ以下、より好ましくは５０００ｇ／ｍｉｎ以下である、前記＜２７＞〜＜２９＞に記載の粉粒体含有物品の製造方法。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は斯かる実施例に限定されるものではない。

〔実施例１〜４及び比較例１〜３〕
前述した粉粒体散布装置１と同様の基本構成を有する粉粒体散布装置を使用し、一方向に連続搬送される基材上に粉粒体（吸水性ポリマー粒子）を散布した。使用した粉粒体散布装置におけるホッパーは、内側壁を含め、その内外面全体がステンレス鋼で形成されていた。粉粒体の最大粒子径ｒは、動的光散乱法によって測定し、測定装置として、株式会社堀場製作所製レーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ９５０Ｖ２を用いた。
粉粒体散布装置による基材への粉粒体の散布工程を約５０時間連続して行い、該散布工程中におけるホッパーの排出口の詰まり（移動路内での粉粒体の係留等）の有無を評価した。また、計量装置により、粉粒体の供給精度を評価した。これらの評価結果を、使用した粉粒体散布装置の各部の寸法、散布した粉粒体の物性値等とともに、下記表１に示す。

前記の「散布工程中におけるホッパーの排出口の詰まりの有無」は、目視で確認した。
前記の「粉粒体の供給精度」の評価指標として、標準偏差に加えて、変動係数（Coefficient of Variation：ＣＶ）を用いた。変動係数は下記式（１）によって算出される。
変動係数（％）＝（標準偏差／粉粒体の平均散布量）×１００ …（１）
標準偏差、変動係数ともに、数値が小さいほど、粉粒体の単位時間（１分間）当たりの散布量のばらつきが小さく、高評価となる。特に変動係数は、データの規模（平均）に左右されない指標であり、変動係数の値が小さいほど好ましいと言える。

また、表１中の「操作量範囲」は下記式（２）によって算出される。
操作量範囲（ｇ／ｍｉｎ／％）＝ 粉粒体の単位時間（１分間）当たりの散布量（ｇ）／搬送手段出力）・・・（２）
前記式（２）中、「搬送手段出力」は、本実施例では搬送手段に構成されている振動発生手段の出力値を表す。例えば振動発生手段が電圧値の大きさに比例して振動の大きさを制御する装置とした場合、搬送手段出力 ＝ （出力電圧値／最大電圧値）×１００となる。「操作量範囲」は、散布量の調整範囲の指標となるもので、操作量範囲の値が小さいほど、散布量を調整できる範囲が広く、高評価となる。

実施例１は、比較例４と比して、また実施例２は比較例３と比して、それぞれ目標散布量ｍが同じであるが、供給精度の評価指標である標準偏差と変動係数が小さく供給精度が良いことは明らかである。すなわちｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）≧２１の大小関係が供給精度に関して有効であることが分かる。
実施例２は、比較例１と比して目標散布量ｍが同じであり、標準偏差と変動係数はほぼ同等であるが、Ｗ／Ｄ≦１００の大小関係が排出部の詰まりに関して有効であることが分かる。
また実施例２は、比較例２と比して目標散布量ｍが同じであり、Ｗ／Ｄ≦１００の大小関係は満たしているが、Ｍ／ｍ≧１．５の大小関係が目標散布量の達成に有効であることが分かる。
実施例３は、実施例１と比してそれぞれＷ／Ｄ≦１００、Ｍ／ｍ≧１．５、ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）≧２０２１／ｍｉｎという、３つの大小関係をすべて満たしているため排出口の詰まりがないことが分かり、さらに変動係数は小さいことから目標散布量ｍが大きい方が本発明の定量性良く散布する効果が高いことが分かる。さらに操作量範囲も実施例３の方が小さいため、目標散布量ｍの調整範囲が大きく有利であることは明らかである。

１，１Ａ，１Ｂ 粉粒体散布装置
２ ホッパー
２０ 貯蔵部
２１ 排出部
２２ 移動路
２３ 排出口
２３Ｖ 排出口の仮想延長領域
３，３Ａ，３Ｂ 搬送手段
３０ 受取手段
３１ 振動発生手段
３２ 搬送ロール
３３ 駆動ロール
３４ 従動ロール
３５ 搬送ベルト
４ 制御手段
５ 計量装置
１００ 基材
Ｐ 粉粒体
ＭＤ 搬送手段による粉粒体の搬送方向
ＣＤ 粉粒体の搬送方向と直交する方向

Claims (8)

1. 内部に粉粒体を一時的に貯蔵可能な貯蔵部、該貯蔵部内の粉粒体を排出する排出口、及び、該貯蔵部と該排出口との間を結ぶ粉粒体用移動路を備えたホッパーと、該排出口に対して所定の離間距離を置いて配置され、該排出口から自重による自由落下により排出された粉粒体を所定の一方向に搬送し、連続搬送される基材上に散布する搬送手段とを備えた粉粒体散布装置であって、
   前記排出口における前記搬送手段による粉粒体の搬送方向の最大長さをＤ、該排出口における該搬送方向と直交する方向の最大長さをＷとした場合、Ｗ／Ｄが１００以下であり、
   前記排出口からの粉粒体の１分間当たりの排出量をＭ、前記搬送手段による粉粒体の１分間当たりの散布量の目標値をｍとした場合、Ｍ／ｍが１．５以上であり、
   粉粒体のかさ密度をρ、前記排出口の面積をＳ、前記排出口と前記搬送手段との離間距離をＧとした場合、ｍ／（ρ×Ｓ×Ｇ）が２１／ｍｉｎ以上である、粉粒体散布装置。
2. 前記Ｍ／ｍが８０以下である、請求項１に記載の粉粒体散布装置。
3. 粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）が１０００００ｍｍ^３／ｍｉｎ以下である、請求項１又は２に記載の粉粒体散布装置。
4. 粉粒体の最大粒子径をｒとした場合、ｍ／（ρ×（Ｄ／ｒ）^２）が１５００ｍｍ^３／ｍｉｎ以上である、請求項１〜３の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
5. 前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵される粉粒体の全質量を連続して計量する計量装置と、該全質量の単位時間当たりの変化量を測定し、且つ前記搬送手段による粉粒体の単位時間当たりの散布量が前記目標値ｍと一致するように、該変化量に応じて該搬送手段の搬送能力の制御を行う制御手段とを備えた、請求項１〜４の何れか１項に記載の粉粒体散布装置。
6. 連続搬送される基材に対し、請求項１〜５の何れか１項に記載の粉粒体散布装置を用いて、粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体の散布方法。
7. 基材と、該基材に接触するように配置された粉粒体とを備えた粉粒体含有物品の製造方法であって、
   連続搬送される基材に対し、請求項１〜５の何れか１項に記載の粉粒体散布装置を用いて、粉粒体を散布する工程を有する、粉粒体含有物品の製造方法。
8. 前記粉粒体が吸水性ポリマー又は電解質である、請求項７に記載の粉粒体含有物品の製造方法。

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