JP6824209B2 - タッチパネル用導電性シート、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネル - Google Patents
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Description
本発明は、タッチパネル用導電性シート、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネルに関する。
近年、スマートフォン、タブレット端末、及び、携帯ゲーム機器等には、画像表示装置と、上記画像表示装置上に配置された多点検出が可能な静電容量方式タッチセンサと、を有するタッチパネルが搭載されることが増えている。このようなタッチパネルの製造に用いられるタッチパネル用導電性シートは、透明な支持体上に、導電部が配置されたものが知られており、その製造方法として、特許文献１には、「支持体と、支持体上に配置された、バインダ及び金属部を含有する導電性細線と、を有し、導電性細線の垂直断面において、導電性細線の支持体側とは反対側の表面Ｘから支持体側に向かって、導電性細線の表面Ｘの表面形状に沿った輪郭線を移動させた場合、導電性細線中に含まれる金属部に輪郭線が到達した位置を上端位置として、上端位置から支持体側に向かって１００ｎｍまでの領域における金属部の平均面積率ＶＡが１％以上５０％未満であり、上端位置よりも支持体側に輪郭線を移動させた場合、導電性細線中で金属部を含まなくなる位置を下端位置として、上端位置と下端位置との中間位置から支持体側に向かって５０ｎｍ及び表面Ｘ側に向かって５０ｎｍの領域における金属部の平均面積率ＶＭ１が５０％以上である、導電性フィルム。」が記載されている。
特許文献１に記載された導電性フィルムは、優れた導電性を有し、タッチパネルに適用した際にも、タッチパネルの使用者からは導電性細線が視認しにくいという優れた特徴を有していた。しかし、本発明者らは特許文献１の導電性フィルムをタッチパネルに適用して検討したところ、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、場合によっては画面が白んで見えることがあることを知見した。
そこで、本発明は、金属部の導電性に優れると共に、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、画面が白みにくい、言い換えれば、より黒く見えるタッチパネルが得られるタッチパネル用導電性シートの提供を課題とする。また、本発明は、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネルを提供することも課題とする。
そこで、本発明は、金属部の導電性に優れると共に、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、画面が白みにくい、言い換えれば、より黒く見えるタッチパネルが得られるタッチパネル用導電性シートの提供を課題とする。また、本発明は、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネルを提供することも課題とする。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題が達成されるのを見出した。
［１］ 支持体と、支持体上に配置され、バインダ及び金属部を含有する導電部と、を有するタッチパネル用導電性シートであって、バインダは、第１高分子と、第１高分子よりもガラス転移温度が低い第２高分子とを含有し、導電部の垂直断面において、導電部の支持体側とは反対側の表面Ｘから支持体側に向かって、導電部の表面Ｘの表面形状に沿った輪郭線を移動させたとき、導電部に含まれる金属部に輪郭線が到達した位置を上端位置として、上端位置から支持体側に向かって１００ｎｍまでの領域における第１高分子及び第２高分子の合計含有量に対する第２高分子の含有量の含有質量比をＲＵとし、上端位置よりも支持体側に輪郭線を移動させたとき、導電部で金属部を含まなくなる位置を下端位置として、上端位置と下端位置との中間位置から支持体側に向かって５０ｎｍ及び表面Ｘ側に向かって５０ｎｍの領域における第１高分子及び第２高分子の合計含有量に対する第２高分子の含有量の含有質量比をＲＭとし、下端位置から、表面Ｘ側に向って１００ｎｍの領域における第１高分子及び第２高分子の合計含有量に対する第２高分子の含有量の含有質量比をＲＬとしたとき、以下の式１及び式２；式１ ＲＭ＜ＲＵ、式２ ＲＭ＜ＲＬ、からなる群より選択される少なくとも一方が成り立つ、タッチパネル用導電性シート。
［２］ 第２高分子のガラス転移温度が２５℃以下である、［１］に記載のタッチパネル用導電性シート。
［３］ 金属部が、金、銀、銅、ニッケル、及び、パラジウムからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含有する、［１］又は［２］に記載のタッチパネル用導電性シート。
［４］ 支持体と導電部との間に易接着層を有し、易接着層上に、導電部に隣接するよう配置された非導電部を更に有し、非導電部の屈折率をＲＩ１、易接着層の屈折率をＲＩ２、及び、支持体の屈折率をＲＩ３としたとき、以下の式３；式３ ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３を満たす、［１］〜［３］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シート。
［５］ 金属部が金属銀を含有する［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法であって、支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第２高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程Ａと、ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程Ｂと、を有するタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［６］ 組成調整塗布液が更にハロゲン化銀を含有する、［５］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［７］ ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が更に非金属の微粒子を含有する、［５］又は［６］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［８］ 工程Ｂの後に、導電部の金属銀同士を互いに融着させる処理を施す工程Ｆを更に有する、［５］〜［７］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［９］ 工程Ａの後であって、工程Ｂの前に、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造を有する化合物とを接触させる工程Ｃ１を有するか、又は、工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、導電部と、化合物とを接触させる工程Ｃ２を有する、［８］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１０］ 金属吸着性置換基が、カルボキシル基又はその塩、酸アミド基、アミノ基、イミダゾール基、ピラゾール基、チオール基、チオエーテル基、及び、ジスルフィド基からなる群より選択される少なくとも１種である、［９］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１１］ 工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、更に、導電部を圧密化する工程Ｄを有する、［８］〜［１０］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１２］ ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が、更にゼラチンを含有し、工程Ｂの後であって、工程Ｄの前に、更に導電部のゼラチンを除去する工程Ｅを有する、［１１］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１３］ 工程Ｄが、導電部を有する支持体を、少なくとも一対のロール間を加圧下で通過させるカレンダ処理工程である、［１１］又は［１２］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１４］ ［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートを有するタッチパネル。
［２］ 第２高分子のガラス転移温度が２５℃以下である、［１］に記載のタッチパネル用導電性シート。
［３］ 金属部が、金、銀、銅、ニッケル、及び、パラジウムからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含有する、［１］又は［２］に記載のタッチパネル用導電性シート。
［４］ 支持体と導電部との間に易接着層を有し、易接着層上に、導電部に隣接するよう配置された非導電部を更に有し、非導電部の屈折率をＲＩ１、易接着層の屈折率をＲＩ２、及び、支持体の屈折率をＲＩ３としたとき、以下の式３；式３ ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３を満たす、［１］〜［３］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シート。
［５］ 金属部が金属銀を含有する［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法であって、支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第２高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程Ａと、ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程Ｂと、を有するタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［６］ 組成調整塗布液が更にハロゲン化銀を含有する、［５］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［７］ ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が更に非金属の微粒子を含有する、［５］又は［６］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［８］ 工程Ｂの後に、導電部の金属銀同士を互いに融着させる処理を施す工程Ｆを更に有する、［５］〜［７］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［９］ 工程Ａの後であって、工程Ｂの前に、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造を有する化合物とを接触させる工程Ｃ１を有するか、又は、工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、導電部と、化合物とを接触させる工程Ｃ２を有する、［８］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１０］ 金属吸着性置換基が、カルボキシル基又はその塩、酸アミド基、アミノ基、イミダゾール基、ピラゾール基、チオール基、チオエーテル基、及び、ジスルフィド基からなる群より選択される少なくとも１種である、［９］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１１］ 工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、更に、導電部を圧密化する工程Ｄを有する、［８］〜［１０］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１２］ ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が、更にゼラチンを含有し、工程Ｂの後であって、工程Ｄの前に、更に導電部のゼラチンを除去する工程Ｅを有する、［１１］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１３］ 工程Ｄが、導電部を有する支持体を、少なくとも一対のロール間を加圧下で通過させるカレンダ処理工程である、［１１］又は［１２］に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
