JP6850938B1 - 半導体装置、及びリードフレーム材 - Google Patents

半導体装置、及びリードフレーム材 Download PDF

Info

Publication number
JP6850938B1
JP6850938B1 JP2020501586A JP2020501586A JP6850938B1 JP 6850938 B1 JP6850938 B1 JP 6850938B1 JP 2020501586 A JP2020501586 A JP 2020501586A JP 2020501586 A JP2020501586 A JP 2020501586A JP 6850938 B1 JP6850938 B1 JP 6850938B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
lead frame
built
connection electrode
electrode portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020501586A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2020208741A1 (ja
Inventor
宗一郎 梅田
宗一郎 梅田
淳志 久徳
淳志 久徳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd filed Critical Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of JP6850938B1 publication Critical patent/JP6850938B1/ja
Publication of JPWO2020208741A1 publication Critical patent/JPWO2020208741A1/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/04Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • H01L23/053Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49517Additional leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49562Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
    • H01L2224/331Disposition
    • H01L2224/3318Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • H01L2224/33181On opposite sides of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • H01L2224/40Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/401Disposition
    • H01L2224/40151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/40221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/40225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

半導体装置1は、半導体チップ3が実装され、表面に電気経路端子23を含む端子が形成された内蔵基板2と、半導体チップ3の表面に導電性接合部材6を介して電気的に接続されたチップ接続電極部41、内蔵基板2の電気経路端子23に電気的に接続された基板接続電極部42、チップ接続電極部41若しくは基板接続電極部42から外側に張り出す水平面支持部43を有するリードフレーム4と、リードフレーム4の基板接続電極部42の平面に対して垂直方向に立つピン端子5とを備え、水平面支持部43は、内蔵基板2より外側まで張り出していることを特徴とする。本発明によれば、外部接続端子の先端ピッチ精度が良好なピン端子構造の半導体装置を提供することができる。

