JP6838713B2 - シリコン結晶中の炭素濃度測定方法 - Google Patents
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Description
n型シリコン結晶の伝導帯の底の準位をEc、Ec−0.13eVの準位を酸素影響準位として、n型シリコン結晶中の、SIMSにより得られる炭素濃度とFT−IRにより得られる酸素濃度とDLTSにより得られる前記酸素影響準位の密度とに基づいて、n型シリコン結晶中の炭素と酸素の濃度積と前記酸素影響準位の密度との相関関係を求めて、
前記相関関係と、
測定対象n型シリコン結晶中の、FT−IRにより得られる酸素濃度と、
前記測定対象n型シリコン結晶中の、DLTSにより得られる前記酸素影響準位の密度と、に基づいて前記測定対象n型シリコン結晶中の炭素濃度を求めることを特徴とする。
[Cs]×[Oi]=b×Na
CZ法により、直径8インチ、方位<100>、n型、抵抗率が10Ωcmで炭素と酸素を含むシリコン結晶棒Aを引き上げ、切断、研磨などの加工を施してシリコンウェーハとした。このシリコンウェーハに含まれる炭素濃度と酸素濃度を、SIMSとFT−IRによりそれぞれ測定したところ、炭素濃度は1×1015atoms/cm3、酸素濃度は17ppma(JEIDA)であった。このシリコンウェーハにHFとHNO3の混酸によるミラーエッチングを施し、表層を10μmほど除去後、HFによる表面処理を施し、ショットキー電極とオーミック電極をそれぞれ表裏面に形成後、DLTS測定を行った。その結果、準位E2として5.0×1011atoms/cm3の密度を得た。
予め、上記の手順で図1の式1の検量線を求めておき、比較例1に示した結晶棒Aから得られたシリコンウェーハ中の酸素濃度(17ppma(JEIDA))及びE2準位密度(5.0×1011atoms/cm3)をそれぞれ上記式1に代入して実炭素濃度を求めたところ、1.38×1015atoms/cm3となった。なお、式1において、定数a=0.93、定数b=3.1×105とした。
Claims (3)
- n型シリコン結晶の伝導帯の底の準位をEc、Ec−0.13eVの準位を酸素影響準位として、n型シリコン結晶中の、SIMSにより得られる炭素濃度とFT−IRにより得られる酸素濃度とDLTSにより得られる前記酸素影響準位の密度とに基づいて、n型シリコン結晶中の炭素と酸素の濃度積と前記酸素影響準位の密度との相関関係を求めて、
前記相関関係と、
測定対象n型シリコン結晶中の、FT−IRにより得られる酸素濃度と、
前記測定対象n型シリコン結晶中の、DLTSにより得られる前記酸素影響準位の密度と、に基づいて前記測定対象n型シリコン結晶中の炭素濃度を求めることを特徴とするシリコン結晶中の炭素濃度測定方法。 - 前記相関関係は、n型シリコン結晶中の炭素濃度を[Cs]、酸素濃度を[Oi]、前記酸素影響準位の密度をN、定数a、bとして以下の式で表されることを特徴とする請求項1に記載のシリコン結晶中の炭素濃度測定方法。
[Cs]×[Oi]=b×Na - 前記相関関係を導出するのに用いたn型シリコン結晶及び前記測定対象n型シリコン結晶はチョクラルスキー法により作製されたシリコン結晶であることを特徴とする請求項1又は2に記載のシリコン結晶中の炭素濃度測定方法。
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