JP6846892B2 - 重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置 - Google Patents

重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6846892B2
JP6846892B2 JP2016159949A JP2016159949A JP6846892B2 JP 6846892 B2 JP6846892 B2 JP 6846892B2 JP 2016159949 A JP2016159949 A JP 2016159949A JP 2016159949 A JP2016159949 A JP 2016159949A JP 6846892 B2 JP6846892 B2 JP 6846892B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substituted
unsubstituted
group
phase difference
structural unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016159949A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017115119A (ja
Inventor
辻　雅司
雅司 辻
ドミトリ・アンドロソブ
暢基 金
暢基 金
▲ヒョン▼碩 崔
▲ヒョン▼碩 崔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2017115119A publication Critical patent/JP2017115119A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6846892B2 publication Critical patent/JP6846892B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/04—Aromatic polycarbonates
    • C08G64/045—Aromatic polycarbonates containing aliphatic unsaturation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/20—General preparatory processes
    • C08G64/26—General preparatory processes using halocarbonates
    • C08G64/28—General preparatory processes using halocarbonates and phenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2369/00—Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Description

本発明は、重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置に関する。
フラットパネル表示装置は、自発光型発光表示装置と、別途の光源を必要とする受光型表示装置と、に大別でき、これらの画質を改善するために補償フィルム又は光学フィルムが用いられる。
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、補償フィルムに適用される新規な重合体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記重合体を含む補償フィルムを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記 前記補償フィルム及び偏光子を備える光学フィルムを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える表示装置を提供することにある。
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による重合体は、下記一般式１で表わされる第１の構造単位を含む。
Figure 0006846892
前記一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
好ましくは、前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる。
Figure 0006846892
前記一般式１−１において、
Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
また、好ましくは、前記重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
Figure 0006846892
前記一般式２において、
Ｌ２は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
Figure 0006846892
前記一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
更に、好ましくは、前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる。
Figure 0006846892
前記一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
更にまた、好ましくは、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる。
更にまた、好ましくは、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜５０：５０のモル比にて含まれる。
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による補償フィルムは、下記一般式１で表わされる第１の構造単位を有する第１の重合体を含む。
Figure 0006846892
前記一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
好ましくは、前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる。
Figure 0006846892
前記一般式１−１において、
Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
また、好ましくは、前記第１の重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
Figure 0006846892
前記一般式２において、
Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
Figure 0006846892
前記一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
更に、好ましくは、前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる。
Figure 0006846892
前記一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜９９：１のモル比にて含む。
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜５０：５０のモル比にて含む。
更にまた、好ましくは、前記補償フィルムは、前記第１の重合体とは異なる第２の重合体を更に含む。
更にまた、好ましくは、前記補償フィルムは、一軸又は二軸延伸されている。
更にまた、好ましくは、前記補償フィルムは、１．１倍〜５．０倍延伸されている。
更にまた、好ましくは、５５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの面内位相差は、１０ｎｍ〜３００ｎｍである。
