JP6875251B2 - 塗布方法および塗布装置 - Google Patents

Description

この発明は、塗布方法および塗布装置に関し、特に、塗布ヘッドに設けられたノズルから塗布材料を吐出して被塗布物に塗布する塗布方法および塗布装置に関する。

従来、インクジェット方式などの塗布ヘッドに設けられたノズルから塗布材料を吐出して被塗布物に塗布する技術が知られている（たとえば、特許文献１参照）。

上記特許文献１には、表示装置の画素を構成するためのディスプレイ材料を塗布材料として、インクジェット方式により塗布することが開示されている。ディスプレイ材料は、液晶表示装置のカラーフィルタ材料や、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置の発光材料であり、表示装置の画素毎に塗布される。被塗布物は、液晶表示装置やＥＬ装置の基板である。上記特許文献１では、塗布ヘッドに直線状に並んで設けられた複数のノズルを、基板の各列の画素に割り当てて、塗布ヘッドを基板に対して列方向に走査させながらノズルから塗布材料を吐出させることにより、走査方向（列方向）に並ぶそれぞれの画素に塗布材料を順番に塗布していく。

特開２００２−２７３８６８号公報

上記特許文献１のように表示装置の画素を構成する塗布材料を塗布する場合には、通常、画素毎の塗布量のばらつきを極力抑制することが求められる。しかし、塗布ヘッドの各ノズルには吐出量のばらつきが存在するため、同一ノズルで塗布可能な画素列内では塗布量が均一になるものの、別々の画素列間での塗布量はばらつくことになるため、表示画面全体では画素列に対応するスジ状の塗布ムラ（いわゆるスジムラ）が隣接する画素列間に発生する。人間の視覚は、規則性のある形態に対して高い感度を有するため、規則性の高い直線状のスジムラは、たとえ設計仕様上の許容誤差範囲内に十分収まるような微小な塗布量の誤差であっても、問題になる場合がある。

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、スジムラの発生を抑制することが可能な塗布方法および塗布装置を提供することである。

上記目的を達成するために、この発明の第１の局面による塗布方法は、塗布材料を吐出するノズルを複数含む１つまたは複数の塗布ヘッドと、被塗布物とを相対移動させ、被塗布物の塗布領域に画素単位で塗布材料を吐出する塗布方法であって、画素に対する塗布量の許容誤差範囲内に、数値範囲の中心が互いに異なる複数の個別誤差範囲を設けるステップと、塗布領域に含まれる複数の画素の各々に対して、異なる個別誤差範囲が混在するように個別誤差範囲を設定するステップと、設定された個別誤差範囲に基づいて、塗布領域に含まれる画素に対して塗布ヘッドにより塗布材料を塗布するステップと、を備える。

ここで、本明細書において、許容誤差範囲とは、被塗布物の設計仕様上、許容される誤差範囲である。個別誤差範囲とは、許容誤差範囲内に含まれる誤差範囲であり、許容誤差範囲外には設定されない。各々の個別誤差範囲は、いずれも許容誤差範囲内に含まれるが、互いに異なる誤差範囲として設定される。個別誤差範囲が互いに異なるとは、完全に一致（誤差範囲の上限値および下限値の両方が一致）するものではないことを意味し、部分的に重複することを許容する。異なる個別誤差範囲が混在するとは、塗布領域において、異なる個別誤差範囲が設定された画素が入り交じっていることを意味し、たとえば塗布領域を半分に分割して、一方に属する画素に個別誤差範囲Ａ、他方に属する画素に個別誤差範囲Ｂ（Ａとは異なる）を設定する構成や、個別誤差範囲の設定を画素列単位で異ならせるような構成は除外する。また、異なる個別誤差範囲が混在するとは、互いに隣接する画素の個別誤差範囲が異なっている場合のみならず、たとえば２画素、３画素、４画素、・・・、９画素などの、総画素数に対して十分に少数の複数画素を単位として、個別誤差範囲が設定される場合も含む広い概念である。

第１の局面による塗布方法では、上記のように、画素に対する塗布量の許容誤差範囲内に、互いに異なる複数の個別誤差範囲を設けるステップと、塗布領域に含まれる複数の画素の各々に対して、異なる個別誤差範囲が混在するように個別誤差範囲を設定するステップとを設ける。これにより、許容誤差範囲内でありながら、異なる個別誤差範囲に設定された画素を、塗布領域中に混在するように分布させることができる。すなわち、画素毎の塗布量のばらつきを極力抑制するのではなく、許容誤差範囲内で敢えて塗布量をばらつかせるように、異なる個別誤差範囲を設定した画素を塗布領域内で混在させることができる。そして、設定された個別誤差範囲に従って各画素を塗布することにより、塗布領域内の各画素に対する塗布量を、許容誤差範囲内で適度にばらつかせることができる。ここで、スジムラは、（１）塗布量が一致する画素ラインが形成されること、（２）隣接する画素ライン間で塗布量が異なること、によって形成されるので、塗布量が許容誤差範囲内でばらつく画素が塗布領域内に混在することにより、（１）および（２）の条件に合致する画素群が形成されることが抑制される。その結果、塗布領域中におけるスジムラの発生を抑制することができる。

上記第１の局面による塗布方法において、好ましくは、画素に設定した個別誤差範囲に応じて、１つまたは複数の塗布ヘッドに含まれる複数のノズルの内から、塗布に使用するノズルの組み合わせを選択するステップをさらに備え、塗布材料を塗布するステップにおいて、塗布を行う画素について、選択した組み合わせのノズルにより、複数回に分けて塗布材料を塗布する。ここで、個々のノズルは、塗布材料の吐出量に微小なばらつきが存在し、各々のノズルの吐出量は予め測定によって把握できる。そこで、各々のノズルの吐出量のばらつきを把握した上で、塗布に使用する複数のノズルの組み合わせを選択し、選択した複数のノズルを用いて複数回に分けて画素の塗布を行うことによって、単一のノズルの吐出量を調整するよりも精密な塗布量（合計塗布量）の制御が可能となる。これにより、許容誤差範囲よりも狭い個別誤差範囲を設定する場合でも、設定した個別誤差範囲内に収まるように、精密な塗布量の制御ができる。

この場合、好ましくは、ノズルの組み合わせを選択するステップにおいて、塗布領域の所定の第１方向の画素列について、塗布ヘッドに含まれる１つのノズルにより塗布を行う画素と塗布を行わない画素とが塗布領域内で混在するように、塗布に使用するノズルの組み合わせを選択し、塗布材料を塗布するステップにおいて、塗布ヘッドと、被塗布物とを第１方向に相対移動させ、第１方向の画素列中の、ノズルにより塗布を行う画素に対して塗布を行う。このように構成すれば、塗布ヘッドを走査させて画素列の塗布を行う場合でも、画素列に含まれる全ての画素を１つのノズルを用いて塗布するのではなく、１つのノズルが塗布する画素を画素列中で点在させることができる。その結果、画素列中で塗布量が一致する画素ラインが形成されることが抑制されるので、塗布領域中におけるスジムラの発生を抑制することができる。

上記塗布に使用するノズルの組み合わせを選択するステップを備える構成において、好ましくは、選択したノズルの組み合わせの内から、塗布領域の所定の第１方向の一方に向かう往路塗布動作において塗布に使用するノズルと、第１方向の他方に向かう復路塗布動作において塗布に使用するノズルとを割り当てるステップをさらに備え、塗布材料を塗布するステップにおいて、塗布ヘッドと被塗布物とを第１方向の一方と他方とに往復するように相対移動させ、それぞれ割り当てられたノズルにより、往路塗布動作および復路塗布動作を行う。ここで、塗布ヘッドと被塗布物とを相対移動（走査）させながら塗布する方式では、往路移動時にある画素列を塗布し、復路移動時に隣接する画素列を塗布した場合などに、塗布後の画素内で、移動方向（往路、復路）に応じた塗布材料の微小な偏りが生じることに起因して、走査方向に延びるムラ（いわゆるスワスムラ）が生じることがある。そこで、選択したノズルの組み合わせの内から、往路塗布動作において塗布に使用するノズルと、復路塗布動作において塗布に使用するノズルとを割り当てることによって、選択されたノズルの組み合わせで同一の画素を複数回に分けて塗布する際に、往路と復路との両方で塗布することができる。その結果、移動方向に応じた塗布材料の微小な偏りが形成されることが抑制できるので、スジムラのみならず、スワスムラが形成されることを抑制することができる。

上記塗布に使用するノズルの組み合わせを選択するステップを備える構成において、好ましくは、ノズルの組み合わせを選択するステップにおいて、１つの塗布ヘッドに含まれる複数のノズルを、複数のノズルグループに区分し、画素に設定した個別誤差範囲に応じて、各々のノズルグループに含まれる塗布可能ノズルのうちから、塗布に使用するノズルの組み合わせを選択する。このように構成すれば、１つの塗布ヘッド内でグループ分けされた複数のノズルグループの各々から、塗布に使用するノズルを選択できるので、複数の塗布ヘッドを備えない構成においても、塗布に使用するノズルの組み合わせを選択することによって塗布量の精密な制御が可能となる。

