JP6855039B2 - スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法 - Google Patents

スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6855039B2
JP6855039B2 JP2016177447A JP2016177447A JP6855039B2 JP 6855039 B2 JP6855039 B2 JP 6855039B2 JP 2016177447 A JP2016177447 A JP 2016177447A JP 2016177447 A JP2016177447 A JP 2016177447A JP 6855039 B2 JP6855039 B2 JP 6855039B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sulfonyl group
compound
polyphenylene oxide
reaction
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016177447A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018044031A (ja
Inventor
和歌子 山路
和歌子 山路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konishi Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Konishi Chemical Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konishi Chemical Industries Co Ltd filed Critical Konishi Chemical Industries Co Ltd
Priority to JP2016177447A priority Critical patent/JP6855039B2/ja
Publication of JP2018044031A publication Critical patent/JP2018044031A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6855039B2 publication Critical patent/JP6855039B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Description

本発明は、スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法に関する。
分子内にアニオン基を有するポリマーは、イオン交換樹脂、固体酸触媒等の機能性高分子として有用である。その中でも特にスルホン酸基を有するポリマーは、スルホン酸基の解離度の高さゆえに性能が優れていることから幅広く利用されている。
芳香族ポリマーのスルホン化物の製造方法としては、芳香族ポリマーを、溶媒であるスルホニル基を含有する化合物に溶解又は分散させ、得られた芳香族ポリマーの溶液又は分散液とスルホン化剤とを混合してスルホン化する方法(例えば、特許文献1)が知られている。
しかしながら、特許文献1の方法でポリフェニレンオキシド(PPO)をスルホン化させた場合、PPOは溶媒であるスルホラン等に溶けず、非均一系で反応が進行する。そのため、特許文献1の方法では、PPOのスルホン化を工業化することは困難であった。
特許第5824734号
本発明は、スルホン化ポリフェニレンオキシドを、工業的に有利に製造することができる方法を提供することを目的とする。
本発明者は、スルホン化ポリフェニレンオキシドを、工業的に有利に製造することができる方法を開発すべく鋭意検討を重ねた結果、ポリフェニレンオキシドをスルホニル基(−SO−)を含有しない化合物に溶解させた溶液と、スルホン化剤をスルホニル基(−SO−)を含有する化合物に溶解させた溶液とを混合することにより、均一系を保ったままでポリフェニレンオキシドのスルホン化反応が十分に進行することを見出した。本発明はこのような知見に基づき完成されたものである。
本発明は、下記項1〜項4に示すスルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法に係る。
項1. ポリフェニレンオキシドをスルホニル基を含有しない化合物(S2)に溶解させた溶液と、スルホン化剤をスルホニル基を含有する化合物(S1)に溶解させた溶液とを混合することにより、ポリフェニレンオキシドをスルホン化させることを特徴とするポリフェニレンオキシドのスルホン化物の製造方法。
項2. 前記スルホニル基を含有する化合物(S1)を、前記スルホニル基を含有する化合物(S1)及び前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)の合計重量に対して0.1重量%以上10重量%未満の量で使用する、上記項1に記載の製造方法。
項3. 前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)が、クロロホルム及びハロゲン化アリールからなる群から選択される少なくとも1種である、上記項1又は2に記載の製造方法。
項4. 前記スルホニル基を含有する化合物(S1)が、スルホラン及びジメチルスルホンからなる群から選択される少なくとも1種である、上記項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
本発明の方法によれば、均一系を保ったままでポリフェニレンオキシドを工業的に十分な程度までスルホン化することができる。よって、本発明の方法を用いれば、不均一系では不可能なポリフェニレンオキシドのスルホン化を工業的に実施することが可能となる。
