CN113795444B - 粉粒体散布装置和粉粒体散布方法 - Google Patents

粉粒体散布装置和粉粒体散布方法 Download PDF

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Abstract

当令排出口(23)的运送机构(3)对粉粒体(P)的运送方向(MD)上的最大长度为(D),令该排出口(23)的与运送方向(MD)正交的方向(CD)上的最大长度为(W)时,W/D为100以下。此外,当令粉粒体(P)从排出口(23)的每1分钟的排出量为(M),令运送机构(3)对粉粒体(P)的每1分钟的散布量的目标值为(m)时,M/m为1.5以上。此外,当令粉粒体(P)的体积密度为(ρ)、令排出口(23)的面积为(S)、令排出口(23)与运送机构(3)的间隔距离为(G)时,m/(ρ×S×G)为21(/min)以上。

Description

粉粒体散布装置和粉粒体散布方法
技术领域
本发明涉及粉粒体散布装置和使用它的粉粒体散布方法、以及使用该散布方法的含粉粒体的物品和功能性物品的制造方法。
背景技术
在各种产品的制造中,要求使粉粒体对于被连续输送的基材遍及其宽度方向均匀地散布。作为用于应对该要求的技术,例如在专利文献1中记载了涉及储藏水泥原料等粉粒体的粉粒体储槽的排出部构造的改良技术。上述粉粒体储槽构成为,在筒状的储槽主体的下端部形成有以规定斜率使前端缩窄的料斗,在该料斗的下端的排出口设置有带式进料机等排出机构。上述料斗中,上述排出口的面积小于其导入部的面积,上述储槽主体与该排出口的间的侧壁成为规定斜率的倾斜面,将贮存在该储槽主体内的粉粒体缓缓集中为较小的截面面积而排出,在此情况下,该料斗内的粉粒体从侧方被压缩,因此粉粒体容易发生堵塞,令粉粒体无法排出。专利文献1中记载的技术为了解决该问题而对排出口的纵横比进行了设计,具体而言,当令排出机构对粉粒体的运送方向为“MD”(Machine Direction,加工方向),令与MD正交的方向为“CD”(Cross machine Direction,横向加工方向)时,使得“排出口的MD的长度>排出口的CD的长度”的大小关系成立。
本申请人之前提出有一种粉粒体散布装置(专利文献2),其具有:料斗,其具有粉粒体的储藏部;和运送机构,其与该料斗下端的排出口隔着间隙配置,将从该排出口排出的粉粒体沿着一个方向运送并散布在基材上。专利文献2所记载的粉粒体散布装置中,排出口的MD/CD比与专利文献1中的记载相反,满足“排出口的MD的长度<排出口的CD的长度”,此外,料斗的各部分的尺寸等按照与粉粒体的粒径的关系而设定在特定范围。根据专利文献2中记载的粉粒体散布装置,能使该装置内设置的粉粒体用移动路径中的粉粒体的流动稳定化且能提高粉粒体的流动性,因此,该移动路径内的粉粒体不容易发生堵塞,能够定量性好地将粉粒体散布在被连续输送的基材上。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2000-335682号公报
专利文献2:日本专利特开2017-70944号公报
发明内容
本发明提供一种粉粒体散布装置,其具有料斗和运送机构,该料斗具有:在内部能够暂时储藏粉粒体的储藏部;用于排出该储藏部内的粉粒体的排出口;和将该储藏部与该排出口之间连结的粉粒体用移动路径,该运送机构与该排出口隔着规定的间隔距离而配置,将因自重从该排出口自由落下而排出的粉粒体在规定的一个方向上运送,并散布在被连续输送的基材上。
当令所述排出口的所述运送机构对粉粒体的运送方向上的最大长度为D,令该排出口的与该运送方向正交的方向上的最大长度为W时,W/D为100以下。
当令粉粒体从所述排出口的每1分钟的排出量为M,令所述运送机构对粉粒体的每1分钟的散布量的目标值为m时,M/m为1.5以上。
本发明的粉粒体散布装置的一个实施方式中,是当令粉粒体的体积密度为ρ、令所述排出口的面积为S、令所述排出口与所述运送机构的间隔距离为G时,m/(ρ×S×G)为21以上的粉粒体散布装置。
此外,本发明提供一种粉粒体的散布方法,其具有使用上述本发明的粉粒体散布装置,对被连续输送的基材散布粉粒体的工序。
此外,本发明提供一种含粉粒体的物品的制造方法,其制造具有基材和以与该基材接触的方式配置的粉粒体的含粉粒体的物品。
本发明的含粉粒体的物品的制造方法具有使用上述本发明的粉粒体散布装置,对被连续输送的基材散布粉粒体的工序。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的粉粒体散布装置的一实施方式的侧面图。
图2是示意性地表示从运送机构对粉粒体的运送方向的下游侧观察图1所示的粉粒体散布装置所见的状况的正面图。
图3是图1所示的粉粒体散布装置中的料斗的立体图。
图4是示意性地表示图1所示的粉粒体散布装置的排出口和其附近的侧面图。
图5的(a)和图5的(b)是分别说明基于料斗和该料斗内储藏的粉粒体的总质量的计测值来计算每单位时间(1分钟)内该总质量的变化量的方法的图。
图6的(a)和图6的(b)是分别示意性地表示本发明的粉粒体散布装置的其他实施方式的主要部分(运送机构)的侧面图。
图7的(a)和图7的(b)是分别示意性地表示本发明的粉粒体散布装置的排出口的平面图。
具体实施方式
专利文献2中记载的粉粒体散布装置能够高精度地定量散布粉粒体,但当运送机构实现的每单位时间内粉粒体对基材的散布量相对较多时,还需进一步改善。