上記第１の局面による塗布方法において、好ましくは、個別誤差範囲を設定するステップにおいて、塗布領域の所定の第１方向の画素列について、複数の個別誤差範囲が混在するように個別誤差範囲を設定し、塗布材料を塗布するステップにおいて、塗布ヘッドと、被塗布物とを第１方向に相対移動させ、第１方向の画素列に塗布を行う。このように構成すれば、走査方向である第１方向の画素列内において、個別誤差範囲の異なる画素を混在させて塗布量をばらつかせることができる。その結果、スジムラの原因となる塗布量が一致する画素ラインが形成されること、を効果的に抑制することができる。

この場合、好ましくは、個別誤差範囲を設定するステップにおいて、塗布領域の第１方向と直交する第２方向の画素列について、複数の個別誤差範囲が混在するように個別誤差範囲を設定する。このように構成すれば、走査方向と直交する第２方向の画素列内において、個別誤差範囲の異なる画素を混在させて塗布量をばらつかせることができる。その結果、第２方向の画素列においても、スジムラの原因となる塗布量が一致する画素ラインが形成されること、を効果的に抑制することができる。

上記第１の局面による塗布方法において、好ましくは、個別誤差範囲を設定するステップにおいて、塗布領域に含まれる画素の各々に対して、異なる個別誤差範囲が混在するように個別誤差範囲を画素毎に設定する。このように構成すれば、個別誤差範囲をそれぞれの画素単位で設定するので、より緻密に、画素毎の塗布量を許容誤差範囲内でばらつかせることができる。その結果、スジムラの発生を効果的に抑制できるとともに、塗布量のばらつきに起因するその他のムラが発生することも抑制できる。

この発明の第２の局面による塗布装置は、塗布材料を吐出するノズルを複数含む１つまたは複数の塗布ヘッドを備え、塗布ヘッドにより、上記第１の局面による塗布方法を実施する。

第２の局面による塗布装置では、上記のように、塗布ヘッドにより、上記第１の局面による塗布方法を実施することによって、塗布領域内の各画素に対する塗布量を、許容誤差範囲内で適度にばらつかせることができるので、塗布領域中におけるスジムラの発生を抑制することができる。

本発明によれば、上記のように、スジムラの発生を抑制することができる。

第１実施形態による塗布方法を実施する塗布装置の概要を示す図である。 塗布ヘッドの各ノズルと画素との位置関係を示した図である。 第１実施形態の塗布方法の流れを示したフロー図である。 許容誤差範囲と個別誤差範囲とを示した図である。 個別誤差範囲の第１の設定例を示した図である。 個別誤差範囲の第２の設定例を示した図である。 個別誤差範囲の第３の設定例を示した図である。 ノズル毎の吐出量の例と、ノズルの組み合わせの例とを示した図である。 個別誤差範囲に対応するノズルの組み合わせの選択例を示した図である。 往路塗布動作および復路塗布動作を行う例を示した図である。 １番ヘッドにより塗布する画素を示した図である。 ２番ヘッドにより塗布する画素を示した図である。 ３番ヘッドにより塗布する画素を示した図である。 ４番ヘッドにより塗布する画素を示した図である。 ５番ヘッドにより塗布する画素を示した図である。 ６番ヘッドにより塗布する画素を示した図である。 比較例によるスジムラが形成される状況を示した図である。 第１実施形態の塗布方法を実施した場合の図１７に対応する図である。 個別誤差範囲に対応するノズルの組み合わせ選択の変形例を示した図である。 第２実施形態におけるノズルグループを説明するための図である。 第２実施形態の塗布方法を説明するための第１の図である。 第２実施形態の塗布方法を説明するための第２の図である。 第２実施形態の塗布可能ノズルを説明するための図である。 往路塗布動作または復路塗布動作で塗布を行う例を示した図である。 塗布ヘッドを走査方向と直交する方向にずらして配置する変形例を示した図である。 塗布ヘッドを傾斜させる変形例を示した図である。

以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。

［第１実施形態］
図１〜図１６を参照して、第１実施形態による塗布方法について説明する。

（塗布方法の概要）
第１実施形態による塗布方法は、塗布材料を吐出するノズル１２を複数含む１つまたは複数の塗布ヘッド１１と、被塗布物とを相対移動させ、被塗布物の塗布領域２１に画素Ｐ単位で塗布材料を吐出する塗布方法である。たとえば、塗布方法は、インクジェット方式などの印刷技術を用いて、被塗布物である基板２に塗布材料を塗布することにより、液晶表示装置、ＥＬ表示装置などの表示装置の表示基板を作製するための塗布方法である。

基板２は、ガラス基板のみならず、金属または樹脂などからなる基板、金属または樹脂などからなるフィルムであってもよい。基板２は、平面状形状でも曲面状形状でもよく、湾曲（屈曲）または伸縮するものであってもよい。基板２は、特許請求の範囲の「被塗布物」の一例である。被塗布物としては、基板２以外の立体物（非板状物体）でもよい。

塗布材料は、表示装置の画素を形成するためのディスプレイ用材料である。より具体的には、塗布材料は、各画素におけるＲＧＢ等（色数は任意である）の各色の発色用材料または発光用材料を含む。塗布材料は、たとえばカラーフィルタ材料、量子ドット材料、ＥＬ発光材料などである。

基板２には、塗布ヘッド１１を用いて塗布を行う対象となる塗布領域２１が設けられている。塗布領域２１には、ブラックマトリクスなどにより区画された複数の画素領域（画素Ｐが形成される領域）が形成されている。画素Ｐは、略同一形状、略同一ピッチで縦横にマトリクス状に配列される。マトリクス状配列の互いに直交する２方向を、それぞれＸ方向、Ｙ方向とする。Ｘ方向およびＹ方向は、それぞれ、特許請求の範囲の「第１方向」および「第２方向」の一例である。

第１実施形態の塗布方法は、塗布領域２１内の全ての画素Ｐに対して、それぞれ許容誤差範囲内の所定塗布量の塗布材料を画素Ｐ単位で塗布する。第１実施形態の塗布方法は、このように塗布領域２１内の全面などの広い範囲に渡って、画素Ｐ毎に塗布材料を均一に塗布する場合に、特に好適である。

第１実施形態の塗布方法は、後述するように、画素Ｐに対して、許容誤差範囲内で個別誤差範囲を設定する塗布前の準備段階と、準備段階において設定した個別誤差範囲に従って、塗布ヘッド１１を用いて塗布を行う塗布段階とを含む。準備段階は、たとえば、塗布データ３１を作成するコンピュータ３の演算処理により実施される。塗布段階は、作成された塗布データ３１に従って、塗布ヘッド１１を備える塗布装置１によって実施される。

（塗布装置）
塗布装置１は、塗布材料を吐出するノズル１２を複数含む１つまたは複数の塗布ヘッド１１を備える。塗布装置１は、塗布ヘッド１１により、第１実施形態の塗布方法を実施するように構成されている。

具体的には、塗布装置１は、インクジェット方式の塗布装置であり、インクの液滴をノズル１２から吐出することにより基板２に塗布を行う。塗布装置１は、複数のノズル１２が設けられた塗布ヘッド１１を１つまたは複数備える。塗布ヘッド１１の数は、２個、３個、４個、５個、・・・、１０個、・・・１５個、などであってよく、特に限定されない。第１実施形態では、塗布装置１は、複数（たとえば６個）の塗布ヘッド１１を備える例を示す。

塗布ヘッド１１は、基板２に対して水平方向に相対移動し、基板２に設定された塗布領域２１の任意の位置に塗布を行うことが可能である。複数の塗布ヘッド１１を備える塗布装置１では、たとえば、水平方向に移動可能なヘッドユニット１３に、複数の塗布ヘッド１１が設けられ、ヘッドユニット１３の移動に伴って複数の塗布ヘッド１１が一体的に移動する。複数の塗布ヘッド１１がそれぞれ独立して移動可能に構成されていてもよい。

塗布装置１は、塗布ヘッド１１の移動および吐出を制御する制御部１４を備える。制御部１４が、塗布データ３１に基づいて塗布ヘッド１１を制御することにより、基板２への塗布材料の塗布が行われる。

塗布ヘッド１１（ヘッドユニット１３）は、たとえばリニアステージなどの直動機構の組み合わせによって移動可能に構成されている。すなわち、塗布装置１は、塗布ヘッド１１（ヘッドユニット１３）をＸ軸方向に移動させるＸ軸移動機構１５と、塗布ヘッド１１（ヘッドユニット１３）をＹ軸方向に移動させるＹ軸移動機構１６と、を備える。各軸の移動機構はエンコーダ（図示せず）を備えており、制御部１４は、エンコーダの出力信号（出力パルス数）に基づいて塗布ヘッド１１の位置制御を行う。