Description

本発明は、半導体装置、及びリードフレーム材に関する。
特許文献1には、内蔵基板上や、内蔵基板上に実装されている半導体チップ上に、導電性接合部材を介してリードフレームが接合された半導体装置が開示されている。このような半導体装置のリードフレームは、製造時に、リードフレーム材として外枠部内側に繋がった状態で半導体チップ上及び内蔵基板上に接合され、その後外枠部から切り離される。また、特許文献2には、外部接続端子がピン端子構造の半導体装置が開示されている。
特許文献1に開示された従来の半導体装置601は、図4(a)に示すように、半導体チップ403が実装された内蔵基板402と、内蔵基板402及び半導体チップ403上に導電性接合部材406を介して接合されたリードフレーム404と、これらを一部残して樹脂封止しているモールド樹脂407とを備えている。製造時リードフレーム材の状態において、リードフレーム404が外枠部(不図示)と接合している部分445は、図4(a)及び図4(b)に示すように、外部接続端子としてモールド樹脂407から露出している。
また、半導体装置401において、リードフレーム404は、半導体チップ403の電極に接合するチップ接続電極部441と、チップ接続電極部441から半導体チップ403の外形外側まで張り出させた部分443とを有している。張り出させた部分443の先端は、図4(c)に示すように、内蔵基板402上の電気経路端子423の一部に導電性接合部材406を介して接合されている。リードフレーム404は、張り出させた部分443が薄い導電性接合部材406を介して内蔵基板402で受けられているため、製造時、自重による傾きがある程度抑えられた状態で接合される。
特許文献2に開示された従来の半導体装置501は、いわゆるピン端子構造の半導体装置であり、図5に示すように、外部接続端子として、内蔵基板502上に接合されたピン端子505を備えている。ピン端子505は、内蔵基板502表面に対して垂直に立てられ、モールド樹脂507から露出している。このようなピン端子構造の半導体装置は、電気経路を短くできる。
特開2016−072575号公報 特許3691402号公報
しかしながら、上記した半導体装置401では、張り出させた部分443が、薄いと言っても導電性接合部材406を介して受けられているため、リードフレーム404が自重で傾いて接合されてしまう虞がある。また、半導体装置401では、張り出させた部分443が内蔵基板402によって受けられているため、内蔵基板402が傾いていた場合、リードフレーム404がモールド樹脂407に対して傾いて接合されてしまう虞がある。リードフレームが傾いて接合されてしまうと、外部接続端子の先端ピッチ精度が悪化してしまうという問題がある。特に、ピン端子構造の半導体装置の場合には、ピン端子を立てる表面に傾きがあるとピン端子が傾き、ピン端子の先端ピッチ精度が悪化してしまうという問題がある。
そこで、本発明は、上記した問題を解決するためになされたもので、外部接続端子の先端ピッチ精度が良好なピン端子構造の半導体装置を提供することを目的とする。また、本発明は、外部接続端子の先端ピッチ精度が良好なピン端子構造の半導体装置に用いられるリードフレーム材を提供することを目的とする。
[1]本発明の半導体装置は、半導体チップが実装され、表面に電気経路端子を含む端子が形成された内蔵基板と、前記半導体チップの表面に導電性接合部材を介して電気的に接続されたチップ接続電極部、前記内蔵基板の電気経路端子に電気的に接続された基板接続電極部、及び平面的に見て前記チップ接続電極部若しくは前記基板接続電極部から外側に張り出す水平面支持部を有するリードフレームと、前記リードフレームの前記基板接続電極部に電気的に接続されているとともに前記基板接続電極部の平面に対して垂直方向に立つピン端子とを備え、前記水平面支持部は、平面的に見て前記内蔵基板より外側まで張り出していることを特徴とする。
[2]本発明の半導体装置においては、前記水平面支持部の先端は、前記内蔵基板及び前記半導体チップに接していないことが好ましい。
[3]本発明の半導体装置においては、前記チップ接続電極部、前記基板接続電極部、及び前記水平面支持部は、同一平面に沿って広がっており、前記ピン端子は、前記内蔵基板上の前記電気経路端子に導電性接合部材を介して電気的に接続されていることが好ましい。
[4]本発明の半導体装置においては、前記リードフレームは、前記水平面支持部として、前記内蔵基板の一方組の対辺から張り出している第1の水平面支持部と前記内蔵基板の他方組の対辺から張り出している第2の水平面支持部とを有し、前記第1の水平面支持部及び前記第2の水平面支持部によって、水平面支持機構が構成されていることが好ましい。
[5]本発明の半導体装置においては、前記水平面支持機構を構成する複数の前記水平面支持部は、同等幅で形成されていることが好ましい。
[6]本発明の半導体装置においては、前記チップ接続電極部は、前記半導体チップの表面の導電性接合部材の厚みに対応する高さの打ち出し突起を有することが好ましい。
[7]本発明の半導体装置においては、前記内蔵基板は、絶縁端子をさらに有し、前記リードフレームは、前記絶縁端子に導電性接合部材を介して電気的に接続された絶縁端子連結部をさらに有し、当該絶縁端子連結部の一部以外が全てモールド樹脂に覆われていることが好ましい。
[8]本発明のリードフレーム材は、半導体チップが実装され、表面に電気経路端子を含む端子が形成された内蔵基板と、前記半導体チップ及び前記内蔵基板に電気的に接続されたリードフレームとを備える半導体装置における前記リードフレームに加工されるリードフレーム材であって、前記内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、前記内蔵基板を囲う枠状の外枠部と、少なくとも一部が前記半導体チップと重なるチップ接続電極部と、少なくとも一部が前記内蔵基板の前記電気経路端子と重なる基板接続電極部と、一端が前記チップ接続電極部又は前記基板接続電極部に繋がり、他端が前記外枠部に繋がる第1の水平面支持部と、一端が前記基板接続電極部と繋がり、他端が前記内蔵基板の外側に位置するとともに、どことも繋がらない第2の水平面支持部と、を有することを特徴とする。
[9]本発明のリードフレーム材においては、前記外枠部、前記チップ接続電極部、前記基板接続電極部、及び前記水平面支持部は、同一平面に沿って広がっていることが好ましい。
[10]本発明のリードフレーム材においては、前記内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、前記電気経路端子と重なる位置に貫通孔が形成されていることが好ましい。