本发明的课题是提供能够定量性好地散布粉粒体的技术。
以下,基于优选的实施方式并参照附图来说明本发明。另外,以下附图的记载中,对相同或类似的部分标注相同或类似的附图标记。附图基本为示意性的,各尺寸的比率等有时与实际不同。
本发明的粉粒体散布装置具有料斗(图中以附图标记2表示),该料斗具有内部可临时储藏粉粒体(图中以附图标记P表示)的储藏部(图中以附图标记20表示)、排出该储藏部内的粉粒体的排出口(图中以附图标记23表示)、以及将该储藏部与该排出口之间连结的粉粒体用移动路径(图中以附图标记22表示)。
本发明的粉粒体散布装置的一实施方式中,具有运送机构(图中以附图标记3表示),该运送机构相对于上述排出口隔着规定的间隔距离(图中以附图标记G表示)而配置,将因自重从该排出口自由落下而被排出的粉粒体在规定的一个方向(图中以附图标记MD表示)运送,且散布在连续输送的基材(图中以附图标记100表示)上。
图1~图4中表示了作为本发明的粉粒体散布装置的一实施方式的粉粒体散布装置1或其主要部分,粉粒体散布装置1具有上述结构。
另外,基材100和其运送装置并不构成粉粒体散布装置1。基材100利用运送辊、带式输送机等公知的运送装置被连续输送。
以下,运送机构3对粉粒体P的运送方向也称为“MD”(Machine Direction,机器方向),与MD正交的方向也称为“CD”(Cross machine Direction,交叉机器方向)或“宽度方向”。
当如图1所示从侧面观察即从CD观察时,料斗2包括:形成为上底比下底长的梯形形状的储藏部20;和与该储藏部20的下端连接的、在该侧视图中形成为长方形形状的长方体形状的排出部21。
储藏部20内部具有可储藏粉粒体P的空间,其内部空间可临时储藏粉粒体P。由粉体供给装置90将粉粒体P从储藏部20的上部开口供给至储藏部20的内部空间。
排出部21在内部具有粉粒体P的移动路径22。在排出部21的下端(与储藏部20侧相反的一侧的端部)形成有粉粒体P的排出口23,储藏部20的内部空间与排出口23经由移动路径22连通。
料斗2利用该结构,能够将在该储藏部20的内部临时储藏的粉粒体P经由移动路径22从排出口23排出。
本实施方式中,在构成料斗2的上部的、且具有储藏粉粒体P的内部空间的储藏部20中,如图3所示,划分形成该内部空间的储藏部20的侧壁的内表面20i的一部分为与水平方向和正交于该水平方向的垂直方向(更具体而言为铅垂方向)两者交叉的倾斜内表面20is,内表面20i的其余部分沿垂直方向(更具体而言为铅垂方向)延伸。具有倾斜内表面20is的倾斜侧壁20s位于MD的一侧、更具体而言位于MD的下游侧。储藏部20的内表面20i与划分形成移动路径22的排出部21的侧壁的内表面21i相连接。通过如此构成料斗2的内表面,当粉粒体P的集合体从储藏部20流入排出部21时,能够抑制该集合体的与流动方向正交的方向上的中央部分的流动速度比周围部分快,因此有利于粉粒体P的均匀散布。
此外,本实施方式中,在构成料斗2的下部的、且内部具有粉粒体P的移动路径22的排出部21中,如图3所示,划分形成移动路径22的排出部21的全部侧壁为沿垂直方向(更具体而言为铅垂方向)延伸的垂直壁,该侧壁的全部内表面21i也沿该方向延伸。即,排出部21的内部空间(移动路径22和排出口23)的MD上的长度D和CD上的长度W,分别在排出部21的高度方向(粉粒体P的排出方向)的全长上是一定值。
像这样,在本实施方式中,关于料斗2的高度方向的上部(储藏部20),该上部的内部空间的沿水平方向的截面(横截面)的面积随着从该高度方向的上方向下方去而逐渐减小,此外,关于料斗2的高度方向的下部(排出部21),该下部的内部空间(移动路径22和排出口23)的横截面的面积在该高度方向上是一定值。料斗2通过具有上述构造,能够将粉粒体P从排出口23稳定地定量排出。
本实施方式中,如图1所示,运送机构3构成为包括:接收从料斗2排出的粉粒体P的接收机构(槽)30;和使接收机构30振动的振动产生机构31。
运送机构3相对于位于料斗2的下端的排出口23隔着规定的间隔距离G地配置,更具体而言,以在接收从料斗2排出的粉粒体P并进行运送的接收机构30的上表面30a与排出口23之间形成间隔距离G的间隙的方式配置。
振动产生机构31固定在接收机构30的下表面30b。接收机构30中,用于粉粒体P的接收和运送(与粉粒体P接触)的部位是位于料斗2(排出口23)下方的部分和其附近,除此之外的部分是基本不接触粉粒体P的粉粒体非接触部,振动产生机构31固定于接收机构30的该粉粒体非接触部的下表面30b。
运送机构3能够通过使振动产生机构31动作而使接收机构30振动,从而将接收机构30上的粉粒体P在规定方向上运送。
如图1所示,粉粒体散布装置1具有控制施加于振动产生机构31的电压和/或频率的控制机构4,由该控制机构4控制接收机构30的振动频率和/或振幅,进而控制接收机构30上的粉粒体P的运送状态。即,在控制机构4的控制下,当振动产生机构31为非动作时,接收机构30不振动,因此,接收机构30上的粉粒体P的运送停止或受到抑制。若从上述状态使振动产生机构31动作,则接收机构30开始振动,由此,接收机构30上的粉粒体P的运送的停止或抑制被解除,粉粒体P沿MD被运送,最终如图1和图2所示,因自重从接收机构30的MD的下游侧端3DE自由落下,散布于在接收机构30的下方被连续输送的基材100上。