図２に示すように、個々の塗布ヘッド１１の各ノズル１２は、塗布を行う対象となる画素Ｐのピッチ（ここでは、Ｙ方向のピッチ）に合わせた所定間隔で配列されている。このため、図２の場合、塗布ヘッド１１は、Ｘ方向の画素列Ｌｘに対してそれぞれ１つのノズル１２を割り当てて、対応するノズル１２により、Ｘ方向の画素列Ｌｘに含まれる各画素Ｐに対する塗布を行うことが可能である。各ノズル１２は、塗布ヘッド１１に直線状に配列され、塗布ヘッド１１は、直線状のノズル１２の列が走査方向（Ｘ方向）と直交するＹ方向に沿うように配置されている。

図２の例では、複数（６個）の塗布ヘッド１１が、Ｘ方向に並んで配置されている。そのため、複数（６個）の塗布ヘッド１１の各々は、Ｘ方向の画素列Ｌｘに対してそれぞれ１つのノズル１２を割り当てることができる。言い換えると、Ｘ方向の１つの画素列Ｌｘに含まれる各画素Ｐに対しては、６個の塗布ヘッド１１の各々で割り当てられた合計６個のノズル１２うちから、任意のいずれか１つまたは複数のノズル１２を用いて、塗布を行うことができる。このため、塗布ヘッド１１をＸ方向に走査させることにより、複数の画素列Ｌｘを一括して塗布することが可能である一方、個々の画素Ｐに対して、Ｙ方向に並ぶ複数の塗布ヘッド１１の各々のノズル１２の内から１つまたは複数を選択的に用いて塗布を行うことができる。なお、たとえば複数（６個）の塗布ヘッド１１をＹ方向に所定画素数分だけ移動させることにより、別の複数（６個）のノズル１２を同じ画素列Ｌｘに割り当てることも可能である。

図１を参照して、塗布ヘッド１１は、たとえば塗布領域２１をＸ軸方向に走査（スキャン）して、ノズル数に応じた複数画素列分の塗布を行う。Ｘ軸方向に往復走査して、同一画素列の塗布を複数回に分けて行うこともできる。その後、塗布ヘッド１１は、Ｙ軸方向に所定量シフトして、次の複数画素列分の塗布を行う。この動作を繰り返すことにより、塗布装置１は、塗布領域２１の全体にわたる塗布作業を実行する。

塗布データ３１は、塗布領域２１において、塗布の対象となる画素Ｐを特定する情報と、画素Ｐ毎に、塗布に使用するノズル１２または塗布を行う塗布ヘッド１１を特定する情報とを含む。

コンピュータ３は、ＣＰＵなどのプロセッサ（図示せず）と、プログラムや各種データを記憶する記憶装置（図示せず）とを含む。コンピュータ３は、記憶装置に記憶されたプログラムをプロセッサにより実行することにより、塗布データ３１を生成する。コンピュータは、塗布装置１の制御部１４であってもよい。この場合、塗布装置１の制御部１４に必要なデータを提供するだけで、塗布データ３１を作成して塗布作業を実施できる。図１の例では、コンピュータ３は、塗布装置１（制御部１４）とは別個に設けられたコンピュータである。

（塗布方法の詳細内容）
図３に示すように、第１実施形態による塗布方法は、画素Ｐに対する塗布量の許容誤差範囲４０（図４参照）内に、互いに異なる複数の個別誤差範囲４１（図４参照）を設けるステップ（ステップＳ１）と、塗布領域２１に含まれる複数の画素Ｐの各々に対して、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定するステップ（ステップＳ２）と、設定された個別誤差範囲４１に基づいて、塗布領域２１に含まれる画素Ｐに対して塗布ヘッド１１により塗布材料を塗布するステップ（ステップＳ５）と、を備える。

〈複数の個別誤差範囲を設けるステップ〉
許容誤差範囲４０は、図４に示すように、画素Ｐへの塗布材料の塗布量の目標値を含む所定範囲として予め設定された数値範囲である。許容誤差範囲４０は、製造される物品（表示基板）の設計仕様として予め設定される。許容誤差範囲４０は、たとえば、目標値Ｔ［ｐＬ］に対して上下に幅を持って設定され、上限値および下限値を含む。許容誤差範囲４０は、割合（±［％］）あるいは量（±［ｐＬ］）の形式などで設定される。許容誤差範囲４０は、たとえば目標値Ｔ＝９０［ｐＬ］に対して、±１％などである。

個別誤差範囲４１は、許容誤差範囲４０内に含まれるように、許容誤差範囲４０よりも狭い範囲で設定される数値範囲である。個別誤差範囲４１は、塗布量の幅を持って設定され、上限値および下限値を含む。個別誤差範囲４１の上限値および下限値の一方が、許容誤差範囲４０の上限値および下限値の一方と一致してもよい。個別誤差範囲４１は、割合あるいは量の形式などで設定される。

個別誤差範囲４１は、許容誤差範囲４０内に複数設けられる。図４では、Ａ、ＢおよびＣの３つの個別誤差範囲４１を設ける例を示す。個別誤差範囲４１の数は、２つでもよいし、４つ以上でもよい。複数の個別誤差範囲４１は、互いに異なる範囲として設定される。すなわち、複数の個別誤差範囲４１は、互いに、少なくとも上限値および下限値の一方が異なる。言い換えると、複数の個別誤差範囲４１は、数値範囲の中心が互いに異なる。複数の個別誤差範囲４１は、数値範囲が完全に異なっている（重複しない）必要はなく、図４に示したように部分的に重複する範囲を含んでいてよい。個別誤差範囲４１の数および数値幅は、塗布装置１により制御可能な塗布量の精度に応じて設定される。

図４の例では、個別誤差範囲Ａは、許容誤差範囲４０内で、目標値に対してプラス側（塗布量が多い側）に偏った範囲に設定されている。個別誤差範囲Ｂは、許容誤差範囲４０内で、目標値を中心としたより狭い範囲（許容誤差範囲をより狭くした範囲）に設定されている。個別誤差範囲Ｃは、許容誤差範囲４０内で、目標値に対してマイナス側（塗布量が少ない側）に偏った範囲に設定されている。

図４のように個別誤差範囲Ａ〜Ｃが部分的に重複するケースでは、１つ１つの画素Ｐに着目すれば塗布量が一致する場合があり得るが、統計的には、個別誤差範囲Ａ、Ｂ、Ｃがそれぞれ設定された画素Ｐに対する塗布量は、個別誤差範囲Ａ、Ｂ、Ｃの数値範囲の相違を反映して許容誤差範囲４０内で異なるものとなる。

〈異なる個別誤差範囲が混在するように個別誤差範囲を設定するステップ〉
複数の個別誤差範囲４１が設けられると、ステップＳ２において、塗布領域２１に含まれる複数の画素Ｐの各々に対して、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１が設定される。つまり、各々の画素Ｐに、複数の個別誤差範囲４１のいずれか１つが割り当てられる。図５は、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定した例を示す。個々の画素Ｐを示す矩形領域内に付した「Ａ」、「Ｂ」、「Ｃ」の文字が、それぞれの画素Ｐに設定した個別誤差範囲４１を示す。

第１実施形態では、個別誤差範囲４１を設定するステップＳ２において、塗布領域２１の所定のＸ方向の画素列Ｌｘについて、複数の個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定する。すなわち、図５では、各々のＸ方向の画素列Ｌｘについて、それぞれＡ、Ｂ、Ｃの個別誤差範囲４１が混在するように設定されている。

また、第１実施形態では、個別誤差範囲４１を設定するステップＳ２において、塗布領域２１のＸ方向と直交するＹ方向の画素列Ｌｙについて、複数の個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定する。すなわち、図５では、各々のＹ方向の画素列Ｌｙについて、それぞれＡ、Ｂ、Ｃの個別誤差範囲４１が混在するように設定されている。

また、第１実施形態では、図５のように、個別誤差範囲４１を設定するステップＳ２において、塗布領域２１に含まれる画素Ｐの各々に対して、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を画素Ｐ毎に設定することが好ましい。すなわち、個別誤差範囲４１が、１画素単位で別々に設定されている。図５の例では、隣接する画素Ｐ同士に異なる個別誤差範囲４１が設定されており、同一の個別誤差範囲４１が複数の画素Ｐに渡って連続しないように設定されている。

図５の例では、３×３の９画素の領域内の画素Ｐについて、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を割り当てた、個別誤差範囲４１の誤差設定パターン５０が設定されている。９画素の領域に対する誤差設定パターン５０を他の９画素の領域にも適用することにより、塗布領域２１の各々の画素Ｐの個別誤差範囲４１が設定されている。この場合、たとえば使用者が９画素の領域内の画素Ｐに対する誤差設定パターン５０をコンピュータ３に入力すれば、入力した誤差設定パターン５０を繰り返し適用するだけで、容易に、塗布領域２１の全体に渡って異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定することが可能である。誤差設定パターン５０のサイズ（画素数）は任意であり、２×２画素、４×４画素などでもよい。誤差設定パターン５０は、縦横（ＸＹ方向）の画素数が異なっていてもよい。