更にまた、好ましくは、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たす。
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
前記関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１０：９０〜２０：８０のモル比にて含み、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜３のうちのいずれか一つを満たす。
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
前記関係式１〜３において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
更にまた、好ましくは、前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を３０：７０〜４０：６０のモル比にて含み、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式４又は５を満たす。
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
前記関係式４及び５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による光学フィルムは、前記補償フィルムと、偏光子と、を備える。
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による表示装置は、前記補償フィルム又は前記光学フィルムを備える。
本発明によれば、補償フィルムに有効に適用される新規な重合体を提供し、且つ、所望の位相差及び波長分散性を有する補償フィルムを提供することができる。
本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図である。 光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。 偏光フィルムの一例を示す概略図である。 本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
以下、添付図面に基づき、本発明の好適な実施形態について本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が実施できる程度に詳細に説明する。しかしながら、本発明は、ここで説明される実施形態に何ら限定されるものではなく、他の形態に具体化可能である。
図中、様々な層及び領域の厚さは、明確性を図るために、実際の厚さよりも厚く描かれていることもある。明細書全体に亘って同じ部分に対しては同じ図面符号を付する。なお、層、膜、領域、板などが他の部分の「上」にあるとしたとき、それは、他の部分の「真上」にある場合だけではなく、これらの間にさらに他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「真上」にあるとしたとき、これらの間に他の部分がないことを意味する。
本明細書において、別途に断わりのない限り、「置換」とは、化合物又は官能基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバミル基、チオール基、エステル基、カルボキシル基とその塩、スルホン酸基とその塩、リン酸基とその塩、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ３０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ３０のアラルキル基、Ｃ１〜Ｃ３０のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０のヘテロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０のヘテロアラルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０のシクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５のシクロアルケニル基、Ｃ６〜Ｃ１５のシクロアルキニル基、Ｃ３〜Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基、及びこれらの組み合わせから選ばれる置換基により置換されることを意味する。
また、本明細書において、別途に断わりのない限り、「ヘテロ」とは、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、及びＰから選ばれるヘテロ原子を１つ〜３つ含むものを意味する。
以下、本発明の一実施形態による重合体について説明する。
本発明の一実施形態による重合体は、一つ又は２以上の構造単位を含み、下記一般式１で表わされる第１の構造単位を含む。
Figure 0006846892
一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
重合体は、カーボネート結合を有する主鎖及びフェニルアセチレン基を有する側鎖を備える。フェニルアセチレン基を有する側鎖は、主鎖に対して実質的に垂直方向に配置されて重合体に所定の光学的な特性を与える。例えば、重合体は、主鎖方向の屈折率及び側鎖方向の屈折率を調節して、波長による複屈折率を制御する。
第１の構造単位は、例えば、下記一般式１−１で表わされる。
Figure 0006846892
一般式１−１において、Ｒ１〜Ｒ５及びｎ１は、上述した通りである。
重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
Figure 0006846892
一般式２において、
Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
Figure 0006846892
一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
第２の構造単位は、例えば、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされるが、これらに何ら限定されない。
Figure 0006846892
一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
重合体が第１の構造単位及び第２の構造単位を含む場合、第１の構造単位及び第２の構造単位は、約１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる。前記範囲内において含まれることにより、所望の光学特性が得られながら、柔軟性が強化されてフィルムとして製造され易い。前記範囲内において、例えば、約１：９９〜５０：５０のモル比にて含まれる。
重合体は、非結晶質であり、例えば、約１２０〜２８０℃のガラス転移温度を有し、前記範囲内において約１８０〜２５０℃のガラス転移温度を有する。
重合体の重量平均分子量は、固有粘度で表わすときに約０．２〜２．０ｄｌ／ｇであり、前記範囲内において、例えば、約０．３〜１．０ｄｌ／ｇである。前記範囲を有することにより、フィルムの成形性及び生産性の側面からみてなお一層効果的である。
重合体は、公知の重合方法により合成され、例えば、ジヒドロ化合物及びトリホスゲンなどのホスゲン化合物を用いた合成法、ジヒドロ化合物及び炭酸エステルを用いた合成法、ジヒドロ化合物及び活性炭酸誘導体を用いた合成法などが使用可能であるが、これらに何ら限定されない。
重合体は、例えば、薄膜状に形成されて重合体薄膜として使用可能である。重合体フィルムは、例えば、溶融押出法又は溶液キャスティング法により製造可能であるが、これらに何ら限定されない。溶液キャスティング法により製造される場合、例えば、メチレンクロリド、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド又はこれらの組み合わせが使用可能であるが、これらに何ら限定されない。重合体フィルムは、例えば、透明であり、透明性が求められるいかなる用途にも使用可能である。重合体フィルムは、例えば、基板、保護フィルム、補償フィルム、光学フィルム、誘電層、絶縁層、接着層など様々な用途に使用可能である。