［１４］ ［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートを有するタッチパネル。
本発明によれば、導電性に優れると共に、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、画面が白みにくい、言い換えれば、より黒く見える（以下、「黒締りがよい」ともいう。）タッチパネルが得られるタッチパネル用導電性シートを提供できる。また、本発明によれば、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネルも提供できる。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に制限されない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に制限されない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、支持体上に導電部を有し、上記導電部は金属部と、バインダとを含有する。本発明の特徴点の一つは、導電部におけるバインダ組成、及び、その厚み方向における分布を制御している点が挙げられる。
本発明者らは従来技術により作製されたタッチパネル用導電性シートを用いてタッチパネルを作製し、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、画面が白んで見える原因について鋭意検討してきた。その結果、本発明者らは、黒表示の際には、タッチパネルの内部から出射する光と比べて、相対的に外光が強い場合が多く、このような場合に、金属部が外光を反射するために、画面が白んでみえることをつきとめた。
この傾向は、タッチパネル用導電性シートの表裏のうち、タッチパネルに適用した際に使用者側に配置される方（視認側）において、導電部の単位体積当たりの金属の含有量が相対的に多い、（以下、「金属部が高密度である」ともいう。）場合に顕著であることもつきとめた。
この傾向は、タッチパネル用導電性シートの表裏のうち、タッチパネルに適用した際に使用者側に配置される方（視認側）において、導電部の単位体積当たりの金属の含有量が相対的に多い、（以下、「金属部が高密度である」ともいう。）場合に顕著であることもつきとめた。
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、導電部におけるガラス転移温度の異なる２種類のポリマーの分布を制御している。具体的には、導電部の支持体側、及び／又は、反対側の表面Ｘをそれぞれ含む界面領域中において、相対的に第２高分子（ガラス転移温度のより低い高分子、以下「低Ｔｇ高分子」ともいう。）の含有量を多く、導電部の厚み方向の中間領域中において、相対的に第１高分子（ガラス転移温度のより高い高分子、以下「高Ｔｇ高分子」ともいう。）の含有量が多くしたものである。これにより、金属部の形態等に起因する外光の反射を抑制している。
外光の反射が抑制される機序としては、必ずしも明らかではないが、低Ｔｇ高分子（第２高分子）の含有量がより多い界面領域中においては、金属部が高密度となりにくい（中間領域と比較してより低密度である）ことが推測される。言い換えれば、後述する中間領域と比較して、界面領域では、導電部中におけるバインダの含有量が多くなりやすいものと推測される。これにより、金属部に由来する外光の反射がより抑制されやすいものと推測される。
一方で、高Ｔｇ高分子（第１高分子）の含有量がより多い中間領域では、金属部が高密度となりやすいことが推測される。言い換えれば、界面領域と比較して、中間領域では、導電部中におけるバインダの含有量が少なくなりやすいものと推測される。その結果、タッチパネル用導電性シートとしての優れた導電性も維持されるものと推測される。
外光の反射が抑制される機序としては、必ずしも明らかではないが、低Ｔｇ高分子（第２高分子）の含有量がより多い界面領域中においては、金属部が高密度となりにくい（中間領域と比較してより低密度である）ことが推測される。言い換えれば、後述する中間領域と比較して、界面領域では、導電部中におけるバインダの含有量が多くなりやすいものと推測される。これにより、金属部に由来する外光の反射がより抑制されやすいものと推測される。
一方で、高Ｔｇ高分子（第１高分子）の含有量がより多い中間領域では、金属部が高密度となりやすいことが推測される。言い換えれば、界面領域と比較して、中間領域では、導電部中におけるバインダの含有量が少なくなりやすいものと推測される。その結果、タッチパネル用導電性シートとしての優れた導電性も維持されるものと推測される。
上記の傾向は、金属部が金属を含有し、加熱等により金属を互いに融着させる処理を施す工程を経て得られるタッチパネル用導電性シートにおいてより顕著である。すなわち、低Ｔｇ高分子（第２高分子）の含有量がより多い界面領域中においては、上記の処理によって、金属同士が融着して高密度化する変形に際して、より低いガラス転移温度を有する第２高分子が金属部の変形と同時または先立って変形し、金属同士の微細な空隙へ侵入することによって、金属同士が融着しにくく、結果として高密度になりにくいことが推測される。
一方で、第１高分子の含有量がより多い中間領域中では、金属部の微細な空隙への高分子の侵入が起こりづらいために、金属同士が融着しやすく、結果的に金属部が高密度になりやすく、結果として、タッチパネル用導電性シートとしての優れた導電性も維持されるものと推測される。
一方で、第１高分子の含有量がより多い中間領域中では、金属部の微細な空隙への高分子の侵入が起こりづらいために、金属同士が融着しやすく、結果的に金属部が高密度になりやすく、結果として、タッチパネル用導電性シートとしての優れた導電性も維持されるものと推測される。
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第１実施形態について図面を参照して説明する。
図１に、本発明の第１実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第１実施形態の断面図を示した。
タッチパネル用導電性シート１０は、支持体１２と、支持体１２上に配置された導電部１４とを含む。なお、図１には、導電部１４が２つ記載されているが、その数は特に制限されない。
図２には、導電部１４の一部拡大断面図を示す。導電部１４は、後述する第１高分子、及び、後述する第２高分子を含有するバインダ１６と、バインダ１６中に分散した複数の金属部１８とを含む。
以下、本発明の第１実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第１実施形態について図面を参照して説明する。
図１に、本発明の第１実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第１実施形態の断面図を示した。
タッチパネル用導電性シート１０は、支持体１２と、支持体１２上に配置された導電部１４とを含む。なお、図１には、導電部１４が２つ記載されているが、その数は特に制限されない。
図２には、導電部１４の一部拡大断面図を示す。導電部１４は、後述する第１高分子、及び、後述する第２高分子を含有するバインダ１６と、バインダ１６中に分散した複数の金属部１８とを含む。
まず、図２を用いて、第１高分子、及び、第２高分子の分布状態を規定するために用いられる上端位置ＵＰ及び下端位置ＬＰについて説明する。
図２に示すような、導電部１４の垂直断面（導電部１４の表面に垂直な面で切断した際の断面）において、導電部１４の表面１１４Ａ（支持体１２側とは反対側の表面、以後、表面Ｘともいう。）から支持体１２側に向かって、導電部１４の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線を移動させる。つまり、導電部１４の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線を白抜き矢印の方向に移動させる。
その際、図２に示すように、移動させた輪郭線が、導電部１４中の金属部１８に到達した位置を上端位置ＵＰとする。ここで輪郭線が金属部１８に到達するとは、上記のように輪郭線を移動させた際に、輪郭線が金属部１８と初めて接する位置を意図する。
その後、輪郭線を更に上端位置ＵＰよりも支持体１２側に移動させ、導電部１４中で金属部１８を含まなくなる位置を下端位置ＬＰとする。ここで、金属部１８を含まなくなる位置とは、その位置から支持体１２表面までの間に金属部１８が含まれない位置で、最も表面Ｘ側の位置を意図する。なお、下端位置ＬＰは、言い換えれば、導電部１４の垂直断面において、最も支持体１２側にある金属部と上記輪郭線とが最も支持体１２側で接する位置に該当する。
図２に示すような、導電部１４の垂直断面（導電部１４の表面に垂直な面で切断した際の断面）において、導電部１４の表面１１４Ａ（支持体１２側とは反対側の表面、以後、表面Ｘともいう。）から支持体１２側に向かって、導電部１４の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線を移動させる。つまり、導電部１４の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線を白抜き矢印の方向に移動させる。
その際、図２に示すように、移動させた輪郭線が、導電部１４中の金属部１８に到達した位置を上端位置ＵＰとする。ここで輪郭線が金属部１８に到達するとは、上記のように輪郭線を移動させた際に、輪郭線が金属部１８と初めて接する位置を意図する。
その後、輪郭線を更に上端位置ＵＰよりも支持体１２側に移動させ、導電部１４中で金属部１８を含まなくなる位置を下端位置ＬＰとする。ここで、金属部１８を含まなくなる位置とは、その位置から支持体１２表面までの間に金属部１８が含まれない位置で、最も表面Ｘ側の位置を意図する。なお、下端位置ＬＰは、言い換えれば、導電部１４の垂直断面において、最も支持体１２側にある金属部と上記輪郭線とが最も支持体１２側で接する位置に該当する。
図３は、図２と同様に導電部１４の一部拡大断面図であり、図２中から金属部１８の表示を省略した図面に該当し、図２中の上端位置ＵＰ及び下端位置ＬＰと、図３中の上端位置ＵＰ及び下端位置ＬＰとは同一の位置にある。
ここで、上端位置ＵＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍまでの領域における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量の合計含有量に対する第２高分子の含有量の含有質量比をＲＵとする。
なお、上端位置ＵＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍの位置とは、上記輪郭線（導電部１４の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線）を上端位置ＵＰから支持体１２側に１００ｎｍ移動させた位置Ｐ１に該当する。つまり、上端位置ＵＰと位置Ｐ１との間の距離は１００ｎｍに該当する。この上端位置ＵＰと位置Ｐ１とで挟まれた領域（以後、上部領域２０とも称する）が、上記上端位置ＵＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍまでの領域に該当する。
なお、上記領域における第１高分子及び第２高分子の含有量は、イオンスパッタリングを利用した表面エッチングと、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）による測定を組み合わせた方法により求められる。詳細な測定方法は、実施例に記載したとおりである。
なお、上端位置ＵＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍの位置とは、上記輪郭線（導電部１４の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線）を上端位置ＵＰから支持体１２側に１００ｎｍ移動させた位置Ｐ１に該当する。つまり、上端位置ＵＰと位置Ｐ１との間の距離は１００ｎｍに該当する。この上端位置ＵＰと位置Ｐ１とで挟まれた領域（以後、上部領域２０とも称する）が、上記上端位置ＵＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍまでの領域に該当する。
