TWI682884B

TWI682884B - 粉粒體散布裝置及粉粒體之散布方法、以及含粉粒體物品之製造方法

Info

Publication number: TWI682884B
Application number: TW105132153A
Authority: TW
Inventors: 真鍋良輔; 小林英男; 中澤知大; 大塚和俊
Original assignee: 日商花王股份有限公司
Priority date: 2015-10-06
Filing date: 2016-10-05
Publication date: 2020-01-21
Also published as: TW201726515A; CN108137243B; CN108137243A

Abstract

粉粒體散布裝置(1)包括：料斗(2)，其具備可於內部暫時儲存粉粒體(P)之儲存部(20)、排出粉粒體(P)之排出口(23)、及將儲存部(20)與排出口(23)之間連結之粉粒體用移動路(22)；及搬送器件(3)，其係相對於排出口(23)隔開間隙(G)而配置，且將自排出口(23)排出之粉粒體(P)沿特定之一方向(X)搬送而散布於連續搬送之基材(100)上。排出口(23)於俯視時，呈與搬送方向(X)正交之方向上之長度大於該搬送方向(X)上之長度之形狀。移動路(22)係搬送方向(X)上之最大寬度(D)為粉粒體(P)之最大粒徑之2倍以上且未達5倍，且其於該粉粒體(P)被排出之方向上之長度(H)為粉粒體(P)之最大粒徑之1倍以上。間隙(G)為粉粒體(P)之最大粒徑之1倍以上。

Description

粉粒體散布裝置及粉粒體之散布方法、以及含粉粒體物品之製造方法

本發明係關於一種粉粒體散布裝置及使用其之粉粒體之散布方法。又，本發明係關於一種功能性物品等含粉粒體物品之製造方法。

於各種製品之製造中，迫切希望對連續搬送之基材均勻地散布粉粒體。關於目的在於因應該迫切希望之技術，例如於專利文獻1中揭示有：於包含可於內部暫時儲存粉粒體之料斗，且可將自該料斗排出之粉粒體散布於連續搬送之基材上之粉粒體散布裝置中，於該料斗之下方，配置用以將自該料斗排出之粉粒體沿水平方向搬送之螺旋輸送帶，且於該螺旋輸送帶之大致下方，配置用以將該粉粒體沿垂直方向搬送之轉子，且於該轉子之下方，配置用以將該粉粒體以逐粒沿垂直方向整齊排列之狀態排出之間隙調節機構。

於專利文獻2中，提出有如下之粉粒體定量供給搬出裝置：其包括：供給裝置，其收容粉粒體；搬出裝置，其接收且搬送粉粒體；接續器件，其將粉粒體無停滯地導引至搬出裝置；計量裝置，其連續計量包含所收容之粉粒體在內之供給裝置之總重量；及控制裝置，其根據計量裝置之計量值，以使供給裝置中之每單位時間之減少量△B與每單位時間之希望搬出量△B1一致之方式控制搬出裝置之搬出能力。

於專利文獻3中，記載有如下之粉體散布裝置：其具備：料斗；旋轉給料器，其係配設於料斗內，且藉由旋轉驅動而使料斗內之粉體材料向下方落下；皮帶給料器，其接收並搬送自料斗落下之粉體材料；搬送量調整器，其隔開間隙而配設於皮帶給料器之上方，調整通過該間隙之粉體材料之搬送量；及刮落轉子，其一面與搬送至皮帶給料器之下游側端部之粉體材料接觸一面進行旋轉驅動，藉此將該粉體材料刮落而散布至下方。

於專利文獻4中，提出有如下之方法：其係於連續搬送之基材上散布粉粒體之方法，自暫時儲存粉粒體之供給部藉由螺桿給料器而連續運出粉粒體，使運出之粉粒體落下而以振動搬送部接收，一面藉由該振動搬送部所具備之振動體之振動而使粉粒體分散一面進行搬送，自振動搬送部之散布口使粉粒體連續散布於基材上。於該方法中，連續計量供給部及螺桿給料器及存在於該等內部之粉粒體之總質量，基於該計量所得之複數個計量值，螺桿控制部計算出粉粒體之每單位時間之減少量，且螺桿控制部以使該計算出之減少量與每單位時間之目標排出量一致之方式控制螺桿給料器之螺桿轉數。又，當連續計量之值低於供給部、螺桿給料器及存在於該等內部之粉粒體合計之合計質量之目標下限量時，粉粒體供給量控制部對供給部供給控制粉粒體直至成為目標上限量。

如上所述，於將粉粒體定量地散布於被散布物(連續搬送之基材)之情形時，存在使用料斗之情形。通常，料斗於上端包含可自上方朝向內部投入粉粒體之上部開口，並且於下端包含可將所投入之粉粒體向下方排出之排出口，且具有自上方朝向下方而內徑變窄之內表面。作為關於料斗之先前技術，例如於專利文獻5中，記載有：於在對被散布物定量地散布粉粒體之定量給料器裝置中使用料斗供給粉粒體之情形時，會因其重量壓力而導致粉粒體之流動性變化，而使粉粒體之散布精度降低，為了解決這一問題，而於料斗與定量給料器裝置之間，介置具有較料斗之排出口徑直徑更細之部分之內管，將該內管之下端之排出口插入定量給料器裝置內之粉粒體之堆積物。

又，於專利文獻6中，記載有：於暫時儲存於料斗內之粒狀造粒體之量較少之狀態下，自料斗之上部開口追加投入粒狀造粒體之情形時，由於粒狀造粒體之落下高度較高，因此粒狀造粒體會因落下衝擊而產生潰散，為了解決這一問題，而於料斗內配置分散板，該分散板接收所投入之粒狀造粒體而使其等朝向料斗之傾斜之內表面分散並落下。又，於專利文獻7中，記載有：即便將經粒度調整之粉粒體投入料斗，亦會於料斗內經時性地產生粒度構成之偏差，結果瓷磚等製品之品質會產生偏差，為了解決這一問題，而於料斗之上部開口設置阻止自上方投入之粉粒體於料斗內之中央成為凸起狀之阻流器件。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開平6-92433號公報

[專利文獻2]日本專利特開平11-153473號公報

[專利文獻3]日本專利特開2007-98285號公報

[專利文獻4]日本專利特開2013-139337號公報

[專利文獻5]日本專利特開2014-144781號公報

[專利文獻6]日本專利特開2003-63589號公報

[專利文獻7]日本專利特開2001-206552號公報

本發明(裝置之第1發明)係一種粉粒體散布裝置，其包括：料斗，其具備可於內部暫時儲存粉粒體之儲存部、將該儲存部內之該粉粒體排出之排出口、及將該儲存部與該排出口之間連結之粉粒體用移動路；及搬送器件，其相對於該排出口隔開間隙而配置，且將自該排出口排出之上述粉粒體沿特定之一方向搬送並散布於連續搬送之基材上。上述排出口於俯視時呈與上述粉粒體藉由上述搬送器件之搬送方向正交之方向上之長度大於該搬送方向上之長度的形狀。上述移動路於上述搬送方向上之最大寬度為上述粉粒體之最大粒徑之2倍以上且未達5倍，且其於該粉粒體被排出之方向上之長度為該粉粒體之最大粒徑之1倍以上。上述粉粒體散布裝置中，上述間隙為上述粉粒體之最大粒徑之1倍以上。

上述本發明(裝置之第1發明)之粉粒體散布裝置之一實施形態包括：計量裝置，其連續計量上述料斗及該料斗內所儲存之上述粉粒體之總重量；及控制器件，其測定上述總重量之每單位時間之變化量，且以使藉由上述搬送器件而散布之上述粉粒體之每單位時間之散布量與每單位時間之目標散布量一致之方式，根據該變化量而進行上述搬送器件之搬送能力之控制，並且與該控制獨立地，進行當該總重量低於臨限值時，對上述料斗內補充上述粉粒體直至該總重量成為初始設定重量的控制。

又，於上述本發明(裝置之第1發明)之粉粒體散布裝置之一實施形態中，上述控制器件係以如下方式構成：於對上述料斗補充上述粉粒體期間，使上述搬送器件之搬送能力之控制暫停，並且將控制暫停中之該搬送器件之搬送能力保持為控制即將暫停前之搬送能力。

又，本發明(方法之第1發明)係一種粉粒體之散布方法，其使用如上述本發明(裝置之第1發明)之粉粒體散布裝置，將上述粉粒體散布於連續搬送之基材上。

上述本發明(方法之第1發明)之粉粒體之散布方法之一實施形態包括藉由上述搬送器件，將自上述料斗排出之上述粉粒體沿特定之一方向搬送並散布的步驟。進行如下之粉粒體補充操作：連續計量上述料斗及該料斗內所儲存之上述粉粒體之總重量，當該總重量低於臨限值時，對該料斗內補充該粉粒體直至該總重量成為初始設定重量。與上述粉粒體補充操作獨立地，進行如下之搬送能力控制操作：測定上述總重量之每單位時間之變化量，根據該變化量而控制上述搬送器件之搬送能力，藉此使藉由該搬送器件而散布之上述粉粒體之每單位時間之散布量與每單位時間之目標散布量一致。於進行上述粉粒體補充操作期間，使上述搬送能力控制操作暫停，將上述搬送器件之搬送能力保持為該搬送能力控制操作即將暫停前之搬送能力。

又，本發明係一種粉粒體物品之製造方法，其包含：藉由如上述本發明(方法之第1發明)之粉粒體之散布方法而將上述粉粒體散布於連續搬送之基材上。

又，本發明係一種含粉粒體物品之製造方法，其藉由搬送器件而將自料斗排出之粉粒體沿特定之一方向搬送並散布於散布對象物，藉此製造包含該粉粒體之物品。進行如下之粉粒體補充操作：連續計量上述料斗及該料斗內所儲存之上述粉粒體之總重量，當該總重量低於臨限值時，對該料斗內補充該粉粒體直至該總重量成為初始設定重量。進行如下之搬送能力控制操作：與上述粉粒體補充操作獨立地測定上述總重量之每單位時間之變化量，根據該變化量而控制上述搬送器件之搬送能力，藉此使藉由該搬送器件而散布之上述粉粒體之每單位時間之散布量與每單位時間之目標散布量一致。於進行上述粉粒體補充操作期間，使上述搬送能力控制操作暫停，將上述搬送器件之搬送能力保持為該搬送能力控制操作即將暫停前之搬送能力。

又，本發明係一種功能性物品之製造方法，其包含藉由如上述本發明(方法之第1發明)之粉粒體之散布方法，將作為上述粉粒體之吸水性聚合物或電解質散布於基材上的步驟。

又，於在具有自上部開口朝向下端之排出口而內徑變窄之內表面之料斗內形成有粉粒體堆積物的狀態下，一面對該粉粒體堆積物上供給粉粒體，一面自該排出口排出粉粒體，於該情形時，粉粒體對該粉粒體堆積物之供給會對粉粒體自該排出口之排出量產生影響，本發明者等人著眼於上述影響，主要基於排除該影響之觀點，為了解決提供一種可於被散布物上以較高之散布精度定量散布粉粒體的粉粒體之散布方法這一課題，而進行了各種研究，結果獲得如下見解：藉由以使因對粉粒體堆積物上供給粉粒體而形成之「粉粒體之山」存在於就與該排出口及料斗之傾斜之內表面之關係而言適當之位置的方式，控制粉粒體之供給位置較為有效。