個別誤差範囲４１の設定は、画素毎ではなく、複数の画素Ｐを単位として行ってもよい。図６の例では、２×２の４画素を単位として個別誤差範囲４１を設定した例を示す。図６の場合、４画素の単位領域５１の間では同一の個別誤差範囲４１が設定されるものの、塗布領域２１の全体としては、単位領域５１同士の間で、異なる個別誤差範囲４１が混在している。単位領域５１に含まれる画素数は、必ずしも限定されないが、画素サイズ（画素の縦横寸法）や画素ピッチに応じて、ブロック状の塗布ムラとして視認されない程度に小さな画素数に設定するのが好ましい。

図６の例では、Ｘ方向およびＹ方向の各々に、個別誤差範囲（Ａ〜Ｃ）が順番にＡ、Ｂ、Ｃ、Ａ、・・・と並ぶように単位領域５１の個別誤差範囲４１を設定することにより、Ｘ方向およびＹ方向の各方向の画素列について、異なる個別誤差範囲４１の設定を混在させている。

図５および図６では、それぞれの個別誤差範囲（Ａ〜Ｃ）が、規則性を有する配列となるように設定した例を示した。つまり、図５では、３×３の９画素の誤差設定パターン５０を規則的に繰り返し、図６では、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ａ、・・・という規則的なパターンで、単位領域５１の個別誤差範囲４１を設定した。図７に示すように、個別誤差範囲４１は、個別誤差範囲が完全にランダムか、またはランダムと見なせる程度に複雑な規則性を有する（以下、擬似ランダムとする）ように、設定してもよい。

図７では、Ｘ方向およびＹ方向に、特定の規則性を持たない（規則性を持たないと見なせる）ように、それぞれの個別誤差範囲（Ａ〜Ｃ）を設定した例を示す。ただし、ランダム設定または擬似ランダム設定の場合、偶然に、同じ個別誤差範囲が設定された画素Ｐが、直線状に多数並ぶ可能性がある。その場合、たとえばコンピュータ３により、予め設定した所定数以上は同じ個別誤差範囲が連続しない条件下で、ランダムな配列となるように個別誤差範囲４１の設定が自動生成されうる。

なお、ここではＸ方向の画素列Ｌｘ、Ｙ方向の画素列Ｌｙについて、異なる個別誤差範囲４１の設定を混在させることについて説明したが、図５の例のように、同一の個別誤差範囲４１が斜め方向に直線状に並ぶことによって、斜め方向のスジムラが形成される場合には、Ｘ方向およびＹ方向に対して傾斜した斜め方向の画素列に含まれる画素Ｐに対して、異なる個別誤差範囲４１の設定が混在するように、個別誤差範囲４１を設定すればよい。

〈塗布に使用するノズルの組み合わせを選択するステップ〉
次に、各々の画素Ｐに対して、許容誤差範囲４０よりも狭い個別誤差範囲４１に収まるように、塗布材料の塗布量を制御するための方法を説明する。

図２に示したように、たとえば６個の塗布ヘッド１１（１番ヘッド〜６番ヘッドとする）を備える場合、１つの画素Ｐについて、Ｘ方向への走査によって塗布可能なノズル１２は、それぞれの塗布ヘッド１１について１つずつ、合計６個存在する。それぞれのノズル１２は、個体差により、吐出量が僅かに異なる。そこで、第１実施形態による塗布方法は、図３に示すように、画素Ｐに設定した個別誤差範囲４１に応じて、１つまたは複数の塗布ヘッド１１に含まれる複数のノズル１２の内から、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択するステップ（ステップＳ３）を備える。選択されたノズル１２の合計吐出量が、画素Ｐに設定された個別誤差範囲４１内に収まるように、塗布に使用するノズル１２の組み合わせが選択される。

たとえば、図８に示すように、画素Ｐに対する目標塗布量が９０［ｐＬ］である場合に、３つのノズル１２の組み合わせを選択する。この場合、ノズル１つ当たりの吐出量設定値を３０［ｐＬ］として、各ノズル１２の吐出量の差異（個体差）を利用して合計吐出量を調整する。

図８の例では、１番ヘッド〜６番ヘッドにおいて、それぞれのＮ番目のノズル１２（Ｘ方向に並ぶ６個のノズル）は、吐出量が２９．６１［ｐＬ］〜３０．５５［ｐＬ］の範囲でばらつく。各ノズル１２の吐出量は、実際に塗布動作を行って実測することにより取得でき、コンピュータ３は、予め測定された各ノズル１２の吐出量データを記憶装置に記憶している。

たとえば図８において、１番ヘッド、２番ヘッド、４番ヘッドの各々のＮ番ノズルが選択される場合が、組み合わせ１である。この場合、合計吐出量は８９．７９［ｐＬ］であり、誤差は−０．２３％となる。同様に、３番ヘッド、４番ヘッド、５番ヘッドの各々のＮ番ノズルが選択される組み合わせ２では、合計吐出量は９０．０３［ｐＬ］であり、誤差は＋０．０３％となる。３番ヘッド、５番ヘッド、６番ヘッドの各々のＮ番ノズルが選択される組み合わせ３では、合計吐出量は９０．３１［ｐＬ］であり、誤差は＋０．３４％となる。画素Ｐに対する許容誤差範囲４０が（±１％）であるとする。組み合わせ１〜３は、いずれも、許容誤差範囲４０の範囲内に収まる。

このように、ノズル１２の組み合わせを変更することにより、許容誤差範囲４０内で、目標値に対してプラス側（塗布量が多い側）やマイナス側（塗布量が少ない側）に偏った合計吐出量を実現することが可能である。

したがって、たとえば図９に示すように、許容誤差範囲４０が（±１％）であるのに対して、個別誤差範囲Ａを（０％〜＋１．０％）、個別誤差範囲Ｂを（−０．５％〜＋０．５％）、個別誤差範囲Ｃを（−１．０％〜０％）と設定する。この場合、個別誤差範囲Ａ（０％〜＋１．０％）が設定された画素Ｐについては、図８の組み合わせ３（＋０．３４％）が選択され、個別誤差範囲Ｂ（−０．５％〜＋０．５％）が設定された画素Ｐについては、組み合わせ２（＋０．０３％）が選択され、個別誤差範囲Ｃ（−１．０％〜０％）が設定された画素Ｐについては、組み合わせ１（−０．２３％）が選択される。

選択された組み合わせのノズル１２を用いて塗布を行うことにより、許容誤差範囲４０よりも狭い個別誤差範囲４１にも収まるように、塗布材料の塗布量を精密に制御することが可能である。

目標塗布量および組み合わせるノズルの数と、予め測定された各ノズル１２の吐出量データとに基づいて、コンピュータ３により、全ての組み合わせによる合計吐出量が算出される。同一の個別誤差範囲４１内に収まる合計吐出量を実現する組み合わせが複数存在する場合、いずれの組み合わせを採用してもよい。

〈往路塗布動作において塗布に使用するノズルと、復路塗布動作において塗布に使用するノズルとを割り当てるステップ〉
次に、Ｘ方向の各画素列Ｌｘに対する塗布を行う際に、往路塗布動作と復路塗布動作とに分けて、選択した組み合わせのノズル１２を往路塗布動作と復路塗布動作とに割り当てる処理を説明する。

図３に示した第１実施形態による塗布方法は、図１０に示すように、選択したノズル１２の組み合わせの内から、塗布領域２１の所定のＸ方向の一方に向かう往路塗布動作において塗布に使用するノズル１２と、Ｘ方向の他方に向かう復路塗布動作において塗布に使用するノズル１２とを割り当てるステップ（ステップＳ４）を備える。

なお、同一画素Ｐ（同一画素列Ｌｘ）に対する往路塗布および復路塗布は、何回行ってもよい。最小は往路塗布および復路塗布を各１回であるが、往路−復路−往路で合計３回の走査を行ってもよい。走査回数が４回以上でもよく、たとえば１回の走査につき１つの塗布ヘッド１１（１番ヘッド〜６番ヘッドのいずれか）での塗布を行うこととし、合計６回の走査を行ってもよい。

塗布に使用するノズル１２の組み合わせが選択されると、ステップＳ４では、選択された組み合わせにおける複数のノズル１２（複数の塗布ヘッド１１）の一部が往路塗布動作に割り当てられ、残りの一部が復路塗布動作に割り当てられる。