なお、上記領域における第１高分子及び第２高分子の含有量は、イオンスパッタリングを利用した表面エッチングと、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）による測定を組み合わせた方法により求められる。詳細な測定方法は、実施例に記載したとおりである。
なお、上記領域における第１高分子及び第２高分子の含有量は、イオンスパッタリングを利用した表面エッチングと、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）による測定、または、フーリエ変換赤外分光光度計ＡＴＲ（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）法による測定を組み合わせた方法により求められる。詳細な測定方法は、実施例に記載したとおりである。飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）とフーリエ変換赤外分光光度計ＡＴＲ法は、測定対象の高分子の組成およびその他の混合物の組成に応じて、分離しやすい方法を選択してよい。
本実施形態においては、上記のように、上端位置ＵＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍまでの領域におけるポリマーの分布を調整している。なお、後段で詳述するように、中間領域及び下部領域においても１００ｎｍの領域のポリマーの分布を規定している。黒締りのよしあし、言い換えれば、導電部に起因する外光反射の程度は、主に可視光が影響しており、その可視光が影響を受ける領域の大きさとしては、１００ｎｍ程度が最小単位に該当することを本発明者らは知見している。実際、本明細書で示すように、１００ｎｍ程度の領域の範囲の組成を調整すれば上記可視光の反射特性、拡散特性、及び、干渉特性を制御することができる。
また、上端位置ＵＰと下端位置ＬＰとの中間位置ＭＰから支持体１２側に向かって５０ｎｍ及び表面１１４Ａ側に向かって５０ｎｍの領域における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量の合計含有量に対する第２高分子の含有量の含有質量比をＲＭとする。
まず、中間位置ＭＰとは、図３に示すように、上端位置ＵＰと下端位置ＬＰとの中間の位置である。また、中間位置ＭＰから支持体１２側に向かって５０ｎｍの位置とは、輪郭線を中間位置ＭＰから支持体１２側に５０ｎｍ移動させた位置Ｐ２に該当する。つまり、中間位置ＭＰと位置Ｐ２との間の距離は５０ｎｍに該当する。更に、中間位置ＭＰから表面１１４Ａ側に向かって５０ｎｍの位置とは、輪郭線を中間位置ＭＰから表面１１４Ａ側に５０ｎｍ移動させた位置Ｐ３に該当する。つまり、中間位置ＭＰと位置Ｐ３との間の距離は５０ｎｍに該当する。よって、この位置Ｐ２と位置Ｐ３とで挟まれた領域（以後、中間領域２２とも称する）が、上記中間位置ＭＰから支持体１２側に向かって５０ｎｍ及び表面１１４Ａ側に向かって５０ｎｍの領域に該当する。
まず、中間位置ＭＰとは、図３に示すように、上端位置ＵＰと下端位置ＬＰとの中間の位置である。また、中間位置ＭＰから支持体１２側に向かって５０ｎｍの位置とは、輪郭線を中間位置ＭＰから支持体１２側に５０ｎｍ移動させた位置Ｐ２に該当する。つまり、中間位置ＭＰと位置Ｐ２との間の距離は５０ｎｍに該当する。更に、中間位置ＭＰから表面１１４Ａ側に向かって５０ｎｍの位置とは、輪郭線を中間位置ＭＰから表面１１４Ａ側に５０ｎｍ移動させた位置Ｐ３に該当する。つまり、中間位置ＭＰと位置Ｐ３との間の距離は５０ｎｍに該当する。よって、この位置Ｐ２と位置Ｐ３とで挟まれた領域（以後、中間領域２２とも称する）が、上記中間位置ＭＰから支持体１２側に向かって５０ｎｍ及び表面１１４Ａ側に向かって５０ｎｍの領域に該当する。
また、下端位置ＬＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍまでの領域における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量の合計含有量に対する第２高分子の含有量の含有質量比をＲＬとする。
なお、下端位置ＬＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍの位置とは、上記輪郭線（導電部１２の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線）を下端位置ＬＰから表面１１４Ａ側に１００ｎｍ移動させた位置Ｐ４に該当する。つまり、下端位置ＬＰと位置Ｐ４との間の距離は１００ｎｍに該当する。この下端位置ＬＰと位置Ｐ４とで挟まれた領域（以後、下部領域２４とも称する）が、上記下端位置ＬＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍまでの領域に該当する。
なお、下端位置ＬＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍの位置とは、上記輪郭線（導電部１２の表面１１４Ａの表面形状に沿った輪郭線）を下端位置ＬＰから表面１１４Ａ側に１００ｎｍ移動させた位置Ｐ４に該当する。つまり、下端位置ＬＰと位置Ｐ４との間の距離は１００ｎｍに該当する。この下端位置ＬＰと位置Ｐ４とで挟まれた領域（以後、下部領域２４とも称する）が、上記下端位置ＬＰから支持体１２側に向かって１００ｎｍまでの領域に該当する。
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートにおいて、上記ＲＵ、ＲＭ、及び、ＲＬは以下の式１及び式２；
式１ ＲＭ＜ＲＵ
式２ ＲＭ＜ＲＬ
からなる群より選択される少なくとも一方が成り立つ。
式１ ＲＭ＜ＲＵ
式２ ＲＭ＜ＲＬ
からなる群より選択される少なくとも一方が成り立つ。
式１が成り立つ状態とは、導電部の上部領域における第２高分子（低Ｔｇ高分子）の含有質量比が、導電部の中間領域における第２高分子の含有質量比よりも大きいことを表わしている。式１が成り立つタッチパネル用導電性シートでは、上部領域の金属部がより高密度ではない（より低密度である、より疎である、導電部の単位体積あたりの金属の含有量が相対的に少ない）ため、このようなタッチパネル用導電性シートは、特に支持体と反対側の表面Ｘを視認側（使用者側）とするタッチパネルに適用することが好ましい。
また、式２が成り立つ状態とは、導電部の下部領域における第２高分子の含有質量比が、導電部の中間領域における第２高分子の含有質量比よりも大きいことを表わしている。式２が成り立つタッチパネル用導電性シートでは、下部領域の金属部がより高密度ではない（より低密度である、より疎である、導電部の単位体積あたりの金属の含有量が相対的に少ない）ため、このようなタッチパネル用導電性シートは、特に、支持体を視認側（使用者側）とするタッチパネルに適用することが好ましい。
また、式２が成り立つ状態とは、導電部の下部領域における第２高分子の含有質量比が、導電部の中間領域における第２高分子の含有質量比よりも大きいことを表わしている。式２が成り立つタッチパネル用導電性シートでは、下部領域の金属部がより高密度ではない（より低密度である、より疎である、導電部の単位体積あたりの金属の含有量が相対的に少ない）ため、このようなタッチパネル用導電性シートは、特に、支持体を視認側（使用者側）とするタッチパネルに適用することが好ましい。
タッチパネル用導電性シートにおいては、式１及び式２のいずれもが成り立ってもよい。このようなタッチパネルにおいては、中間領域における第２高分子（低Ｔｇ高分子）の含有質量比より、上部領域、及び、下部領域のそれぞれにおける第２高分子の含有質量比の方が大きく、上部領域、及び、下部領域の金属部がより高密度でない（より低密度である）ため、このようなタッチパネル用導電性シートは、タッチパネルに適用する際、表裏のどちら側を視認側としても、優れた黒締りを有するタッチパネルが得られる。
タッチパネル用導電性シートにおいては、式１及び式２のいずれか一方が成り立つことが好ましい。このような場合、式１が成り立つ場合には、表面Ｘ側を、式２が成り立つ場合には支持体側を視認側（使用者側）としてタッチパネルに適用することにより、より黒締りに優れたタッチパネルが得られる。また、この場合、タッチパネル用導電性シートがより優れた導電性を有する点でもより好ましい。
以下、本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートを構成する各部材について説明する。
〔支持体〕
支持体は、導電部を支持できればその種類は制限されず、透明支持体であることが好ましく、特にプラスチックシートが好ましい。
支持体を構成する材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（２５８℃）、ポリシクロオレフィン（１３４℃）、ポリカーボネート（２５０℃）、アクリルフィルム(１２８℃)、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）（２６９℃）、ポリエチレン（ＰＥ）（１３５℃）、ポリプロピレン（ＰＰ）（１６３℃）、ポリスチレン（２３０℃）、ポリ塩化ビニル（１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（２１２℃）やＴＡＣ（２９０℃）などの融点が約２９０℃以下であるプラスチックフィルムが好ましく、特に、ＰＥＴ、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネートが好ましい。（ ）内の数値は融点である。支持体の全光線透過率は、８５％〜１００％であることが好ましい。
支持体の厚みは特に制限されないが、一般に、２５〜５００μｍが好ましい。なお、タッチパネル用導電性シートが支持体の機能の他にタッチ面の機能をも兼ねる場合は、５００μｍを超えた厚みで設計することも可能である。
支持体は、導電部を支持できればその種類は制限されず、透明支持体であることが好ましく、特にプラスチックシートが好ましい。
支持体を構成する材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（２５８℃）、ポリシクロオレフィン（１３４℃）、ポリカーボネート（２５０℃）、アクリルフィルム(１２８℃)、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）（２６９℃）、ポリエチレン（ＰＥ）（１３５℃）、ポリプロピレン（ＰＰ）（１６３℃）、ポリスチレン（２３０℃）、ポリ塩化ビニル（１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（２１２℃）やＴＡＣ（２９０℃）などの融点が約２９０℃以下であるプラスチックフィルムが好ましく、特に、ＰＥＴ、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネートが好ましい。（ ）内の数値は融点である。支持体の全光線透過率は、８５％〜１００％であることが好ましい。
支持体の厚みは特に制限されないが、一般に、２５〜５００μｍが好ましい。なお、タッチパネル用導電性シートが支持体の機能の他にタッチ面の機能をも兼ねる場合は、５００μｍを超えた厚みで設計することも可能である。
支持体の好適態様の一つとしては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理、及び紫外線照射処理からなる群から選択される少なくとも一つの処理が施された処理済支持体が挙げられる。上記処理が施されることにより、処理済支持体表面にはＯＨ基などの親水性基が導入され、導電部の密着性がより向上する。
〔導電部〕
導電部は、バインダ、及び、バインダ中に分散した金属部を含有する。
上記バインダは第１高分子と、第１高分子よりもガラス転移温度が低い第２高分子を含有する。なお、本明細書において、ポリマーのガラス転移温度は、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）法によって測定したガラス転移温度を意味する。
導電部は、バインダ、及び、バインダ中に分散した金属部を含有する。
上記バインダは第１高分子と、第１高分子よりもガラス転移温度が低い第２高分子を含有する。なお、本明細書において、ポリマーのガラス転移温度は、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）法によって測定したガラス転移温度を意味する。
第１高分子及び第２高分子は、ゼラチンとは異なるポリマーが好ましく、ゼラチンを分解する酸化剤で分解しないポリマーが好ましい。