本發明(方法之第2發明)係基於上述見解而完成者，係一種粉粒體之散布方法，其自供給部對其下方之料斗供給粉粒體，並自該料斗之下端之排出口將粉粒體排出而散布於被散布物上。上述料斗包含可暫時儲存自上述供給部供給之粉粒體之儲存部，該儲存部具有相對於鉛垂方向傾斜之傾斜面作為劃分形成粉粒體之儲存空間之內表面。上述粉粒體之散布方法包含粉粒體排出步驟：於在上述儲存部內暫時儲存有粉粒體而形成有粉粒體堆積物之狀態下，一面自上述供給部對該粉粒體堆積物上供給粉粒體而形成、維持粉粒體之山，一面自上述排出口排出粉粒體。於上述粉粒體排出步驟中，以使上述粉粒體堆積物上之上述粉粒體之山與上述排出口之延長區域不重疊且與上述傾斜面不接觸之方式，控制粉粒體自上述供給部之供給。

又，本發明係一種功能性片材之製造方法，其包含使用如上述本發明(方法之第2發明)之粉粒體之散布方法，於作為上述被散布物之基材上散布上述粉粒體之步驟。

又，本發明(裝置之第2發明)係一種粉粒體散布裝置，其包括：粉粒體之供給部；及料斗，其配置於該供給部之下方，且將自該供給部供給之粉粒體自下端之排出口排出。上述料斗包含可暫時儲存自上述供給部供給之粉粒體之儲存部，該儲存部具有相對於鉛垂方向傾斜之傾斜面作為劃分形成粉粒體之儲存空間之內表面。於在上述儲存部內暫時儲存有粉粒體而形成有粉粒體堆積物之狀態下，一面自上述供給部對該粉粒體堆積物上供給粉粒體而形成、維持粉粒體之山，一面自上述排出口排出粉粒體，於該情形時，以使該粉粒體堆積物上之該粉粒體之山與該排出口之延長區域不重疊且與上述傾斜面不接觸之方式自該供給部供給粉粒體。

1‧‧‧粉粒體散布裝置

1A‧‧‧粉粒體散布裝置

1B‧‧‧粉粒體散布裝置

1C‧‧‧粉粒體散布裝置

2‧‧‧料斗

2a‧‧‧上部開口

2b‧‧‧排出口

3‧‧‧搬送器件

3A‧‧‧搬送器件

3B‧‧‧搬送器件

3DE‧‧‧下游側端

4‧‧‧底板

5‧‧‧支持構件

20‧‧‧儲存部

20A‧‧‧傾斜面

20B‧‧‧傾斜面對向面

20C‧‧‧內側面

20s‧‧‧傾斜側壁

20i‧‧‧內側壁

20is‧‧‧傾斜內側壁

21‧‧‧排出部

21i‧‧‧內側壁

22‧‧‧移動路

23‧‧‧排出口

23A‧‧‧交點

30‧‧‧接收器件

30a‧‧‧上表面

30b‧‧‧下表面

31‧‧‧振動產生器件

32‧‧‧搬送輥

33‧‧‧驅動輥

34‧‧‧從動輥

35‧‧‧搬送皮帶

40‧‧‧控制部

50‧‧‧計量裝置

90‧‧‧粉體供給裝置

90A‧‧‧供給部

100‧‧‧基材

101‧‧‧接著劑

210‧‧‧內表面

D‧‧‧長度

G‧‧‧間隙

H‧‧‧長度

L‧‧‧分開距離

P‧‧‧粉粒體

P0‧‧‧粉粒體之山

P1‧‧‧粉粒體堆積物

P1a‧‧‧上表面

S‧‧‧延長區域

T‧‧‧料斗上部寬度

VL‧‧‧假想直線

W‧‧‧長度

W1‧‧‧長度

W2‧‧‧分開距離

X‧‧‧搬送方向

X‧‧‧供給位置

X1‧‧‧搬送方向

X2‧‧‧反方向

Y‧‧‧寬度方向(垂直方向)

Z‧‧‧鉛垂方向

d‧‧‧粉粒體供給寬度

h‧‧‧粉粒體供給高度

r‧‧‧最大粒徑

θ‧‧‧靜止角

圖1係模式性地表示本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置之一實施形態之側視圖。

圖2係模式性地表示自藉由搬送器件之粉粒體之搬送方向之下游側觀察圖1所示之粉粒體散布裝置之情況的前視圖。

圖3係圖1所示之粉粒體散布裝置中之料斗之立體圖。

圖4係模式性地表示圖1所示之粉粒體散布裝置中之排出口及其附近之側視圖。

圖5(a)及圖5(b)係分別模式性地表示本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置之另一實施形態之主要部分(搬送器件)之側視圖。

圖6(a)及圖6(b)係分別模式性地表示本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置之排出口之俯視圖。

圖7係模式性地表示本發明(第1發明)所使用之粉粒體散布裝置之又一實施形態之側視圖。

圖8係模式性地表示自藉由搬送器件之粉粒體之搬送方向之下游側觀察圖7所示之粉粒體散布裝置之情況的前視圖。

圖9(a)及圖9(b)係分別對基於料斗及該料斗內所儲存之粉粒體之總重量之測量值，計算出該總重量之每單位時間之變化量之方法進行說明的圖。

圖10係表示料斗及該料斗內所儲存之粉粒體之總重量之測量值之經時變化、該總重量之每單位時間之變化量、及基於該變化量之振動產生器件之振幅之變化之程度的圖表。

圖11係模式性地表示本發明(第2發明)之粉粒體之散布方法中能夠使用之粉粒體散布裝置之一實施形態之側視圖。

圖12係圖11所示之粉粒體散布裝置中之料斗之立體圖。

圖13係作為本發明(第2發明)之粉粒體之散布方法之一實施形態的、使用圖11所示之粉粒體散布裝置之粉粒體之散布方法之主要部分之說明圖。

圖14係模式性地表示圖11所示之粉粒體散布裝置中之排出口及其附近之側視圖。

圖15係模式性地表示本發明(第2發明)之粉粒體之散布方法中能夠使用之粉粒體散布裝置之另一實施形態之主要部分(供給部及料斗)的立體圖。

圖16係表示使用本發明(第1發明)之範圍內之實施例1之粉粒體散布裝置而散布粉粒體時之散布定量性之圖表。

圖17係表示使用本發明(第1發明)之範圍內之實施例2之粉粒體散布裝置而散布粉粒體時之散布定量性之圖表。

圖18係表示使用本發明(第1發明)之範圍內之實施例3之粉粒體散布裝置而散布粉粒體時之散布定量性之圖表。

圖19係表示使用本發明(第1發明)之範圍內之實施例4之粉粒體散布裝置而散布粉粒體時之散布定量性之圖表。

圖20係表示使用本發明(第1發明)之範圍內之實施例5之粉粒體散布裝置而散布粉粒體時之散布定量性之圖表。

圖21係表示使用本發明(第1發明)之範圍外之比較例1之粉粒體散布裝置而散布粉粒體時之散布定量性之圖表。

圖22係表示使用本發明(第1發明)之範圍外之比較例2之粉粒體散布裝置而散布粉粒體時之散布定量性之圖表。

圖23係表示本發明(第1發明)之範圍內之實施例A1中進行之粉粒體之散布中之實測散布量之經時變化之圖表。

圖24係表示本發明(第1發明)之範圍外之比較例A1中進行之粉粒體之散布中之實測散布量之經時變化之圖表。

圖25係就本發明(第2發明)表示實施例及參考例之散布定量性之圖表。

專利文獻1所記載之粉粒體散布裝置於即將對連續搬送之基材散布粉粒體前，使多個粉粒體沿垂直方向整齊排列，自該粉粒體之列對基材逐粒散布，因此此種散布機構可應用者限定於粉粒體為真球狀且粒度分佈較小之情形。於使用專利文獻1所記載之粉粒體散布裝置散布非真球狀之粉粒體或粒度分佈較大之粉粒體之情形時，有難以使粉粒體沿垂直方向整齊排列，而於裝置內產生粉粒體之堵塞等，無法定量性良好地散布粉粒體之虞。

因此，本發明之課題(第1發明之一課題)係關於提供一種可對連續搬送之基材，沿該基材之寬度方向均勻且定量性良好地散布粉粒體的粉粒體散布裝置。

且說，根據經驗，已知於使料斗等供給裝置內所貯存之粉粒體自該料斗之下部自然落下之情形時，存在根據料斗內所貯存之粉粒體之量而落下量產生差之情形。因此，為了使粉粒體之落下量始終固定，而始終監視料斗內之粉粒體之質量，以使料斗內之粉粒體之質量成為固定之方式連續進行粉粒體向料斗內之供給即可。然而，一面對料斗內連續供給粉粒體一面連續測定料斗內之粉粒體之質量存在自質量計量機器之制約上而言並非容易的情形。尤其於落下量為少量之情形時，為了以高精度控制該落下量，而必須嚴密地管理料斗內所貯存之粉粒體之質量，且嚴密地管理落下量。

因此本發明之課題(第1發明之另一課題)係關於提供一種可使料斗等供給裝置內所貯存之粉粒體之散布量固定的方法及裝置。

且說，於將粉粒體自料斗之上部開口供給並自下端之排出口定量地排出之情形時，存在如下問題：若於在料斗內暫時儲存粉粒體而形成有粉粒體堆積物之狀態下，對該粉粒體堆積物上供給粉粒體，則會因該新供給之粉粒體之落下之衝擊而產生料斗內之粉壓變動，從而導致粉粒體自排出口之排出量變動。專利文獻6及7所記載之技術係藉由於料斗內設置使自上部開口供給之粉粒體分散於料斗之內表面側之「傘」，而緩和因粉粒體直接落下至粉粒體堆積物上而產生之衝擊，但該技術由於無法保持料斗內之粉粒體堆積物之上表面均勻，因此有料斗內之粉粒體之流動變得不均勻之虞，無法有效地防止粉粒體之排出量之變動。又，考慮對料斗賦予振動，而保持料斗內之粉粒體堆積物之上表面均勻之方法，但該方法有引起料斗內之分級或壓密之虞。

因此，本發明之課題(第2發明之課題)係關於提供一種可對被散布物上以較高之散布精度定量散布粉粒體的粉粒體之散布方法。

以下，對於本發明(第1發明)，基於其較佳之實施形態，一面參照圖式一面進行說明。於圖1~圖4中，表示作為本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置之一實施形態的粉粒體散布裝置1。粉粒體散布裝置1包括：料斗2，其可於內部暫時儲存粉粒體P；及搬送器件3，其將自料斗2排出之粉粒體P沿圖中符號X所示之特定之一方向搬送，並散布於連續搬送之基材100上。基材100例如可如圖1所示般藉由搬送輥、或帶式輸送機等公知之搬送裝置而進行連續搬送。再者，基材100及其搬送裝置並非構成粉粒體散布裝置1者。