たとえば図９に示すように、個別誤差範囲Ａ（０％〜＋１．０％）に対して、組み合わせ３（３番ヘッド、５番ヘッド、６番ヘッドの各々のＮ番ノズル）が選択された場合、３番ヘッドおよび５番ヘッドによる塗布が往路塗布動作に割り当てられ、６番ヘッドによる塗布が復路塗布動作に割り当てられる、といった具合で割り当てがなされる。図９の４番ヘッドのように、個別誤差範囲Ｃ（−１．０％〜０％）で選択される組み合わせ１および個別誤差範囲Ｂ（−０．５％〜＋０．５％）で選択される組み合わせ２の両方で使用されるノズル１２を含む場合、個別誤差範囲Ｃが設定された画素Ｐおよび個別誤差範囲Ｂが設定された画素Ｐの両方を往路および復路の一方のみで塗布してもよいし、個別誤差範囲Ｃが設定された画素Ｐを往路および復路の一方で塗布し、個別誤差範囲Ｂが設定された画素Ｐを往路および復路の他方で塗布してもよい。

〈塗布ヘッドにより塗布材料を塗布するステップ〉
以上のステップ（Ｓ１〜Ｓ４）により、基板２の各画素Ｐに塗布材料を塗布するための塗布データ３１に必要な情報が生成される。コンピュータ３により塗布データ３１を作成し、作成した塗布データ３１に従って塗布装置１を動作させることにより、設定された個別誤差範囲４１に基づいて、塗布領域２１に含まれる画素Ｐに対して塗布ヘッド１１により塗布材料を塗布するステップ（ステップＳ５）が実施される。

すなわち、第１実施形態では、塗布を行う画素Ｐについて、選択した組み合わせのノズル１２により、複数回に分けて塗布材料を塗布する。たとえば図８および図９に示したように、各塗布ヘッド１１においてＮ番目のノズル１２が通過する画素列Ｌｘについて、個別誤差範囲Ａが設定された画素Ｐに対しては、選択された組み合わせ３に基づき、３番ヘッドのＮ番ノズル、５番ヘッドのＮ番ノズル、６番ヘッドのＮ番ノズル、の各々で合計３回の塗布が実施される。個別誤差範囲Ｂが設定された画素Ｐに対しては、選択された組み合わせ２に基づき、３番ヘッドのＮ番ノズル、４番ヘッドのＮ番ノズル、５番ヘッドのＮ番ノズル、の各々で合計３回の塗布が実施される。個別誤差範囲Ｃが設定された画素Ｐに対しては、選択された組み合わせ１に基づき、１番ヘッドのＮ番ノズル、２番ヘッドのＮ番ノズル、４番ヘッドのＮ番ノズル、の各々で合計３回の塗布が実施される。

したがって、第１実施形態では、塗布材料を塗布するステップＳ５において、塗布ヘッド１１と、基板２とをＸ方向に相対移動（走査）させ、Ｘ方向の画素列Ｌｘ中の、ノズル１２により塗布を行う画素Ｐに対して塗布を行う。すなわち、塗布ヘッド１１に含まれる１つのノズル１２により、塗布を行う画素Ｐと塗布を行わない画素Ｐとが塗布領域２１内で混在するため、塗布ヘッド１１を走査させる際に、塗布を行う画素Ｐに対してノズル１２から塗布材料を吐出させつつ、塗布を行わない画素Ｐに対してはノズル１２から塗布材料を吐出させないように各ノズル１２の吐出制御が行われる。

図１１〜図１６は、各々の塗布ヘッド１１について、すべてのノズル１２について採用される組み合わせが同一であると仮定した場合の、塗布ヘッド１１毎に塗布を行う画素を示している。実際には、同一の塗布ヘッド１１のＮ番ノズルとＮ＋１番ノズルは吐出量が必ずしも一致しないので、個別誤差範囲Ａ〜Ｃに対応するノズルの組み合わせも、ノズル１２毎に異なる。個別誤差範囲Ａ〜Ｃの分布は、図５の例を採用する。個別誤差範囲Ａ〜Ｃに対応するノズル１２（塗布ヘッド１１）の組み合わせは、図９に示した組み合わせを採用する。また、図１１〜図１６では、１番ヘッドから６番ヘッドまでを、１番ヘッドから順番に塗布した場合の例を示す。

図１１に示すように、１番ヘッドのノズル１２により、個別誤差範囲Ｃが設定された各画素Ｐに塗布材料が塗布され、その他の画素Ｐには塗布されない。図１２に示すように、２番ヘッドのノズル１２により、個別誤差範囲Ｃが設定された各画素Ｐに塗布材料が塗布され、その他の画素Ｐには塗布されない。図１３に示すように、３番ヘッドのノズル１２により、個別誤差範囲ＡまたはＢが設定された各画素Ｐに塗布材料が塗布され、その他の画素Ｐには塗布されない。図１４に示すように、４番ヘッドのノズル１２により、個別誤差範囲ＢまたはＣが設定された各画素Ｐに塗布材料が塗布され、その他の画素Ｐには塗布されない。図１５に示すように、５番ヘッドのノズル１２により、個別誤差範囲ＡまたはＢが設定された各画素Ｐに塗布材料が塗布され、その他の画素Ｐには塗布されない。図１６に示すように、６番ヘッドのノズル１２により、個別誤差範囲Ａが設定された各画素Ｐに塗布材料が塗布され、その他の画素Ｐには塗布されない。

１番ヘッドから６番ヘッドまでの塗布の結果、それぞれの画素Ｐには、個別誤差範囲Ａ〜Ｃのいずれかの設定に応じた３つのノズル１２の組み合わせで塗布が行われる。図１６において、ハッチングの向きを異ならせて示したように、それぞれの画素Ｐは、最終的に許容誤差範囲４０内で、かつ、設定された個別誤差範囲４１に応じたばらつきを持った塗布量の塗布材料が、塗布される。

また、塗布材料を塗布するステップＳ５において、塗布ヘッド１１と基板２とをＸ方向の一方と他方とに往復するように相対移動させ、それぞれ割り当てられたノズル１２により、往路塗布動作および復路塗布動作を行う。すなわち、図１０に示したように、各々の塗布ヘッド１１が、Ｘ方向の往路塗布動作および復路塗布動作によって、ノズル数に応じた数の画素列Ｌｘに対する塗布を一括して行う。図１１〜図１６に示した１番ヘッド〜６番ヘッドによる塗布は、往路塗布動作または復路塗布動作のいずれかで実施される。往路塗布動作および復路塗布動作の完了後、各々の塗布ヘッド１１は、ノズル数分だけＹ方向にシフト移動し、ノズル数に応じた数の画素列Ｌｘに対する塗布を一括して行う。塗布領域２１の全ての画素Ｐに対する塗布が完了するまで往路塗布動作および復路塗布動作とシフト移動とを繰り返すことにより、塗布が行われる。

〈塗布方法の処理の流れ〉
次に、再び図３を参照して、第１実施形態の塗布方法の処理の流れについて説明する。

ステップＳ１において、画素Ｐに対する塗布量の許容誤差範囲４０内に、互いに異なる複数の個別誤差範囲４１が設けられる。ステップＳ１は、コンピュータ３により実施される。複数の個別誤差範囲４１は、許容誤差範囲４０に基づき、プログラムに従ってコンピュータ３が自動生成してもよいし、個別誤差範囲４１が手動で入力されてもよい。

ステップＳ２において、塗布領域２１に含まれる複数の画素Ｐの各々に対して、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１が設定（図５〜図７参照）される。ステップＳ２は、コンピュータ３により実施される。

ステップＳ３において、画素Ｐに設定した個別誤差範囲４１に応じて、１つまたは複数の塗布ヘッド１１に含まれる複数のノズル１２の内から、塗布に使用するノズル１２の組み合わせが選択される。ステップＳ３は、コンピュータ３により実施される。目標塗布量および組み合わせるノズルの数と、予め測定された各ノズル１２の吐出量データとに基づいて、それぞれの個別誤差範囲４１に収まる合計吐出量を実現可能なノズル１２の組み合わせが選択される。

ステップＳ４において、選択したノズル１２の組み合わせの内から、塗布領域２１の所定のＸ方向の一方に向かう往路塗布動作において塗布に使用するノズル１２と、Ｘ方向の他方に向かう復路塗布動作において塗布に使用するノズル１２とが割り当てられる。ステップＳ４は、コンピュータ３により実施される。コンピュータ３は、各々の画素Ｐに塗布を行うノズル１２の組み合わせのうちから、往路塗布動作において塗布を行うノズル１２（塗布ヘッド１１）と、復路塗布動作において塗布を行うノズル１２（塗布ヘッド１１）と、を割り当てる。以上により、第１実施形態による塗布方法を実施するための塗布データ３１が作成される。

ステップＳ５において、塗布装置１が、設定された個別誤差範囲４１に基づいて、塗布領域２１に含まれる画素Ｐに対して塗布ヘッド１１により塗布材料を塗布する。すなわち、塗布データ３１が塗布装置１の制御部１４に読み込まれ、塗布データ３１に従って塗布動作を行うように、塗布装置１が制御される。その結果、基板２の各々の画素Ｐへの塗布材料の塗布が行われる。