[11]本発明のリードフレーム材においては、前記端子の一部として絶縁端子が形成された前記内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、一端が前記絶縁端子に重なり、他端が前記外枠部に繋がる絶縁端子連結部をさらに有することが好ましい。
本発明の半導体装置によれば、平面的に見てチップ接続電極部若しくは基板接続電極部から内蔵基板よりも外側まで張り出す水平面支持部を有するリードフレームを備えるため、製造時に固定冶具で水平面支持部を受けることで傾きを抑えてリードフレームを配置できることから、リードフレームと接合する外部接続端子の先端ピッチ精度を良好にできる。また、本発明の半導体装置によれば、基板接続電極部の平面に対して垂直方向に立つピン端子を備えるため、外部接続端子をピン端子とするピン端子構造を構成できる。その結果、本発明の半導体装置は、外部接続端子の先端ピッチ精度が良好なピン端子構造の半導体装置となる。
本発明のリードフレーム材においては、内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、一端がチップ接続電極部又は基板接続電極部に繋がり、他端が外枠部に繋がる第1の水平面支持部と、一端が基板接続電極部と繋がり、他端が内蔵基板の外側に位置するとともに、どことも繋がらない第2の水平面支持部とを備える。このため、本発明のリードフレーム材によれば、製造時に固定冶具で第1及び第2の水平面支持部を受けることで傾きを抑えてリードフレーム材を配置できることから、リードフレーム材と接合する外部接続端子の先端ピッチ精度を良好にできる。また、本発明のリードフレーム材は、内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、少なくとも一部が内蔵基板の電気経路端子と重なる基板接続電極部を備えるため、基板接続電極部を介してピン端子を内蔵基板の電気経路端子に接合可能なことから、外部接続端子をピン端子とするピン端子構造を構成できる。その結果、本発明のリードフレーム材は、外部接続端子の先端ピッチ精度が良好なピン端子構造の半導体装置に用いられるリードフレーム材となる。
実施形態に係る半導体装置1を示す模式図である。図1(a)は、半導体装置1の内部を透過した上面図であり、図1(b)は、A−A断面図であり、図1(c)は、B−B断面図であり、図1(d)は、C−C断面図である。 実施形態に係るリードフレーム材40を示す模式図である。 実装工程S1における支持状態を示す模式図である。図3(a)は、上面図であり、図3(b)は、D−D断面図である。 従来の半導体装置401を示す模式図である。図4(a)は、半導体装置401の内部を透過した上面図であり、図4(b)は、E−E断面図であり、図4(c)は、F−F断面図である。 従来の半導体装置501の断面を示す模式図である。
以下、本発明の半導体装置について、図に示す実施形態に基づいて説明する。なお、各図面は模式図であり、必ずしも実際の寸法を厳密に反映したものではない。
1.実施形態における半導体装置1の構成
実施形態に係る半導体装置1は、図1(a)〜(d)に示すように、内蔵基板2と、半導体チップ3と、リードフレーム4と、ピン端子5と、導電性接合部材6と、を備え、リードフレーム4の一部及びピン端子5の先端側を除いてモールド樹脂7で樹脂封止されている。
内蔵基板2は、電気回路基板である。内蔵基板としては適宜の基板(例えば、プリント基板)を用いることができるが、実施形態の内蔵基板2は、絶縁性基材21と、チップを搭載するために絶縁性基材21の一方の表面に露出するチップ接続端子22と、電気回路の一部であり絶縁性基材21の一方の表面に露出する複数の電気経路端子23と、電気回路と電気的に繋がらず絶縁性基材21の一方の表面に露出する絶縁端子24と、絶縁性基材21の他方の面に露出する放熱用金属板25とを有するDCB(Direct Cоpper Bonding)基板である。なお、放熱用金属板25はモールド樹脂7から露出している。
半導体チップ3は、内蔵基板2上に実装されている。半導体チップ3は、一方の面(内蔵基板2側の面)に形成されたコレクタ電極31、並びに、他方の面(内蔵基板2側の面とは反対側の面)に形成されたエミッタ電極32、及びエミッタ電極32とは離間した位置に形成されたゲート電極33を有するIGBTである。コレクタ電極31は、導電性接合部材6を介して内蔵基板2のチップ接続端子22に接合されている。エミッタ電極32は、導電性接合部材6を介してリードフレーム4に接合されている。ゲート電極33は、ワイヤやジャンパー等の導電性部材を介して内蔵基板2に接続されている。
リードフレーム4は、複数ピースの平板状の金属部材からなり、後述の1のリードフレーム材40(図2参照)から切り離されて形成されたものである。リードフレーム4は、半導体チップ3のコレクタ電極31と電気的に接続するリードフレームコレクタピース4C、半導体チップ3のエミッタ電極32と電気的に接続するリードフレームエミッタピース4E、半導体チップ3のゲート電極33と電気的に接続するリードフレームゲートピース4G、及び半導体チップと電気的に接続していないリードフレーム絶縁ピース4Iに分割されている。リードフレーム4は、ワイヤよりも断面積が大きく、大電流を流すことができる。リードフレーム4は、チップ接続電極部41と、基板接続電極部42と、水平面支持機構43と、絶縁端子連結部44とを有している。チップ接続電極部41、基板接続電極部42、及び水平面支持機構43は、同一平面に沿って広がっており、平面高さは一定である。リードフレーム4は、絶縁端子連結部44の一端部以外が全てモールド樹脂7に覆われている。
チップ接続電極部41は、導電性接合部材6を介して半導体チップ3の表面のエミッタ電極32に電気的に接続されている。チップ接続電極部41は、リードフレームエミッタピース4Eに形成されている。チップ接続電極部41は、半導体チップ3側の表面中央部に、半導体チップ3との間の導電性接合部材6の厚みに対応する高さの打ち出し突起41aを有する。チップ接続電極部41は、半導体チップ3上に載置された際、打ち出し突起41aの頂点が半導体チップ3に接触する。このため、チップ接続電極部41は、その表面と半導体チップ3の表面との間に一定量の隙間が確保され、十分な厚みの導電性接合部材6を介して半導体チップ3に接合されている。