本発明は、ポリフェニレンオキシドをスルホニル基を含有しない化合物(S2)に溶解させた溶液と、スルホン化剤をスルホニル基を含有する化合物(S1)に溶解させた溶液とを混合することにより、ポリフェニレンオキシドをスルホン化させることを特徴とするポリフェニレンオキシドのスルホン化物の製造方法である。
原料として用いられるポリフェニレンオキシドは、以下の構造を有するポリマーである。分子量等に特に制限はなく、市販されている製品をそのまま反応に使用することができる。
Figure 0006855039
前記ポリフェニレンオキシドは、まずスルホニル基(−SO−)を含有しない化合物(S2)に加えて十分に攪拌し、必要であれば加熱して溶解させる。
前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)として、ハロゲン化アリール、ハロゲン化脂肪族炭化水素等のハロゲン系溶媒等を挙げることができる。ハロゲン化アリールとして、例えば、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等を挙げることができる。ハロゲン化脂肪族炭化水素として、例えば、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等を挙げることができる。これらのスルホニル基を含有しない化合物(S2)は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)の中では、毒性及び環境面での規制の観点から、クロロホルム及びハロゲン化アリールが好ましく、ハロゲン化アリールがより好ましく、ジクロロベンゼンがさらに好ましく、オルトジクロロベンゼンが特に好ましい。
前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)の使用量は、ポリフェニレンオキシドを溶解することができればよく、例えば、ポリフェニレンオキシド1重量部に対して、0.01〜100重量部程度であり、1〜50重量部程度が好ましい。
その一方で、スルホン化剤をスルホニル基(−SO−)を含有する化合物(S1)に加えて十分に攪拌し、溶解させる。
用いるスルホン化剤としては、スルホン酸基(−SOH)を導入できるものであれば、特に制限はない。スルホン化剤として、例えば、クロロスルホン酸、無水硫酸、硫酸、発煙硫酸、ポリアルキルベンゼンスルホン酸(例えば、1,3,5−トリメチルベンゼン−2−スルホン酸、1,2,4,5−テトラメチルベンゼン−3−スルホン酸、1,2,3,4,5−ペンタメチルベンゼン−6−スルホン酸等)等を用いることができる。これらの中で、クロロスルホン酸が好ましい。
前記スルホン化剤の添加量は、多いほどポリフェニレンオキシドのスルホン化の程度が高く、得られるスルホン化物のイオン交換能が大きくなり、逆に少ないと、スルホン化の程度が低くなる。
前記スルホン化剤の使用割合は、特に制限はないが、ポリフェニレンオキシドの繰り返し単位1モル当りのモル比で、0.01〜100倍モルが好ましく、0.1〜30倍モルがより好ましい。
前記スルホニル基を含有する化合物(S1)として、スルホラン等の環状スルホン化合物;ジメチルスルホン、ジブチルスルホン等のジアルキルスルホン等を挙げることができる。これらのスルホニル基を含有する化合物(S1)は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
前記スルホニル基を含有する化合物(S1)の中では、工業的に入手容易であることから、スルホラン及びジメチルスルホンが好ましく、スルホランがより好ましい。
前記スルホニル基を含有する化合物(S1)の使用量は、スルホン化剤を溶解することができればよく、例えば、スルホン化剤1重量部に対して、0.1〜100重量部程度であり、1〜50重量部程度が好ましい。
次に、ポリフェニレンオキシドをスルホニル基を含有しない化合物(S2)に溶解させた溶液と、スルホン化剤をスルホニル基を含有する化合物(S1)に溶解させた溶液とを混合し、所定の温度で所定時間攪拌することによりスルホン化反応を行う。
本発明は、ポリフェニレンオキシドを、スルホニル基を含有する化合物(S1)及びスルホニル基を含有しない化合物(S2)の混合溶媒中でスルホン化剤によりスルホン化する方法である。本発明において、前記スルホニル基を含有する化合物(S1)を、前記スルホニル基を含有する化合物(S1)及び前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)の合計重量(S1+S2)に対して0.1重量%以上10重量%未満の量で使用することが好ましく、1〜8重量%の量で使用することがより好ましい。前記スルホニル基を含有する化合物(S1)を0.1重量%以上含有することにより、スルホン化剤の溶解性が良好となる。一方、前記スルホニル基を含有する化合物(S1)の使用量が多すぎると、ポリフェニレンオキシドが前記スルホニル基を含有する化合物(S1)及び前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)の混合溶媒に溶けなくなり、均一系で反応を行うことが難しくなる場合がある。
本発明における反応温度は、通常0〜90℃であり、好ましくは10〜50℃である。90℃以下の温度で反応が進むため、製造コストを低くすることができる。反応時間は、通常0.1〜100時間であり、好ましくは1〜30時間である。
反応終了後は、公知の方法で生成物を取り出せばよい。例えば、反応液を水に滴下して生成物を沈殿させて取り出すことができる。用いる水の温度は、反応温度以下であればよい。反応液を水に滴下することにより、スルホン化反応を減速ないし停止させるとともに、スルホン化剤が水と反応して分解することでスルホン化反応が完全に停止する。水の量は、反応液中の生成物が速やかに凝固し、かつ、水の温度が急激に上がらない程度であればよい。このようにして反応液を水に滴下することにより、生成物であるスルホン化物が、通常の場合、白色の沈殿物(粒状スラリー)として析出する。得られた沈殿物は、常法に従って、濾別して水で洗浄し、乾燥させればよい。