如圖1所示，料斗2係藉由立設於底板4上之支持構件5而固定於同樣固定於底板4上之搬送器件3(接收器件30)之上方位置。

如圖1所示，料斗2於側視時、即自與粉粒體P藉由搬送器件3之搬送方向X正交之方向觀察之情形時，係包含呈上底較下底更長之梯形形狀之儲存部20、連接於該儲存部20之下端且於該側視時呈長方形形狀之長方體形狀之排出部21而構成。儲存部20於內部具有可儲存粉粒體P之空間，可於該內部空間暫時儲存粉粒體P。粉粒體P係藉由粉體供給裝置90而自儲存部20之上部開口被供給至儲存部20之內部空間。排出部21於內部具有粉粒體P之移動路22，且於排出部21之下端(與儲存部20側為相反側之端部)，形成有粉粒體P之排出口23，儲存部20之內部空間與排出口23係經由移動路22而連通。料斗2藉由該構成可經由移動路22而自排出口23排出暫時儲存於內部之粉粒體P。

對料斗2進行詳細敍述。於本實施形態中，如圖1及圖3所示，劃分形成儲存部20之內部空間之內側壁20i之一部分為與沿水平方向及垂直方向之兩方向交叉之方向延伸的傾斜內側壁20is，內側壁20i之其餘部分均為沿與水平方向正交之垂直方向延伸之垂直壁。更具體而言，如圖3所示，儲存粉粒體P之儲存部20之內部空間係以4塊內側壁20i、20is劃分形成，各內側壁20i、20is分別與劃分形成粉粒體P之移動路22之內側壁21i相連，因此該4塊內側壁20i、20is中，除位於搬送方向X之最下游側或最上游側之1塊內側壁20is以外，剩餘3塊內側壁20i均為沿垂直方向延伸之垂直壁。藉由使料斗2具有此種構造，而當粉粒體P之集合體自儲存部20流入排出部21時，抑制該集合體之與流動方向正交之方向之中央部分較周圍部分流動速度更快，因此有利於粉粒體P之均勻散布。

又，於排出部21中，如圖1及圖3所示，劃分形成粉粒體P之移動路22之內側壁21i均為沿與水平方向正交之垂直方向延伸之垂直壁。換言之，作為排出部21之內部空間之移動路22為具有自與該排出部21之儲存部20之連接部側端部朝向排出口23，相對於搬送方向X及與搬送方向X正交之方向Y之任一者均具有相同長度的長方體形狀。因此，於本實施形態之料斗2中，如圖3所示，就搬送方向X而言，儲存部20之上底之長度較排出口23之長度更長，就與搬送方向X正交之方向Y而言，儲存部20之上底之長度與排出口23之長度相同。料斗2藉由該構造而容易自排出口23穩定地定量排出粉粒體P。

如圖1所示，搬送器件3係包含接收自料斗2排出之粉粒體P之接收器件30、及使接收器件30振動之振動產生器件31而構成。搬送器件3係相對於位於料斗2之下端之排出口23隔開間隙G而配置，更具體而言，係以於接收器件30之上表面30a、即接收自料斗2排出之粉粒體P並搬送之面30a與排出口23之間形成特定之間隙G之方式配置。振動產生器件31係固定於接收器件30之下表面30b。於接收器件30中，粉粒體P之接收及搬送所利用(與粉粒體P接觸)者係位於料斗2(排出口23)之下方之部分及其附近，除此以外之部分基本上係不與粉粒體P接觸之粉粒體非接觸部，因此振動產生器件31固定於接收器件30之該粉粒體非接觸部中之下表面30b。

搬送器件3藉由使振動產生器件31作動以使接收器件30振動，而可沿特定之方向搬送接收器件30上之粉粒體P。粉粒體散布裝置1具備控制對振動產生器件31施加之電壓及頻率之振動控制部(未圖示)，藉由該振動控制部而控制接收器件30之振動數及振幅，進而控制接收器件30上之粉粒體P之搬送狀態。即，於藉由上述振動控制部之控制下，於振動產生器件31非動作時，接收器件30不振動，因此接收器件30上之粉粒體P之搬送停止或被抑制，當自該狀態使振動產生器件31作動時，接收器件30開始振動，藉此解除接收器件30上之粉粒體P之停止或抑制，粉粒體P沿圖中符號X所示之方向被搬送，最終如圖1及圖2所示，自接收器件30之搬送方向X之前端部落下，散布於在接收器件30之下方連續搬送之基材100上。

作為接收器件30，自將藉由振動產生器件31而產生之振動適當地傳遞至接收器件30上之粉粒體P之觀點而言，較佳為平板狀者，更具體而言，較佳為如圖1所示般扁平之平板構件。包含該平板構件之接收器件30之材質並無特別限制，例如可列舉鐵、不鏽鋼、鋁、塑膠等。

又，亦可於接收器件30之沿搬送方向X之側緣部，設置自上表面30a朝向上方(料斗2側)立設之導引構件。藉由於接收器件30設置此種導引構件，而可更確實地藉由接收器件30接收自料斗2之排出口23排出之粉粒體 P，並且於將所接收之粉粒體P散布於基材100之前，可更確實地於上表面30a上保持粉粒體P使其不會自接收器件30之上表面30a撒落，因此避免自搬送方向X以外之意外之方向散布粉粒體P之不良情況，確實地自接收器件30之搬送方向X之前端部對基材100均勻地散布粉粒體P。

作為振動產生器件31，只要為可產生可沿所期望之一方向搬送接收器件30上之粉粒體P之振動成分者即可，例如可列舉壓電陶瓷等壓電元件、振動給料器等公知之振動產生器件。其中，振動給料器較佳使用振動產生器件31。又，振動產生器件31之振動數並無特別限制，自粉粒體之搬送性以及散布之均勻性及定量性等觀點而言，較佳為50Hz以上，進而較佳為100Hz以上，而且，較佳為500Hz以下，進而較佳為300Hz以下，更具體而言，較佳為50~500Hz，進而較佳為100~300Hz。

本實施形態之粉粒體散布裝置1之主要課題在於：對於連續搬送之基材100，沿該基材100之寬度方向(與基材100之搬送方向正交之方向，圖中符號Y所示之方向)均勻性優異且定量性良好地散布粉粒體P，為了解決該課題而採用下述(1)~(4)。

(1)排出口23於俯視(與粉粒體P之排出方向正交之方向之剖面觀察)時，呈與粉粒體P藉由搬送器件3之搬送方向X正交之方向(寬度方向Y)上之長度W(參照圖3)較搬送方向X上之長度D更長(參照圖1、圖3及圖4)的形狀。

(2)移動路22於搬送方向X上之最大寬度D為粉粒體P之最大粒徑r(參照圖4)之2倍以上且未達5倍(2≦D/r<5)。

(3)移動路22於粉粒體P之排出方向上之長度H(參照圖2及圖3)為粉粒體P之最大粒徑r之1倍以上(r≦H)。

(4)間隙G(參照圖1、圖2及圖4)為粉粒體P之最大粒徑r之1倍以上(r≦ G)。

粉粒體P之最大粒徑r可藉由公知之方法測定，具體而言，例如可列舉乾式篩法(JIS Z8815-1994)、動態光散射法、雷射繞射法、離心沈澱法、重力沈澱法、圖像成像法、FFF(場流份化)法、靜電偵測體法、庫爾特法等。該等中，自再現性與精度方面而言較佳為採用以雷射繞射法或庫爾特法測定之最大粒徑r。尤其，於對象粉粒體之形狀為不定形之情形時、或粉粒體之粒徑為5mm左右以下之情形時，較佳為使用雷射繞射法測定粉粒體之最大粒徑r。

關於上述(1)，位於排出部21之下端之排出口23之俯視形狀會對排出部21內之移動路22中之粉粒體P之流動產生較大影響。根據本發明者等人之見解，若排出口23之俯視形狀為長方形形狀或與其相仿之形狀、即「一方向較長之形狀」，則與正圓形狀或正方形形狀之情形相比，移動路22中之粉粒體P之流動容易穩定流化，從而有助於解決上述課題。上述(1)係基於該見解而採用者，於排出口23中，「寬度方向Y上之長度W>搬送方向X上之長度D」之大小關係成立。長度W與長度D之比，以W/D計較佳為2以上，進而較佳為5以上，而且，較佳為1000以下，進而較佳為100以下，更具體而言，較佳為2~1000，進而較佳為5~100。再者，長度W意為排出口23於寬度方向Y上之最大長度。

關於上述(2)，若移動路22之最大寬度D未達粉粒體P之最大粒徑r之2倍，則有於移動路22中產生粉粒體P之堵塞之虞，又，若移動路22之最大寬度D為粉粒體P之最大粒徑r之5倍以上，則難以使移動路22中之粉粒體P之流動穩定流化，無法對基材100沿寬度方向Y均勻且定量性良好地散布粉粒體P。移動路22之最大寬度D以粉粒體P之最大粒徑r為基準較佳為3倍以上且未達4倍。

關於上述(3)，若移動路22之長度H未達粉粒體P之最大粒徑r之1倍，則有於移動路22內無法使粉粒體P之流動穩定流化之虞，無法對基材100沿寬度方向Y均勻且定量性良好地散布粉粒體P。移動路22之長度H以粉粒體P之最大粒徑r為基準，較佳為5倍以上，進而較佳為10倍以上。作為移動路22之長度H之上限值，自粉粒體P之流動之穩定流化之觀點而言並無限制，可基於裝置之適當之大小之觀點決定，例如較佳為粉粒體P之最大粒徑r之100倍以下。

關於上述(4)，若料斗2(排出部21)之排出口23與搬送器件3(接收器件30)之上表面之間隙G小於粉粒體P之最大粒徑r之1倍，則有於間隙G中產生粉粒體P之堵塞之虞，無法對基材100沿寬度方向Y均勻且定量性良好地散布粉粒體P。關於該點，即便設置粉粒體P之平均粒徑以上之間隙G，於使粉粒體散布裝置1長時間運轉之情形時，亦有可能產生於排出口23與搬送器件3之間產生堵塞等不良情況，因此不適合於要進行大量生產之製品之製造。間隙G以粉粒體P之最大粒徑r為基準，較佳為1.5倍以上，進而較佳為2倍以上，而且，較佳為10倍以下，進而較佳為5倍以下，更具體而言，較佳為1.5倍以上且10倍以下，進而較佳為2倍以上且5倍以下。若間隙G為粉粒體P之最大粒徑r之10倍以下，則容易保持粉粒體P之排出速度固定。尤其，於搬送器件3具備振動產生器件31之情形時，雖可藉由振動產生器件31之振幅或振動數而控制粉粒體P之排出量，但若間隙G為最大粒徑r之10倍以下，則容易控制自料斗2之排出口23排出之粉粒體P之排出量，因此較佳。

又，基於進一步提昇料斗2內之粉粒體P之流動之穩定流化及流動性之觀點，除具備上述(1)~(4)以外，進而較佳為料斗2中之與粉粒體P接觸之內表面相對於水平方向之角度為粉粒體P之靜止角θ(參照圖4)以上。於本實施形態中，料斗2之側壁除儲存部20之傾斜側壁20s(參照圖1及圖2)以外，均為沿與水平方向正交之垂直方向延伸之垂直壁，該等垂直壁之內表面相對於水平方向之角度為90°，大於粉粒體P之靜止角θ，又，儲存部20之傾斜側壁20s之內表面相對於水平方向之角度設為與粉粒體P之靜止角θ相同或較其更大。於將「料斗中之與粉粒體接觸之內表面相對於水平方向之角度」設為θ1之情形時，θ1與粉粒體之靜止角θ之比，以θ1/θ計較佳為1.2以上，進而較佳為1.5以上。又，θ1較佳為1.2θ以上且為90°以下，進而較佳為1.5θ以上且為90°以下。