第１高分子及び第２高分子としては、例えば、疎水性ポリマー（疎水性樹脂）などが挙げられ、より具体的には、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体及びキトサン系重合体、からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、又は、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。
また、ポリマーには、後述する架橋剤と反応する反応性基が含まれることが好ましい。
第１高分子及び第２高分子としては、例えば、疎水性ポリマー（疎水性樹脂）などが挙げられ、より具体的には、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体及びキトサン系重合体、からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、又は、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。
また、ポリマーには、後述する架橋剤と反応する反応性基が含まれることが好ましい。
ポリマーとしては、以下の式Ａ、Ｂ、Ｃ、及び、Ｄからなる群より選択される少なくとも１種の単位を有することが好ましい。
中でも、第１高分子としては、よりガラス転移温度を低く制御しやすい観点から、式Ａ、Ｂ、Ｃ、及び、Ｄからなる群より選択される１種の単位からなる重合体が好ましく、
Ｂ、Ｃ、及び、Ｄからなる群より選択される少なくとも１種の単位からなる重合体がより好ましく、式Ｄで表される単位からなる重合体が更に好ましい。
中でも、第１高分子としては、よりガラス転移温度を低く制御しやすい観点から、式Ａ、Ｂ、Ｃ、及び、Ｄからなる群より選択される１種の単位からなる重合体が好ましく、
Ｂ、Ｃ、及び、Ｄからなる群より選択される少なくとも１種の単位からなる重合体がより好ましく、式Ｄで表される単位からなる重合体が更に好ましい。
Ｒ1は、メチル基又はハロゲン原子を表し、好ましくはメチル基、塩素原子、臭素原子を表す。ｐは０〜２の整数を表し、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒ2は、メチル基又はエチル基を表し、メチル基が好ましい。
Ｒ3は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子が好ましい。Ｌは、２価の連結基を表し、下記一般式（２）で表される基が好ましい。
一般式（２）：−（ＣＯ−Ｘ1）ｒ−Ｘ2−
式中Ｘ1は、酸素原子又は−ＮＲ30−を表す。ここでＲ30は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアシル基を表し、それぞれ置換基（例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基など）を有してもよい。Ｒ30は、好ましくは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基など）である。Ｘ1として特に好ましいのは、酸素原子又は−ＮＨ−である。
Ｘ2は、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレン基、アリーレンアルキレン基、又は、アルキレンアリーレンアルキレン基を表し、これらの基には−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−Ｎ（Ｒ31）−、−Ｎ（Ｒ31）ＳＯ2−等が途中に挿入されてもよい。ここでＲ31は炭素数１〜６の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、メチル基、エチル基、及び、イソプロピル基等がある。Ｘ2の好ましい例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、及び、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ（Ｃ6Ｈ4）−等が挙げられる。
ｒは０又は１を表す。
ｑは０又は１を表し、０が好ましい。
Ｒ3は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子が好ましい。Ｌは、２価の連結基を表し、下記一般式（２）で表される基が好ましい。
一般式（２）：−（ＣＯ−Ｘ1）ｒ−Ｘ2−
式中Ｘ1は、酸素原子又は−ＮＲ30−を表す。ここでＲ30は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアシル基を表し、それぞれ置換基（例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基など）を有してもよい。Ｒ30は、好ましくは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基など）である。Ｘ1として特に好ましいのは、酸素原子又は−ＮＨ−である。
Ｘ2は、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレン基、アリーレンアルキレン基、又は、アルキレンアリーレンアルキレン基を表し、これらの基には−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−Ｎ（Ｒ31）−、−Ｎ（Ｒ31）ＳＯ2−等が途中に挿入されてもよい。ここでＲ31は炭素数１〜６の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、メチル基、エチル基、及び、イソプロピル基等がある。Ｘ2の好ましい例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、及び、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ（Ｃ6Ｈ4）−等が挙げられる。
ｒは０又は１を表す。
ｑは０又は１を表し、０が好ましい。
Ｒ4は、炭素数１〜８０のアルキル基、アルケニル基、又は、アルキニル基を表し、第１高分子としては、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、第２高分子としては、炭素数５〜５０のアルキル基が好ましく、炭素数５〜３０のアルキル基がより好ましく、炭素数５〜２０のアルキル基が更に好ましい。
Ｒ5は、水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は、−ＣＨ2ＣＯＯＲ6を表し、水素原子、メチル基、ハロゲン原子、又は、−ＣＨ2ＣＯＯＲ6が好ましく、水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ2ＣＯＯＲ6が更に好ましく、水素原子が特に好ましい。
Ｒ6は、水素原子又は炭素数１〜８０のアルキル基を表し、Ｒ4と同じでも異なってもよく、Ｒ6の炭素数は１〜７０が好ましく、１〜６０がより好ましい。
Ｒ5は、水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は、−ＣＨ2ＣＯＯＲ6を表し、水素原子、メチル基、ハロゲン原子、又は、−ＣＨ2ＣＯＯＲ6が好ましく、水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ2ＣＯＯＲ6が更に好ましく、水素原子が特に好ましい。
Ｒ6は、水素原子又は炭素数１〜８０のアルキル基を表し、Ｒ4と同じでも異なってもよく、Ｒ6の炭素数は１〜７０が好ましく、１〜６０がより好ましい。
第１高分子及び２の他の好適形態としては、水分の浸入をより防止できる点より、以下の一般式（１）で表されるポリマー（共重合体）が挙げられる。
一般式（１）： −（Ａ）ｘ−（Ｂ）ｙ−（Ｃ）ｚ−（Ｄ）ｗ−
なお、一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤはそれぞれ、すでに説明した上記繰り返し単位を表す。
一般式（１）： −（Ａ）ｘ−（Ｂ）ｙ−（Ｃ）ｚ−（Ｄ）ｗ−
なお、一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤはそれぞれ、すでに説明した上記繰り返し単位を表す。
一般式（１）中、ｘ、ｙ、ｚ、及びｗは各繰り返し単位のモル比率を表す。
ｘとしては、３〜６０モル％、好ましくは３〜５０モル％、より好ましくは３〜４０モル％である。
ｙとしては、３０〜９６モル％、好ましくは３５〜９５モル％、より好ましくは４０〜９０モル％である。
ｚとしては０．５〜２５モル％、好ましくは０．５〜２０モル％、より好ましくは１〜２０モル％である。
ｗとしては、０．５〜４０モル％、好ましくは０．５〜３０モル％である。
一般式（１）において、ｘは３〜４０モル％、ｙは４０〜９０モル％、ｚは０．５〜２０モル％、ｗは０．５〜１０モル％の場合が特に好ましい。
ｘとしては、３〜６０モル％、好ましくは３〜５０モル％、より好ましくは３〜４０モル％である。
ｙとしては、３０〜９６モル％、好ましくは３５〜９５モル％、より好ましくは４０〜９０モル％である。
ｚとしては０．５〜２５モル％、好ましくは０．５〜２０モル％、より好ましくは１〜２０モル％である。
ｗとしては、０．５〜４０モル％、好ましくは０．５〜３０モル％である。
一般式（１）において、ｘは３〜４０モル％、ｙは４０〜９０モル％、ｚは０．５〜２０モル％、ｗは０．５〜１０モル％の場合が特に好ましい。
一般式（１）で表されるポリマーとしては、下記一般式（２）及び一般式（３）で表されるポリマーが好ましい。
一般式（２）中、ｘ、ｙ、ｚ及びｗは、上記の定義の通りである。
上記式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、及びｅ１は各モノマー単位のモル比率を表し、ａ１は３〜６０（モル％）、ｂ１は３０〜９５（モル％）、ｃ１は０．５〜２５（モル％）、ｄ１は０．５〜４０（モル％）、ｅ１は１〜１０（モル％）を表す。
ａ１の好ましい範囲は上記ｘの好ましい範囲と同じであり、ｂ１の好ましい範囲は上記ｙの好ましい範囲と同じであり、ｃ１の好ましい範囲は上記ｚの好ましい範囲と同じであり、ｄ１の好ましい範囲は上記ｗの好ましい範囲と同じである。
ｅ１は１〜１０モル％であり、好ましくは２〜９モル％であり、より好ましくは２〜８モル％である。
ａ１の好ましい範囲は上記ｘの好ましい範囲と同じであり、ｂ１の好ましい範囲は上記ｙの好ましい範囲と同じであり、ｃ１の好ましい範囲は上記ｚの好ましい範囲と同じであり、ｄ１の好ましい範囲は上記ｗの好ましい範囲と同じである。
ｅ１は１〜１０モル％であり、好ましくは２〜９モル％であり、より好ましくは２〜８モル％である。
一般式（１）で表されるポリマーの重量平均分子量は、１０００〜１００万が好ましく、２０００〜７５万がより好ましく、３０００〜５０万が更に好ましい。
一般式（１）で表されるポリマーは、例えば、特許第３３０５４５９号及び特許第３７５４７４５号公報などを参照して合成することができる。
一般式（１）で表されるポリマーは、例えば、特許第３３０５４５９号及び特許第３７５４７４５号公報などを参照して合成することができる。
なお、第１高分子及び第２高分子のガラス転移温度としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、第１高分子のガラス転移温度としては、０℃以上が好ましく、２５℃以上がより好ましく、４０℃を超えることが更に好ましい。上限としては特に制限されないが、一般に１２０℃以下が好ましい。
また、第２高分子のガラス転移温度としては特に制限されないが、４０℃以下が好ましく、２５℃以下がより好ましく、２５℃未満が更に好ましく、０℃以下が特に好ましく、０℃未満が最も好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に−５０℃以上が好ましい。
また、第２高分子のガラス転移温度としては特に制限されないが、４０℃以下が好ましく、２５℃以下がより好ましく、２５℃未満が更に好ましく、０℃以下が特に好ましく、０℃未満が最も好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に−５０℃以上が好ましい。
第１高分子のガラス転移温度と、第２高分子のガラス転移温度の差（絶対値）としては特に制限されないが、一般に２０〜１００℃が好ましい。第１高分子のガラス転移温度と、第２高分子のガラス転移温度の差（絶対値）が上記範囲内だと、タッチパネル用導電性シートはより優れた本発明の効果を有する。
導電部における金属部は、導電部の導電特性を担保する部分であり、金属部は金属により構成される。金属部を構成する金属としては、導電特性がより優れる点で、金（金属金）、銀（金属銀）、銅（金属銅）、ニッケル（金属ニッケル）、及び、パラジウム（金属パラジウム）からなる群より選択される少なくとも１種の金属が好ましい。