基板接続電極部42は、後述のピン端子5を介して内蔵基板2の電気経路端子23に電気的に接続されている。基板接続電極部42には、内蔵基板2と重ね合わせた際に内蔵基板2の電気経路端子23と重なる位置に、後述のピン端子5の外形形状に対応した貫通孔42aが形成されている(図2も併せて参照)。基板接続電極部42は、リードフレームコレクタピース4C、リードフレームエミッタピース4E、及びリードフレームゲートピース4Gのそれぞれに形成されている。なお、リードフレームエミッタピース4Eにおける基板接続電極部42は、一部がチップ接続電極部41と繋がっている。
水平面支持機構43は、それぞれが、平面的に見てチップ接続電極部41若しくは基板接続電極部42から外側に張り出す複数の水平面支持部によって構成されている。水平面支持機構43は、それぞれが水平面支持部となる第1の水平面支持部43a及び複数の第2の水平面支持部43bによって構成されている。第1の水平面支持部43a及び第2の水平面支持部43bは、それぞれ同等の幅で形成されている。また、第1の水平面支持部43a及び第2の水平面支持部43bの先端は、内蔵基板2及び半導体チップ3に接しておらず、どことも繋がっていない。
第1の水平面支持部43aは、内蔵基板2の一方組の対辺(図1(a)において横方向に対向する辺)から張り出している。第1の水平面支持部43aは、リードフレームコレクタピース4C、リードフレームエミッタピース4E、及びリードフレームゲートピース4Gのそれぞれに形成されている。なお、リードフレームエミッタピース4Eにおける第1の水平面支持部43aは、チップ接続電極部41から張り出している。
第2の水平面支持部43bは、内蔵基板2の他方組の対辺(図1(a)において縦方向に対向する辺)から張り出している。第2の水平面支持部43bは、リードフレームコレクタピース4C、リードフレームエミッタピース4E、及びリードフレームゲートピース4Gのそれぞれに形成されている。なお、リードフレームエミッタピース4Eにおける第2の水平面支持部43bは、基板接続電極部42から張り出している。
絶縁端子連結部44は、導電性接合部材6を介して内蔵基板2の絶縁端子24に電気的に接続されている。絶縁端子連結部44は、クランク状に曲げられて、一端が絶縁端子24に接続され、他端がモールド樹脂7の側面から僅かに露出している。絶縁端子連結部44は、リードフレーム絶縁ピース4Iに形成されている。
ピン端子5は、中央部に径が大きな部分のフランジ部5aを有する細長い円柱状の導電性ピンである。ピン端子5は、リードフレーム4の貫通孔42aに内蔵基板2側と反対側から一方側を差し込まれ、基板接続電極部42の平面に対して垂直方向に立つよう配置される。ピン端子5は、一方側の端部が導電性接合部材6を介して内蔵基板2に接合され、フランジ部5aの一方側の面が導電性接合部材6を介してリードフレーム4に接合される。これにより、ピン端子5は、リードフレーム4の基板接続電極部42に電気的に接続されるとともに、内蔵基板2上の電気経路端子23に電気的に接続される。ピン端子5は、他方側がモールド樹脂7の表面から突出し、外部接続端子として機能する。
導電性接合部材6は、導電性および接着性を有する合金又は金属である。導電性接合部材としては、銀ペーストや銀ナノ粒子を有する導電性接着剤等を採用してもよいが、本実施形態の導電性接合部材6は、はんだ材を加熱・溶融して固化させたはんだである。導電性接合部材6は、鉛フリーはんだでもよい。導電性接合部材6は、内蔵基板2の各端子、半導体チップ3の各電極、リードフレーム4、又はピン端子5の間で複数箇所に用いられ、両者を機械的に接合するとともに電気的に接続する。
モールド樹脂7には適宜の樹脂が用いられ、モールド樹脂7は、内蔵基板2の放熱用金属板25の一部、リードフレーム4の絶縁端子連結部44の一部、及びピン端子5の一部を除き、内蔵基板2、半導体チップ3、リードフレーム4、ピン端子5、及び導電性接合部材6を樹脂封止している。
2.実施形態におけるリードフレーム材40の構成
前述したように、リードフレーム4は、複数ピースからなるが、製造過程において1のリードフレーム材40から切り離されて形成されたものである。ここで、本実施形態の半導体装置1の製造に用いられるリードフレーム材40について説明する。リードフレーム材40は、半導体装置1におけるリードフレーム4に加工されるリードフレーム材であって、図2に示すように、外枠部45と、チップ接続電極部41と、基板接続電極部42と、第1の水平面支持部43aと、第2の水平面支持部43bと、絶縁端子連結部44とを有している。リードフレーム材40は、外枠部45、チップ接続電極部41、基板接続電極部42、第1の水平面支持部43a及び第2の水平面支持部43bが同一平面に沿って広がっており、全体的には内側に開口と貫通孔とを有する矩形状の金属製平板である。リードフレーム材40は、製造時において、第1カットラインCL1及び第2カットラインCL2に沿って切り離されることで、内側がリードフレーム4として分離する。なお、リードフレーム材40における外枠部45以外の部分については、前述のリードフレーム4として説明した形態と基本的には同様であるため、以下においては詳細な形態を省略して説明する。
リードフレーム材40における外枠部45は、枠部分45aと連結部分45bとを有し、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、内蔵基板2の周囲を囲う。枠部分45aは、矩形枠状に形成されている。枠部分45aには、4つ角等に位置決め用貫通孔46が形成されていてもよい。連結部分45bは、枠部分45aと内側のリードフレーム4となる部分とを繋いでいる。例えば、連結部分45bは、枠部分45aと第1の水平面支持部43aとを繋いでいる。なお、図2において、位置決め用貫通孔46は、4箇所に真円状で描かれているが、逃がしを考慮して部分的に楕円形状に形成したり、2箇所だけに形成したりしてもよい。
リードフレーム材40におけるチップ接続電極部41は、リードフレーム4におけるチップ接続電極部41となる部分であり、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、少なくとも一部が半導体チップ3と重なる。リードフレーム材40におけるチップ接続電極部41においても、中央に打ち出し突起41aが形成されている。
リードフレーム材40における基板接続電極部42は、リードフレーム4における基板接続電極部42となる部分であり、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、少なくとも一部が内蔵基板2の電気経路端子23と重なる。リードフレーム材40における基板接続電極部42においても、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、電気経路端子23と重なる位置に貫通孔42aが形成されている。