（第１実施形態の効果）
次に、第１実施形態の効果について説明する。

第１実施形態では、上記のように、画素Ｐに対する塗布量の許容誤差範囲４０内に、互いに異なる複数の個別誤差範囲４１を設けるステップ（Ｓ１）と、塗布領域２１に含まれる複数の画素Ｐの各々に対して、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定するステップ（Ｓ２）とを設ける。これにより、許容誤差範囲４０内でありながら、異なる個別誤差範囲４１に設定された画素Ｐを、塗布領域２１中に混在するように分布させることができる。すなわち、画素Ｐ毎の塗布量のばらつきを極力抑制するのではなく、許容誤差範囲４０内で敢えて塗布量をばらつかせるように、異なる個別誤差範囲４１を設定した画素Ｐを塗布領域２１内で混在させることができる。そして、設定された個別誤差範囲４１に従って各画素Ｐを塗布することにより、塗布領域２１内の各画素Ｐに対する塗布量を、許容誤差範囲４０内で適度にばらつかせることができる。

ここで、図１７（比較例）に示すように、スジムラは、（１）塗布量が一致する画素ラインが形成されること、（２）隣接する画素ライン間で塗布量が異なること、によって形成される。すなわち、個々のノズルによる吐出量のばらつきを反映して、たとえばある画素列Ｌｘに対応するＮ番目のノズルの目標塗布量に対する誤差がＫ％の場合に、隣接する画素列Ｌｘに対応する（Ｎ−１）番目のノズルの誤差が（Ｎ＋α）％、（Ｎ＋１）番目のノズルの誤差が（Ｋ＋β）％であり、各々のノズルによる塗布量が一定であるとする。この場合、たとえば（Ｎ、Ｎ＋１）の画素列Ｌｘ間では、β％分の塗布量のムラが発生する。この画素列間の塗布量のムラが、塗布領域２１の全体では、スジムラＵとして視認される。直線状に規則性を持って延びるスジムラＵは、画素列Ｌｘ間の塗布量の差（β％）を極力小さくしても、人間の視覚に把握されやすいため問題となり易い。

これに対し、第１実施形態の塗布方法によれば、図１８に示すように、塗布量が許容誤差範囲４０内でばらつく画素Ｐが塗布領域２１内に混在することにより、（１）および（２）の条件に合致する画素群が形成されることが抑制される。その結果、塗布量のムラが存在する領域が混在することにより、人間の視覚に把握されやすいスジ状のムラが発生せず、塗布領域２１中におけるスジムラＵの発生を抑制することができる。

また、第１実施形態（図８、図９参照）では、上記のように、画素Ｐに設定した個別誤差範囲４１に応じて、１つまたは複数の塗布ヘッド１１に含まれる複数のノズル１２の内から、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択するステップ（Ｓ３）を設け、塗布材料を塗布するステップ（Ｓ５）において、塗布を行う画素Ｐについて、選択した組み合わせのノズル１２により、複数回に分けて塗布材料を塗布する。これにより、各々のノズル１２の吐出量のばらつきを把握した上で、塗布に使用する複数のノズル１２の組み合わせを選択し、選択した複数のノズル１２を用いて複数回に分けて画素Ｐの塗布を行うことによって、単一のノズル１２の吐出量を調整するよりも精密な塗布量（合計塗布量）の制御が可能となる。その結果、許容誤差範囲４０よりも狭い個別誤差範囲４１を設定する場合でも、設定した個別誤差範囲４１内に収まるように、精密な塗布量の制御ができる。

また、第１実施形態（図１１〜図１６参照）では、上記のように、ノズル１２の組み合わせを選択するステップ（Ｓ３）において、塗布領域２１の所定のＸ方向の画素列Ｌｘについて、塗布ヘッド１１に含まれる１つのノズル１２により塗布を行う画素Ｐと塗布を行わない画素Ｐとが塗布領域２１内で混在するように、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択し、塗布材料を塗布するステップ（Ｓ５）において、塗布ヘッド１１と、基板２とをＸ方向に相対移動させ、Ｘ方向の画素列Ｌｘ中の、ノズル１２により塗布を行う画素Ｐに対して塗布を行う。これにより、塗布ヘッド１１を走査させて画素列Ｌｘの塗布を行う場合でも、画素列Ｌｘに含まれる全ての画素Ｐを１つのノズル１２を用いて塗布するのではなく、１つのノズル１２が塗布する画素Ｐを画素列Ｌｘ中で点在させることができる。その結果、画素列Ｌｘ中で塗布量が一致する画素ラインが形成されることが抑制されるので、塗布領域２１中におけるスジムラの発生を抑制することができる。

また、第１実施形態（図９、図１０参照）では、上記のように、選択したノズル１２の組み合わせの内から、塗布領域２１の所定のＸ方向の一方に向かう往路塗布動作において塗布に使用するノズル１２と、Ｘ方向の他方に向かう復路塗布動作において塗布に使用するノズル１２とを割り当てるステップ（Ｓ４）を設け、塗布材料を塗布するステップ（Ｓ５）において、塗布ヘッド１１と基板２とをＸ方向の一方と他方とに往復するように相対移動させ、それぞれ割り当てられたノズル１２により、往路塗布動作および復路塗布動作を行う。これにより、選択したノズル１２の組み合わせの内から、往路塗布動作において塗布に使用するノズル１２と、復路塗布動作において塗布に使用するノズル１２とを割り当てることによって、選択されたノズル１２の組み合わせで同一の画素Ｐを複数回に分けて塗布する際に、往路と復路との両方で塗布することができる。その結果、移動方向に応じた塗布材料の微小な偏りが形成されることが抑制できるので、スジムラのみならず、スワスムラが形成されることを抑制することができる。

また、第１実施形態（図５〜図７参照）では、上記のように、個別誤差範囲４１を設定するステップ（Ｓ２）において、塗布領域２１の所定のＸ方向の画素列Ｌｘについて、複数の個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定し、塗布材料を塗布するステップ（Ｓ５）において、塗布ヘッド１１と、基板２とをＸ方向に相対移動させ、Ｘ方向の画素列Ｌｘに塗布を行う。これにより、走査方向であるＸ方向の画素列Ｌｘ内において、個別誤差範囲４１の異なる画素Ｐを混在させて塗布量をばらつかせることができる。その結果、スジムラの原因となる塗布量が一致する画素ラインが形成されること、を効果的に抑制することができる。

また、第１実施形態（図５〜図７参照）では、上記のように、個別誤差範囲４１を設定するステップ（Ｓ２）において、塗布領域２１のＸ方向と直交するＹ方向の画素列Ｌｙについて、複数の個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定する。これにより、走査方向と直交するＹ方向の画素列Ｌｙ内において、個別誤差範囲４１の異なる画素Ｐを混在させて塗布量をばらつかせることができる。その結果、Ｙ方向の画素列Ｌｙにおいても、スジムラの原因となる塗布量が一致する画素ラインが形成されること、を効果的に抑制することができる。

また、第１実施形態（図５、図７参照）では、上記のように、個別誤差範囲４１を設定するステップ（Ｓ２）において、塗布領域２１に含まれる画素Ｐの各々に対して、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を画素Ｐ毎に設定する。これにより、個別誤差範囲４１をそれぞれの画素Ｐ単位で設定するので、より緻密に、画素Ｐ毎の塗布量を許容誤差範囲４０内でばらつかせることができる。その結果、スジムラの発生を効果的に抑制できるとともに、塗布量のばらつきに起因するその他のムラが発生することも抑制できる。

また、第１実施形態による塗布装置１（図１参照）では、上記のように、塗布材料を吐出するノズル１２を複数含む１つまたは複数の塗布ヘッド１１を備え、塗布ヘッド１１により、第１実施形態による塗布方法を実施する。これにより、塗布領域２１内の各画素Ｐに対する塗布量を、許容誤差範囲４０内で適度にばらつかせることができるので、塗布領域２１中におけるスジムラの発生を抑制することができる。

(第１実施形態の変形例)
図９では、個別誤差範囲４１内に収まる合計吐出量を実現する組み合わせを１つ選択して、個別誤差範囲Ａに対して組み合わせ３、個別誤差範囲Ｂに対して組み合わせ２、個別誤差範囲Ｃに対して組み合わせ１を設定した例を示したが、個別誤差範囲４１内に収まる合計吐出量を実現する組み合わせは、複数存在しうる。

そこで、図１９に示すように、第１実施形態の塗布方法の変形例では、複数のノズル１２の内から、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択するステップ（ステップＳ３）において、同一の個別誤差範囲４１内に収まる合計吐出量を実現する組み合わせが複数存在する場合、同一の個別誤差範囲４１が設定された複数の画素Ｐに対して、異なる組み合わせが混在するように、ノズル１２の組み合わせを選択する。