又，自穩定地提昇粉粒體P對基材100之散布精度之觀點而言，除具備上述(1)~(4)以外，進而較佳為參照圖4，通過排出口23之中心且沿垂直方向延伸之假想直線VL與搬送器件3(接收器件30之上表面30a)之交點23A於與間隙G、及粉粒體P之靜止角θ之關係中，位於搬送器件3中之搬送方向X之距離下游側端3DE為G/tanθ以上且15G以下之範圍內。換言之，搬送器件3(接收器件30)之下游側端3DE與交點23A之分開距離L較佳為G/tanθ以上且15G以下。自粉粒體P之散布精度之方面而言，該分開距離L越短越好，但若分開距離L過短，則有自排出口23排出之粉粒體P不與搬送器件3接觸或粉粒體P之靜止角崩壞而直接散布於位於其下方之基材100之虞，從而有反而阻礙散布精度之穩定提昇之虞。分開距離L進而較佳為G/tanθ以上且10G以下。

作為粉粒體P，可列舉吸水性聚合物粒子、砂糖、活性碳、小麥粉、PE(Polyethylene，聚乙烯)顆粒、PP(Polypropylene，聚丙烯)顆粒、PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)碎片、 PC(Polycarbonate，聚碳酸酯)碎片、PE小粒、PBA(Polybutyl Acrylate，聚丙烯酸丁酯)珠粒等有機物之粉粒體、或金屬粉、氯化鈉、氯化鉀、氯化鈣、氯化鎂、玻璃、石灰等無機物之粉粒體。粉粒體P之形狀並無特別限制，例如可列舉球狀、棋子狀、橢圓形、橢圓柱、針狀、立方體狀等。根據粉粒體散布裝置1，無論於粉粒體P為真球狀之情形時，或為真球狀以外之形狀，均可沿基材100之寬度方向Y均勻且定量性良好地散布。

作為與粉粒體P接觸之料斗2之內側壁20i、20is、21i之素材，較佳為不易使粉粒體P附著之素材。例如，作為粉粒體，於使用氯化鈉等具有潮解性者、或如吸水性聚合物般因吸水而發生改性之材料之情形時，較佳為使用熱導係數相對較低之素材作為料斗2之內側壁。較佳為以熱導率計，使用於進行粉粒體之散布之作業時之溫度下為25W/m‧K以下者。其原因在於：藉由將熱導係數較低之材料用作料斗2之內側壁，而容易防止料斗2內之結露。又，作為料斗2之內側壁之素材，亦可選擇熱導係數較位於與該內側壁為相反側且構成料斗2之外表面之外側壁更低的素材等。於將此種熱導係數相對較低之內側壁採用於料斗2之情形時，尤其於使用吸水性聚合物作為粉粒體之情形時，亦不易產生吸水性聚合物因吸水而膨脹、或表現出黏著性而互相黏連的不良情況，因此自更確實地產生下述本發明(第1發明)之效果之觀點而言較佳。又，作為料斗2之內側壁20之素材，較佳為不易因粉粒體產生腐蝕者，具體而言，例如可列舉不鏽鋼、玻璃、氧化鋯、氮化矽等陶瓷材料等。進而，例如於將如樹脂粉體之非導電性材料、且可能因粉粒體P彼此之間或粉粒體P與內側壁20i、20is、21i之接觸而產生靜電之材料用作粉粒體P的情形時，較理想為使用具有導電性之素材作為料斗2之內側壁20i、20is、21i。其原因在於：藉由將具有導電性之材料用作料斗之內側壁，而可防止產生靜電。作為此種材料，例如可列舉如不鏽鋼、鋁、銅之金屬材料、及如導電性陶瓷、導電性樹脂之賦予有導電性之材料等。

又，作為料斗2之內側壁20i、20is、21i，較佳為具有如使粉粒體P順利地流出排出口23之表面性狀。因此，料斗2之內側壁較佳為表面平滑、且動摩擦係數較低。尤其較佳為內側壁中沿與水平方向及垂直方向之兩方向交叉之方向延伸的傾斜內側壁20is為此種性狀。具體而言，料斗2之內側壁20i、20is、21i之表面粗糙度(Ra)以依照JIS B 0601-2001測定之值計為10μm以下，尤其較佳為1μm以下。

基材100較佳為片狀之基材，但並不限定於片狀之基材。作為片狀之基材，可列舉藉由各種製法製造之不織布、樹脂膜、梭織物、編織物、紙等、及積層該等中之相同種類或不同種類者複數片而成之積層體等。

又，作為基材100，可列舉於片狀之材料之上積層具有功能性之材料或組合物而成者。例如，可將於膜或不織布等片狀材料之上塗佈包含被氧化性金屬及水之發熱組合物等而配置而成者設為基材100。作為此種形態之例，作為「使用本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置將粉粒體散布於連續搬送之片狀基材上的粉粒體之散布方法」之一例，可列舉藉由於製造包含被氧化性金屬之粒子及水之發熱片材時，於連續搬送之包含纖維片材之片狀基材上，散布高吸水性聚合物之粒子、金屬粒子、固形電解質等之1種或2種以上，形成發熱組合物之方法所製造之基材。藉由使用本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置，將氯化鈉等電解質或吸水性聚合物等粉粒體散布於該基材100之發熱組合物之層而可獲得以均勻之狀態配置有該等粉粒體之發熱體。若為此種發熱體，則可期待獲得發熱不均較少之優異之發熱特性。再者，本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置及粉粒體之散布方法較佳用於發熱體之製造方法，亦可應用於其他功能性片材之製造方法。例如，可於連續搬送之包含纖維片材之片狀基材上散布高吸水性聚合物之粒子而製造吸水性片材。

又，於因基材100包含含有水分之組合物等，而散布於該基材100上之粉粒體自剛散布後起便難以於該基材100上移動的情形時，自排出口23進行均勻之粉粒體散布較為重要。自該觀點而言，本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置非常有用。

於圖5中，表示本發明(第1發明)之粉粒體散布裝置之另一實施形態之主要部分。對於下述另一實施形態，主要對與上述粉粒體散布裝置1不同之構成部分進行說明，對相同之構成部分標註相同符號並省略說明。特別地，未說明之構成部分適當應用對上述粉粒體散布裝置1進行之說明。

圖5所示之粉粒體散布裝置1A、1B與上述粉粒體散布裝置1之不同之處分別在於搬送器件。

圖5(a)所示之粉粒體散布裝置1A中之搬送器件3A係包含配置於料斗2之排出口23之下方且繞旋轉軸旋轉之圓筒狀之搬送輥32而構成，以搬送輥32之外周面接收自排出口23排出之粉粒體P，並藉由搬送輥32之旋轉而使其自該接收位置朝向位於搬送輥32之下方之基材(未圖示)落下而散布於該基材。

圖5(b)所示之粉粒體散布裝置1B中之搬送器件3B係包含架設於驅動輥33及從動輥34之環狀之搬送皮帶35而構成，以搬送皮帶35接收自排出口23排出之粉粒體P，並藉由搬送皮帶35之移動而使其自該接收位置朝向位於搬送皮帶35之下方之基材(未圖示)落下而散布於該基材。

本發明(第1發明)不受上述實施形態限制，可進行適當變更。

料斗2之排出部22中之排出口23之俯視形狀並不限定於如圖3所示之長方形形狀，可任意設定為圓形、橢圓形、多邊形形狀等，例如，可設為如圖6(a)所示之長橢圓形狀、或如圖6(b)所示之一方向長之五邊形以上之多邊形形狀。特別地，如上所述，排出口23之俯視形狀較佳為與粉粒體P藉由搬送器件3之搬送方向X正交之寬度方向Y上之長度大於搬送方向X上之長度的「一方向較長之形狀」，圖3及圖6所示之排出口23係其具體例。

又，亦可為排出口23沿寬度方向Y被分割為複數個區塊，且排出部21具有與該複數個區塊1對1地對應之複數個移動路22，於該情形時，對複數個移動路22(排出口23)之各者採用上述(2)~(4)。

以下，對於本發明(第1發明)之又一實施形態，一面參照圖式，一面進行說明。首先，對於本發明(第1發明)之又一實施形態之粉粒體之散布方法所使用之較佳之散布裝置之一實施形態，一面參照圖7一面進行說明。再者，對於圖7所示之粉粒體散布裝置1C，主要對與上述粉粒體散布裝置1(參照圖1)不同之構成部分進行說明，對相同之構成部分標註相同符號並省略說明。粉粒體散布裝置1C中之未特別說明之構成部分適當應用對於粉粒體散布裝置1之說明。

圖7所示之粉粒體散布裝置1C係較佳用於製造含粉粒體物品者，其將自料斗排出之粉粒體藉由搬送器件而沿特定之一方向搬送並散布於散布對象物，藉此製造包含該粉粒體之物品。粉粒體散布裝置1C包括：料斗2，其可於內部暫時儲存粉粒體P；及搬送器件3，其將自料斗2排出之粉粒體P沿圖中符號X所示之特定之一方向(搬送方向)搬送，並散布於連續搬送之基材100上。料斗2位於搬送器件3(接收器件30)之上方位置。基材100例如可藉由如圖7所示之搬送輥、或帶式輸送機等公知之搬送裝置而進行連續搬送。再者，基材100及其搬送裝置並非構成粉粒體散布裝置1C者。

搬送器件3藉由使振動產生器件31作動以使接收器件30振動，而可沿特定之方向搬送接收器件30上之粉粒體P。粉粒體散布裝置1C包括控制對振動產生器件31施加之電壓及頻率之控制部40，藉由該控制部40，而控制接收器件30之振動數及/或振幅，進而控制接收器件30上之粉粒體P之搬送狀態。即，於控制部40之控制下，於振動產生器件31之非動作時，接收器件30不振動，接收器件30上之粉粒體P之搬送停止或被抑制。當自該狀態使振動產生器件31作動時，接收器件30開始振動，藉此解除接收器件30上之粉粒體P之停止或抑制，粉粒體P沿圖中符號X所示之方向(搬送方向)被搬送，最終如圖7及圖8所示，自接收器件30之端部落下，而散布於在接收器件30之下方連續搬送之基材100上。

自將藉由振動產生器件31而產生之振動適當地傳遞至接收器件30上之粉粒體P之觀點而言，接收器件30較佳為平板狀，更具體而言，較佳為如圖7所示之扁平之平板構件。進而，自相對於接收器件30之搬送方向X自前端部均勻地散布自排出口23排出之粉粒體P的觀點而言，為了防止來自搬送方向X以外之散布，亦可於接收器件30之側面設置導件。該包含平板構件之接收器件30之材質並無特別限制，例如可列舉各種塑膠或各種金屬等。