从能够将振动产生机构31产生的振动恰当地传递给接收机构30上的粉粒体P的观点出发,接收机构30优选为平板状,更具体而言,优选为如图1所示的扁平的平板部件。进而,从使从排出口23排出的粉粒体P从接收机构30的MD的前端部均匀散布的观点出发,为了防止从MD以外部分的散布,也可以在接收机构30的侧面设置引导件。包含上述平板构件的接收机构30的材质并无特别限制,能够列举例如各种塑料或各种金属等。
作为振动产生机构31,只要能够产生将接收机构30上的粉粒体P在所需的一个方向运送的振动成分即可,能够列举例如压电陶瓷等压电元件、振动进料机等公知的振动产生机构。其中,振动进料机可优选地用作振动产生机构31。此外,振动产生机构31的振动频率并无特别限制,但从粉粒体的运送性和散布的均匀性和定量性等观点出发,优选为50Hz以上,更优选为100Hz以上,而且优选为500Hz以下,更优选为300Hz以下。
如图1所示,在料斗2安装有计量装置5。作为计量装置5,采用能连续地计量料斗2和料斗2内储藏的粉粒体P的总质量的装置。所谓能连续地计量是指计量数据的采样时间超过0秒且为1秒以下。每当获取由计量装置5计量出的料斗2和料斗2内储藏的粉粒体P的总质量的计量资料,将其发送至上文所述的控制机构4。作为计量装置5的具体例,能够列举电气式计量器,具体而言,能够使用载荷式计量器、电磁式计量器、音叉式计量器等。
如上文所述,控制机构4具有控制接收机构30的振动频率和/或振幅的功能。此外,控制机构4能够接收从计量装置5发送的计量数据。进而,控制机构4连接于在料斗2的储藏部20上设置的粉体供给装置90,具有也控制粉粒体P向储藏部20内的供给的功能。作为控制机构4,能够使用例如安装有控制、处理用软件的计算机。
作为采用粉粒体散布装置1的散布对象的粉粒体P,能够列举例如吸水性聚合物颗粒、砂糖、活性炭、小麦粉、聚乙烯粒(pellet)、聚丙烯颗粒、聚对苯二甲酸乙二酯片、聚碳酸酯片、聚乙烯颗粒(granule)、聚丙烯酸丁酯珠(beads)等有机物的粉粒体、或金属粉、氯化钠、氯化钾、氯化钙、氯化镁、玻璃、石灰等无机物的粉粒体。粉粒体P的形状无特别限制,能够列举例如球状、围棋子状、椭圆形、椭圆柱、针状、立方体状等。依据粉粒体散布装置1,当粉粒体P为正球形时当然能够在基材100的长度方向(即MD)和/或CD上均匀地以良好的定量性进行散布,即使在其为正球形以外的形状时也能够在基材100的长度方向(即MD)和/或CD上均匀地以良好的定量性进行散布。
基材100优选为片状的基材,但不限于片状的基材。作为片状的基材,能够列举利用各种制法得到的无纺布、树脂膜、梭织物、编织物、纸等和它们中的同种类或不同种类的多个材料层叠而成的层叠体等。
粉粒体散布装置1适用于具有对被连续输送的基材散布粉粒体的工序的粉粒体散布方法。
此外,粉粒体散布装置1适用于含粉粒体的物品的制造方法,上述含粉粒体的物品具有基材和以与该基材接触的方式配置的粉粒体,该含粉粒体的物品的制造方法具有将粉粒体散布于连续输送的基材的工序。当粉粒体为具有某种功能性的功能性粉粒体时,含有该功能性粉粒体的含粉粒体的物品为功能性物品。作为上述功能性粉粒体的具体例,能够列举吸水性聚合物的颗粒、氯化钠等电解质。
根据粉粒体散布装置1,即使是基材被连续地高速运送、且向该基材的每单位面积的散布量多的功能性物品,也能够在基材的长度方向(即MD)和CD上均匀且定量性良好地进行散布。散布量多的功能性物品典型的有下述吸收性片材。
作为上述功能性物品的一例,能够列举发热体。例如,使用粉粒体散布装置1,将作为粉粒体的吸水性聚合物或电解质对连续输送的基材进行散布,由此,能够制造片状的发热体(发热片)。若为如此制造出的发热片,则能够期待其发热不均的情况少、能够得到优异的发热特性。上述发热片的制造方法中,作为基材,能够使用例如具有纤维片和施加于该纤维片的单面且含有可氧化性金属和水的发热组合物的材料,此时,使粉粒体散布在该纤维片的被赋予了该发热组合物的面。
作为上述功能性物品的另一例,能够列举吸收体。例如,利用粉粒体散布装置1,将作为粉粒体的吸水性聚合物对连续输送的纸或无纺布等纤维片(基材)进行散布,由此,能够制造出在纤维片的一面散布有吸水性聚合物的结构的片状的吸收体(吸收性片)。上述吸收性片适于用作一次性尿布、经期卫生巾等吸收性物品中的吸收体。
当利用粉粒体散布装置1将粉粒体P散布在连续输送的片状的基材100上时,使贮存在料斗2内的粉粒体P因自重通过料斗2的排出口23自由落下,散布在运送机构3的接收机构30上。随着粉粒体P落下,料斗2内的粉粒体P的贮存量逐渐减少。料斗2内的粉粒体P的量以料斗2和料斗2内储藏的粉粒体P的总质量的形式由计量装置5连续计量。另外,以下的说明中,为了方便,将料斗2和料斗2内储藏的粉粒体P的总质量也称为“含料斗的粉粒体质量”。优选在含料斗的粉粒体质量A的连续计量之前,预先测量出粉粒体P为填满状态下的含料斗的粉粒体质量A1。通过预先测量出粉粒体P为填满状态下的含料斗的粉粒体质量A1,能根据A1-A的计算容易地算出从料斗2落下的粉粒体P的重量AP