ポリフェニレンオキシドの溶液、及びスルホン化剤の溶液の混合順序は、均一系で反応が進行する限り特に限定されない。例えば、ポリフェニレンオキシドの溶液に、スルホン化剤の溶液を滴下等により導入することにより反応させることができる。あるいは、スルホニル基を含有しない化合物(S2)を撹拌しながら、その中にポリフェニレンオキシドの溶液及びスルホン化剤の溶液を、同時若しくはほぼ同時に滴下等により導入して反応させてもよい。
上記の方法で得られたポリフェニレンオキシドのスルホン化物は、逆浸透濾過、限外濾過等に使用される選択透過膜、イオン交換樹脂等として有用である。また、固体酸触媒、燃料電池用の高分子固体電解質、導電性高分子等に利用することもできる。
次に、本発明を実施例及び比較例によって具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
ポリフェニレンオキシド(PPO)は、アルドリッチ社製の製品番号181781を使用した。なお、イオン交換容量は、生成物をDMAc(N,N−ジメチルアセトアミド)に溶解し、自動滴定装置(HIRANUMA製TS−1700)を用いて測定した値である。
(実施例1)
撹拌機を備えたフラスコにオルトジクロロベンゼン1101gを入れ、そこにポリフェニレンオキシド53.9g(449mmol/ユニット単位)を加え、90℃で攪拌した。PPOがオルトジクロロベンゼンに完全に溶解した後、冷却し、クロロスルホン酸16.1g(138mmol)とスルホラン24.8g(206mmol)との混合溶液を40℃で30分かけて滴下し、40℃で4.5時間保温した。溶液には析出物が確認されなかった。その後、反応溶液をイオン交換水1.7L中に滴下し、白色粒状を含有するスラリーを濾過した。このスラリーをヘプタン及びイオン交換水により洗浄及び濾過を実施し、濾液のpHが5.0以上になるまで繰り返し、その後、減圧乾燥機で温度80℃、圧力7kPa以下で24時間乾燥することにより、S−PPO(スルホン化ポリフェニレンオキシド)(イオン交換容量1.4meq/g)が得られた。
(実施例2)
オルトジクロロベンゼン76.0g、PPO4.1g(34mmol/ユニット単位)、クロロスルホン酸1.56g(13mmol)、及びスルホラン2.4g(20mmol)を使用した以外は実施例1と同様の操作を行った。
その後、反応溶液をイオン交換水500mL中に滴下し、実施例1と同様の後処理を実施し、S−PPO(イオン交換容量2.0meq/g)が得られた。
(実施例3)
オルトジクロロベンゼン76.0g、PPO4.1g(34mmol/ユニット単位)、クロロスルホン酸1.17g(10mmol)、及びスルホラン6.6g(55mmol)を使用した以外は実施例1と同様の操作を行った。
その後、反応溶液をイオン交換水500mL中に滴下し、実施例1と同様の後処理を実施し、S−PPO(イオン交換容量1.5meq/g)が得られた。
(比較例1)
撹拌機を備えたフラスコにスルホラン100.0g(832mmol)を入れ、そこにPPO24.9g(207mmol/ユニット単位)を加え、50℃で攪拌した。PPOはスルホランに不溶であった。98%硫酸20.6g(206mmol)を50℃で20分かけて滴下し、50℃で1.5時間保温した。その後、80℃に昇温し、80℃で1.5時間保温した。反応物は保温後まで不溶であった。反応溶液をイオン交換水500mL中に滴下し、実施例1と同様の後処理を実施した。得られた固体のイオン交換容量測定を行ったところ、スルホン酸基は導入されていなかった。
(比較例2)
撹拌機を備えたフラスコにオルトジクロロベンゼン72.0gを入れ、そこにPPO8.0g(67mmol/ユニット単位)を加え、120℃で攪拌した。PPOがオルトジクロロベンゼンに完全に溶解した後、クロロスルホン酸5.9g(51mmol)を120℃で滴下したところ、反応物が析出し、撹拌翼やフラスコの内壁に付着し、取り出し困難となったため反応を停止した。
(比較例3)
撹拌機を備えたフラスコにDMAc90.0gを入れ、そこにPPO10.0g(83mmol/ユニット単位)を加え、120℃で攪拌した。PPOがDMAcに完全に溶解した後、冷却し、クロロスルホン酸9.7g(83mmol)を90℃で30分かけて滴下したところ、反応物が析出した。その後、90℃で1.5時間保温した。反応物は保温後まで不溶であった。反応溶液をイオン交換水500mL中に滴下し、実施例1と同様の後処理を実施した。得られた固体のイオン交換容量測定を行ったところ、スルホン酸基は導入されていなかった。
(比較例4)
撹拌機を備えたフラスコにクロロホルム109.2gを入れ、そこにPPO12.0g(100mmol/ユニット単位)を加え、25℃で攪拌した。PPOがクロロホルムに完全に溶解した後、冷却し、クロロスルホン酸4.2g(36mmol)とクロロホルム36.02g(302mmol)の混合溶液を7℃で30分かけて滴下したところ、反応物が析出した。7℃で3時間保温し、その後25℃に昇温し、25℃で1.5時間保温した。反応物は保温後まで不溶であった。反応溶液をイオン交換水2L中に滴下し、実施例1と同様の後処理を実施し、S−PPO(イオン交換容量0.7meq/g)が得られた。
上記の結果より、比較例1〜4では、反応が不均一系でしか進行しなかったが、実施例1〜3では、均一系で反応が進行し、イオン交換容量の値から、工業的に十分な程度までPPOがスルホン化されたことがわかる。
よって、反応が不均一系である比較例1〜4の方法では、PPOのスルホン化を工業化することは困難であるが、反応が均一系である実施例1〜3の方法を用いれば、PPOのスルホン化の工業化が可能となる。本願発明の方法は、反応が均一系で進行することにより、再現よくスルホン化ポリフェニレンオキシドを製造することが可能であり、この点でも工業的にメリットが大きい。