於料斗2安裝有計量裝置50。作為計量裝置50，使用可連續計量料斗2及料斗2內所儲存之粉粒體P之總重量者。可連續計量係指計量資料之取樣時間為1秒以下。藉由計量裝置50而計量之料斗2及料斗2內所儲存之粉粒體P之總重量之計量資料於每當獲取資料時，發送至上述控制部40。作為計量裝置50之具體例，可列舉電式計量器，具體而言可使用荷重元式計量器或電磁式計量器、音叉式計量器等。

如上所述，控制部40具有控制接收器件30之振動數及/或振幅之功能。又，控制部40可接收自計量裝置50發送之計量資料。進而，控制部40係連接於設置於料斗2之儲存部20上之粉體供給裝置90，具有亦控制粉粒體P對儲存部20內之供給之功能。作為控制部40，例如可使用安裝有控制、處理用軟體之電腦。

作為成為使用粉粒體散布裝置1C之散布對象之粉粒體P，例如可列舉吸水性聚合物粒子、砂糖、活性碳、小麥粉、聚乙烯顆粒、聚丙烯顆粒、聚對苯二甲酸乙二酯碎片、聚碳酸酯碎片、聚乙烯小粒、聚丙烯酸丁酯珠粒等有機物之粉粒體、或金屬粉、氯化鈉、氯化鉀、氯化鈣、氯化鎂、玻璃、石灰等無機物之粉粒體。粉粒體P之形狀並無特別限制，例如可列舉球狀、棋子狀、橢圓形、橢圓柱、針狀、立方體狀等。根據粉粒體散布裝置1C，無論於粉粒體P為真球狀之情形時，或為真球狀以外之形狀，均可沿基材100之長度方向(即搬送方向X)及/或寬度方向Y均勻且定量性良好地散布。

作為使用粉粒體散布裝置1C，於連續搬送之片狀之基材上散布粉粒體之粉粒體之散布方法之一例，可列舉如下方法：於製造被氧化性金屬之粒子、及包含水之發熱片材時，於連續搬送之包含纖維片材之片狀基材上，散布高吸水性聚合物之粒子、金屬粒子、固形之電解質等而形成發熱組合物。於該發熱組合物之層，藉由使用本發明之粉粒體散布裝置散布氯化鈉等電解質或吸水性聚合物等粉粒體，而可獲得以均勻之狀態配置有該等粉粒體之發熱體。若為此種發熱體，則可期待獲得發熱不均較少之優異之發熱特性。再者，本發明(第1發明)之裝置及粉粒體之散布方法較佳用於發熱體之製造方法，亦可應用於其他功能性片材之製造方法。

於使用粉粒體散布裝置1C，於連續搬送之片狀基材100上散布粉粒體 P之情形時，使該料斗2內所貯存之粉粒體P通過料斗2中之排出口23落下而散布於搬送器件3之接收器件30上。伴隨粉粒體P之落下而料斗2內之粉粒體P之貯存量逐漸減少。料斗2內之粉粒體P之量係以料斗2及料斗2內所儲存之粉粒體P之總重量之形式藉由計量裝置50而連續計量。再者，於以下說明中，為了方便，將料斗2及料斗2內所儲存之粉粒體P之總重量亦稱為「含料斗之粉粒體重量」。較佳為於連續計量含料斗之粉粒體重量A前，預先測定粉粒體P之填充滿狀態之含料斗之粉粒體重量A₁。藉由預先測定粉粒體P之填充滿狀態下之含料斗之粉粒體重量A₁，而可根據A₁-A之計算而容易地計算出自料斗2落下之粉粒體P之重量A_P。

為了於片狀基材100上定量且穩定地散布粉粒體P，而較理想為以落下至搬送器件3中之接收器件30上之粉粒體P係以定量散布於基材100上的方式，控制接收器件30之振幅或振動數。接收器件30之振幅或振動數係藉由振動產生器件31而控制。具體而言，振動藉由振動產生器件31之控制係依照以下基準進行。即，連續測定含料斗之粉粒體重量A，計算出含料斗之粉粒體重量A之每單位時間之變化量△A。△A係以(A_a-A_b)/t定義。A_a為某時刻之含料斗之粉粒體重量，A_b為經過時間t後之含料斗之粉粒體重量。△A係於控制部40中進行運算。由於料斗2之重量不變，因此△A等於料斗2內之粉粒體P之重量之減少速度。根據該重量減少速度△A，控制搬送器件3之搬送能力，進行搬送能力控制操作：使藉由該搬送器件3而散布於基材100上之粉粒體P之每單位時間之散布量△S與每單位時間之目標散布量△S_t一致。於搬送能力控制操作中，例如於△A少於△S_t之情形時，進行提高搬送器件3之搬送能力而使散布量△S增加之操作。相反地，於△A多於△S_t之情形時，進行降低搬送器件3之搬送能力而使散布量△S減少之操作。

搬送器件3之搬送能力例如可藉由控制振動產生器件31之振動之振幅或頻率或該等兩者而變更。振動產生器件31之控制可採用例如P控制(比例控制)、PI控制(Proportional-Integral Control，比例積分控制)或PID控制(Proportional-Integral-Derivative Control，比例積分微分控制)等公知之係數控制方法。該等各種控制方法中之係數可藉由試誤法決定。

含料斗之粉粒體重量之重量減少速度△A可藉由各種方法計算。例如可每隔特定時間t(秒)計量含料斗之粉粒體重量，計算出所計量之該含料斗之粉粒體重量與t(秒)前計量之該含料斗之粉粒體重量之差量，將以該值除以t(秒)所得之值定義為重量減少速度△A。t之值較佳為1秒以上且300秒以下。作為一例，如圖9(a)所示，每隔5秒測定含料斗之粉粒體重量，取最新測定值與5秒前之測定值之差量，以該差量除以5秒，藉此可計算出重量減少速度△A。

作為另一方法，亦可每隔特定時間s(秒)計量含料斗之粉粒體重量，計算出所計量之該含料斗之粉粒體重量與t(秒)(惟s<t)前計量之該含料斗之粉粒體重量之差量，將以該值除以t(秒)所得之值定義為重量減少速度△A。s與t之關係較佳為t/s之值為1以上且3000以下。又，s之值較佳為0.1秒以上且10秒以下。以t之值大於s之值為條件，較佳為1秒以上且300秒以下。作為一例，如圖9(b)所示，每秒測定含料斗之粉粒體重量，取最新之測定值與5秒前之測定值之差量，以該差量除以5秒，藉此可計算出重量減少速度△A。

圖9(a)所示之重量減少速度△A之計算出方法具有與圖9(b)所示之重量減少速度△A之計算出方法相比，控制部40中之運算之負荷較小之優點。另一方面，圖9(b)所示之重量減少速度△A之計算出方法具有與圖9(a)所示之重量減少速度△A之計算出方法相比，可精密地計算出重量減少速度△A之優點。

且說，含料斗之粉粒體重量A隨散布粉粒體P之時間經過而逐漸減少。如上所述，根據經驗已知：於使料斗2等供給裝置內所貯存之粉粒體P自該料斗2之下部落下之情形時，存在根據料斗2內所貯存之粉粒體P之量而落下量會產生差之情形。針對該點，本發明者進行了銳意研究，結果判明：於料斗內粉粒體重量A₃為粉粒體P之填充滿狀態下之料斗內粉粒體重量A₄之較佳為40質量%以上且100質量%以下，進而較佳為80質量%且以上100質量%以下的情形時，粉粒體P之落下量不易產生差，可使散布量穩定化。因此，較佳為於將料斗內粉粒體重量A₃維持為粉粒體P之填充滿狀態下之料斗內粉粒體重量A₄之較佳為40質量%以上且100質量%以下，進而較佳為80質量%以上且100質量%以下的狀態下散布粉粒體P。換言之，進行如下之粉粒體補充操作：將粉粒體P之填充滿狀態下之料斗內粉粒體重量A₄之40質量%之值設定為臨限值，當料斗內粉粒體重量A₃低於臨限值即0.4A₄時，對料斗2內補充粉粒體P直至料斗內粉粒體重量A₃成為初始設定重量、即粉粒體P之填充滿狀態下之料斗內粉粒體重量A₄。於本實施形態中實時測量之重量為含料斗之粉粒體重量A(即料斗內粉粒體重量A₃+料斗重量A₂)，料斗重量A₂為粉粒體P為空狀態下之含料斗之粉粒體重量故不變，因此上述補充操作係同義於進行如下之粉粒體補充操作：將粉粒體P之填充滿狀態下之料斗內粉粒體重量A₄之40質量%之值設定為臨限值，連續計量含料斗之粉粒體重量A，當含料斗之粉粒體重量A低於相對於測量值之臨限值即0.4A₄+A₂時，對該料斗2內補充該粉粒體直至該含料斗之粉粒體重量A成為初始設定重量。再者，「低於0.4A₄+A₂」不僅包含變為低於0.4A₄+A₂ 之時點，亦包含低於0.4A₄+A₂後之時點。該粉粒體補充操作係藉由自控制部40朝向粉體供給裝置90發出動作指令，利用粉體供給裝置90對料斗2內供給粉粒體P。又，該粉粒體補充操作係與先前所述之搬送能力控制操作獨立地進行。「獨立地進行」並非意為使用分開之控制系統進行粉粒體補充操作與搬送能力控制操作，而亦包含僅使用一個控制系統，藉由並列處理而進行粉粒體補充操作與搬送能力控制操作。

藉由上述粉粒體補充操作而對料斗2內供給粉粒體P期間亦使用計量裝置50連續進行含料斗之粉粒體重量A之計量。然而，因粉粒體P之供給所產生之料斗2之振動或由於其他原因，不易於對料斗2內供給粉粒體P期間準確地進行含料斗之粉粒體重量A之計量。於該狀況下，即便進行上述搬送能力控制操作，亦無法容易地使粉粒體P之每單位時間之散布量△S與每單位時間之目標散布量△S_t一致。因此，於本實施形態中，如圖10所示，於進行粉粒體補充操作期間，使上述搬送能力控制操作暫停。而且，於使搬送能力控制操作暫停期間，將搬送器件3之搬送能力保持為該搬送能力控制操作即將暫停前之搬送能力。藉由進行此種控制，而即便於含料斗之粉粒體重量A之計量值變得不穩定之對料斗2內供給粉粒體P期間，亦可使粉粒體P對基材100上之散布量穩定化。

搬送能力控制操作之暫停係於粉粒體補充操作結束後、即含料斗之粉粒體重量A到達初始設定重量即粉粒體P之填充滿狀態下之含料斗之粉粒體重量A₁後，該含料斗之粉粒體重量A持續特定時間連續減少時解除，自此以後重新啟動搬送能力控制操作。「含料斗之粉粒體重量A持續特定時間連續減少時」係指：例如於每秒連續進行含料斗之粉粒體重量A之測量之情形時，當粉粒體補充操作結束後，含料斗之粉粒體重量A少於1秒前之狀態持續5次的情形。該處理係於處理部40中進行，該處理部40中之判斷之結果、振動產生器件31之動作指令係自處理部40向振動產生器件31發出。