以下、本発明の一実施形態による補償フィルムについて説明する。
本発明の一実施形態による補償フィルムは、１種又は２種以上の重合体を含む。
補償フィルムは、下記の第１の構造単位を有する第１の重合体を含む。
Figure 0006846892
一般式１において、
Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
ｎ１は、１〜５である。
第１の重合体は、カーボネート結合を有する主鎖及びフェニルアセチレン基を有する側鎖を備える。フェニルアセチレン基を有する側鎖は、主鎖に対して実質的に垂直方向に配置されて第１の重合体に所定の光学的な特性を与える。例えば、第１の重合体は、主鎖方向の屈折率及び側鎖方向の屈折率を調節して、波長による複屈折率を制御する。
第１の構造単位は、例えば、下記一般式１−１で表わされる。
Figure 0006846892
一般式１−１において、Ｒ１〜Ｒ５及びｎ１は、上述した通りである。
第１の重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む。
Figure 0006846892
一般式２において、
Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、下記一般式Ａで表わされる基、又はこれらの組み合わせであり、
Figure 0006846892
一般式Ａにおいて、
Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、ＳＯ２、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせである。
第２の構造単位は、例えば、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされるが、これらに何ら限定されない。
Figure 0006846892
一般式２−１〜２−１０において、
Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、又はこれらの組み合わせであり、
Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又はこれらの組み合わせである。
第１の重合体が第１の構造単位及び第２の構造単位を含む場合、第１の構造単位及び第２の構造単位は、約１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる。前記範囲内において含まれることにより、所望の光学特性が得られながらも、柔軟性が強化されてフィルムとして製造され易い。前記範囲内において、例えば、約１：９９〜５０：５０のモル比にて含まれ、前記範囲内において、例えば、約１０：９０〜５０：５０のモル比にて含まれる。
補償フィルムは、第１の重合体に加えて、少なくとも一つの第２の重合体を更に含む。補償フィルムは、第２の重合体を更に含むことにより、補償フィルムの光学的・物理的な特性を更に補強することができる。第２の重合体は、補償フィルムの機能を強化できるものであれば、特に制限されないが、例えば、置換若しくは非置換のアリーレン基及びカーボネート基を有する構造単位を含む。
補償フィルムは、例えば、一軸又は二軸方向に延伸されている。例えば、補償フィルムは、一軸延伸されている。
補償フィルムは、上述したように、屈折率及び波長による吸光特性を変化させて所定の位相差を有する。
補償フィルムの位相差（Ｒ）は、面内位相差（Ｒｏ）及び厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）で表わされる。補償フィルムの面内位相差（Ｒｏ）は、補償フィルムの面内方向に発生する位相差であり、Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）ｄで表わされる。補償フィルムの厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は、補償フィルムの厚さ方向に発生する位相差であり、Ｒｔｈ＝｛［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ｝ｄで表わされる。ここで、ｎｘは、補償フィルムの面内屈折率が最も大きい方向（以下、「遅相軸」と称する）における屈折率であり、ｎｙは、補償フィルムの面内屈折率が最も小さい方向（以下、「進相軸」と称する）における屈折率であり、ｎｚは、補償フィルムの遅相軸及び進相軸に対する垂直方向の屈折率であり、ｄは、補償フィルムの厚さである。
例えば、５５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの面内位相差（Ｒｏ）は、約１０ｎｍ〜３００ｎｍである。補償フィルムは、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ及び／又は厚さ（ｄ）を変化させて所定の範囲の面内位相差及び厚さ方向の位相差を有するように調節する。
補償フィルムの位相差は、波長に応じて同一又は異なる。
例えば、補償フィルムは、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりも大きい正波長分散位相遅延を有し、５５０ｎｍの波長を基準波長としたとき、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式１又は２を満たす。
Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差および短波長の光に対する位相差が実質的に等しいフラット分散位相遅延を有し、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式３を満たす。
Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
例えば、補償フィルムは、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きい逆波長分散位相遅延を有し、例えば、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する補償フィルムの位相差（Ｒ）は、下記関係式４又は５を満たす。
Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
関係式１〜５において、
Ｒ（４５０ｎｍ）は４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（５５０ｎｍ）は５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
Ｒ（６５０ｎｍ）は６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
補償フィルムは、波長に応じて所望の位相差を有するように調節する。
補償フィルムは、高い複屈折率を有するので、比較的に薄い厚さを有する。補償フィルムは、例えば、約３μｍ〜２００μｍの厚さを有し、前記範囲内において、例えば、約５μｍ〜１５０μｍの厚さを有し、前記範囲内において、例えば、約５μｍ〜１００μｍの厚さを有する。
補償フィルムは、実質的に透明な重合体を含むので、基板として使用可能であり、これにより、補償フィルムの下部の別途の基板が省略される。これにより、補償フィルムの厚さが更に薄くなる。これにより、折り畳み可能な表示装置又は折れ曲がり可能な表示装置などのフレキシブル表示装置にも有効に適用されて光学特性及び表示特性を改善する。
補償フィルムは、例えば、モノマーを準備するステップと、前記モノマーを重合して重合体を準備するステップと、前記重合体をフィルムとして準備するステップと、前記フィルムを延伸するステップと、を含む方法により製造される。
補償フィルムは、例えば、５０℃〜５００℃の温度において約１１０％〜１０００％の伸び率にて延伸される。ここで、伸び率とは、補償フィルムの延伸前の長さと延伸後の長さとの間の比率をいい、一軸延伸後に補償フィルムが伸びた度合いを意味する。