Claims (3)

  1. ポリフェニレンオキシドをスルホニル基を含有しない化合物(S2)に溶解させた溶液と、スルホン化剤をスルホニル基を含有する化合物(S1)に溶解させた溶液とを混合することにより、ポリフェニレンオキシドをスルホン化させ、かつ、
    前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)は、ハロゲン化アリールであり、
    前記スルホニル基を含有する化合物(S1)は、スルホラン、ジメチルスルホン及びジブチルスルホンからなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする
    ポリフェニレンオキシドのスルホン化物の製造方法。
  2. 前記スルホニル基を含有する化合物(S1)を、前記スルホニル基を含有する化合物(S1)及び前記スルホニル基を含有しない化合物(S2)の合計重量に対して0.1重量%以上10重量%未満の量で使用する、請求項1に記載の製造方法。
  3. 前記スルホニル基を含有する化合物(S1)が、スルホラン及びジメチルスルホンからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1又は2に記載の製造方法。
JP2016177447A 2016-09-12 2016-09-12 スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法 Active JP6855039B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016177447A JP6855039B2 (ja) 2016-09-12 2016-09-12 スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016177447A JP6855039B2 (ja) 2016-09-12 2016-09-12 スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018044031A JP2018044031A (ja) 2018-03-22
JP6855039B2 true JP6855039B2 (ja) 2021-04-07

Family

ID=61693531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016177447A Active JP6855039B2 (ja) 2016-09-12 2016-09-12 スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6855039B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220227931A1 (en) * 2019-06-18 2022-07-21 Shpp Global Technologies B.V. Methods for making sulfonated poly(phenylene ether) and articles made therefrom
CN110776589B (zh) * 2019-11-22 2021-01-01 西北大学 一种季铵基聚离子液体及其制备方法和作为液态/超临界二氧化碳增粘剂的应用

