JP6850196B2 - 過電流保護回路 - Google Patents
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Description
VR1=I2×R1 (1)
となる。
VR1=VREF (2)
となるように負帰還制御される。そして、パワートランジスタM1のゲートも同時に制御されるので、これらによって、パワートランジスタM1に流れる電流が基準電圧VREFに対応した電流に制限され、過電流保護が行われる。
VR1=11mA×100Ω=1.1V (3)
となる。
請求項2にかかる発明は、請求項1に記載の過電流保護回路において、前記過電流検出抵抗、前記基準電圧発生抵抗、及び前記電圧補正抵抗は同じ抵抗値に設定され、前記カレントミラー回路の前記第1出力電流と前記第2出力電流は同じ電流に設定されていることを特徴とする。
請求項3にかかる発明は、請求項1又は2に記載の過電流保護回路において、前記過電流保護回路は前記パワートランジスタと共に半導体集積回路で構成され、前記過電流検出抵抗、前記基準電圧発生抵抗、及び前記電圧補正抵抗は前記半導体集積回路の同じアイランド上に形成されていることを特徴とする。
請求項4にかかる発明は、請求項3に記載の過電流保護回路において、前記過電流検出抵抗、前記基準電圧発生抵抗、及び前記電圧補正抵抗を、同じアイランド上に形成された第1導電型の第1デプレッショントランジスタ、第2デプレッショントランジスタ、及び第3デプレッショントランジスタにそれぞれ置き換えたことを特徴とする。
図1に本発明の第1実施例の過電流保護回路10Aを示す。図7で説明したものと同じものには同じ符号をつけて重複説明は省略する。図1において、5は電流Iaを流す電流源である。Q4,Q5,Q6はミラー比が1:1:1のカレントミラー回路を構成するNPNトランジスタであり、電流源5の電流IaがトランジスタQ4のコレクタとベースに入力することにより、トランジスタQ5,Q6のコレクタから同様の電流Iaが出力する。オペアンプOP1の反転入力端子と正電位電源端子1との間には、基準電圧源7に代えて過電流検出抵抗R1と同じ温度係数の基準電圧発生抵抗R2が接続されており、この基準電圧発生抵抗R2にトランジスタQ5のコレクタ電流Iaが流れることにより、そこに基準電圧VREFが発生する。トランジスタQ6のコレクタには、過電流検出トランジスタM2のゲートが接続され、さらに電圧補正抵抗R3を介してパワートランジスタM1のゲートが接続されている。この電圧補正抵抗R3には過電流検出抵抗R1に発生する電圧に対応した電圧が発生する。
VR2=Ia×R2 (4)
となる。
VR3=Ia×R3 (5)
であり、過電流検出トランジスタM2に印加されるゲート電圧Vg2は、パワートランジスタM1のゲート電圧Vg1とすると、
Vg2=Vg1−VR3 (6)
のように、電圧Vg1よりも電圧VR3だけ減算された電圧となる。
VR1=I2×R1となる。 (7)
I2×R1=Ia×R2 (8)
となり、R1=R2であるので、
I2=Ia (9)
となる。
VR2=VR3 (10)
となり、結局、
VR1=VR2=VR3 (11)
となる。
図2に本発明の第2実施例の過電流保護回路10Bを示す。図1で説明したものと同じものには同じ符号をつけて重複説明は省略する。本実施例では、カレントミラー回路を構成するバイポーラのNPNトランジスタQ4,Q5,Q6を、それぞれ半導体集積回路の同じアイランド上に形成されるNMOSのトランジスタM4,M5,M6に置き換えている。このように、バイポーラトランジスタをMOSトランジスタに置き換えても、図1の過電流保護回路10Aと同様に動作する。
図3に本発明の第3実施例の過電流保護回路10Cを示す。図2で説明したものと同じものには同じ符号をつけて重複説明は省略する。本実施例では、過電流検出抵抗R1、基準電圧発生抵抗R2、電圧補正抵抗R3を、それぞれ半導体集積回路の同じアイランド上に形成されるデプレッションのPMOSトランジスタM7,M8,M9で実現している。製造工程が異なることのある抵抗と比較して、デプレッショントランジスタを用いる場合は同一の製造工程であることから、エンハンスメントのPMOSトランジスタM1,M2と同じ温度特性を容易に実現できる利点がある。