根據如以上般使用粉粒體散布裝置1C之粉粒體之散布方法，可於沿特定之方向連續搬送之基材100上定量地散布粉粒體P。尤其可使沿搬送方向X觀察時之粉粒體P之散布量固定化。不僅如此，可使沿與搬送方向X正交之方向、即寬度方向Y觀察時之粉粒體P之散布量亦固定化。尤其，藉由具備上述(1)至(4)，而於基材100之寬度方向上亦可均勻且定量性良好地散布粉粒體P。

以下，對於本發明(第2發明)，基於其較佳之實施態樣，一面參照圖式一面進行說明。於圖11中，表示本發明(第2發明)之粉粒體之散布方法中能夠使用之粉粒體散布裝置之一實施形態之概略構成。再者，於圖11所示之粉粒體散布裝置10中，對與上述粉粒體散布裝置1(參照圖1)相同之構成部分標註同一符號，只要未特別說明，則對該構成部分適當應用對於粉粒體散布裝置1之說明。

圖11所示之粉粒體散布裝置10包括：粉粒體P之供給部90；料斗2，其配置於供給部90之下方，自下端之排出口2b排出自供給部90供給之粉粒體P；及粉粒體搬送器件3，其沿圖中符號X1所示之方向搬送自料斗2排出之粉粒體P，並散布於作為在該搬送中之粉粒體P之下方沿與方向X1為反方向X2連續搬送之被散布物的基材100上。

供給部90與未圖示之粉粒體P之供給罐連接，將自該供給罐供給之粉粒體P自下端之排出口排出並供給至料斗2內。供給部90具備調整粉粒體P之排出量之閥，可藉由該閥之開閉操作而調整粉粒體P對料斗2之供給量。供給部90呈圓筒狀，具有粉粒體P之排出口之下端部自料斗2之上部開口2a插入其內部(儲存部20)。

料斗2係包含可暫時儲存自供給部90供給之粉粒體P之儲存部20、及位於儲存部20之下方且於下端具有粉粒體P之排出口2b之排出部21而構成。

料斗2之儲存部20具有相對於鉛垂方向Z傾斜之傾斜面20A作為劃分形成粉粒體P之儲存空間之內表面。如圖12所示，傾斜面20A沿相對於自料斗2排出之粉粒體P之搬送方向X1(基材100之搬送方向X2)及鉛垂方向Z之兩者正交的垂直方向Y延伸。

更具體而言，如圖11所示，儲存部20於沿粉粒體P之搬送方向X1之剖面觀察或側視時，呈上底較下底更長之梯形形狀，作為劃分形成粉粒體P之儲存空間之內表面，如圖12所示，具有相對於鉛垂方向Z及水平方向之兩者傾斜之傾斜面20A、與該傾斜面20A對向之傾斜面對向面20B、及沿搬送方向X1延伸且於垂直方向Y上分開之一對內側面20C、20C。再者，於第1發明中，以符號20is表示傾斜內側壁，以符號20i表示其他內側壁(參照圖1及圖3)，但於第2發明中，以符號20A表示相當於第1發明之傾斜內側壁20is之部位，以符號20B及20C表示相當於第1發明之其他內側壁20i之部位(參照圖11~圖13)。傾斜面20A位於搬送方向X1之上游側，傾斜面對向面20B位於搬送方向X1之下游側。儲存部20之傾斜面20A以外之3個內表面20B、20C均為沿鉛垂方向Z延伸之鉛垂面。該等儲存部20之4個內表面20A、20B、20C均連接於劃分形成粉粒體P之移動路22之內表面210。如此，由於儲存部20具有自上方朝向下方而內徑變窄之內表面，因此於該構成中，由於以使粉粒體P自上部開口2a之供給量多於粉粒體P自排出口2b之排出量之方式進行控制，因此於儲存部20內暫時儲存粉粒體P，此時，於儲存部20內形成粉粒體堆積物P1。

如圖12所示，料斗2之排出部21於內部具有粉粒體P之移動路22，並且於該移動路22之下端具有粉粒體P之排出口2b，儲存部20之內部空間與排出口2b係經由移動路22而連通。排出部21呈長方體形狀，排出口2b於俯視時呈垂直方向Y之長度W較搬送方向X1之長度D更長之長方形形狀。劃分形成移動路22之4個內表面210均為沿鉛垂方向Z延伸之鉛垂面。再者，料斗2之垂直方向Y之長度W遍及料斗2之高度方向之全長為固定。

如圖11所示，粉粒體搬送器件3係包含接收自料斗2排出之粉粒體P之接收器件30、及使接收器件30振動之振動產生器件31而構成。粉粒體搬送器件3係相對於位於料斗2之下端之排出口2b隔開間隙G而配置，更具體而言，係以於接收器件30之上表面30a、即接收並搬送自料斗2排出之粉粒體P之面30a與排出口2b之間形成特定之間隙G的方式配置。振動產生器件31係固定於接收器件30之下表面30b。於接收器件30中，粉粒體P之接收及搬送所利用(與粉粒體P接觸)者係位於料斗2之排出口2b之正下方之部分及其附近，除此以外之部分為基本上不與粉粒體P接觸之粉粒體非接觸部，因此振動產生器件31係固定於接收器件30之該粉粒體非接觸部之下表面30b。

粉粒體散布裝置10作為相當於上述粉粒體散布裝置1(參照圖1)中之上述振動控制部之構件，如圖11所示，具備控制部32。控制部32可適當測定包含料斗2內所儲存之粉粒體P在內之料斗2之總重量，獲取料斗2內之粉粒體P之經時性重量變化等資訊，並基於該獲取資訊而控制振動產生器件31。又，控制部32不僅與振動產生器件31電性連接，亦與供給部90電性連接，可基於上述獲取資訊調整供給部90所具備之閥之開閉度，藉此調整粉粒體P對料斗2之供給量。

作為粉粒體P之被散布物之基材100為帶狀片材，且為於未使用狀態下捲繞為卷狀之卷狀物。於圖11所示之形態中，自該卷狀物連續地捲出基材100，並且藉由接著劑塗佈器件4而於基材100之單面塗佈接著劑101，自接收器件30對該基材100之接著劑塗佈面散布粉粒體P。散布於基材100上之粉粒體P係藉由接著劑而固定。基材100之搬送方法並無特別限制，例如可藉由搬送輥或帶式輸送機等公知之搬送裝置而進行連續搬送。再者，基材100及其搬送裝置並非構成粉粒體散布裝置10者。

本實施形態之粉粒體之散布方法係如下之方法：其使用上述構成之粉粒體散布裝置10，自供給部90對其下方之料斗2供給粉粒體P，自料斗2之下端之排出口2b排出粉粒體P而散布於作為被散布物之基材100上，且該方法具有如下之粉粒體排出步驟：如圖13所示，於在料斗2之儲存部20內暫時儲存有粉粒體P而形成有粉粒體堆積物P1之狀態下，一面於該粉粒體堆積物P1上自供給部90供給粉粒體P而形成、維持粉粒體之山P0，一面自排出口2b排出粉粒體P。

本實施形態之粉粒體之散布方法所欲解決之主要問題之一在於：於自料斗2之上部開口2a供給粉粒體P並將其自下端之排出口2b定量地排出之情形時，於在料斗2內暫時儲存粉粒體P而形成有粉粒體堆積物P1之狀態下，當對該粉粒體堆積物P1上供給粉粒體P時，會因該所供給之粉粒體P落下之衝擊而產生粒體堆積物P1中之粉壓變動，從而使粉粒體P自排出口2b之排出量變動。為了解決該問題，於本實施形態中，於上述粉粒體排出步驟中，以使粉粒體堆積物P1上之粉粒體之山P0與排出口2b之延長區域S、亦即將排出口2b朝向鉛垂方向Z之上方假想延長之情形時之該延長區域不重疊且與傾斜面20A不接觸的方式，控制粉粒體P自供給部90之供給。如此，為了著眼於形成於供給部90與粉粒體堆積物P1之間之粉粒體之山P0，就與排出口2b及傾斜面20A之關係適當地控制該粉粒體之山P0之位置，而藉由控制粉粒體P之供給，將粉粒體P對料斗2之供給對粉粒體P自料斗2之排出造成之影響抑制為最低限度，一面將料斗2內之粉粒體堆積物P1之上表面P1a保持為均勻亦即實質上無凹凸之水平，一面進行粉粒體P對料斗2之供給及粉粒體P自料斗2之排出之兩者，因此料斗2內之粉粒體之流動不易變得不均勻，從而可自排出口2b以高精度定量地排出粉粒體P。再者，上述「粉粒體之山P0與排出口2b之延長區域S不重疊」意為：著眼於粉粒體之山P0之傾斜面之切線相對於水平方向之角度成為構成該粉粒體之山P0之粉粒體P之靜止角的切線，使該切線與排出口2b不重疊。即，粉粒體之山P0通常呈大致圓錐狀，具有粉粒體堆積物P1側之下擺部、及位於最遠離粉粒體堆積物P1之位置之頂部，且具有自該下擺部朝向該頂部而直徑逐漸縮小之傾斜面，因此根據粉粒體P之種類等，存在該傾斜面之傾斜於該下擺部較靠近該頂部側略平緩的情形，但上述「粉粒體之山P0與排出口2b之延長區域S不重疊」不排除粉粒體之山P0於此種下擺部、即粉粒體之山P0之下擺之邊緣與排出口2b重疊之情形。

於本實施形態中，於上述粉粒體排出步驟中，為了「使粉粒體之山P0與排出口2b之延長區域S不重疊且與傾斜面20A不接觸」，而使用粉粒體P之靜止角控制粉粒體P之供給。粉粒體P之靜止角為粉粒體之山P0之傾斜面與粉粒體堆積物P1之上表面P1a所成之角度，為粉粒體P固有之值。更具體而言，如圖13所示，於沿如傾斜面20A成為截面之料斗2之鉛垂方向Z進行剖面觀察(沿搬送方向X1進行剖面觀察)時，將供給部90之中央與傾斜面20A之上端之間之分開距離X設為粉粒體P於水平方向上之供給位置(粉粒體供給位置)之指標，以對於該粉粒體供給位置X，下述式A所規定之大小關係成立之方式控制粉粒體P之供給。下述式A中之符號之意義如下所述。

‧料斗上部寬度T：料斗2之上部開口2a中之與排出口2b不重複之部分(圖13中具有符號D所示之寬度之區域以外之區域)於搬送方向X1上之長度

‧粉粒體供給寬度d：供給部90於搬送方向X1上之長度

‧粉粒體供給高度h：供給部90與粉粒體堆積物P1之上表面P1a之間之距離

‧靜止角θ：粉粒體P之靜止角

料斗上部寬度T(參照圖13)較佳為與粉粒體供給寬度d相同或較其更大，進而較佳為粉粒體供給寬度d之2倍以上。

粉粒體供給寬度d(參照圖13)較佳為粉粒體P之最大粒徑r之3倍以上，進而較佳為該最大粒徑r之2倍以上。對於最大粒徑r，於下文敍述。

粉粒體供給高度h(參照圖13)亦可為0mm，即，亦可以不形成粉粒體之山P0之方式對料斗2內供給粉粒體P。又，關於粉粒體供給高度h之上限，並無特別限制，關於此，自使自供給部90之下端部排出之粉粒體P之全量確實地進入料斗2內之觀點而言，如圖13所示，較佳為具有粉粒體P之排出口之下端部存在於較料斗2之上部開口2a更低之位置。