すなわち、図１９において、個別誤差範囲Ａ内に収まる合計吐出量を実現する組み合わせが、Ａ１（１番、２番、３番ヘッドのノズル１２）、Ａ２（１番、４番、６番ヘッドのノズル１２）およびＡ３（２番、５番、６番ヘッドのノズル１２）のように複数（３つ）存在すると仮定する。なお、図１９のノズル１２の組み合わせは、図８に示した例における各ノズル１２の合計吐出量の数値とは無関係に、説明のために便宜的に設定したものである。

図１９の場合、それぞれの組み合わせＡ１、Ａ２およびＡ３の合計吐出量は、個別誤差範囲Ａ内に収まるものの、互いに異なる。そのため、ノズル１２の組み合わせＡ１、Ａ２およびＡ３が混在するように、個別誤差範囲Ａが設定された画素Ｐの各々に対するノズル１２の組み合わせを選択する。この結果、異なる個別誤差範囲４１が設定された画素間で塗布量をばらつかせるだけでなく、同じ個別誤差範囲４１が設定された画素間でも、塗布量を僅かずつばらつかせることが可能となる。これにより、変形例では、スジムラが発生することがより効果的に抑制される。

［第２実施形態］
次に、図２０〜図２３を参照して、第２実施形態による塗布方法について説明する。第２実施形態では、複数の塗布ヘッド１１のノズル１２の内から塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択する例を示した上記第１実施形態とは異なり、１つの塗布ヘッド１１のノズル１２の内から、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択する例について説明する。なお、第２実施形態において第１実施形態と共通する点については、説明を省略する。

第２実施形態による塗布方法では、ノズル１２の組み合わせを選択するステップ（ステップＳ３）において、１つの塗布ヘッド１１に含まれる複数のノズル１２を、複数のノズルグループ６０に区分し、画素Ｐに設定した個別誤差範囲４１に応じて、各々のノズルグループ６０に含まれる塗布可能ノズルＶのうちから、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択する。

複数のノズルグループ６０に区分する方法としては、たとえば図２０に示すように、１つの塗布ヘッド１１に含まれる複数のノズル１２を、連続する所定数のノズル１２を含んだ複数のノズルグループ６０に等分割する方法がある。図２０の例では、ノズル数ｎ＝２４０の塗布ヘッド１１に対して、１グループ当たり４０個のノズル１２を含む６個のノズルグループ６０に区分している。各ノズルグループ６０は、それぞれ、連続する同数（４０個）のノズル１２を含んでいる。すなわち、６個のノズルグループ６０をＧ１〜Ｇ６とすると、グループＧ１は、１番〜４０番のノズル１２を含み、グループＧ２は、４１番〜８０番のノズル１２を含み、グループＧ３は、８１番〜１２０番のノズル１２を含み、グループＧ４は、１２１番〜１６０番のノズル１２を含み、グループＧ５は、１６１番〜２００番のノズル１２を含み、グループＧ６は、２０１番〜２４０番のノズル１２を含む。

このようにノズルグループ６０を設定した場合、塗布材料を塗布するステップ（ステップＳ５）では、図２１および図２２に示すように、ノズルグループ６０を単位として、Ｘ方向の往路塗布動作または復路塗布動作を行う。すなわち、最初に、往路塗布動作で、グループＧ１に含まれるノズル１２（１番〜４０番）によって、それぞれ、Ｌ１〜Ｌ４０の画素列Ｌｘに含まれる画素Ｐに対する塗布を行う。１番〜４０番のノズル１２の各々と、Ｌ１〜Ｌ４０の画素列Ｌｘとが、一対一で対応する。

次に、塗布ヘッド１１を、１つのノズルグループ６０の分（４０個のノズル分、４０画素分）だけＹ方向にシフト移動させる。復路塗布動作で、グループＧ２に含まれるノズル１２（４１番〜８０番）によって、それぞれ、Ｌ１〜Ｌ４０の画素列Ｌｘに含まれる画素Ｐに対する塗布を行う。４１番〜８０番のノズル１２の各々と、Ｌ１〜Ｌ４０の画素列Ｌｘとが、一対一で対応する。なお、このとき、グループＧ１では、Ｌ１〜Ｌ４０の画素列Ｌｘに隣接する４０個の画素列についての復路塗布動作が行われるが、以下では、Ｌ１〜Ｌ４０の画素列Ｌｘ以外の画素列Ｌｘについては説明を省略する。

図２２に示すように、同様の動作を繰り返すことによって、グループＧ３（８１番〜１２０番）による往路塗布動作、グループＧ４（１２１番〜１６０番）による復路塗布動作、グループＧ５（１６１番〜２００番）による往路塗布動作、グループＧ６（２０１番〜２４０番）による往路塗布動作、が順次行われる。

このように塗布動作を行うと、Ｌ１〜Ｌ４０の各画素列Ｌｘに含まれる任意の画素Ｐについて、各々のノズルグループ６０で対応するノズル１２が１つずつ存在することにより、合計６個のノズル１２の１つまたは複数で塗布を行うことが可能となる。以下では、ある画素Ｐに対して、各々のノズルグループ６０で塗布可能なノズル１２を、塗布可能ノズルＶとする。

たとえば図２３に示すように、画素列Ｌ１の各画素Ｐを例にとると、各ノズルグループ６０から、１番、４１番、８１番、１２１番、１６１番、２０１番の６個のノズル１２が、塗布可能ノズルＶである。

そこで、第２実施形態では、各々のノズルグループ６０に含まれる塗布可能ノズルＶのうちから、画素Ｐに設定した個別誤差範囲４１に応じて、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択する。たとえば、１番、４１番、８１番、１２１番、１６１番、２０１番の塗布可能ノズルＶの各々の吐出量が、図８および図９に示した条件に一致すると仮定すれば、個別誤差範囲Ａに対しては、グループＧ３（８１番）、Ｇ５（１６１番）およびＧ６（２０１番）のノズル１２の組み合わせが選択され、個別誤差範囲Ｂに対しては、グループＧ３（８１番）、Ｇ４（１２１番）およびＧ５（１６１番）のノズル１２の組み合わせが選択され、個別誤差範囲Ｃに対しては、グループＧ１（１番）、Ｇ２（４１番）およびＧ４（１２１番）のノズル１２の組み合わせが選択される。Ｌ１〜Ｌ４０のその他の画素列Ｌｘの画素Ｐについても、同じようにノズルグループ６０と同数の塗布可能ノズルＶが抽出され、抽出された塗布可能ノズルＶの内から、個別誤差範囲４１に応じた組み合わせが選択される。

この結果、第２実施形態では、１つの塗布ヘッド１１を備える塗布装置１であっても、上記第１実施形態と同様の塗布方法を実施することが可能である。第２実施形態の塗布方法のその他の構成は、上記第１実施形態と同様であるので説明を省略する。

（第２実施形態の効果）
次に、第２実施形態の効果について説明する。

第２実施形態では、上記第１実施形態と同様に、画素Ｐに対する塗布量の許容誤差範囲４０内に、互いに異なる複数の個別誤差範囲４１を設けるステップ（Ｓ１）と、塗布領域２１に含まれる複数の画素Ｐの各々に対して、異なる個別誤差範囲４１が混在するように個別誤差範囲４１を設定するステップ（Ｓ２）とを設ける。これにより、設定された個別誤差範囲４１に従って各画素Ｐを塗布することにより、塗布領域２１内の各画素Ｐに対する塗布量を、許容誤差範囲４０内で適度にばらつかせることができるので、人間の視覚に把握されやすいスジ状のムラが発生せず、塗布領域２１中におけるスジムラの発生を抑制することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、ノズル１２の組み合わせを選択するステップ（Ｓ３）において、１つの塗布ヘッド１１に含まれる複数のノズル１２を、複数のノズルグループ６０に区分し、画素Ｐに設定した個別誤差範囲４１に応じて、各々のノズルグループ６０に含まれる塗布可能ノズルＶのうちから、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択する。これにより、１つの塗布ヘッド１１内でグループ分けされた複数のノズルグループ６０の各々から、塗布に使用するノズル１２を選択できるので、複数の塗布ヘッド１１を備えない構成においても、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択することによって塗布量の精密な制御が可能となる。

なお、第２実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。

［変形例］
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。

たとえば、上記第１実施形態では、選択したノズル１２の組み合わせの内から、塗布領域２１の所定のＸ方向の一方に向かう往路塗布動作において塗布に使用するノズル１２と、Ｘ方向の他方に向かう復路塗布動作において塗布に使用するノズル１２とを割り当て、割り当てたノズル１２によって往路塗布動作と復路塗布動作とそれぞれを行う例を示したが、本発明はこれに限られない。

たとえば図２４に示すように、画素Ｐに対して選択したノズル１２の組み合わせでの複数回の塗布を、往路塗布動作または復路塗布動作の一方のみで、行ってもよい。この場合、図３のステップＳ４は不要である。図２４の例では、塗布ヘッド１１に含まれるノズル数に応じた１番目の画素列Ｌｘのグループ７１に対して、往路塗布動作が行われ、Ｙ方向に塗布ヘッド１１の１つ分シフト移動した後、２番目の画素列Ｌｘのグループ７２に対して、復路塗布動作が行われる。