なお、図２においては、金属部が粒子状になって導電部に分散した形態を記載しているが、金属部の形態としては上記に制限されず、金属部が層状となって導電部に分散した形態であってもよい。
なお、図２においては、金属部が粒子状になって導電部に分散した形態を記載しているが、金属部の形態としては上記に制限されず、金属部が層状となって導電部に分散した形態であってもよい。
導電部には上記以外の材料が含有されていてもよい。上記以外の材料としては、例えば、非金属の微粒子が挙げられる。非金属の微粒子としては、例えば、樹脂粒子、及び、金属酸化物粒子等が挙げられ、金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ケイ素粒子、及び、酸化チタン粒子等が挙げられる。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ケイ素粒子、及び、酸化チタン粒子等が挙げられる。
非金属の微粒子の平均粒子径としては特に制限されないが、球相当径で１〜１０００ｎｍが好ましく、１０〜５００ｎｍがより好ましく、２０〜２００ｎｍが更に好ましい。上記範囲内であれば、タッチパネル用導電性シートはより優れた透明性を有しやすく、かつ、より優れた導電性を有しやすい。
非金属の微粒子の球相当径は、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の５０個分の球相当径を算出し、それらを算術平均したものである。
非金属の微粒子の球相当径は、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の５０個分の球相当径を算出し、それらを算術平均したものである。
導電部の形状は特に制限されないが、タッチパネルに適用した際により優れたタッチ位置の検出性能が得られるように、線状（直線、曲線、及び、これらの組み合わせ等）であるのが好ましい。この際、導電部の線幅は特に制限されないが、導電部の導電特性及び視認しづらさのバランスの点から、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましく、５μｍ以下が特に好ましく、４μｍ以下が最も好ましく、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。
導電部の厚みは特に制限されないが、薄型化と導電特性のバランスの点で、２００μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましく、０．３〜５μｍであることが特に好ましく、０．５〜５μｍであることが最も好ましい。
導電部の厚みは特に制限されないが、薄型化と導電特性のバランスの点で、２００μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましく、０．３〜５μｍであることが特に好ましく、０．５〜５μｍであることが最も好ましい。
導電部はパターンを形成していてもよい。パターンとしては、例えば、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などを組み合わせた幾何学図形であることが好ましく、メッシュ状（メッシュパターン）であることがより好ましい。メッシュ状とは、図４に示すように、交差する導電部１４により構成される複数の正方形状の開口部（格子）２６を含んでいる形状を意図する。
開口部２６の一辺の長さＰａは特に制限されないが、１５００μｍ以下が好ましく、１３００μｍ以下がより好ましく、１０００μｍ以下であることが更に好ましく、５μｍ以上が好ましく、３０μｍ以上がより好ましく、８０μｍ以上が更に好ましい。開口部の辺の長さが上記範囲である場合には、更に透明性も良好に保つことが可能であり、導電性フィルムを表示装置の前面にとりつけた際に、違和感なく表示を視認することができる。
可視光透過率の点から、導電部により形成されるメッシュパターンの開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。開口率とは、導電部がある領域を除いた支持体上の領域が全体に占める割合に相当する。
可視光透過率の点から、導電部により形成されるメッシュパターンの開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。開口率とは、導電部がある領域を除いた支持体上の領域が全体に占める割合に相当する。
＜第１実施形態の変形例＞
図５には、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの変形例を示した。図５のタッチパネル用導電性シートは、支持体１２上に既に説明した導電部１４が配置され、更に支持体１２上に、導電部１４に隣接するよう配置された非導電部５１を有する。図５のタッチパネル用導電性シートは、非導電部５１を３つ有するが、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートとしては上記に制限されない。
非導電部の厚みとしては特に制限されないが、一般に、導電部の厚み以下が好ましい。
非導電部の材料としては特に制限されないが、金属部を含有しないこと以外は、導電部の材料と同様であることが好ましい。そのようにすることで、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
図５には、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの変形例を示した。図５のタッチパネル用導電性シートは、支持体１２上に既に説明した導電部１４が配置され、更に支持体１２上に、導電部１４に隣接するよう配置された非導電部５１を有する。図５のタッチパネル用導電性シートは、非導電部５１を３つ有するが、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートとしては上記に制限されない。
非導電部の厚みとしては特に制限されないが、一般に、導電部の厚み以下が好ましい。
非導電部の材料としては特に制限されないが、金属部を含有しないこと以外は、導電部の材料と同様であることが好ましい。そのようにすることで、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
＜第１実施形態の変形例２＞
図６には、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第２変形例を示した。図６のタッチパネル用導電性シートは、支持体１２と導電部１４との間に更に、易接着層６１を有し、易接着層６１上に導電部１４に隣接するよう配置された非導電部５１を有する。
タッチパネル用導電性シートが易接着層を有することにより、支持体１２と導電部１４との密着性がより向上し、より優れた耐久性を有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
図６には、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第２変形例を示した。図６のタッチパネル用導電性シートは、支持体１２と導電部１４との間に更に、易接着層６１を有し、易接着層６１上に導電部１４に隣接するよう配置された非導電部５１を有する。
タッチパネル用導電性シートが易接着層を有することにより、支持体１２と導電部１４との密着性がより向上し、より優れた耐久性を有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
このとき、各部材の屈折率の関係としては特に制限されないが、タッチパネルに適用した際にもより外光を反射しにくい点で、非導電部の屈折率ＲＩ１、易接着層の屈折率ＲＩ２、及び、支持体の屈折率ＲＩ３との間に、以下の式３；
式３ ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３
が成り立つことが好ましい。
式３ ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３
が成り立つことが好ましい。
各層の屈折率としては特に制限されないが、非導電部の屈折率ＲＩ１としては１．４０〜１．７５が好ましく、１．４０〜１．５５がより好ましい。易接着層の屈折率ＲＩ２としては１．４０〜１．７５が好ましく、１．４０〜１．５５がより好ましい。支持体の屈折率ＲＩ３としては１．４０〜１．７５が好ましく、１．４０〜１．５５がより好ましい。
なお、支持体の屈折率は、アッベ屈折率計（アタゴ（株）製アッベ屈折計）で光源をナトリウムランプ（Ｎａ−Ｄ線、５８９ｎｍ）として、マウント液はヨウ化メチレンを用い、２３℃、相対湿度６５％下で、試料の直交する２つの方向、もしくは長手方向と幅方向を測定し、それらの値の平均値で求める。各層の屈折率は、測定用に各層の乾膜を独立に作製し、基材と同様に、アッベ屈折率計で測定する。
なお、支持体の屈折率は、アッベ屈折率計（アタゴ（株）製アッベ屈折計）で光源をナトリウムランプ（Ｎａ−Ｄ線、５８９ｎｍ）として、マウント液はヨウ化メチレンを用い、２３℃、相対湿度６５％下で、試料の直交する２つの方向、もしくは長手方向と幅方向を測定し、それらの値の平均値で求める。各層の屈折率は、測定用に各層の乾膜を独立に作製し、基材と同様に、アッベ屈折率計で測定する。
易接着層の材料としては特に制限されず、公知の易接着層の材料が使用できる。易接着層としては特に制限されず、たとえば特開２００８−２０８３１０号公報に記載の第１接着層の好適な適用例を、好適に用いることができる。
易接着層の厚みは特に制限されないが、支持体と、導電部との密着性がより向上する点で、０．０２〜０．３μｍが好ましい。
支持体、易接着層、及び、非導電部の屈折率を調整する方法としては特に制限されないが、例えば、各部材に対して、既に説明した非金属の微粒子を含有させる方法が挙げられる。
本実施形態に係るタッチパネル用導電性フィルムは、静電容量方式のタッチパネルに用いられることが好ましい。
なお、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、パーソナルコンピュータやワークステーション等から発生する電波又はマイクロ波（極超短波）等の電磁波を遮断し、かつ静電気を防止する電磁波シールドとして用いることもできる。なお、パソコン本体に使用される電磁波シールド以外にも、映像撮影機器や電子医療機器などで使用される電磁波シールドとしても用いることができる。
また、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、透明発熱体としても用いることができる。
なお、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、パーソナルコンピュータやワークステーション等から発生する電波又はマイクロ波（極超短波）等の電磁波を遮断し、かつ静電気を防止する電磁波シールドとして用いることもできる。なお、パソコン本体に使用される電磁波シールド以外にも、映像撮影機器や電子医療機器などで使用される電磁波シールドとしても用いることができる。
また、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、透明発熱体としても用いることができる。
〔第１実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法〕
本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法としては特に制限されず、既に説明したＲＵ、ＲＭ、及び、ＲＬの関係を満たすようなタッチパネル用導電性シートが得られればよい。なかでも、金属部が銀（金属銀）を含有する場合、より優れた生産性が得られる点で以下工程を有する方法が好ましい。
本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法としては特に制限されず、既に説明したＲＵ、ＲＭ、及び、ＲＬの関係を満たすようなタッチパネル用導電性シートが得られればよい。なかでも、金属部が銀（金属銀）を含有する場合、より優れた生産性が得られる点で以下工程を有する方法が好ましい。
・工程Ａ：
支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第２高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程。
・工程Ｂ：
ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程。
以下では、各工程について詳述する。
支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第２高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程。