为了将粉粒体P稳定且定量地散布在片状的基材100上,希望控制接收机构30的振幅、振动频率,以使落至运送机构3的接收机构30上的粉粒体P定量地散布在基材100上。接收机构30的振幅、振动频率由振动产生机构31控制。优选振动产生机构31对振动的控制具体按以下基准进行。即,连续测量含料斗的粉粒体质量A,计算出含料斗的粉粒体质量A的每单位时间的变化量ΔA。ΔA定义为(Aa-Ab)/t。Aa为某时刻的含料斗的粉粒体质量,Ab是经过时间t后的含料斗的粉粒体质量。ΔA在控制机构4中运算。由于料斗2的质量不变,因此ΔA等于料斗2内的粉粒体P的质量的减少速度。控制机构4根据该质量减少速度ΔA来控制运送机构3的运送能力,进行运送能力控制操作,使利用该运送机构3散布在基材100上的粉粒体P的每单位时间的散布量M1与单位时间的目标散布量m一致。在运送能力控制操作中,例如当ΔA少于目标散布量m时,进行提高运送机构3的运送能力而增加散布量M1的操作。相反,当ΔA多于目标散布量m时,进行降低运送机构3的运送能力而减少散布量M1的操作。
如此,控制机构4测量含料斗的粉粒体质量A的每单位时间(例如1分钟)的变化量(质量减少速度)ΔA,且根据该变化量ΔA来控制运送机构3的运送能力,使运送机构3对粉粒体P的每单位时间(例如1分钟)的散布量(散布量的实测值)M与运送机构3对粉粒体P的每单位时间(例如1分钟)的散布量的目标值m一致。
运送机构3的运送能力例如能够通过控制振动产生机构31的振动的振幅或频率或它们两者而进行变更。振动产生机构31的控制能够采用例如P控制(比例控制)、PI控制或PID控制等公知的反馈控制方法。各种控制方法中的系数能够通过试误(trial-and-error)来决定。
含料斗的粉粒体质量的质量减少速度ΔA能够由多种方法计算得出。例如能够每规定时间t(秒)计量含料斗的粉粒体质量,计算计量出的该含料斗的粉粒体质量与t(秒)前计量出的该含料斗的粉粒体质量的差值,将该差值除以t(秒)所得的值定义为质量减少速度ΔA。t的值优选为1秒以上且300秒以下。作为一例,如图5的(a)所示,能够每5秒测量含料斗的粉粒体质量,取最新的测量值与5秒前的测量值的差值,将该差值除以5秒,由此算出质量减少速度ΔA。
作为其他方法,也能够每规定时间s(秒)计量含料斗的粉粒体质量,计算计量出的该含料斗的粉粒体质量与t(秒)(其中,s≤t)前计量出的该含料斗的粉粒体质量的差值,将该差值除以t(秒)所得的值定义为质量减少速度ΔA。s与t的关系优选为t/s的值为1以上且3000以下。此外,s的值优选为0.1秒以上且10秒以下。t的值以大于s的值为条件,优选为1秒以上且300秒以下。作为一例,如图5的(b)所示,能够每1秒测量含料斗的粉粒体质量,取最新的测量值与5秒前的测量值的差值,将该差值除以5秒,由此算出质量减少速度ΔA。
与图5的(b)所示的质量减少速度ΔA的算出方法相比,图5的(a)所示的质量减少速度ΔA的计算方法具有控制机构4的运算负载小的优点。另一方面,与图5的(a)所示的质量减少速度ΔA的算出方法相比,图5的(b)所示的质量减少速度ΔA的计算方法具有能精密地算出质量减少速度ΔA的优点。
从本发明的效果显著的观点出发,运送机构3对粉粒体P的每1分钟的目标散布量m优选为1g/min以上,更优选为50g/min以上,进而优选为100g/min以上。
此外,从处理的容易性的观点出发,优选为100000g/min以下,更优选为10000g/min以下,进而优选为5000g/min以下。
粉粒体散布装置1的主要课题之一是使粉粒体P能够高精度地定量散布在连续输送的基材100上,为了解决该课题,粉粒体散布装置1采用下述(i)和(ii)的结构。
(i)当将排出口23的MD上的最大长度设为D,将该排出口23的CD上的最大长度设为W时,W/D为100以下(W/D≤100)。
(ii)当将粉粒体P从排出口23的每单位时间的排出量、具体而言每1分钟的排出量设为M,将运送机构3对粉粒体P的每1分钟的散布量的目标值设为m时,M/m为1.5以上(M/m≥1.5)。
上述W/D和上述M/m的单位分别为无量纲。
关于上述(i),位于排出部21下端的排出口23的俯视形状(平面视图中的形状)大幅影响排出部21内的移动路径22中的粉粒体P的流动。根据本发明者的认知,若上述W/D的值比较小、即排出口23的俯视形状是CD上短而MD上长且两者的差比较小的形状,则能减小移动路径22上粉粒体P所受的外力(剪切力或摩擦力),能够使粉粒体P在移动路径22内均匀地流动。在每1分钟的目标散布量m比较多的情况下上述倾向尤其显著,如果将上述W/D的值设定得比较大而将大量粉粒体P散布在基材100上,则容易发生基材100的CD上的粉粒体P的散布量变得不均匀等不良状况,最坏的情况下,可能会导致移动路径22或排出口23的粉粒体P发生堵塞而造成排出不良。考虑以上情况,为了防止发生不良状况而采用上述“W/D≤100”的大小关系。
上述W/D至少为100以下,优选为80以下,更优选为40以下。此外,关于上述W/D的下限,从使CD上的粉粒体P的散布量均匀的观点出发,优选为1以上,更优选为10以上,进而优选为13以上。
本实施方式中,排出口23在俯视时为CD上较长的形状。具体而言,如图3所示,排出口23呈长方形形状,其长度方向与CD一致。即,本实施方式中,上述W/D超过1。移动路径22的沿水平方向的截面(横截面)形状也与排出口23的俯视形状同样为长方形形状。
排出口23的最大长度D和W只要分别根据粉粒体P的物性(粒径、体积密度等)、上述目标散布量m等适当进行调整即可,并无特别限制。例如,当将最大粒径r为1mm、体积密度ρ为1g/cm3的粉粒体P以每1分钟的上述目标散布量m为10~100g/min的方式散布时,最大长度D和W能够分别以粉粒体P的最大粒径r为基准地以下述方式设定。