図２４の場合、１番目の画素列Ｌｘのグループ７１と、２番目の画素列Ｌｘのグループ７２とでは、塗布方向（往路、復路）が異なるため、グループの境界部分の画素列Ｌｘにおいて、塗布方向の相違に起因するスワスムラが生じ易い。スワスムラの抑制の観点では、図１０に示した第１実施形態による塗布方法の方が好ましい。

また、図１０および図２４のように、塗布ヘッド１１のノズル数に対応した数の画素列Ｌｘを一括して塗布する方法では、ノズル数に対応した数の画素列Ｌｘのグループ（図２４のグループ７１、７２）が形成されるため、画素列Ｌｘのグループ単位で塗布量がばらつくことに起因して、一括して塗布される画素列Ｌｘのグループ（７１、７２）を単位とする、帯状のムラ（いわゆるオビムラ）が形成されることがある。

オビムラを効果的に抑制するには、たとえば図２５に示した塗布方法を採用してもよい。図２５では、複数の塗布ヘッド１１が、走査方向と直交するＹ方向に部分的にずらして配置されている。なお、図２５では、便宜的に４つの塗布ヘッド１１を備える構成について示している。

４つの塗布ヘッド１１は、それぞれ１画素分（ノズル１つ分）ずつＹ方向にずれており、４つの塗布ヘッド１１の両端を除く領域では各ノズル１２がＸ方向に並んでいる。この構成では、たとえば図２５の画素列Ｌ１では、往路塗布動作で２番〜４番の塗布ヘッド１１の各ノズル１２では塗布可能である一方、１番の塗布ヘッド１１では塗布できない。画素列Ｌ１は、ノズル数分だけＹ方向にシフト移動した後の復路塗布動作時に、１番の塗布ヘッド１１のノズル１２による塗布動作が行われる。同様に、画素列Ｌ２、Ｌ３についても、それぞれ往路で塗布可能な塗布ヘッド１１と、復路で塗布可能な塗布ヘッド１１とが混在する。この結果、往路で一括して塗布可能な画素列グループと、復路で一括して塗布可能な画素列グループとの境界部分で、往路塗布動作と復路塗布動作との両方で塗布を行う混合領域８０が形成されるため、オビムラの発生が抑制できる。また、混合領域８０では、往路塗布動作および復路塗布動作が混在するので、スワスムラの発生が抑制できる。

また、上記第１および第２実施形態では、個別誤差範囲４１に応じた複数のノズル１２の組み合わせにより、それぞれの個別誤差範囲４１内に収まる塗布量での塗布を実現した例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、たとえば単一のノズル１２が、個別誤差範囲４１内に収まる精度で、吐出量を任意に制御することが可能である場合には、単一のノズル１２の吐出量制御によって、各々の画素Ｐに対する塗布量を制御してもよい。この場合、図３のステップＳ３は不要である。

また、上記第１および第２実施形態では、１つの塗布ヘッド１１に、１列のノズル１２を設けた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、たとえば１つの塗布ヘッド１１に、２列、３列または４列以上の複数列のノズル１２を設けてもよい。この場合、塗布ヘッド１１をＸ方向に走査させて塗布を行う場合でも、Ｘ方向に複数列並んだノズル１２の中から、塗布に使用するノズル１２の組み合わせを選択してもよい。

また、上記第１および第２実施形態では、塗布ヘッド１１（ヘッドユニット１３）を基板２に対して移動させて塗布を行う例を示したが、本発明はこれに限られない。塗布ヘッド１１（ヘッドユニット１３）に対して、基板２を移動させて塗布を行ってもよいし、塗布ヘッド１１（ヘッドユニット１３）および基板２の両方を移動させて塗布を行ってもよい。

また、上記第１および第２実施形態では、直線状のノズル１２の列が走査方向（Ｘ方向）と直交するＹ方向に沿うように塗布ヘッド１１が配置される例を示したが、本発明はこれに限られない。図２６に示すように、直線状のノズル１２の列がＹ方向に対して所定角度θだけ傾斜するように、塗布ヘッド１１を配置してもよい。塗布ヘッド１１を傾斜させる配置では、画素ＰのＹ方向のピッチＤ１がノズル１２のピッチＤ２よりも小さい場合にも、角度θの調節によって、各ノズル１２のＹ方向距離（Ｄ２×ｃｏｓθ）をピッチＤ１に一致させることが可能である。

１ 塗布装置
２ 基板（被塗布物）
１１ 塗布ヘッド
１２ ノズル
２１ 塗布領域
４０ 許容誤差範囲
４１ 個別誤差範囲
６０ ノズルグループ
Ｐ 画素
Ｘ 方向（第１方向）
Ｙ 方向（第２方向）
Ｌｘ Ｘ方向の画素列
Ｌｙ Ｙ方向の画素列
Ｖ 塗布可能ノズル

Claims (9)

1. 塗布材料を吐出するノズルを複数含む１つまたは複数の塗布ヘッドと、被塗布物とを相対移動させ、前記被塗布物の塗布領域に画素単位で前記塗布材料を吐出する塗布方法であって、
   画素に対する塗布量の許容誤差範囲内に、数値範囲の中心が互いに異なる複数の個別誤差範囲を設けるステップと、
   前記塗布領域に含まれる複数の画素の各々に対して、異なる前記個別誤差範囲が混在するように前記個別誤差範囲を設定するステップと、
   設定された前記個別誤差範囲に基づいて、前記塗布領域に含まれる画素に対して前記塗布ヘッドにより前記塗布材料を塗布するステップと、を備える、塗布方法。
2. 画素に設定した前記個別誤差範囲に応じて、１つまたは複数の前記塗布ヘッドに含まれる複数の前記ノズルの内から、塗布に使用する前記ノズルの組み合わせを選択するステップをさらに備え、
   前記塗布材料を塗布するステップにおいて、塗布を行う画素について、選択した組み合わせの前記ノズルにより、複数回に分けて前記塗布材料を塗布する、請求項１に記載の塗布方法。
3. 前記ノズルの組み合わせを選択するステップにおいて、前記塗布領域の所定の第１方向の画素列について、前記塗布ヘッドに含まれる１つの前記ノズルにより塗布を行う画素と塗布を行わない画素とが前記塗布領域内で混在するように、塗布に使用する前記ノズルの組み合わせを選択し、
   前記塗布材料を塗布するステップにおいて、前記塗布ヘッドと、前記被塗布物とを前記第１方向に相対移動させ、前記第１方向の画素列中の、前記ノズルにより塗布を行う画素に対して塗布を行う、請求項２に記載の塗布方法。
4. 選択した前記ノズルの組み合わせの内から、前記塗布領域の所定の第１方向の一方に向かう往路塗布動作において塗布に使用する前記ノズルと、前記第１方向の他方に向かう復路塗布動作において塗布に使用する前記ノズルとを割り当てるステップをさらに備え、
   前記塗布材料を塗布するステップにおいて、前記塗布ヘッドと前記被塗布物とを前記第１方向の一方と他方とに往復するように相対移動させ、それぞれ割り当てられた前記ノズルにより、往路塗布動作および復路塗布動作を行う、請求項２または３に記載の塗布方法。
5. 前記ノズルの組み合わせを選択するステップにおいて、
   １つの前記塗布ヘッドに含まれる複数の前記ノズルを、複数のノズルグループに区分し、
   画素に設定した前記個別誤差範囲に応じて、各々の前記ノズルグループに含まれる塗布可能ノズルのうちから、塗布に使用する前記ノズルの組み合わせを選択する、請求項２〜４のいずれか１項に記載の塗布方法。
6. 前記個別誤差範囲を設定するステップにおいて、前記塗布領域の所定の第１方向の画素列について、複数の前記個別誤差範囲が混在するように前記個別誤差範囲を設定し、
   前記塗布材料を塗布するステップにおいて、前記塗布ヘッドと、前記被塗布物とを前記第１方向に相対移動させ、前記第１方向の画素列に塗布を行う、請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布方法。
7. 前記個別誤差範囲を設定するステップにおいて、前記塗布領域の前記第１方向と直交する第２方向の画素列について、複数の前記個別誤差範囲が混在するように前記個別誤差範囲を設定する、請求項６に記載の塗布方法。
8. 前記個別誤差範囲を設定するステップにおいて、前記塗布領域に含まれる画素の各々に対して、異なる前記個別誤差範囲が混在するように前記個別誤差範囲を画素毎に設定する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の塗布方法。
9. 塗布材料を吐出するノズルを複数含む１つまたは複数の塗布ヘッドを備え、
   前記塗布ヘッドにより請求項１〜８のいずれか１項に記載の塗布方法を実施する、塗布装置。

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