・工程Ｂ：
ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程。
以下では、各工程について詳述する。
＜工程Ａ＞
工程Ａは、支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第２高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程である。
なお、同時重層塗布する場合の各塗布液の積層順序としては特に制限されない。ただし、支持体側から、ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液をこの順に積層した場合には、式１を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。逆に、支持体側から、組成調整塗布液、及び、ハロゲン化銀含有塗布液をこの順に積層した場合には、式２を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。更に、組成調整塗布液、ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液をこの順に積層した場合には、式１、及び、式２を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
工程Ａは、支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第２高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程である。
なお、同時重層塗布する場合の各塗布液の積層順序としては特に制限されない。ただし、支持体側から、ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液をこの順に積層した場合には、式１を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。逆に、支持体側から、組成調整塗布液、及び、ハロゲン化銀含有塗布液をこの順に積層した場合には、式２を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。更に、組成調整塗布液、ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液をこの順に積層した場合には、式１、及び、式２を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
なお、本明細書では、「支持体上に塗布」とは、支持体表面上に直接塗布する場合、及び、支持体上に別途層が配置され、その層上に塗布する場合も含める。
本工程では、ハロゲン化銀を含むハロゲン化銀含有塗布液と、ハロゲン化銀を含まない組成調整塗布液とを同時重層塗布しているため、両者の塗布液より形成される２層の塗膜の界面にて成分の拡散が進行する。より具体的には、図７に示すように、支持体１２上に配置されるハロゲン化銀含有塗布液から形成される塗膜２８（以後、塗膜Ａとも称する）中から、組成調整塗布液から形成される塗膜３０（以後、塗膜Ｂとも称する）中に一部のハロゲン化銀３２、及び、第１高分子の拡散が進行する。その結果、塗膜Ｂ中の塗膜Ａ側の領域にはハロゲン化銀、及び、第１高分子が含まれ、その含有量は、塗膜Ａ中のハロゲン化銀、及び、第１高分子の含有量よりも少ない。
塗膜Ｂ中の塗膜Ａ側の領域（以下「領域Ｗ」ともいう。）には、塗膜Ａから移動したハロゲン化銀が含有されるため、後述する工程Ｂを経た後、この領域Ｗは、導電部における上部領域を形成することとなる。このとき、導電部のうち、領域Ｗにおいては第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量の合計量に対する第２高分子の含有量の含有質量比が、中間領域のＲＭよりも大きくなりやすい。
本工程では、ハロゲン化銀を含むハロゲン化銀含有塗布液と、ハロゲン化銀を含まない組成調整塗布液とを同時重層塗布しているため、両者の塗布液より形成される２層の塗膜の界面にて成分の拡散が進行する。より具体的には、図７に示すように、支持体１２上に配置されるハロゲン化銀含有塗布液から形成される塗膜２８（以後、塗膜Ａとも称する）中から、組成調整塗布液から形成される塗膜３０（以後、塗膜Ｂとも称する）中に一部のハロゲン化銀３２、及び、第１高分子の拡散が進行する。その結果、塗膜Ｂ中の塗膜Ａ側の領域にはハロゲン化銀、及び、第１高分子が含まれ、その含有量は、塗膜Ａ中のハロゲン化銀、及び、第１高分子の含有量よりも少ない。
塗膜Ｂ中の塗膜Ａ側の領域（以下「領域Ｗ」ともいう。）には、塗膜Ａから移動したハロゲン化銀が含有されるため、後述する工程Ｂを経た後、この領域Ｗは、導電部における上部領域を形成することとなる。このとき、導電部のうち、領域Ｗにおいては第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量の合計量に対する第２高分子の含有量の含有質量比が、中間領域のＲＭよりも大きくなりやすい。
なお、ハロゲン化銀含有塗布液は、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有すればよく、第２高分子を更に含有してもよい。この場合、ハロゲン化銀含有塗布液中における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量に対する第２高分子の含有質量比は、組成調整塗布液中における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量に対する第２高分子の含有質量比よりも小さいことが好ましい。
また、組成調整塗布液は、少なくとも第２高分子を含有すればよく、ハロゲン化銀、及び／又は、第１高分子を更に含有してもよい。組成調整塗布液が更にハロゲン化銀を含有する場合、その含有量としては特に制限されないが、ハロゲン化銀含有塗布液中におけるハロゲン化銀の含有量より、組成調整塗布液中におけるハロゲン化銀の含有量の方が少ないことが好ましい。そのようにすることで、より外光反射の少ないタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
組成調整塗布液が更に第１高分子を含有する場合、組成調整塗布液中における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量に対する第１高分子の含有質量比は、ハロゲン化銀含有塗布液における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量に対する第１高分子の含有質量比よりも小さいことが好ましい。
組成調整塗布液が更に第１高分子を含有する場合、組成調整塗布液中における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量に対する第１高分子の含有質量比は、ハロゲン化銀含有塗布液における第１高分子の含有量及び第２高分子の含有量に対する第１高分子の含有質量比よりも小さいことが好ましい。
ハロゲン化銀含有塗布液に含有されるハロゲン化銀としては特に制限されず、公知のハロゲン化銀が使用できる。ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、塩化銀、臭化銀、又は、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、更に臭化銀又は塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、又は、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、又は、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀５０モル％以上を含有する塩臭化銀、又は、沃塩臭化銀が用いられる。
なお、ここで、「臭化銀を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。この臭化銀を主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
なお、ここで、「臭化銀を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。この臭化銀を主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
ハロゲン化銀は固体粒子状であり、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、球相当径で０．１〜１０００ｎｍ（１μｍ）であることが好ましく、０．１〜３００ｎｍであることがより好ましく、１〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
なお、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
なお、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、及び、１４面体状など様々な形状であることができる。
また、ハロゲン化銀の安定化又は高感化のために用いられるロジウム化合物、イリジウム化合物などのＶＩＩＩ族、ＶＩＩＢ族に属する金属化合物、パラジウム化合物の利用については、特開２００９−１８８３６０号の段落００３９〜段落００４２の記載を参照することができる。更に化学増感については、特開２００９−１８８３６０号の段落００４３の技術記載を参照することができる。
また、ハロゲン化銀の安定化又は高感化のために用いられるロジウム化合物、イリジウム化合物などのＶＩＩＩ族、ＶＩＩＢ族に属する金属化合物、パラジウム化合物の利用については、特開２００９−１８８３６０号の段落００３９〜段落００４２の記載を参照することができる。更に化学増感については、特開２００９−１８８３６０号の段落００４３の技術記載を参照することができる。
ハロゲン化銀含有塗布液に含有され、組成調整塗布液に含有されることがある第１高分子、及び、組成調整塗布液に含有され、ハロゲン化銀含有塗布液に含有されることがある第２高分子の形態としては既に説明したとおりであるため、説明は省略する。
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液は、ハロゲン化銀、第１高分子、及び、第２高分子以外の成分を含有していてもよく、それらの成分はハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液において共通であり、以下に説明するとおりである。
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液は、ハロゲン化銀、第１高分子、及び、第２高分子以外の成分を含有していてもよく、それらの成分はハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液において共通であり、以下に説明するとおりである。
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液は、更にゼラチンを含有してもよい。
ゼラチンの種類は特に制限されず、例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、及び、アミノ基又はカルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）を使用することもできる。
ゼラチンの種類は特に制限されず、例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、及び、アミノ基又はカルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）を使用することもできる。
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液は、更に溶媒を含有してもよい。使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及び、これらの混合溶媒を挙げることができる。
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液には、必要に応じて、上述した材料以外の他の材料が含まれていてもよい。例えば、上記第１高分子及び第２高分子を架橋するために使用される架橋剤が含まれることが好ましい。架橋剤が含まれることによりポリマー間での架橋が進行し、後述する工程においてゼラチンが分解除去された際にも金属銀同士の連結が保たれ、結果として導電特性がより優れる。