排出口23的最大长度D与粉粒体P的最大粒径r的比[D/r]优选为2以上,更优选为6以上,而且优选为30以下,更优选为18以下。
排出口23的最大长度W与粉粒体P的最大粒径r的比[W/r]优选为3以上,更优选为50以上,而且优选为1000以下,更优选为200以下。
上述D/r和上述W/r的单位分别为无量纲。
另外,移动路径22的MD上的最大长度能够设定为与排出口23的最大长度D相等,移动路径22的CD上的最大长度能够设定为与排出口23的最大长度W相等。
粉粒体P的最大粒径r能够通过公知的方法测量。具体而言,能够列举例如干式筛分法(JIS Z8815:1994)、动态光散射法、激光衍射法、离心沉降法、重力沉降法、图像成像法、FFF(Field flow fractionation,场流分离)法、静电感测体法、库尔特法等。其中,从再现性和精度方面来说,优选采用由激光衍射法或库尔特法测量的最大粒径r。若作为对象的粉粒体的粒径为5mm左右以下,则优选使用激光衍射法测量粉粒体的最大粒径r。
关于上述(ii),“M/m≥1.5”的大小关系成立意味着,每单位时间(1分钟)中粉粒体P因自重从排出口23自由落下而排出的质量(排出量M)为相同单位时间(1分钟)中应从运送机构3散布于基材100的粉粒体P的质量(目标散布量m)的1.5倍以上。
例如,当因移动路径22内的粉粒体P的流动不均匀等,而从排出口23的排出量M减少时,如上所述,由控制机构4根据变化量ΔA来控制运送机构3的运送能力。具体而言,例如,在控制机构4的控制下提高振动产生机构31的振动的振幅和/或频率,由此增加粉粒体P对基材100的每单位时间(1分钟)的散布量M1。此处,当M/m≥1.5的关系成立时,向运送机构3排出对于目标散布量m而言足够多的粉粒体P,因此,仅通过控制运送机构3的运送能力,也能够确保用于调整从排出口23的排出量M的时间充足。如上所述,当目标散布量m比较多时,特别容易发生移动路径22内的粉粒体P的流动不均匀的现象,因此,可以说,在上述情况下,M/m≥1.5的大小关系成立尤其有效。
上述M/m至少为1.5以上,优选为2以上,更优选为3以上。此外,关于上述M/m的上限,从使移动路径22内的粉粒体P更均匀地流动的观点出发,优选为80以下,更优选为8以下。
关于上述M/m的调整,能够通过相对于任意设定的目标散布量m,适当调整粉粒体P从排出口23的每单位时间(1分钟)的排出量M而实施,此外,关于排出量M的调整,能够通过适当调整排出口23的俯视形状和尺寸(最大长度D、W)而实施。其原因在于,粉粒体P会因自重从排出口23自由落下而被排出,因此该每单位时间(1分钟)的排出量M很大程度依赖于排出口23的形状和尺寸。
如此,上述(i)和(ii)均是为了能够应对粉粒体P的每单位时间(1分钟)的散布量(目标散布量m)比较多的情况而采用的,且与排出口23紧密相关。像这样,通过以满足上述(i)和(ii)的方式构成排出口23,即使在粉粒体P的每单位时间(1分钟)的散布量比较多的情况下,也能够期待能够将粉粒体P相对于基材100在CD上均匀且定量性好地进行散布。
本发明者经过各种研究后判明,当目标散布量m比较多时,优选除了满足上述(i)和(ii)之外,还满足以下(iii)。即,本发明者发现,如图4所示,当假设将排出口23向运送机构3(接收机构30的上表面30a)延长时形成在排出口23与运送机构3之间的间隙内的、排出口23的假想延长区域23V与目标散布量m的关系处于特定范围是很重要的。
(iii)当将粉粒体P的体积密度设为ρ,将排出口23的面积设为S,将排出口23与运送机构3的间隔距离设为G时,m/(ρ×S×G)为21/min以上[m/(ρ×S×G)≥21]。上述m/(ρ×S×G)的单位为[/min]。
关于上述(iii),ρ×S×G相当于与假想延长区域23V(参照图4)的体积为相同体积的粉粒体P的质量。根据本发明者的见解,若假想延长区域23V的体积增大、或者目标散布量m变小,则有粉粒体P对基材100的散布精度下降的倾向。考虑到上述倾向,经过多次研究导出上述“m/(ρ×S×G)≥20”的大小关系。通过使m/(ρ×S×G)为21/min以上,能够与上述(i)和(ii)的效果相辅相乘而发挥本发明的指定效果。即,由于移动路径22上的粉粒体P的流动稳定化且粉粒体P的流动性提升,因此即使在粉粒体P的每单位时间(1分钟)的散布量(目标散布量m)比较多时,而且在粉粒体P并非正球状时或粒度分布比较广时,粉粒体P也不易发生堵塞,能够将粉粒体P在MD(基材100的长度方向)和CD(基材100的宽度方向)该两个方向上均匀且高精度地定量散布在连续输送的基材100上。
上述m/(ρ×S×G)至少为21/min以上,优选为30/min以上,更优选为50/min以上,进而优选为100/min以上。此外,关于上述m/(ρ×S×G)的上限,从使运送机构3上的粉粒体P的流动更均匀的观点出发,优选为1000/min以下,更优选为800/min以下,进而优选为650/min以下。
粉粒体P的体积密度ρ能够通过公知的方法测量。本发明的体积密度ρ是将粉粒体P填充在一定容积的容器内,将该容器的内部容积视为粉粒体P的填充体积时的密度。作为能够利用的测量法的具体例,例如有基于JISZ2504:2012、JISZ2512:2012的测量法等。
关于上述m/(ρ×S×G)的调整,能够通过相对于任意设定的目标散布量m、为固有值的粉粒体P的体积密度ρ,以粉粒体P的最大粒径r为基准地适当调整排出口23的面积S和/或排出口23与运送机构3的间隔距离G而实施。