補償フィルムは、単独にて用いられてもよく、他の補償フィルムと併用されてもよい。
補償フィルムは、偏光子と併用されて表示装置の外部光の反射を防ぐ光学フィルムとして使用可能である。光学フィルムは、例えば、反射防止フィルムであるが、これに何ら限定されない。
図１は、本発明の一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図であり、図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図であり、図３は、偏光フィルムの一例を示す概略図である。
図１を参照すると、本発明の一実施形態による光学フィルム１００は、偏光子１１０と、補償フィルム１２０と、を備える。補償フィルム１２０は、偏光子１１０を通過した光を円偏光させて位相差を発生させ、光の反射及び／又は吸収に影響を及ぼす。
例えば、光学フィルム１００は、表示装置の片側又は両側に配設され、特に、表示装置の画面部側に配置されて外部から流入する光が反射されること（以下、「外光反射」と称する）を防ぐ。これにより、外光反射による視認性の低下が防がれる。
図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
図２を参照すると、入射する非偏光の光は、偏光子１１０を通過しながら２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分、すなわち、第１の偏光直交成分のみが透過され、偏光の光は、補償フィルム１２０を通過しながら円偏光に変換される。前記円偏光の光は、基板、電極などを含む表示パネル５０において反射されながら円偏光方向に変わり、前記円偏光の光が補償フィルム１２０を再び通過しながら２つの偏光直交成分のうちの残りの偏光直交成分、すなわち、第２の偏光直交成分のみが透過される。前記第２の偏光直交成分は、偏光子１１０を通過できずに外部に光が放出されないので、外光反射防止効果を有する。
偏光子１１０は、例えば、偏光板又は偏光フィルムである。
図３を参照すると、偏光子１１０は、例えば、高分子樹脂７１及び二色性染料７２の溶融混合物により製造された一体型構造の偏光フィルムである。
高分子樹脂７１は、例えば、疎水性高分子樹脂であり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）及びこれらの共重合体などのポリオレフィン；ナイロン及び芳香族ポリアミドなどのポリアミド；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル；ポリメチル（メタ）アクリレートなどのポリアクリル；ポリスチレン（ＰＳ）及びアクリトニトリル−スチレン共重合体などのポリスチレン；ポリカーボネート；塩化ビニル系樹脂；ポリイミド；スルホン樹脂；ポリエーテルスルホン；ポリエーテル−エーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ビニルアルコール樹脂；ビニリデンクロリド樹脂；ビニルブチラール樹脂；アリレート樹脂；ポリオキシメチレン；エポキシ、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
中でも、高分子樹脂７１は、例えば、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、これらの共重合体又はこれらの組み合わせであり、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、これらの共重合体又はこれらの組み合わせである。
中でも、高分子樹脂７１は、ポリオレフィンである。ポリオレフィンは、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン及びポリプロピレンの共重合体（ＰＥ−ＰＰ）から選ばれる少なくとも２つの混合物であり、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）及びポリエチレン−ポリプロピレン共重合体（ＰＥ−ＰＰ）の混合物である。
高分子樹脂７１は、約４００〜７８０ｎｍの波長領域における透過度が約８５％以上である。高分子樹脂７１は、一軸方向に延伸されている。前記一軸方向は、後述する二色性染料７２の長手方向に等しい。
二色性染料７２は、高分子樹脂７１に分散されており、高分子樹脂７１の延伸方向に沿って一方向に配列されている。二色性染料７２は、所定の波長領域に対して２つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分のみを透過させる。
二色性染料７２は、。高分子樹脂７１１００重量部に対して約０．０１〜５重量部にて含まれる。前記範囲内に含まれることにより、偏光フィルムとして形成するときに透過度を低下させないつつも十分な偏光特性を示す。前記範囲内において、高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０５〜１重量部にて含まれる。
偏光子１１０は、約１００μｍ以下の比較的に薄い厚さを有し、例えば、約３０μｍ〜約９５μｍの厚さを有する。前記範囲の厚さを有することにより、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの保護層が求められる偏光板と比較して、厚さを大幅に減らすことができ、これにより、薄型表示装置が得られる。
補償フィルム１２０は、上述した通りである。
光学フィルム１００は、補償フィルム１２０の片面に配設される補正層（図示せず）を更に備える。補正層は、例えば、色変移防止層であるが、これに何ら限定されない。
光学フィルム１００は、周縁に沿って伸びている遮光層（図示せず）を更に備える。遮光層は、光学フィルム１００の周縁に沿って帯状に形成され、例えば、偏光子１１０と補償フィルム１２０との間に配設される。遮光層は、不透明な物質、例えば、黒色の物質を含む。例えば、遮光層は、黒色のインキにより製造される。
光学フィルム１００は、様々な表示装置に適用される。
本発明の一実施形態による表示装置は、表示パネルと、表示パネルの片面に配設される光学フィルムと、を備える。表示パネルは、液晶表示パネル又は有機発光表示パネルであるが、これに何ら限定されない。
以下、表示装置の一例としての有機発光表示装置について説明する。
図４は、本発明の一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
図４を参照すると、本発明の一実施形態による有機発光表示装置は、有機発光表示パネル４００と、有機発光表示パネル４００の片面に配設される光学フィルム１００と、を備える。
有機発光表示パネル４００は、ベース基板４１０と、下部電極４２０と、有機発光層４３０と、上部電極４４０及び封止基板４５０を備える。
ベース基板４１０は、ガラス製又はプラスチック製である。
下部電極４２０及び上部電極４４０のうちの一つはアノードであり、残りの一つはカソードである。アノードは、正孔が注入される電極であり、仕事関数が高く、発光された光が外部に出射される透明導電物質により製造され、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）又は酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）である。カソードは、電子が注入される電極であり、仕事関数が低く、有機物質に影響を及ぼさない導電物質により製造され、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）及びバリウム（Ｂａ）から選ばれる。
有機発光層４３０は、下部電極４２０及び上部電極４４０に電圧が印加されたときに光を発する有機物質を含む。
下部電極４２０と有機発光層４３０との間及び上部電極４４０と有機発光層４３０との間には付帯層（図示せず）が更に配設される。付帯層は、電子及び正孔間のバランスを取るための正孔伝達層、正孔注入層、電子注入層及び電子伝達層を備える。
封止基板４５０は、ガラス製、金属製又は高分子製であり、下部電極４２０と、有機発光層４３０及び上部電極４４０を封止して外部から水分及び／又は酸素が流入することを防ぐ。