リードフレーム材40における第1の水平面支持部43aは、リードフレーム4における第1の水平面支持部43aとなる部分であり、一端がチップ接続電極部41又は基板接続電極部42に繋がっている。また、リードフレーム材40における第1の水平面支持部43aは、他端がリードフレーム4として切り離された際にはどことも繋がっていないが、切り離される前には外枠部45の連結部分45bに繋がっている。
リードフレーム材40における第2の水平面支持部43bは、リードフレーム4における第2の水平面支持部43bとなる部分であり、一端が基板接続電極部42と繋がり、他端が内蔵基板2の外側に位置するとともに、どことも繋がっていない。
リードフレーム材40における絶縁端子連結部44は、リードフレーム4における絶縁端子連結部44となる部分であり、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、一端が絶縁端子24に重なる。また、リードフレーム材40における絶縁端子連結部44は、他端がリードフレーム4として切り離された際にはどことも繋がっていないが、切り離される前には外枠部45の枠部分45aに繋がっている。
3.実施形態に係る半導体装置1の製造過程における部品実装
半導体装置1の製造過程においては、図3に示すような内側に凹部を有する固定冶具80が用いられて部品実装される。固定冶具80の凹部は、リードフレーム4の一方の面と半導体チップ3の一方の面との距離寸法に対応した深さ寸法位置において、内蔵基板2の外形形状に対応した外形形状の底面81を有している。固定冶具80は、上面において、リードフレーム材載置面82を有し、リードフレーム材載置面82の一部からは、リードフレーム材40の位置決め用貫通孔46に合わせて位置決めピン83が突出している。底面81とリードフレーム材載置面82とは、互いに平行な平面となっている。
半導体装置1の製造過程における部品実装の際、図3(b)に示すように、固定冶具80に、内蔵基板2、半導体チップ3、内側にリードフレーム4を有するリードフレーム材40、ピン端子5、及び未固化状態の導電性接合部材6が配置された後、導電性接合部材6が固化される。
具体的には、まず、チップ接続端子22を上方に向けた内蔵基板2が固定冶具80の底面81に載置される。次に、内蔵基板2のチップ接続端子22及び電気経路端子23に導電性接合部材6(はんだ材)が塗布される。次に、コレクタ電極31を下方に向けた半導体チップ3が内蔵基板2のチップ接続端子22上に載置される。次に、半導体チップ3のエミッタ電極32に導電性接合部材6(はんだ材)が塗布される。次に、固定冶具80のリードフレーム材載置面82にリードフレーム材40が載置される。次に、リードフレーム材40の基板接続電極部42に導電性接合部材6(はんだ材)が塗布される。次に、ピン端子5が、下端を内蔵基板2の電気経路端子23上の導電性接合部材6に接触させるようにして、リードフレーム材40の基板接続電極部42の貫通孔42aに挿通されて立てられる。そうすると、固定冶具80に内蔵基板2、半導体チップ3、リードフレーム4、ピン端子5、及び導電性接合部材6が図3に示すように配置される。次に、全体が加熱されることで導電性接合部材6により内蔵基板2、半導体チップ3、内側にリードフレーム4を有するリードフレーム材40、及びピン端子5は一体化する。
なお、半導体装置1の製造過程における部品実装の際、半導体チップ3のゲート電極33と内蔵基板2とは、両者を繋ぐためにワイヤが用いられるか導電性接合部材を介する金属板が用いられるかによって、適宜上記具体的な手順の中で電気的に接合される。また、はんだ材としては、ペースト状のはんだ材(いわゆるクリームはんだ)や固体状のはんだ材(いわゆる板はんだ)またはこれらを組み合わせて用いることができる。
4.実施形態に係る効果
半導体装置1によれば、平面的に見てチップ接続電極部41若しくは基板接続電極部42から内蔵基板2よりも外側まで張り出す水平面支持部43a,43bを有するリードフレーム4を備えるため、製造時に固定冶具80で水平面支持部43a,43bを受けることで傾きを抑えてリードフレーム4を配置できることから、リードフレーム4と接合する外部接続端子の先端ピッチ精度を良好にできる。また、半導体装置1によれば、基板接続電極部42の平面に対して垂直方向に立つピン端子5を備えるため、外部接続端子をピン端子5とするピン端子構造を構成できる。その結果、半導体装置1は、外部接続端子の先端ピッチ精度が良好なピン端子構造の半導体装置となる。
また、半導体装置1によれば、水平面支持部43a,43bの先端は、内蔵基板2及び半導体チップ3に接しておらず、どことも繋がっていないため、水平面支持部43a,43bの先端を製造時におけるリードフレーム4の水平出しに使用できる。
また、半導体装置1においては、リードフレーム4のチップ接続電極部41、基板接続電極部42、及び水平面支持部43a,43bは、同一平面に沿って広がっているため、各部間に曲げ加工等されていないことから、リードフレーム4各部の平面精度を高めることが容易である。その上で、半導体装置1においては、ピン端子5が内蔵基板2上の電気経路端子23に導電性接合部材6を介して電気的に接続されている。このため、半導体装置1によれば、外部接続端子としてのピン端子5の先端ピッチ精度を容易に出すことができる。
また、半導体装置1においては、リードフレーム4は、複数の第1の水平面支持部43a及び複数の第2の水平面支持部43bによって構成される水平面支持機構43を有する。この水平面支持機構43は、第1の水平面支持部43aが内蔵基板2の一方組の対辺から張り出し、第2の水平面支持部43bが内蔵基板2の他方組の対辺から張り出している。このため、半導体装置1によれば、製造時にリードフレーム4を一の辺に沿ったライン以外でも支持可能であることから、傾きを抑えてリードフレーム4を構成できる。
また、半導体装置1においては、リードフレーム4の水平面支持機構43を構成する複数の水平面支持部43a,43bは、同等幅で形成されている。このため、半導体装置1によれば、製造時に導電性接合部材6を固化させる際、リードフレーム4のチップ接続電極部41及び基板接続電極部42での熱応力の偏りが抑えられることから、傾きを抑えてリードフレーム4を構成できる。
また、半導体装置1においては、リードフレーム4のチップ接続電極部41は、半導体チップ3の表面の導電性接合部材6の厚みに対応する高さの打ち出し突起41aを有する。このため、半導体装置1によれば、製造時に導電性接合部材6を固化させる際、半導体チップ3が浮いてきたとしても打ち出し突起41aで抑えることが可能であることから、半導体チップ3とリードフレーム4との間に性能維持に必要な十分な厚みの導電性接合部材6を構成できる。