排出口23的面积S与粉粒体P的最大粒径r的平方值的比[S/(r×r)]优选为4以上,更优选为1000以上,而且优选为5000以下,更优选为1100以下。上述S/(r×r)的单位为无量纲。
间隔距离G与粉粒体P的最大粒径r的比[G/r]优选为1以上,更优选为3以上,进而优选为5以上,而且优选为20以下,更优选为10以下。上述G/r的单位为无量纲。
若粉粒体P的每单位时间(1分钟)的散布量(目标散布量m)增多,则有移动路径22等料斗2的内部的粉粒体P的流动容易变得不均匀的倾向,推测其原因在于料斗2内的粉粒体P受到的外力(剪切力或摩擦力)增加。此外,该料斗2内的粉粒体P受到的外力与m/(ρ×(D/r)2)密切相关。因此,通过适当控制该“m/(ρ×(D/r)2)”,与满足上述(i)至(iii)所得的作用效果相辅相成,能够更可靠地在基材100的CD上将粉粒体P均匀且定量性良好地进行散布。上述m/(ρ×(D/r)2)的单位为[mm3/min]。
关于上述m/(ρ×(D/r)2)的上限,主要从防止粉粒体P滞留在划分形成移动路径22的排出部21的侧壁的内表面21i的不良状况,从而实现粉粒体P的流动均匀化的观点出发,优选为100000mm3/min以下,更优选为80000mm3/min以下。
关于上述m/(ρ×(D/r)2)的下限,主要从防止粉粒体P的流动紊乱从而实现粉粒体P的流动均匀化的观点出发,优选为1500mm3/min以上,更优选为30000mm3/min以上。
关于上述m/(ρ×(D/r)2)的调整,能够通过相对于任意设定的目标散布量m、为固有值的粉粒体P的体积密度ρ,适当调整排出口23(移动路径22)的MD的最大长度D而实施。
从在基材100的CD上将粉粒体P均匀且定量性良好地进行散布的观点出发,排出口23的MD的最大长度D与粉粒体P的最大粒径r(参照图4)的比、即D/r优选为2以上,更优选为6以上。即,优选为“2≤D/r”成立。通过采用该结构,能够有效防止粉粒体P在排出口23发生堵塞。此外,关于上述D/r的上限,从实现移动路径22内的粉粒体P的流动均匀化的观点出发,优选为30倍以下,更优选为15倍以下。
从在基材100的CD上将粉粒体P均匀且定量性良好地进行散布的观点出发,也优选移动路径22中,粉粒体P的排出方向的长度H(参照图2和图3)为粉粒体P的最大粒径r的1倍以上(1≤H/r)。通过采用该结构,能够有效防止粉粒体P在移动路径22发生堵塞,能够将粉粒体P对基材100在CD上均匀且定量性良好地进行散布。移动路径22的长度H与粉粒体P的最大粒径r的比、即H/r优选为5以上,更优选为10以上。作为移动路径22的长度H的上限值,从粉粒体P的流动的稳定化的观点出发,并无限制,能够从装置的适当大小的观点出发来决定,例如,H/r的上限优选为100以下。
从使料斗2内的粉粒体P的流动稳定化和流动性进一步提升的观点出发,料斗2的接触粉粒体P的内表面的相对于水平方向的角度θ1(参照图1)优选为粉粒体P的安息角θ(repose angle,休止角)(参照图4)以上。另外,当料斗2中的接触粉粒体P的内表面如倾斜内表面20is那样为与水平方向和铅垂方向这两个方向交叉的倾斜内表面时,该内表面相对于水平方向的角度θ1是指锐角侧的角度。
本实施方式中,如图3所示,关于料斗2(储藏部20和排出部21)的侧壁,除了具有倾斜内表面20is的储藏部20的倾斜侧壁20s以外,全部为沿与水平方向正交的垂直方向(更具体而言为铅垂方向)延伸的垂直壁,这些垂直壁的内表面20i、21i相对于水平方向的角度θ1为90°,大于粉粒体P的安息角θ,此外,倾斜内表面20is相对于水平方向的角度θ1与粉粒体P的安息角θ相等或大于粉粒体P的安息角θ。
料斗2的接触粉粒体P的内表面相对于水平方向的角度θ1与粉粒体P的安息角θ的比即θ1/θ优选为1.2以上,更优选为1.5以上。θ1优选为1.2θ以上且90°以下,更优选为1.5θ以上且90°以下。
从稳定提高粉粒体P对基材100的散布精度的观点出发,如图4所示,通过排出口23的中心且沿垂直方向(铅垂方向)延伸的虚拟直线VL与运送机构3(接收机构30的上表面30a)的交点23A的与间隔距离G、粉粒体P的安息角θ的关系,优选处于距运送机构3的MD的下游侧端3DE为G/tanθ以上且15G以下的范围。换言之,运送机构3(接收机构30)的下游侧端3DE与交点23A的间隔距离L优选为G/tanθ以上且15G以下。就粉粒体P的散布精度而言,上述间隔距离L越短越好,但若间隔距离L过短,则从排出口23排出的粉粒体P可能会不接触运送机构3而直接散布在位于其下方的基材100上,可能反而阻碍散布精度的稳定提升。间隔距离L更优选为G/tanθ以上且10G以下。
图6中表示本发明的粉粒体散布装置的其它实施方式的主要部分。关于下述其他实施方式,主要说明不同于上述粉粒体散布装置1的构成部分,对于相同的构成部分标注相同的附图标记并省略说明。未特别说明的构成部分能够适当采用上述粉粒体散布装置1的相关说明。
图6所示的粉粒体散布装置1A、1B各自的运送机构不同于上述粉粒体散布装置1。
图6的(a)所示的粉粒体散布装置1A中的运送机构3A构成为包含配置在料斗2的排出口23下方且绕旋转轴旋转的圆筒状的运送辊32,由运送辊32的外周面接收从排出口23排出的粉粒体P,从该接收位置起,通过运送辊32的旋转而使上述粉粒体P落至位于运送辊32下方的基材(未图示)而散布于该基材。