光学フィルム１００は、光が出射される側に配置される。例えば、ベース基板４１０側に光が出射される背面発光構造である場合にベース基板４１０の外側に配置され、封止基板４５０側に光が出射される前面発光構造である場合に封止基板４５０の外側に配置される。
光学フィルム１００は、上述した一体型の偏光子１１０と、一体型の補償フィルム１２０と、を備える。偏光子１１０及び補償フィルム１２０はそれぞれ上述した通りであり、偏光子１１０を通過した光が有機発光表示パネル４００の電極などの金属により反射されて表示装置の外側に出射されることを防いで外部から流入する光による視認性の低下を防ぐ。したがって、有機発光表示装置の表示特性が改善される。
以下、表示装置の一例としての液晶表示装置について説明する。
図５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
図５を参照すると、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、液晶表示パネル５００と、液晶表示パネル５００の片面又は両面に配設される光学フィルム１００と、を備える。
液晶表示パネル５００は、ねじれネマティック（ｔｗｉｓｔ ｎｅｍａｔｉｃ：ＴＮ）モード、パターン垂直配向（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ：ＰＶＡ）モード、面内スイッチング（ｉｎ ｐｌａｎｅ ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ：ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ ｂｅｎｄ：ＯＣＢ）モードなどである。
液晶表示パネル５００は、第１の表示板５１０と、第２の表示板５２０と、第１の表示板５１０と第２の表示板５２０との間に介在されている液晶層５３０と、を備える。
第１の表示板５１０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成されている薄膜トランジスタ（図示せず）及びここに接続されている第１の電場生成電極（図示せず）を備え、第２の表示板５２０は、例えば、基板（図示せず）の上に形成されているカラーフィルタ（図示せず）及び第２の電場生成電極（図示せず）を備える。しかしながら、これに何ら限定されるものではなく、カラーフィルタが第１の表示板（５１０）に組み込まれてもよく、第１の電場生成電極及び第２の電場生成電極が第１の表示板５１０に並置されてもよい。
液晶層５３０は、複数の液晶分子を含む。液晶分子は、正又は負の誘電率異方性を有する。液晶分子が正の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行をなすように配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直をなすように配向される。これとは逆に、液晶分子が負の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略垂直に配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１の表示板５１０及び第２の表示板５２０の表面に対して略平行に配向される。
光学フィルム１００は液晶表示パネル５００の外側に配設され、図面には、液晶表示パネル５００の下部及び上部にそれぞれ形成されていると示されているが、これに何ら限定されるものではなく、液晶表示パネル５００の下部及び上部のうちのいずれか一方にのみ形成されてもよい。
以下、実施例を挙げて上述した実施形態についてより詳細に説明する。但し、下記の実施例は単に説明のためのものであり、本発明の範囲を制限するものではない。
重合体の合成
合成例１
（１）ステップ１
Figure 0006846892
２Ｌのフラスコに１−ブロモ−４−ヨードベンゼン１４１ｇ、フェニルアセチレン５０．９ｇ、トリエチルアミン７００ｍｌ及びテトラヒドロフラン７００ｍｌを入れて窒素置換を行う。次いで、塩化パラジウム（ＩＩ）（ＰｂＣｌ２）０．８８２ｇ、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）１．９１ｇ及びトリフェニルホスゲン（ＰＰｈ３）５．２１ｇを入れて窒素雰囲気及び室温において８時間攪拌する。次いで、６０℃で１２時間攪拌し、２−メチル−３−ブチン−２−オール５０．６ｇ、塩化パラジウム（ＩＩ）０．４３５ｇ、ヨード化銅（Ｉ）０．９５６ｇ及びトリフェニルホスフィン２．６６ｇを入れて４８時間還流する。次いで、不溶物をろ別し、溶媒を減圧蒸留して酢酸エチルで再結晶化させて２−メチル−４−（フェニルエチニル）フェニル）ブタ−３−イン−２−オール１０４ｇを得る。
次いで、２Ｌのフラスコに２−メチル−４−（フェニルエチニル）ブタ−３−イン−２−オール６１．８ｇ、水酸化テトラメチルアンモニウム（１０％のメタノール溶液）７４．１ｍｌ及びトルエン１１６０ｍｌを入れ、７５℃及び０．３気圧で１時間攪拌する。次いで、反応溶液を水で洗浄して溶媒を減圧蒸留し、カラムクロマトグラフィで精製して１−エチニル−４−（フェニルエチニル）ベンゼン４７．０ｇを得る。
（２）ステップ２
Figure 0006846892
１Ｌのフラスコに１−エチニル−４−（フェニルエチニル）ベンゼン１４．９ｇ、５−ブロモ−１，３−フェニレンジアセチレート２０．１ｇ及びトリエチルアミン３５０ｍｌを入れて窒素置換する。次いで、塩化パラジウム（ＩＩ）０．１３０ｇ、ヨウ化銅（Ｉ）０．２７４ｇ及びトリフェニルホスフィン０．７６６ｇを入れて窒素雰囲気で４８時間還流し、攪拌する。次いで、室温まで冷却させて不溶物をろ別する。次いで、溶媒を減圧蒸留し、カラムクロマトグラフィで精製して５−（（４−フェニルエチニル）フェニル）エチニル）１，３−フェニレンジアセテート２８．０ｇを得る。
次いで、２Ｌのフラスコに５−（（４−フェニルエチニル）フェニル）エチニル）１，３−フェニレンジアセテート２８．０ｇ、水酸化カリウム１５．９ｇ、メタノール１１２０ｍｌ及び水２８ｍｌを入れて１時間攪拌し、還流する。次いで、室温まで冷却させて１Ｎ−ＨＣｌで中和する。次いで、溶媒の量が約１／３になるまで減圧蒸留して析出された固体をろ別する。得られた固体を水で洗浄し、６０℃で真空乾燥して生成物を得る。次いで、得られた生成物をカラムクロマトグラフィで精製して５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール５．６６ｇを得る。
（３）ステップ３
Figure 0006846892
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．９４ｇ、水２９ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．３０２ｇ、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２．００ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン３２ｍｌに溶解させたトリホスゲン１．４４ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン９ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネート２．１０ｇを得る。
反応式３において、ｘ：ｙは約９：１である。
合成例２
ステップ１及び２は、合成例１と同様である。
ステップ３
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．６４ｇ、水２４ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．５０９ｇ及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１．５０ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン２７ｍｌに溶解させたトリホスゲン０．８６６ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン６ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネートを得る。