また、半導体装置1においては、リードフレーム4は、内蔵基板2の絶縁端子24に導電性接合部材6を介して電気的に接続された絶縁端子連結部44を有し、絶縁端子連結部44の一部以外が全てモールド樹脂7に覆われている。このため、半導体装置1によれば、側面に内蔵基板2の電気回路と繋がる端子が露出しないことから、高耐圧化に優れるよう構成できる。
リードフレーム材40においては、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、一端がチップ接続電極部41又は基板接続電極部42に繋がり、他端が外枠部45に繋がる第1の水平面支持部43aと、一端が基板接続電極部42と繋がり、他端が内蔵基板2の外側に位置するとともに、どことも繋がらない第2の水平面支持部43bとを備える。このため、リードフレーム材40によれば、製造時に固定冶具80で第1及び第2の水平面支持部43a,43bを受けることで傾きを抑えてリードフレーム材40を配置できることから、リードフレーム材40と接合する外部接続端子の先端ピッチ精度を良好にできる。また、リードフレーム材40においては、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、少なくとも一部が内蔵基板2の電気経路端子23と重なる基板接続電極部42を備える。このため、リードフレーム材40によれば、基板接続電極部42を介してピン端子5を内蔵基板2の電気経路端子23に接合可能なことから、外部接続端子をピン端子5とするピン端子構造を構成できる。その結果、リードフレーム材40は、外部接続端子の先端ピッチ精度が良好なピン端子構造の半導体装置1に用いられるリードフレーム材となる。
また、リードフレーム材40によれば、外枠部45、チップ接続電極部41、基板接続電極部42、及び第1及び第2の水平面支持部43a,43bは、同一平面に沿って広がっているため、内側を切り離して形成されたリードフレーム4各部の平面精度を高めることができる。
また、リードフレーム材40によれば、内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、電気経路端子23と重なる位置に貫通孔42aが形成されているため、先端を電気経路端子23に接合させるピン端子5を立てることができる。
また、リードフレーム材40においては、絶縁端子24が形成された内蔵基板2に重ね合わせて平面的に見た際に、一端が絶縁端子24に重なり、他端が外枠部45に繋がる絶縁端子連結部44をさらに有する。このため、リードフレーム材40によれば、製造時において、半導体装置1の内部部品を電気回路と繋がらない絶縁端子連結部44と繋がる外枠部45で支持可能なことから、モールド樹脂7による樹脂封止の作業性を向上できる。
以上、本発明を上記の実施形態に基づき説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。その趣旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。
(1)上記実施形態において記載した構成要素の数、形状、位置、大きさ等は例示であり、本発明の効果を損なわない範囲において変更することが可能である。
(2)上記実施形態においては、半導体チップ3をIGBTとしたが、本発明はこれに限定されるものではない。半導体チップ3を他の3端子の半導体素子(例えば、MOSFET)としてよいし、半導体チップ3を2端子の半導体素子(例えば、ダイオード)としてよいし、半導体チップ3を4端子以上の半導体素子(4端子の半導体素子としては、例えばサイリスタ)としてもよい。
(3)上記実施形態においては、半導体装置を、半導体チップを1つ備える半導体装置としたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、半導体装置を、半導体チップを2つ備える半導体装置としてもよいし、半導体チップを3つ以上備える半導体装置としてもよい。
(4)上記実施形態において、半導体装置を、半導体チップの一方の面にコレクタ電極を有し、他方の面にエミッタ電極およびゲート電極を有する、いわゆる縦型の半導体装置としたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、半導体装置を、基板側とは反対側の面に全ての電極を有する、いわゆる横型の半導体装置としてもよい。
(5)上記実施形態のリードフレーム4においては、チップ接続電極部41、基板接続電極部42、及び第1及び第2の水平面支持部43a,43bは、同一平面に沿って広がっているものとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。リードフレームのチップ接続電極部、基板接続電極部、及び第1及び第2の水平面支持部は、同一平面に沿って広がっていることが好ましいが、一部平行にずれていてもよい。
(6)上記実施形態のリードフレーム4においては、第1の水平面支持部43aの先端が外枠部45と繋がり、第2の水平面支持部43bの先端がどことも繋がっていないものとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、リードフレーム材は、第1の水平面支持部の先端がどことも繋がっておらず、第2の水平面支持部の先端が外枠部と繋がっているものであってもよい。また、例えば、リードフレーム材は、第1及び第2の水平面支持部の先端がいずれも外枠部と繋がっているものであっても良い。
(7)上記実施形態において、リードフレーム4が第1及び第2の水平面支持部43a,43bを有するものとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、リードフレームは、第1及び第2の水平面支持部のいずれかを有するものであってもよい。
(8)上記実施形態のピン端子5においては、円柱状のものとして説明したが、本発明はこれに限定されるものであってもよい。例えば、ピン端子は、角柱状のものであってもよく、薄板状のものであってもよい。
1…半導体装置、2…内蔵基板、3…半導体チップ、4…リードフレーム、5…ピン端子、6…導電性接合部材、7…モールド樹脂、23…電気経路端子、24…絶縁端子、40…リードフレーム材、41…チップ接続電極部、41a…打ち出し突起、42…基板接続電極部、43…水平面支持機構、43a…第1の水平面支持部、43b…第2の水平面支持部、44…絶縁端子連結部、45…外枠部