ハロゲン化銀含有塗布液と組成調整塗布液とを同時重層塗布する方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができ、例えば、ダイ塗布方式を用いることが好ましい。ダイ塗布方式にはスライド塗布方式、エクストルージョン塗布方式、カーテン塗布方式があるが、スライド塗布方式又はエクストルージョン塗布が好ましく、薄層塗布適性が高いエクストルージョン塗布が最も好ましい。
なお、上記同時重層塗布する際には、上述したタッチパネル用導電性フィルムの第１実施態様の形態が得られやすい点から、所定の基板上に塗布した際に形成される膜（表面膜）の乾燥厚みが３００ｎｍ以上となるような組成の第２高分子を含有する組成調整塗布液を使用することが好ましい。
また、同時重層塗布を実施した後、得られた塗膜に対して、必要に応じて、乾燥処理を施してもよい。乾燥処理を実施することにより、ハロゲン化銀含有塗布液より得られる塗膜及び組成調整塗布液より得られる塗膜に含まれる溶媒を容易に除去することができる。
上記処理により、ハロゲン化銀を含有する感光性層を支持体上に形成することができる。なお、本明細書では、上記「ハロゲン化銀を含有する感光性層」を「ハロゲン化銀感光性層」、又は、単に「感光性層」ということがある。
＜工程Ｂ＞
工程Ｂは、ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程である。
本工程により、ハロゲン化銀が還元され、金属銀を含む導電部が形成される。なお、通常、露光処理はパターン状に実施され、露光部では金属銀を含む導電部が形成される。一方、非露光部では、後述する現像処理によってハロゲン化銀が溶出される。上記ゼラチン及び上記高分子を含む非導電部が形成される。非導電部には実質的に金属銀が含まれておらず、非導電部とは導電性を示さない領域を意図する。
以下では、本工程で実施される露光処理と現像処理とについて詳述する。
工程Ｂは、ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程である。
本工程により、ハロゲン化銀が還元され、金属銀を含む導電部が形成される。なお、通常、露光処理はパターン状に実施され、露光部では金属銀を含む導電部が形成される。一方、非露光部では、後述する現像処理によってハロゲン化銀が溶出される。上記ゼラチン及び上記高分子を含む非導電部が形成される。非導電部には実質的に金属銀が含まれておらず、非導電部とは導電性を示さない領域を意図する。
以下では、本工程で実施される露光処理と現像処理とについて詳述する。
露光処理は、感光性層に露光を行う処理である。感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって導電部を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する現像処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜（非導電部）が得られる。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、又は、Ｘ線などの放射線などが挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい導電部のパターンに合わせて適宜調整される。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、又は、Ｘ線などの放射線などが挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい導電部のパターンに合わせて適宜調整される。
現像処理の方法は特に制限されないが、例えば、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、及び、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、ＰＱ（ｐｈｅｎｉｄｏｎｅ ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）現像液、ＭＱ（Ｍｅｔｏｌ ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）現像液、及び、ＭＡＡ（メトール・アスコルビン酸）現像液等を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、及び、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、２５〜４５℃がより好ましい。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、７秒〜５０秒がより好ましい。
現像、定着処理を施した感光性層は、水洗処理及び安定化処理を施されるのが好ましい。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、ＰＱ（ｐｈｅｎｉｄｏｎｅ ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）現像液、ＭＱ（Ｍｅｔｏｌ ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）現像液、及び、ＭＡＡ（メトール・アスコルビン酸）現像液等を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、及び、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、２５〜４５℃がより好ましい。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、７秒〜５０秒がより好ましい。
現像、定着処理を施した感光性層は、水洗処理及び安定化処理を施されるのが好ましい。
本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法は、上記工程Ａ及び工程Ｂ以外のその他の工程を有していてもよい。
その他の工程としては、例えば、
工程Ｂの後に、導電部の金属銀同士を互いに融着させる工程Ｆ；
工程Ａの後であって、工程Ｂの前に、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造を有する化合物（以下、「特定化合物」ともいう。）と、を接触させる工程Ｃ１；
工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、導電部と特定化合物とを接触させる工程Ｃ２；
工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、更に、導電部を圧密化する工程Ｄ；
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Ｂの後であって、工程Ｄの前に、導電部中のゼラチンを除去する工程Ｅ；
等が挙げられる。また、その他の工程としては、後述する易接着層形成工程等も挙げられる。以下では、その他の工程について説明する。
その他の工程としては、例えば、
工程Ｂの後に、導電部の金属銀同士を互いに融着させる工程Ｆ；
工程Ａの後であって、工程Ｂの前に、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造を有する化合物（以下、「特定化合物」ともいう。）と、を接触させる工程Ｃ１；
工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、導電部と特定化合物とを接触させる工程Ｃ２；
工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に、更に、導電部を圧密化する工程Ｄ；
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Ｂの後であって、工程Ｄの前に、導電部中のゼラチンを除去する工程Ｅ；
等が挙げられる。また、その他の工程としては、後述する易接着層形成工程等も挙げられる。以下では、その他の工程について説明する。
（工程Ｆ）
工程Ｆは、工程Ｂの後に、導電部の（導電部に含有される）金属銀同士を互いに融着させる工程である。本工程により、金属銀同士が融着する結果、より優れた導電性を有する導電部を備えたタッチパネル用導電性シートが得られる。
工程Ｆは、工程Ｂの後に、導電部の（導電部に含有される）金属銀同士を互いに融着させる工程である。本工程により、金属銀同士が融着する結果、より優れた導電性を有する導電部を備えたタッチパネル用導電性シートが得られる。
加熱の方法としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、導電部を有する支持体を過熱蒸気に接触させる処理が挙げられる。
過熱蒸気としては特に制限されず、過熱水蒸気でよいし、過熱水蒸気に他のガスを混合させたものでもよい。
過熱蒸気は、供給時間１０〜３００秒の範囲で導電部に接触させることが好ましい。供給時間が１０秒以上であると、導電率の向上が大きい。また、３００秒以下だと、十分に導電率が向上するため、経済性の点からより好ましい。
また、過熱蒸気は、供給量が５００〜６００ｇ／ｍ3の範囲で導電部に接触させることが好ましく、過熱蒸気の温度は、１気圧で１００〜１６０℃に制御されることが好ましい。
過熱蒸気としては特に制限されず、過熱水蒸気でよいし、過熱水蒸気に他のガスを混合させたものでもよい。
過熱蒸気は、供給時間１０〜３００秒の範囲で導電部に接触させることが好ましい。供給時間が１０秒以上であると、導電率の向上が大きい。また、３００秒以下だと、十分に導電率が向上するため、経済性の点からより好ましい。
また、過熱蒸気は、供給量が５００〜６００ｇ／ｍ3の範囲で導電部に接触させることが好ましく、過熱蒸気の温度は、１気圧で１００〜１６０℃に制御されることが好ましい。
加熱処理の他の方法としては、８０〜１５０℃での加熱処理が挙げられる。
加熱時間は特に制限されないが、上記効果がより優れる点で、０．１〜５．０時間が好ましく、０．５〜１．０時間がより好ましい。
加熱時間は特に制限されないが、上記効果がより優れる点で、０．１〜５．０時間が好ましく、０．５〜１．０時間がより好ましい。
（工程Ｃ１）
工程Ｃ１は、工程Ａの後であって、工程Ｂの前に実施され、ハロゲン化銀感光性層と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、後段の工程Ｂにおいて生じた金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、ハロゲン化銀感光性層に特定化合物を接触させるため、ハロゲン化銀感光性層のより表面に近い領域（界面領域）において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、特に後段の工程によって得られる導電部において、界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすく、結果として、より優れた黒締りを有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。また、この場合であっても、導電部の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
工程Ｃ１は、工程Ａの後であって、工程Ｂの前に実施され、ハロゲン化銀感光性層と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、後段の工程Ｂにおいて生じた金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、ハロゲン化銀感光性層に特定化合物を接触させるため、ハロゲン化銀感光性層のより表面に近い領域（界面領域）において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、特に後段の工程によって得られる導電部において、界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすく、結果として、より優れた黒締りを有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。また、この場合であっても、導電部の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法は、工程Ｃ１又は後述する工程Ｃ２を有することが好ましく、工程Ｃ１及び工程Ｃ２を有していてもよい。