反応式３において、ｘ：ｙは約８：２である。
合成例３
ステップ１及び２は、合成例１と同様である。
ステップ３
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．５０ｇ、水２２ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．６９９ｇ及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１．２０ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン４８ｍｌに溶解させたトリホスゲン１．１１ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン７ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネートを得る。
反応式３において、ｘ：ｙは約７：３である。
合成例４
ステップ１及び２は、合成例１と同様である。
ステップ３
機械的攪拌器付き２００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム１．６１ｇ、水２４ｍＬ、５−（（４−（フェニルエチニル）フェニル）エチニル）ベンゼン−１，３−ジオール０．９９７ｇ及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１．１０ｇを入れる。次いで、ジクロロメタン５２ｍｌに溶解させたトリホスゲン０．９７５ｇを添加して１５分間攪拌する。次いで、トリエチルアミン６ｍｇを添加して室温で９０分間攪拌する。次いで、ジクロロメタンで希釈し、１％の塩酸及び水で洗浄し、メタノールを用いて再沈殿させた後、６０℃で１２時間真空乾燥させてポリカーボネートを得る。
反応式３において、ｘ：ｙは約６：４である。
フィルムの製造
合成例１〜４において得られたポリカーボネートをテトラヒドロフラン及びジオキサンの混合溶媒（１／１，ｖ／ｖ）に溶解させて２０ｗｔ％のポリカーボネート溶液を製造する。次いで、ガラス基板の上に前記ポリカーボネート溶液を塗布して４０℃で１時間、次いで、８０℃で１時間乾燥して薄膜を形成する。次いで、ガラス基板から前記薄膜を引き離して厚さ１００μｍのポリカーボネートフィルムを製造する。
評価１
ポリカーボネートフィルムの黄色度及び透光度を測定する。
黄色度及び透光度は、分光測色計ＭＣ−３６００ｄ（コニカミノルタ社製）を用いてＡＳＴＭＤ１９２５に準拠して透過光で測定し、透光度は、ＭＣ−３６００ｄ（コニカミノルタ社製）を用いて複数回測定し、その平均値を用いる。
その結果は、下記表１の通りである。
Figure 0006846892
表１を参照すると、合成例１〜４によるポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムは、良好な黄色度及び透光度を有することが確認できる。
補償フィルムの製造
実施例１
合成例１において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４６μｍの補償フィルムを製造する。
実施例２
合成例１において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５６μｍの補償フィルムを製造する。
実施例３
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５６μｍの補償フィルムを製造する。
実施例４
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５２μｍの補償フィルムを製造する。
実施例５
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４５μｍの補償フィルムを製造する。
実施例６
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２１０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５４μｍの補償フィルムを製造する。
実施例７
合成例２において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５４μｍの補償フィルムを製造する。
実施例８
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５１μｍの補償フィルムを製造する。
実施例９
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４６μｍの補償フィルムを製造する。
実施例１０
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４０μｍの補償フィルムを製造する。
実施例１１
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２１０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４９μｍの補償フィルムを製造する。
実施例１２
合成例３において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で１８０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５１μｍの補償フィルムを製造する。
実施例１３
合成例４において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４８μｍの補償フィルムを製造する。
実施例１４
合成例４において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを１８０℃で２４０％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ４６μｍの補償フィルムを製造する。
実施例１５
合成例４において得られたポリカーボネートにより製造されたポリカーボネートフィルムを２３０℃で２００％の延伸倍率で一軸延伸して厚さ５１μｍの補償フィルムを製造する。
評価２
実施例１〜１５による補償フィルムの面内位相差、厚さ方向の位相差及び波長分散性を評価する。
面内位相差及び厚さ方向の位相差は、Ａｘｏｓｃａｎ装備（アクソメトリクス社製）を用いて測定する。
面内位相差及び面内位相差の波長分散性は、表２の通りである。
Figure 0006846892
表２を参照すると、実施例１〜１５による補償フィルムは、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりも大きい正波長分散位相遅延を有し、又は長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きい逆波長分散位相遅延を有することが確認できる。具体的に、実施例１〜７による補償フィルムは正波長分散位相遅延を有し、実施例８〜１５による補償フィルムは逆波長分散位相遅延を有することが確認できる。これにより、重合体の含有比、フィルムの延伸温度及び伸び率など様々な要因を調節することにより、所望の位相差及び波長分散性を有する補償フィルムが得られるということが確認できる。
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はこれらに何ら限定されるものではなく、特許請求の範囲及び発明の詳細な説明並びに添付図面の範囲内において種々に変形して実施することが可能であり、これもまた本発明の範囲に属するということはいうまでもない。
１００：光学フィルム
１１０：偏光子
１２０：補償フィルム
５０：表示パネル
４００：有機発光表示パネル
４１０：ベース基板
４２０：下部電極
４３０：有機発光層
４４０：上部電極
４５０：封止基板
５００：液晶表示パネル
５１０：第１の表示板
５２０：第２の表示板
５３０：液晶層