於上述粉粒體排出步驟中，作為「使粉粒體之山P0與排出口2b之延長區域S不重疊且與傾斜面20A不接觸」之前提，必須於料斗2內形成粉粒體堆積物P1。自該觀點而言，於上述粉粒體排出步驟中，較佳為使粉粒體P自供給部90之每單位時間之供給量S1多於粉粒體P自排出口2b之每單位時間之排出量S2。

又，於上述粉粒體排出步驟中，除「使粉粒體之山P0與排出口2b之延長區域S不重疊且與傾斜面20A不接觸」以外，較佳為進而「使粉粒體之山P0與內側面20C不接觸」，較佳為以此種方式控制粉粒體P自供給部90之供給。藉此，可於作為被散布物之基材100上以更高之散布精度定量散布粉粒體P。

上述本發明(第2發明)之特徵性構成主要係關於粉粒體對料斗之供給方法之設計，除此以外，進而設計粉粒體自料斗之排出方法亦對可於被散布物上以較高之散布精度定量散布粉粒體有效。具體而言，自可於被散布物上以較高之散布精度定量散布粉粒體之方面而言，對第2發明採用上述第1發明中之上述(1)~(4)較為有效。

本發明(第2發明)之粉粒體之散布方法可應用於在基材上配置有功能性粉體之功能性片材之製造方法。該功能性片材之製造方法例如具有如下步驟：使用上述實施形態之粉粒體之散布方法，於作為被散布物之基材100上散布作為粉粒體P之功能性粉體。

於圖15中，表示有本發明(第2發明)之粉粒體之散布方法中能夠使用之粉粒體散布裝置之另一實施形態。對於該另一實施形態，主要對與上述粉粒體散布裝置10不同之構成部分進行說明，對相同之構成部分標註相同符號並省略說明。未特別說明之構成部分係適當應用對於粉粒體散布裝置10之說明。

於圖15所示之態樣中，供給部90A呈垂直方向Y之長度較搬送方向X1之長度更長之形狀(平板狀)。於供給部90A之下端形成有未圖示之粉粒體之排出口，因此具有該粉粒體排出口之供給部90A之下端部於料斗2之儲存部 20之一對內側面20C、20C間沿垂直方向Y延伸，雖與內側面20C不接觸，但該下端部之垂直方向Y上之兩端分別接近內側面20C。如此，若將供給部90A之粉粒體排出口與儲存部20之內側面20C接近配置，則自該粉粒體排出口中之內側面20C之附近排出之粉粒體於供給至料斗2內之上述粉粒體堆積物上前會與內側面20C直接接觸，因此這意味著於自供給部90A對料斗2供給粉粒體時，形成於料斗2內之粉粒體堆積物上之上述「粉粒體之山」會與內側面20C接觸，與粉粒體藉由上述圓筒狀之供給部90對料斗2之供給方法中使上述「粉粒體之山」與料斗2之內表面之任一者均不接觸形成對照。於使用供給部90A對料斗2內供給粉粒體之情形時，有效地防止垂直方向Y上之粉粒體堆積物之上表面之偏倚，可使粉粒體堆積物之上表面於垂直方向Y上之均勻性提昇。自更確實地產生該效果之觀點而言，供給部90A之具有粉粒體排出口之下端部於垂直方向Y上之長度W1、與劃分形成儲存部20之內部空間之一對內側面20C、20C之分開距離W2之差、即W1-W2較佳為與2h/tanθ相同或較其更大，又，較佳為粉粒體P之最大粒徑r之2倍以下。此處所謂「h」為粉粒體供給高度(參照圖13)，「θ」為粉粒體之靜止角，詳細情況如上所述。

本發明(第2發明)並不限制於上述實施形態，可進行適當變更。例如，料斗2之排出部21中之排出口2b之俯視形狀並不限定於如圖13所示之長方形形狀，可任意設定為圓形、橢圓形、多邊形形狀等。

關於上述本發明之實施形態，進而揭示以下之附記。

<1>一種粉粒體散布裝置，其包括：料斗，其具備可於內部暫時儲存粉粒體之儲存部、將該儲存部內之粉粒體排出之排出口、及將該儲存部與該排出口之間連結之粉粒體用移動路；及搬送器件，其係相對於該排出口隔開間隙而配置，且將自該排出口排出之該粉粒體沿特定之一方向搬送而散布於連續搬送之基材上；且上述排出口於俯視時，呈與上述粉粒體藉由上述搬送器件之搬送方向正交之方向上之長度大於該搬送方向上之長度的形狀，上述移動路於上述搬送方向上之最大寬度為上述粉粒體之最大粒徑之2倍以上且未達5倍，且其於該粉粒體被排出之方向上之長度為該粉粒體之最大粒徑之1倍以上，且上述間隙為上述粉粒體之最大粒徑之1倍以上。

<2>如上述<1>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述間隙為上述粉粒體之最大粒徑之10倍以下。

<3>如上述<1>或<2>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗具備連接於上述儲存部且於下端具有上述排出口之排出部，且劃分形成上述儲存部之內部空間之內側壁包含朝向該排出部向斜下方延伸之傾斜內側壁、及沿垂直方向延伸之垂直壁。

<4>如上述<1>~<3>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中劃分形成上述移動路之上述排出部之內側壁全部為沿垂直方向延伸之垂直壁。

<5>如上述<4>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述儲存部於自與上述搬送方向正交之方向觀察之情形時呈上底較下底更長之梯形形狀，且於上述搬送方向上，上述儲存部之上底之長度較上述排出口之長度更長，於與該搬送方向正交之方向上，該儲存部之上底之長度與該排出口之長度相同。

<6>如上述<1>~<5>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中於上述排出口中，與上述搬送方向正交之方向上之長度(W)與該搬送方向上之長度(D)之比以W/D計，較佳為2以上且1000以下，進而較佳為5以上且100以下。

<7>如上述<1>~<6>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗中之與上述粉粒體接觸之內表面相對於水平方向之角度為該粉粒體之靜止角以上。

<8>如上述<1>~<7>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述搬送器件係包含接收自上述料斗排出之上述粉粒體之平板狀之接收器件、及使該接收器件振動之振動產生器件而構成，藉由使該振動產生器件作動以使該接收器件振動，而可將該接收器件上之該粉粒體沿上述一方向搬送，且於將上述間隙之大小設為G，將上述粉粒體之靜止角設為θ之情形時，通過上述排出口之中心沿垂直方向延伸之假想直線與上述搬送器件之交點位於距離該搬送器件中之上述搬送方向之下游側端G/tanθ以上且15G以下之範圍內。

<9>如上述<1>~<8>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述粉粒體為吸收水分或具有潮解性者。

<10>如上述<1>~<9>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之素材為於進行上述粉粒體之散布之作業時之溫度下熱導率為25W/m‧K以下者。

<11>如上述<1>~<10>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之素材為選自由不鏽鋼、玻璃、氧化鋯及氮化矽及其他陶瓷材料所組成之群中之1種以上。

<12>如上述<1>~<9>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述粉粒體為非導電性材料。

<13>如上述<12>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之素材為具有導電性之素材。

<14>如上述<13>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之素材為選自有金屬材料、合金材料、導電性陶瓷及導電性樹脂所組成之群中之1種以上。

<15>如上述<1>~<14>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之素材為不鏽鋼。

<16>如上述<1>~<15>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述粉粒體之靜止角(θ)、與上述料斗中之與上述粉粒體接觸之內表面相對於水平方向之角度(θ1)之比即θ1/θ較佳為1.2以上，進而較佳為1.5以上。

<17>如<16>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗中之與上述粉粒體接觸之內表面相對於水平方向之角度(θ1)較佳為1.2θ以上且90°以下，進而較佳為1.5θ以上且90°以下。

<18>如上述<1>~<17>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之表面、即上述料斗中之與上述粉粒體接觸之內表面之表面粗糙度Ra係依照JIS B 0601-2001測定之值，較佳為10μm以下，進而較佳為1μm以下。

<19>如上述<1>~<18>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之表面、即上述料斗中之與上述粉粒體接觸之內表面具有沿特定方向延伸之隆起部與槽部於與該特定方向正交之方向上交替配置而成之隆起槽形狀。

<20>如上述<1>~<19>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述料斗之內側壁之表面、即上述料斗中之與上述粉粒體接觸之內表面係以氟樹脂被覆。

<21>如<1>~<20>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述搬送器件包括接收自上述料斗排出之上述粉粒體之平板狀之接收器件、使該接收器件振動之振動產生器件、及控制對該振動產生器件施加之電壓及頻率之振動控制部，且藉由該振動控制部而控制該接收器件之振動數及振幅，進而控制該接收器件上之粉粒體之搬送狀態。

<22>如上述<21>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述振動產生器件之振動數較佳為50Hz以上且500Hz以下，進而較佳為100Hz以上且300Hz以下。

<23>如上述<1>~<22>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中上述粉粒體為不定形形狀，且該不定形形狀之粉粒體之上述最大粒徑係藉由雷射繞射法而測定。

<24>如上述<1>~<23>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其具備：計量裝置，其連續計量上述料斗及該料斗內所儲存之上述粉粒體之總重量；及控制器件，其測定上述總重量之每單位時間之變化量，且以使藉由上述搬送器件而散布之上述粉粒體之每單位時間之散布量與每單位時間之目標散布量一致之方式，根據該變化量而進行上述搬送器件之搬送能力之控制，並且與該控制獨立地，進行當該總重量低於臨限值時，對上述料斗內補充上述粉粒體直至該總重量成為初始設定重量的控制。

<25>如上述<24>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述控制器件係以如下方式構成：於對上述料斗補充上述粉粒體期間，使上述搬送器件之搬送能力之控制暫停，並且將控制暫停中之該搬送器件之搬送能力保持為控制即將暫停前之搬送能力。

<26>如上述<24>或<25>所記載之粉粒體散布裝置，其中上述控制器件係以如下方式構成：於上述粉粒體對上述料斗之補充結束後，當上述總重量持續特定時間連續減少時，重新啟動上述搬送器件之控制。

<27>如上述<25>或<26>所記載之粉粒體散布裝置，其中每隔特定時間t(秒)計量上述總重量，計算出所計量之該總重量與t(秒)前計量之該總重量之差量，將以該值除以t(秒)所得之值定義為每單位時間之變化量，上述控制器件根據該變化量而進行上述搬送器件之搬送能力之控制。

<28>如上述<27>所記載之粉粒體散布裝置，其中特定時間t(秒)為1秒以上300秒以下。

<29>如上述<24>~<26>中任一項所記載之粉粒體之散布裝置，其中每隔特定時間s(秒)計量上述總重量，計算出所計量之該總重量、與t(秒)(惟s<t)前計量之該總重量之差量，將以該值除以t(秒)所得之值定義為每單位時間之變化量，根據該變化量而控制上述搬送器件之搬送能力。

<30>如上述<29>所記載之粉粒體散布裝置，其中特定時間s(秒)為0.1秒以上且10秒以下。

<31>如上述<24>~<30>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其具備控制部，上控制部控制施加至使接收器件振動之振動產生器件之電壓及頻率，上述接收器件接收自上述料斗排出之上述粉粒體，且藉由該控制部而控制上述接收器件之振動數及/或振幅，從而控制上述接收器件上之上述粉粒體之搬送狀態。