Claims (11)

  1. 半導体チップが実装され、表面に電気経路端子を含む端子が形成された内蔵基板と、
    前記半導体チップの表面に導電性接合部材を介して電気的に接続されたチップ接続電極部、前記内蔵基板の電気経路端子に電気的に接続された基板接続電極部、及び平面的に見て前記チップ接続電極部若しくは前記基板接続電極部から外側に張り出す水平面支持部を有するリードフレームと、
    前記リードフレームの前記基板接続電極部に電気的に接続されているとともに前記基板接続電極部の平面に対して垂直方向に立つピン端子とを備え、
    前記水平面支持部は、平面的に見て前記内蔵基板より外側まで張り出していることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記水平面支持部の先端は、前記内蔵基板及び前記半導体チップに接していないことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記チップ接続電極部、前記基板接続電極部、及び前記水平面支持部は、同一平面に沿って広がっており、
    前記ピン端子は、前記内蔵基板上の前記電気経路端子に導電性接合部材を介して電気的に接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
  4. 前記リードフレームは、前記水平面支持部として、前記内蔵基板の一方組の対辺から張り出している第1の水平面支持部と前記内蔵基板の他方組の対辺から張り出している第2の水平面支持部とを有し、
    前記第1の水平面支持部及び前記第2の水平面支持部によって、水平面支持機構が構成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装置。
  5. 前記水平面支持機構を構成する複数の前記水平面支持部は、同等幅で形成されていることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
  6. 前記チップ接続電極部は、前記半導体チップの表面の導電性接合部材の厚みに対応する高さの打ち出し突起を有することを特徴する請求項1〜5のいずれかに記載の半導体装置。
  7. 前記内蔵基板は、絶縁端子をさらに有し、
    前記リードフレームは、前記絶縁端子に導電性接合部材を介して電気的に接続された絶縁端子連結部をさらに有し、当該絶縁端子連結部の一部以外が全てモールド樹脂に覆われていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の半導体装置。
  8. 半導体チップが実装され、表面に電気経路端子を含む端子が形成された内蔵基板と、前記半導体チップ及び前記内蔵基板に電気的に接続されたリードフレームとを備える半導体装置における前記リードフレームに加工されるリードフレーム材であって、前記内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、
    前記内蔵基板を囲う枠状の外枠部と、
    少なくとも一部が前記半導体チップと重なるチップ接続電極部と、
    少なくとも一部が前記内蔵基板の前記電気経路端子と重なる基板接続電極部と、
    一端が前記チップ接続電極部又は前記基板接続電極部に繋がり、他端が前記外枠部に繋がる第1の水平面支持部と、
    一端が前記基板接続電極部と繋がり、他端が前記内蔵基板の外側に位置するとともに、どことも繋がらない第2の水平面支持部と、を有することを特徴とするリードフレーム材。
  9. 前記外枠部、前記チップ接続電極部、前記基板接続電極部、及び前記水平面支持部は、同一平面に沿って広がっていることを特徴とする請求項8に記載のリードフレーム材。
  10. 前記内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、前記電気経路端子と重なる位置に貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項8又は9に記載のリードフレーム材。
  11. 前記端子の一部として絶縁端子が形成された前記内蔵基板に重ね合わせて平面的に見た際に、一端が前記絶縁端子に重なり、他端が前記外枠部に繋がる絶縁端子連結部をさらに有することを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載のリードフレーム材。
JP2020501586A 2019-04-10 2019-04-10 半導体装置、及びリードフレーム材 Active JP6850938B1 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2019/015614 WO2020208741A1 (ja) 2019-04-10 2019-04-10 半導体装置、及びリードフレーム材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6850938B1 true JP6850938B1 (ja) 2021-03-31
JPWO2020208741A1 JPWO2020208741A1 (ja) 2021-05-06