图6的(b)所示的粉粒体散布装置1B中的运送机构3B构成为包含架设于驱动辊33和从动辊34的环形运送带35,由运送带35接收从排出口23排出的粉粒体P,从该接收位置起,通过运送带35的移动,使上述粉粒体P落至位于运送带35下方的基材(未图示)而散布于该基材。
以上,对本发明基于其优选实施方式进行了说明,但本发明并不受上述实施方式的限制,能够在不脱离本发明的主旨的范围内适当变更。
例如,料斗2的排出部21的排出口23的俯视形状并不限于图3所示的长方形形状,能够任意设定为圆形、椭圆形、多边形形状等,例如,能够为图7的(a)所示的长圆形状、或者图7的(b)所示的一个方向上较长的五边形以上的多边形形状。然而,如上所述,排出口23的俯视形状优选为CD上的最大长度比MD上的最大长度长的“一个方向上较长的形状”,图示的任一排出口23均为其具体例。
此外,排出口23也可以在CD上被分割成多个部分,排出部21具有与该多个部分一一对应的多个移动路径22,此时,多个移动路径22(排出口23)能够分别采用上述移动路径22的相关说明。
实施例
以下,利用实施例更具体地对本发明进行说明,但本发明并不限于上述实施例。
〔实施例1~4和比较例1~3〕
使用基本结构与上述粉粒体散布装置1相同的粉粒体散布装置,将粉粒体(吸水性聚合物粒子)散布于在一个方向上被连续输送的基材上。使用的粉粒体散布装置中的料斗的内外表面全部(包括内侧壁)由不锈钢形成。粉粒体的最大粒径r通过动态光散射法测量,作为测量装置,使用株式会社堀场制作所制造的激光衍射/散射式粒径分布测量装置LA950V2。
由粉粒体散布装置连续地实施粉粒体向基材的散布工序约50小时,评价该散布工序中料斗的排出口有无堵塞(移动路径内的粉粒体的滞留等)。此外,利用计量装置评价粉粒体的供给精度。将这些评价结果和使用的粉粒体散布装置的各部分的尺寸、散布的粉粒体的物性值等示于下述表1中。
上述“散布工序中料斗的排出口有无堵塞”是目测确认的。
作为上述“粉粒体的供给精度”的评价指标,除了标准偏差之外,还使用了变动系数(Coefficient of Variation:CV)。变动系数根据下述式(1)算出。
变动系数(%)=(标准偏差/粉粒体的平均散布量)×100……(1)
标准偏差、变动系数均是数值越小则粉粒体的每单位时间(1分钟)的散布量的不均越小,评价越高。尤其变动系数是不受数据规模(平均)影响的指标,可以说变动系数的值越小越优选。
此外,表1中的“操作量范围”能够根据下述式(2)算出。
操作量范围(g/min/%)=粉粒体的每单位时间(1分钟)的散布量(g)/运送机构输出……(2)
上述式(2)中,“运送机构输出”表示本实施例中运送机构中构成的振动产生机构的输出值。例如当振动产生机构是与电压值的大小成正比例地控制振动的大小的装置时,运送机构输出=(输出电压值/最大电压值)×100。“操作量范围”是散布量的调整范围的指标,操作量范围的值越小,则散布量的可调整范围越广,评价越高。
[表1]
Figure GDA0003323087960000181
可知实施例1与比较例4相比、以及实施例2与比较例3相比,目标散布量m分别相同,但供给精度的评价指标即标准偏差和变动系数小,供给精度优良。即m/(ρ×S×G)≥21的大小关系对于供给精度是有效的。
可知实施例2与比较例1相比,目标散布量m相同,标准偏差和变动系数大致相等,W/D≤100的大小关系对于排出部的堵塞是有效的。
此外可知实施例3与比较例2相比,目标散布量m相同,满足W/D≤100的大小关系,M/m≥1.5的大小关系对于达成目标散布量是有效的。
可知实施例3与实施例1相比,分别全部满足W/D≤100、M/m≥1.5、m/(ρ×S×G)≥21/min这3种大小关系,因此排出口无堵塞,而且因为变动系数小,所以目标散布量m越大,本发明的定量性良好地散布的效果较高。进而可知,因为实施例3中操作量范围也小,所以目标散布量m的调整范围大,是有利的。
[产业上的可利用性]
根据本发明,能够相对于连续输送的基材,将粉粒体在该基材的宽度方向(与运送方向正交的方向)上均匀且定量性良好地进行散布。

Claims (30)

1.一种粉粒体散布装置,其具有料斗和运送机构,该料斗具有:在内部能够暂时储藏粉粒体的储藏部;用于排出该储藏部内的粉粒体的排出口;和将该储藏部与该排出口之间连结的粉粒体用移动路径,该运送机构与该排出口隔着规定的间隔距离而配置,将因自重从该排出口自由落下而排出的粉粒体在规定的一个方向上运送,并散布在被连续输送的基材上,所述粉粒体散布装置的特征在于:
当令所述排出口的所述运送机构对粉粒体的运送方向上的最大长度为D,令该排出口的与该运送方向正交的方向上的最大长度为W时,W/D为100以下,
当令粉粒体从所述排出口的每1分钟的排出量为M,令所述运送机构对粉粒体的每1分钟的散布量的目标值为m时,M/m为1.5以上,
当令粉粒体的体积密度为ρ,令所述排出口的面积为S,令所述排出口与所述运送机构的间隔距离为G时,m/(ρ×S×G)为21/min以上。
2.如权利要求1所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述W/D为80以下。
3.如权利要求1或2所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述W/D为1以上。