<32>如上述<24>~<31>中任一項所記載之粉粒體散布裝置，其中於上述料斗安裝有上述計量裝置。

<33>一種粉粒體之散布方法，其係使用如上述<1>~<23>中任一項所記載之粉粒體散布裝置而將粉粒體散布於連續搬送之基材上。

<34>一種含粉粒體物品之製造方法，其包含使用如上述<33>記載之散布方法而將上述粉粒體散布於連續搬送之基材上的步驟。

<35>一種功能性物品之製造方法，其包含使用如上述<33>記載之散布方法而將作為上述粉粒體之吸水性聚合物或電解質散布於基材上的步驟。

<36>如上述<35>所記載之功能性物品之製造方法，其中上述基材為於片狀材料之一面上配置包含被氧化性金屬及水之發熱組合物而成者，且係藉由自上述搬送器件於該發熱組合物之上散布吸水性聚合物或電解質而供給。

<37>一種粉粒體之散布方法，其係自供給部對其下方之料斗供給粉粒體，並自該料斗之下端之排出口將粉粒體排出並散布於被散布物上者，且上述料斗具有可暫時儲存自上述供給部供給之粉粒體之儲存部，該儲存部具有相對於鉛垂方向傾斜之傾斜面作為劃分形成粉粒體之儲存空間之內表面，上述粉粒體之散布方法具有如下之粉粒體排出步驟：於在上述儲存部內暫時儲存有粉粒體而形成有粉粒體堆積物之狀態下，一面自上述供給部對該粉粒體堆積物上供給粉粒體而形成、維持粉粒體之山，一面自上述排出口排出粉粒體，且於上述粉粒體排出步驟中，以使上述粉粒體堆積物上之上述粉粒體之山與上述排出口之延長區域不重疊且與上述傾斜面不接觸之方式，控制粉粒體自上述供給部之供給。

<38>如上述<37>所記載之粉粒體之散布方法，其中使用粉粒體之靜止角而進行上述粉粒體排出步驟中之粉粒體之供給之控制。

<39>如上述<37>或<38>所記載之粉粒體之散布方法，其中於上述粉粒體排出步驟中，將粉粒體自上述供給部之每單位時間之供給量設為粉粒體自上述排出口之每單位時間之排出量以上。

<40>如上述<37>~<39>中任一項所記載之粉粒體之散布方法，其中上述被散布物係沿特定方向搬送，且上述傾斜面係沿相對於該被散布物之搬送方向及上述鉛垂方向之兩者正交的垂直方向延伸。

<41>如上述<40>所記載之粉粒體之散布方法，其中上述儲存部具有沿上述搬送方向延伸且於上述垂直方向分開之一對內側面作為劃分形成粉粒體之儲存空間之內表面，且於上述粉粒體排出步驟中，以使上述粉粒體之山與該內側面不接觸之方式，控制粉粒體自上述供給部之供給。

<42>如上述<40>或<41>所記載之粉粒體之散布方法，其中上述儲存部具有與上述傾斜面對向之鉛垂面作為劃分形成粉粒體之儲存空間之內表面，且該傾斜面位於上述搬送方向之上游側，該鉛垂面位於該搬送方向之下游側。

<43>如上述<40>~<42>中任一項所記載之粉粒體之散布方法，其中上述排出口於俯視時上述垂直方向上之長度較上述搬送方向上之長度更長。

<44>如上述<40>~<43>中任一項所記載之粉粒體之散布方法，其中上述料斗具有將上述儲存部與上述排出口之間連結之粉粒體用移動路，且上述移動路於上述搬送方向上之最大寬度為粉粒體之最大粒徑之2倍以上且未達5倍，於該粉粒體被排出之方向上之長度為粉粒體之最大粒徑之1倍以上。

<45>一種功能性片材之製造方法，其係於基材上配置有功能性粉體之功能性片材之製造方法，且具有如下步驟：使用如上述<37>~<44>中任一項所記載之粉粒體之散布方法，於作為上述被散布物之基材上散布作為上述粉粒體之功能性粉體。

[實施例]

以下，藉由實施例而更具體地對本發明進行說明，但本發明並不限定於該實施例。只要未特別說明，「%」意為「質量%」。

[實施例1~5及比較例1~3：第1發明]

於圖1~圖4所示之粉粒體散布裝置1中，將一部分構成構件之尺寸等變更為如下述表1所示，除此以外，使用與粉粒體散布裝置1相同之構成之粉粒體散布裝置，於沿一方向連續搬送之基材(不織布，搬送速度40.95m/秒)上散布粉粒體(實施例1~5及比較例1~2)。

又，於實施例1中將間隙G設為大致為0，除此以外，於與實施例1相同條件下於基材上散布粉粒體(比較例3)。

作為粉粒體，使用最大粒徑及靜止角處於下述表1所示之範圍內之吸水性聚合物粒子或氯化鈉。再者，粉粒體之最大粒徑係藉由動態光散射法測定，使用HORIBA公司製造之雷射繞射/散射式粒徑分佈測定裝置 LA950V2作為測定裝置。再者，各實施例及比較例之粉粒體散布裝置中之料斗包含內側壁在內之內外表面整體係以不鏽鋼形成。

[評價試驗A]

對於各實施例及比較例，使用市售之荷重元(A & D製造)依照慣例以0.1秒間隔測定粉粒體對測定基材之散布重量。將其結果表示於圖16~圖22。實施例1~5(圖16~圖20)與比較例1(圖21)及比較例2(圖22)相比，顯然粉粒體之散布量之經時性變化較小，散布定量性優異。尤其，根據比較例1與各實施例之對比可知：為了提昇粉粒體之散布定量性，使將粉粒體散布裝置中之粉粒體之儲存部20與排出口23之間連結之移動路22於粉粒體搬送方向X上之最大寬度D為粉粒體之最大粒徑r之2倍以上且未達5倍、即「2≦D/r<5」之大小關係成立較為有效。又，根據比較例2與各實施例之對比可知：為了提昇粉粒體之散布定量性，使移動路22於粉粒體排出方向上之長度H為粉粒體之最大粒徑r之1倍以上、即「r≦H」之大小關係成立亦較為有效。再者，於比較例3之粉粒體散布裝置中，粉粒體未自排出口排出至搬送器件3。因此，對於比較例3，未能製作如圖16~圖22所示之表示散布定量性之圖表。

[實施例A1：第1發明]

使用圖7及圖8所示之粉粒體散布裝置1C，將構成構件之尺寸等設定為以下之表2所示之值。然後，於沿一方向連續搬送之基材(不織布，搬送速度40.95m/秒)上散布粉粒體。粉粒體之目標散布量係設定為0.45g/秒。作為粉粒體，使用最大粒徑及靜止角處於以下之表2所示之範圍內之吸水性聚合物粒子。粉粒體之最大粒徑係藉由動態光散射法而測定，作為測定裝置，使用HORIBA公司製造之雷射繞射/散射式粒徑分佈測定裝置LA950V2。再者，料斗包含內側壁在內之整體係以不鏽鋼形成。使用荷重元作為計量裝置50，以1秒間隔計量含料斗之粉粒體重量A。控制部40對振動產生器件31之控制設為基於PI控制之振幅控制。粉粒體藉由粉體供給裝置90之供給係於含料斗之粉粒體重量A成為0.4A₄+A₂(A₄表示粉粒體之填充滿狀態下之料斗內粉粒體重量，A₂表示料斗重量)之時點進行。使搬送能力控制操作暫停後至重新啟動為止之時間係以1秒間隔計量含料斗之粉粒體重量A，設為含料斗之粉粒體重量A少於1秒前之狀態持續5次為止。於該等條件下，對於持續10分鐘進行粉粒體之散布時之該粉粒體之散布重量，使用市售之荷重元(A & D製造)，依照慣例以1秒間隔實測粉粒體對基材之散布重量。將其結果表示於圖23中。

[比較例A1]

於實施例A1中，於藉由粉體供給裝置90進行之粉粒體之供給中亦藉由控制部40進行振動產生器件31之控制。除此以外，於與實施例A1相同之條件下進行粉粒體之散布。與實施例A1同樣地實測此時之粉粒體之散布量。將其結果表示於圖24中。

根據圖23與圖24之對比明顯可知：於依照本發明(第1發明)之實施例A1中，粉粒體之散布量遍及散布之初始至末期之整個期間大致固定。與此相對，可知於比較例A1中，粉粒體之散布量不固定而有所變動。

[實施例B1及參考例B1~B2：第2發明]

使用與圖11所示之粉粒體散布裝置10基本構成相同之粉粒體散布裝置，適當變更粉粒體供給位置X(參照圖13)，於在料斗之下方沿一方向連續搬送之基材(不織布，搬送速度40.95m/秒)上散布粉粒體。

作為粉粒體，使用最大粒徑及靜止角處於下述表3所示之範圍內之吸水性聚合物粒子。粉粒體之最大粒徑係藉由動態光散射法而測定，作為測定裝置，使用HORIBA公司製造之雷射繞射/散射式粒徑分佈測定裝置LA950V2。再者，各實施例及參考例之粉粒體散布裝置中之料斗之內外表面整體係以不鏽鋼形成。

[評價試驗B]

對於各實施例及參考例，使用市售之荷重元(A & D製造)，依照慣例以0.1秒間隔測定粉粒體對基材之散布重量。將其結果表示於圖25中。圖25之縱軸Cp表示相對於平均散布量設為上下限±10%之製程能力指數，該Cp之數值越大，粉粒體之散布量之經時性變化越小，散布定量性成為高評價。

如圖25所示，實施例B1由於對於粉粒體供給位置X，上述式A所規定之大小關係成立，故與該大小關係未成立之參考例B1及參考例B2相比，成為Cp更大而散布定量性優異之結果。

[產業上之可利用性]

根據本發明(第1發明)，可對連續搬送之基材，將粉粒體沿該基材之寬度方向均勻且定量性良好地散布。尤其，本發明之粉粒體散布裝置(裝置之第1發明)可使設置於該裝置內之粉粒體用移動路中之粉粒體之流動穩定流化且提昇粉粒體之流動性，因此即便於粉粒體並非真球狀之情形時或粒度分佈相對較大之情形時，亦可於連續搬送之基材沿該基材之寬度方向均勻地散布粉粒體而不易產生粉粒體之堵塞，並且可沿該基材之搬送方向高精度地定量散布。

又，根據本發明(第1發明)，可使料斗等供給裝置內所貯存之粉粒體之散布量固定。

又，根據本發明(第2發明)，將粉粒體向料斗之供給對粉粒體自料斗之排出所造成之影響抑制為最低限度，保持料斗內之粉粒體堆積物之上表面均勻，並且進行粉粒體向料斗之供給及粉粒體自料斗之排出之兩者，因此料斗內之粉粒體之流動不易變得不均勻，可於被散布物上以較高之散布精度定量散布粉粒體。又，此種定量性優異之粉粒體之散布方法於其實施時基本上不需要特殊之設備，可使用既存之設備實施，因此自製造成本等之方面而言亦有利。