Claims (21)

  1. 下記一般式１で表わされる第１の構造単位を含む重合体：
    Figure 0006846892
     前記一般式１において、
    Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
    Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基であり、
    ｎ１は、１〜５である。
  2. 前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる、請求項１に記載の重合体：
    Figure 0006846892
     前記一般式１−１において、
    Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜
    Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基であり、
    ｎ１は、１〜５である。
  3. 下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む、請求項１又は２に記載の重合体：
    Figure 0006846892
     前記一般式２において、
    Ｌ２は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又は下記一般式Ａで表わされる基であり、
    Figure 0006846892
     前記一般式Ａにおいて、
    Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、又はＳＯ ２ であり、
    Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基である。
  4. 前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる、請求項３に記載の重合体：
    Figure 0006846892
     前記一般式２−１〜２−１０において、
    Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基であり、
    Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、又は置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基である。
  5. 前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜９９：１のモル比にて含まれる、請求項３又は４に記載の重合体。
  6. 前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位は、１：９９〜５０：５０のモル比にて含
    まれる、請求項３から５のいずれか一項に記載の重合体。
  7. 下記一般式１で表わされる第１の構造単位を有する第１の重合体を含む補償フィルム：
    Figure 0006846892
     前記一般式１において、
    Ｌ１は、単結合、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａであり、
    Ｒ１〜Ｒ５及びＲａは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基であり、
    ｎ１は、１〜５である。
  8. 前記第１の構造単位は、下記一般式１−１で表わされる、請求項７に記載の補償フィルム：
    Figure 0006846892
     前記一般式１−１において、
    Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキ
    ル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基であり、
    ｎ１は、１〜５である。
  9. 前記第１の重合体は、下記一般式２で表わされる第２の構造単位を更に含む、請求項７又は８に記載の補償フィルム：
    Figure 0006846892
     前記一般式２において、
    Ｌ２は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、又は下記一般式Ａで表わされる基であり、
    Figure 0006846892
     前記一般式Ａにおいて、
    Ｌ３は、単結合、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基、Ｏ、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｏ）Ｏ、ＳｉＲｂＲｃ、Ｓ、又はＳＯ ２ であり、
    Ｒ６、Ｒ７、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基である。
  10. 前記第２の構造単位は、下記一般式２−１〜２−１０のうちのいずれか一つで表わされる、請求項９に記載の補償フィルム：
    Figure 0006846892
     前記一般式２−１〜２−１０において、
    Ｒ６〜Ｒ１２及びＲ１４〜Ｒ１９は、それぞれ独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリール基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のヘテロ環式基、置換若しくは非置換のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基であり、
    Ｒ１３は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ６〜Ｃ２０のアリーレン基、又は置換若しくは非置換のＣ３〜Ｃ２０の２価のヘテロ環式基である。
  11. 前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜９９：１のモル比にて含む、請求項９又は１０に記載の補償フィルム。
  12. 前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１：９９〜５０：５０のモル比にて含む、請求項９から１１のいずれか一項に記載の補償フィルム。
  13. 前記第１の重合体とは異なる第２の重合体を更に含む、請求項７から１２のいずれか一項に記載の補償フィルム。
  14. 前記補償フィルムは、一軸又は二軸延伸されている、請求項７から１３のいずれか一項に記載の補償フィルム。
  15. 前記補償フィルムは、１．１倍〜５．０倍延伸されている、請求項１４に記載の補償フィルム。
  16. ５５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの面内位相差は、１０ｎｍ〜３００ｎｍである、請求項７から１５のいずれか一項に記載の補償フィルム。
  17. ４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜５のうちのいずれか一つを満たす、請求項７から１６のいずれか一項に記載の補償フィルム：
    Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
    Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
    Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
    Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
    Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
    前記関係式１〜５において、
    Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
    Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
    Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
  18. 前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を１０：９０〜２０：８０のモル比にて含み、
    ４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式１〜３のうちのいずれか一つを満たす、請求項９から１７のいずれか一項に記載の補償フィルム：
    Ｒ（４５０ｎｍ）≧Ｒ（５５０ｎｍ）＞Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式１
    Ｒ（４５０ｎｍ）＞Ｒ（５５０ｎｍ）≧Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式２
    Ｒ（４５０ｎｍ）＝Ｒ（５５０ｎｍ）＝Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式３
    前記関係式１〜３において、
    Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
    Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
    Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
  19. 前記第１の重合体は、前記第１の構造単位及び前記第２の構造単位を３０：７０〜４０：６０のモル比にて含み、
    ４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長に対する前記補償フィルムの位相差は、下記関係式４又は５を満たす、請求項９から１７のいずれか一項に記載の補償フィルム：
    Ｒ（４５０ｎｍ）≦Ｒ（５５０ｎｍ）＜Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式４
    Ｒ（４５０ｎｍ）＜Ｒ（５５０ｎｍ）≦Ｒ（６５０ｎｍ）…関係式５
    前記関係式４及び５において、
    Ｒ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
    Ｒ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差であり、
    Ｒ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍの波長に対する面内位相差又は厚さ方向の位相差である。
  20. 請求項７から１９のいずれか一項に記載の補償フィルムと、
    偏光子と、
    を備える光学フィルム。
  21. 請求項７から１９のいずれか一項に記載の補償フィルム又は請求項２０に記載の光学フィルムを備える表示装置。
JP2016159949A 2015-12-24 2016-08-17 重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置 Active JP6846892B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150186668A KR102417140B1 (ko) 2015-12-24 2015-12-24 중합체, 보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치
KR10-2015-0186668 2015-12-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017115119A JP2017115119A (ja) 2017-06-29
JP6846892B2 true JP6846892B2 (ja) 2021-03-24