図4に本発明の第4実施例の過電流保護回路10Dを示す。図1の過電流保護回路10Aではソース電流に対して過電流保護を行っていたのに対し、本実施例ではシンク電流に対して過電流保護を行うようにしている。11は高電位電圧VDDが印加する高電位電源端子、12は低電位電圧VSSが印加する低電位電源端子、13は出力端子、14は出力駆動回路、16は出力端子13と高電位電源端子11の間に接続された負荷である。
図5に本発明の第5実施例の過電流保護回路10Eを示す。図4で説明したものと同じものには同じ符号をつけて重複説明は省略する。本実施例では、カレントミラー回路を構成するバイポーラのトランジスタQ14,Q15,Q16を、それぞれ半導体集積回路の同じアイランド上に形成されるPMOSのトランジスタM14,M15,M16に置き換えている。このように、バイポーラトランジスタをMOSトランジスタに置き換えても、図4の過電流保護回路10Dと同様に動作する。
図6に本発明の第6実施例の過電流保護回路10Fを示す。図5で説明したものと同じものには同じ符号をつけて重複説明は省略する。本実施例では、過電流検出抵抗R11、基準電圧発生抵抗R12、電圧補正抵抗R13を、それぞれ半導体集積回路の同じアイランド上に形成されるデプレッションのNMOSトランジスタM17,M18,M19で実現している。製造工程が異なることのある抵抗と比較して、デプレッショントランジスタを用いる場合は同一の製造工程であることから、エンハンスメントのNMOSトランジスタM11、M12と同じ温度特性を容易に実現できる利点がある。
1,11:高電位電源端子、2,12:低電位電源端子、3,13:出力端子、4,14:出力駆動回路、5,15:電流源、6,16:負荷、7:基準電圧源
M1,M11:パワートランジスタ、M2,M12:過電流検出トランジスタ、M3,M13:過電流制御トランジスタ
R1,R11:過電流検出抵抗、R2,R12:基準電圧発生抵抗、R3,R13:電圧補正抵抗
Claims (4)
- 出力駆動回路によって駆動されドレインが出力端子に接続されソースが第1電源端子に接続された第1導電型のパワートランジスタ及び前記出力端子と第2電源端子との間に接続される負荷を過電流から保護する過電流保護回路において、
前記パワートランジスタに対して所定のゲート幅比に設定され前記出力駆動回路によって駆動されドレインが前記出力端子に接続された第1導電型の過電流検出トランジスタと、該過電流検出トランジスタのソースと前記第1電源端子との間に接続され過電流検出電圧を発生する過電流検出抵抗と、該過電流検出抵抗に発生する過電流検出電圧と基準電圧を比較するオペアンプと、該オペアンプの出力電圧に応じて前記パワートランジスタと前記過電流検出トランジスタのゲートを制御する第1導電型の過電流制御トランジスタと、電流源と、該電流源の電流を入力して第1出力電流及び第2出力電流を出力するカレントミラー回路と、該カレントミラー回路の前記第1出力電流が流れることで前記基準電圧を発生する前記過電流検出抵抗と同じ温度係数の基準電圧発生抵抗と、前記パワートランジスタのゲートと前記過電流検出トランジスタのゲートとの間に接続され前記カレントミラー回路の前記第2出力電流が流れることで補正電圧を発生する前記過電流検出抵抗と同じ温度係数の電圧補正抵抗とを備え、
前記過電流検出電圧が前記基準電圧と一致するとき、前記補正電圧が前記過電流検出電圧に一致することを特徴とする過電流保護回路。 - 請求項1に記載の過電流保護回路において、
前記過電流検出抵抗、前記基準電圧発生抵抗、及び前記電圧補正抵抗は同じ抵抗値に設定され、前記カレントミラー回路の前記第1出力電流と前記第2出力電流は同じ電流に設定されていることを特徴とする過電流保護回路。 - 請求項1又は2に記載の過電流保護回路において、
前記過電流保護回路は前記パワートランジスタと共に半導体集積回路で構成され、前記過電流検出抵抗、前記基準電圧発生抵抗、及び前記電圧補正抵抗は前記半導体集積回路の同じアイランド上に形成されていることを特徴とする過電流保護回路。 - 請求項3に記載の過電流保護回路において、
前記過電流検出抵抗、前記基準電圧発生抵抗、及び前記電圧補正抵抗を、同じアイランド上に形成された第1導電型の第1デプレッショントランジスタ、第2デプレッショントランジスタ、及び第3デプレッショントランジスタにそれぞれ置き換えたことを特徴とする過電流保護回路。
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