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02294305A (ja) * 1989-05-08 1990-12-05 Sanyo Chem Ind Ltd 芳香族ポリマーのスルホン化方法
JPH0314803A (ja) * 1989-06-12 1991-01-23 Sanyo Chem Ind Ltd 芳香族ポリマーのスルホン化方法
JP3371323B2 (ja) * 1996-10-02 2003-01-27 ソニー株式会社 芳香族ポリマーのスルホン化方法
JP2000198816A (ja) * 1999-01-06 2000-07-18 Lion Corp 芳香族系ポリマ―のスルホン化物の製造方法および芳香族系ポリマ―のスルホン化物を含む帯電防止剤
JP4196862B2 (ja) * 2004-03-23 2008-12-17 ソニー株式会社 難燃剤、難燃性樹脂組成物
JP4836080B2 (ja) * 2007-01-09 2011-12-14 小西化学工業株式会社 スルホン化排出液の処理方法及びスルホン化排出液のリサイクル方法
JP5824734B2 (ja) * 2011-12-22 2015-11-25 小西化学工業株式会社 芳香族ポリマーのスルホン化物の製造方法
JP6168515B2 (ja) * 2013-05-30 2017-07-26 小西化学工業株式会社 スチレン系ポリマーのスルホン化物の製造方法
JP2019507822A (ja) * 2016-03-09 2019-03-22 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ポリマーのスルホン化のための方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018044031A (ja) 2018-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU779428B2 (en) Step-by-step alkylation of polymeric amines
JP5824734B2 (ja) 芳香族ポリマーのスルホン化物の製造方法
KR100586204B1 (ko) 엔지니어링 이오노머 블렌드 및 엔지니어링 이오노머블렌드 멤브레인
JPH0216126A (ja) 芳香族ポリエーテルスルホンのスルホン化方法
EP0139061B1 (en) Chlorosulphonated polysulphones, their preparation and their use in preparing sulphonated polysulphones
JP6855039B2 (ja) スルホン化ポリフェニレンオキシドの製造方法
KR20110066614A (ko) 술폰화된 폴리(아릴렌 에테르) 공중합체, 이의 제조방법, 및 이의 용도
US10640612B2 (en) Macromolecular polymer and production method thereof
KR20120006764A (ko) 양이온 교환기를 갖는 폴리(아릴렌에테르) 공중합체, 이의 제조 방법 및 이의 용도
KR20120060645A (ko) 양이온 교환기를 갖는 폴리(아릴렌에테르) 공중합체, 이의 제조 방법 및 이의 용도
KR20180124914A (ko) 중합체의 술폰화 방법
JPH07304872A (ja) スルホン化ポリアリーレンスルフィド化合物の製造方法
KR101546370B1 (ko) 높은 이온전도성을 보이는 술폰산화 멀티블록형 고분자 및 이를 포함하는 전기화학 시스템
JP4681298B2 (ja) スルホアルキル基含有高分子の製造方法
KR102040158B1 (ko) 술폰화된 고분자 및 이의 제조 방법
KR20170109295A (ko) 폴리에테르에테르케톤 기반의 양이온 교환막, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 연료전지
KR102056689B1 (ko) 설폰화 폴리설폰계 중합체의 제조방법
KR102416829B1 (ko) 할로겐화된 고분자 및 이의 제조 방법
CN110358088B (zh) 一种制备聚砜的方法
KR20050036327A (ko) 폴리아닐린 염을 사용한 Sulfonated Polyaniline의 신속합성법
KR101812274B1 (ko) 과불소화 연결제를 사용하지 않는 고이온성 술폰산화 멀티블록형 고분자의 제조방법, 이를 포함하는 전기화학 시스템
CN117377713A (zh) 由磺化芳基聚合物形成的新型膦酰化未氟化和部分氟化的芳基聚合物以及由聚合物型全氟磺酸形成的新型聚合物型全氟膦酸、其制备方法及在电学膜应用中的用途
JP4916144B2 (ja) 芳香族スルフィドおよび/またはスルホン誘導体
KR20110062849A (ko) 폴리(아릴렌 에테르) 공중합체, 이의 제조방법, 및 이의 용도
JP2014231577A (ja) スチレン系ポリマーのスルホン化物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160923

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190610

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200624

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200707

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200901

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210302

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210310

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6855039

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250