Family

ID=59087720

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016159949A Active JP6846892B2 (ja) 2015-12-24 2016-08-17 重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10000604B2 (ja)
JP (1) JP6846892B2 (ja)
KR (1) KR102417140B1 (ja)
CN (1) CN106916290B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7121884B1 (ja) 2021-03-29 2022-08-19 三菱マテリアル株式会社 銅粒子及びその製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3500485B2 (ja) * 1996-06-10 2004-02-23 株式会社リコー 芳香族ポリカーボネート樹脂
US5807912A (en) 1996-10-03 1998-09-15 General Electric Company Ortho esters as BPA scavenger in polycarbonate product
EP1045261B1 (en) * 1998-10-30 2005-02-02 Teijin Limited Phase difference film and optical device using it
JP2001318233A (ja) 2000-02-28 2001-11-16 Teijin Ltd 位相差フィルム
TW533323B (en) * 2000-04-24 2003-05-21 Teijin Ltd Process for producing retardation film
JP4264307B2 (ja) 2003-07-17 2009-05-13 富士フイルム株式会社 液晶性化合物、液晶性組成物および位相差板
JP2005156685A (ja) 2003-11-21 2005-06-16 Teijin Ltd ポリカーボネート系配向フィルム
JP2005234385A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及び平版印刷版原版
JP2005272735A (ja) 2004-03-25 2005-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd ポリカーボネート重合体、該重合体の製造方法及び該重合体よりなる光学成形品
JP4486854B2 (ja) 2004-06-18 2010-06-23 日東電工株式会社 位相差フィルムの製造方法
JP5252611B2 (ja) * 2006-09-15 2013-07-31 日東電工株式会社 位相差フィルム、光学積層体、液晶パネル、及び液晶表示装置
KR101095695B1 (ko) 2007-05-22 2011-12-20 주식회사 엘지화학 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 이 액정 조성물을 사용한 광학 필름
KR101000784B1 (ko) * 2008-07-30 2010-12-13 한국화학연구원 덴드론구조가 치환된 폴리아센계 유기 화합물 및 이를이용한 유기박막트랜지스터
EP2339401B1 (en) * 2009-12-28 2016-02-17 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
KR101322462B1 (ko) * 2011-06-20 2013-10-28 에스케이이노베이션 주식회사 광학 필름
KR20150003653A (ko) * 2013-07-01 2015-01-09 주식회사 엘지화학 신규한 디히드록시폴리아릴아세테이트, 고경도 폴리카보네이트 공중합체 및 그 제조방법
JP2015060173A (ja) 2013-09-20 2015-03-30 大日本印刷株式会社 プリズムシート、面光源装置、映像源ユニット、及び液晶表示装置
KR101628288B1 (ko) * 2013-09-30 2016-06-08 주식회사 엘지화학 음성 광학 분산도를 갖는 광학 소자 제조용 조성물 및 이로부터 제조된 광학 이방체
KR20150141367A (ko) * 2014-06-10 2015-12-18 에스케이이노베이션 주식회사 광학 보상 필름

Also Published As

Publication number Publication date
KR102417140B1 (ko) 2022-07-04
US10000604B2 (en) 2018-06-19
CN106916290B (zh) 2020-07-14
US20170183446A1 (en) 2017-06-29
KR20170076422A (ko) 2017-07-04
JP2017115119A (ja) 2017-06-29
CN106916290A (zh) 2017-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4010810B2 (ja) 位相差フィルム、位相差フィルム複合体及びそれらを用いた液晶表示装置
KR102643461B1 (ko) 광학 필름, 그 제조 방법 및 표시 장치
KR102540849B1 (ko) 광학 필름, 그 제조 방법 및 표시 장치
JP6808372B2 (ja) 光学フィルム、その製造方法および表示装置
KR20170011306A (ko) 광학 필름, 그 제조 방법 및 표시 장치
JP6896387B2 (ja) モノマー、重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置
JP3815790B1 (ja) 位相差フィルム、光学フィルム、液晶パネル、液晶表示装置、及び画像表示装置
JP2016110143A (ja) 光学フィルム用組成物、フィルム及び表示装置
JP2016012133A (ja) 偏光フィルム、反射防止フィルムおよび表示装置
WO2019151312A1 (ja) 積層体
WO2021230019A1 (ja) 視角制御システムおよび画像表示装置
KR102421012B1 (ko) 모노머, 중합체, 보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치
JP6846892B2 (ja) 重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置
KR102665341B1 (ko) 광학 필름 및 그 제조 방법과 표시 장치
KR20130103211A (ko) 편광 필름용 이색성 염료, 편광 필름 및 상기 편광 필름을 포함하는 표시 장치
US9335442B1 (en) Polarizing film and display device including the polarizing film
US20150192700A1 (en) Composition for polarizing film, polarizing film and display device
KR102548297B1 (ko) 광학 필름 및 표시 장치
KR102473676B1 (ko) 광학 필름용 조성물, 광학 필름, 반사방지 필름 및 표시 장치
JP6948771B2 (ja) モノマー、重合体、補償フィルム、光学フィルム及び表示装置
KR20160081656A (ko) 편광 필름 및 상기 편광 필름을 포함하는 표시 장치
KR20170062278A (ko) 광학 필름 및 액정 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190815

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200423

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200629

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200928

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210302

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6846892

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150