4.如权利要求1~3中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述m/(ρ×S×G)为30/min以上。
5.如权利要求1~4中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述m/(ρ×S×G)为1000/min以下。
6.如权利要求1~5中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述M/m为80以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述M/m为2以上。
8.如权利要求1~7中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,m/(ρ×(D/r)2)为100000mm3/min以下。
9.如权利要求1~8中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,所述m/(ρ×(D/r)2)为1500mm3/min以上。
10.如权利要求1~9中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,D/r为2以上。
11.如权利要求1~10中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,D/r为30以下。
12.如权利要求1~11中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,W/r为3以上。
13.如权利要求1~12中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,W/r为1000以下。
14.如权利要求1~13中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,S/(r×r)为4以上。
15.如权利要求1~14中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,S/(r×r)为5000以下。
16.如权利要求1~15中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,G/r为1以上。
17.如权利要求1~16中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
当令粉粒体的最大粒径为r时,G/r为20以下。
18.如权利要求1~17中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于,包括:
计量装置,其连续计量所述料斗和该料斗内储藏的粉粒体的总质量;和
控制机构,其测量该总质量的每单位时间的变化量,且根据该变化量进行该运送机构的运送能力的控制,使得所述运送机构对粉粒体的每单位时间的散布量与所述目标值m一致。
19.如权利要求18所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述计量装置连续计量粉粒体的总质量是指计量数据的采样时间超过0秒且为1秒以下。
20.如权利要求18或19所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述控制机构连接于在所述料斗的所述储藏部上设置的粉体供给装置,还具有控制粉粒体向该储藏部内的供给的功能。
21.如权利要求18~20中任一项所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述运送机构包括:接收从所述料斗排出的粉粒体的接收机构;和使该接收机构振动的振动产生机构。
22.如权利要求21所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述振动产生机构固定于所述接收机构的粉粒体非接触部的下表面。
23.如权利要求21或22所述的粉粒体散布装置,其特征在于:
所述控制机构控制施加于所述振动产生机构的电压和/或频率。
24.一种粉粒体的散布方法,其特征在于:
具有使用如利要求1~23中任一项所述的粉粒体散布装置,对被连续输送的基材散布粉粒体的工序。
25.如权利要求24所述的粉粒体的散布方法,其特征在于:
所述目标值m为1g/min以上。
26.如权利要求24或25所述的粉粒体的散布方法,其特征在于:
所述目标值m为100000g/min以下。
27.一种含粉粒体的物品的制造方法,该含粉粒体的物品具有基材和以与该基材接触的方式配置的粉粒体,所述含粉粒体的物品的制造方法的特征在于:
具有使用如权利要求1~23中任一项所述的粉粒体散布装置,对被连续输送的基材散布粉粒体的工序。
28.如权利要求27所述的含粉粒体的物品的制造方法,其特征在于:
所述粉粒体为吸水性聚合物或电解质。
29.如权利要求27或28所述的含粉粒体的物品的制造方法,其特征在于:
所述目标值m为1g/min以上。
30.如权利要求27~29中任一项所述的含粉粒体的物品的制造方法,其特征在于:
所述目标值m为100000g/min以下。
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