Family

ID=72751599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020501586A Active JP6850938B1 (ja) 2019-04-10 2019-04-10 半導体装置、及びリードフレーム材

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11776929B2 (ja)
JP (1) JP6850938B1 (ja)
CN (1) CN112913009B (ja)
NL (1) NL2025196B1 (ja)
WO (1) WO2020208741A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022116911A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Anschlusselement und halbleitervorrichtung
DE102022116908A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Halbleitervorrichtung
DE102022116910A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Halbleitervorrichtung
DE102022116914A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Halbleitervorrichtung

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11439039B2 (en) * 2020-12-07 2022-09-06 Hamilton Sundstrand Corporation Thermal management of electronic devices on a cold plate

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012129336A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1907075B2 (de) * 1969-02-13 1974-07-04 Semikron Gesellschaft Fuer Gleichrichterbau Und Elektronik Mbh, 8500 Nuernberg Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-Kleingleichrichtern
DE10008572B4 (de) 2000-02-24 2007-08-09 Infineon Technologies Ag Verbindungseinrichtung für Leistungshalbleitermodule
JP4459883B2 (ja) * 2005-04-28 2010-04-28 三菱電機株式会社 半導体装置
US7285849B2 (en) * 2005-11-18 2007-10-23 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die package using leadframe and clip and method of manufacturing
CN101136396B (zh) * 2006-08-30 2011-08-10 株式会社电装 包括两片带有多个半导体芯片和电子元件的衬底的功率电子封装件
JP5245485B2 (ja) * 2008-03-25 2013-07-24 富士電機株式会社 半導体装置の製造方法
US9147666B2 (en) * 2009-05-14 2015-09-29 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device
JP5500936B2 (ja) * 2009-10-06 2014-05-21 イビデン株式会社 回路基板及び半導体モジュール
JP6161251B2 (ja) * 2012-10-17 2017-07-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6176320B2 (ja) * 2013-04-25 2017-08-09 富士電機株式会社 半導体装置
JP2016006806A (ja) * 2013-06-05 2016-01-14 富士電機株式会社 半導体装置
KR102153041B1 (ko) * 2013-12-04 2020-09-07 삼성전자주식회사 반도체소자 패키지 및 그 제조방법
JP6305302B2 (ja) 2014-10-02 2018-04-04 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6623811B2 (ja) * 2016-02-16 2019-12-25 富士電機株式会社 半導体モジュールの製造方法及び半導体モジュール
JP2017170627A (ja) * 2016-03-18 2017-09-28 富士電機株式会社 モールド製品の製造方法およびモールド製品
JP6897056B2 (ja) * 2016-10-20 2021-06-30 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012129336A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022116911A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Anschlusselement und halbleitervorrichtung
DE102022116908A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Halbleitervorrichtung
DE102022116910A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Halbleitervorrichtung
DE102022116914A1 (de) 2021-07-12 2023-01-12 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Halbleitervorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
CN112913009A (zh) 2021-06-04
US11776929B2 (en) 2023-10-03
CN112913009B (zh) 2024-08-16
WO2020208741A1 (ja) 2020-10-15
NL2025196B1 (en) 2020-10-30
US20210233885A1 (en) 2021-07-29
JPWO2020208741A1 (ja) 2021-05-06
NL2025196A (en) 2020-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6850938B1 (ja) 半導体装置、及びリードフレーム材
US9917031B2 (en) Semiconductor device, and method for assembling semiconductor device
JP5176507B2 (ja) 半導体装置
US9966327B2 (en) Lead frame, semiconductor device, method for manufacturing lead frame, and method for manufacturing semiconductor device
US8441117B2 (en) Semiconductor device
US8916958B2 (en) Semiconductor package with multiple chips and substrate in metal cap
US20090057855A1 (en) Semiconductor die package including stand off structures
JP2001015679A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2016006806A (ja) 半導体装置
JP5935374B2 (ja) 半導体モジュールの製造方法
KR101644913B1 (ko) 초음파 용접을 이용한 반도체 패키지 및 제조 방법
CN211719598U (zh) 一种线路可靠的散热型贴片式二极管
JP2022006924A (ja) パワーモジュール
JP2002026195A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP5533983B2 (ja) 半導体装置
JP2003110080A (ja) 半導体装置
JP2004111745A (ja) 半導体装置
US11978683B2 (en) Semiconductor apparatus
JP2007141947A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4861200B2 (ja) パワーモジュール
JPH08264711A (ja) 半導体装置
JP3172393B2 (ja) 混成集積回路装置
JP6717103B2 (ja) 半導体モジュール
JP3061728B2 (ja) 半導体パッケージ
JP2012099773A (ja) 半導体モジュールの製造方法、及び半導体モジュール

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200114

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210308

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6850938

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150