特定化合物とハロゲン化銀感光性層を接触させる方法としては特に制限されないが、典型的には特定化合物が溶解、及び／又は、分散された溶液と、ハロゲン化銀感光性層とを接触させる方法が挙げられる。また、特定化合物を含有する気体と、ハロゲン化銀感光性
層とを接触させる方法であってもよい。
層とを接触させる方法であってもよい。
特定化合物を含有する溶液とハロゲン化銀感光性層とを接触させる方法としては特に制限されないが、溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法、及び、ハロゲン化銀感光性層に溶液を塗布する方法等が挙げられ、溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法がより好ましい。溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法は、より簡便な装置で、より安定的に実施でき、また、浸漬後に洗浄すれば、余剰の溶液をより容易に除去できるため、好ましい。
また、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性部位を有する化合物を含有する気体、及び／又は、溶液とを接触させる方法は、ハロゲン化銀感光性層の表面において、金属銀が上記化合物に吸着されやすいという特徴も有する。これにより、導電部の表面において金属銀が互いに融着するのがより阻害されやすい。
特定化合物は、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造（以下、これらをあわせて「金属吸着性部位」ともいう。）を有する化合物である。
金属吸着性置換基としては、特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、金属吸着性置換基としては、カルボキシル基又はその塩、酸アミド基、アミノ基、イミダゾール基、ピラゾール基、チオール基、チオエーテル基、及び、ジスルフィド基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
金属吸着性構造としては特に制限されないが、含窒素ヘテロ環が好ましく、５又は６員環アゾール類が好ましく、５員環アゾール類がより好ましい。
含窒素ヘテロ環としては、例えば、テトラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、セレナジアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズイミダゾール環、ピリミジン環、トリアザインデン環、テトラアザインデン環、ベンゾインダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリジン環、キノリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、キノキサリン環、モルホリン環、及び、ペンタアザインデン環等が挙げられる。
これらの環は、置換基を有してもよく、置換基としては、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、及び、臭素原子）、シアノ基、置換もしくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基、及び、シアノエチル基の各基）、アリール基（例えば、フェニル基、４−メタンスルホンアミドフェニル基、４−メチルフェニル基、３，４−ジクロルフェニル基、及び、ナフチル基の各基）、アルケニル基（例えば、アリル基）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、４−メチルベンジル基、及び、フェネチル基の各基）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、及び、ｐ−トルエンスルホニル基の各基）、カルバモイル基（例えば、無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、及び、フェニルカルバモイル基の各基）、スルファモイル基（例えば、無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、及び、フェニルスルファモイル基の各基）、カルボンアミド基（例えば、アセトアミド基、及び、ベンズアミド基の各基）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、及び、ｐ−トルエンスルホンアミド基の各基）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、及び、ベンゾイルオキシ基の各基）、スルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ基）、ウレイド基（例えば、無置換ウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、及び、フェニルウレイド基の各基）、アシル基（例えば、アセチル基、及び、ベンゾイル基の各基）、オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、及び、フェノキシカルボニル基の各基）、及び、ヒドロキシル基等が挙げられる。置換基は、一つの環に複数置換してもよい。
含窒素ヘテロ環としては、例えば、テトラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、セレナジアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズイミダゾール環、ピリミジン環、トリアザインデン環、テトラアザインデン環、ベンゾインダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリジン環、キノリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、キノキサリン環、モルホリン環、及び、ペンタアザインデン環等が挙げられる。
これらの環は、置換基を有してもよく、置換基としては、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、及び、臭素原子）、シアノ基、置換もしくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基、及び、シアノエチル基の各基）、アリール基（例えば、フェニル基、４−メタンスルホンアミドフェニル基、４−メチルフェニル基、３，４−ジクロルフェニル基、及び、ナフチル基の各基）、アルケニル基（例えば、アリル基）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、４−メチルベンジル基、及び、フェネチル基の各基）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、及び、ｐ−トルエンスルホニル基の各基）、カルバモイル基（例えば、無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、及び、フェニルカルバモイル基の各基）、スルファモイル基（例えば、無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、及び、フェニルスルファモイル基の各基）、カルボンアミド基（例えば、アセトアミド基、及び、ベンズアミド基の各基）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、及び、ｐ−トルエンスルホンアミド基の各基）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、及び、ベンゾイルオキシ基の各基）、スルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ基）、ウレイド基（例えば、無置換ウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、及び、フェニルウレイド基の各基）、アシル基（例えば、アセチル基、及び、ベンゾイル基の各基）、オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、及び、フェノキシカルボニル基の各基）、及び、ヒドロキシル基等が挙げられる。置換基は、一つの環に複数置換してもよい。
上記化合物としては含窒素６員環を有する化合物（含窒素６員環化合物）が好ましく、含窒素６員環化合物としては、トリアジン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、ピリダジン環、又は、ピラジン環を有する化合物が好ましく、トリアジン環又はピリミジン環を有する化合物がより好ましい。これらの含窒素６員環化合物は置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数１〜６（好ましくは１〜３）のアルキル基、炭素数１〜６（好ましくは１〜３）のアルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、炭素数１〜６（好ましくは１〜３）のアルコキシアルキル基、及び、炭素数１〜６（好ましくは１〜３）のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
含窒素６員環化合物の具体例としては、トリアジン、メチルトリアジン、ジメチルトリアジン、ヒドロキシエチルトリアジン、ピリミジン、４−メチルピリミジン、ピリジン、及び、ピロリンが挙げられる。
含窒素６員環化合物の具体例としては、トリアジン、メチルトリアジン、ジメチルトリアジン、ヒドロキシエチルトリアジン、ピリミジン、４−メチルピリミジン、ピリジン、及び、ピロリンが挙げられる。
上記化合物は、金属吸着性部位の１種を単独で有しても、２種以上を有してもよいが、更に優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、上記化合物は、２種以上の金属吸着性部位を有していることが好ましい。
（工程Ｃ２）
工程Ｃ２は、工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に実施され、導電部と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、導電部の（導電部に含まれる）金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、導電部に特定化合物を接触させるため、導電部のより表面に近い領域（界面領域）において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、導電部の界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすく、結果として、より優れた黒締りを有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。また、この場合であっても、導電部の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
工程Ｃ２は、工程Ｂの後であって、工程Ｆの前に実施され、導電部と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、導電部の（導電部に含まれる）金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、導電部に特定化合物を接触させるため、導電部のより表面に近い領域（界面領域）において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、導電部の界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすく、結果として、より優れた黒締りを有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。また、この場合であっても、導電部の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
なお、本工程において、導電部と特定化合物とを接触させる方法、及び、特定化合物の形態等については、既に説明した工程Ｃ１における各形態と同様であるため、説明を省略する。
（工程Ｄ）
工程Ｄは、工程Ｂの後であって上記工程Ｆの前に、導電部を圧密化する工程である。本工程によって、導電部の導電性がより向上するとともに、導電部の支持体への密着性がより向上しやすい。
工程Ｄは、工程Ｂの後であって上記工程Ｆの前に、導電部を圧密化する工程である。本工程によって、導電部の導電性がより向上するとともに、導電部の支持体への密着性がより向上しやすい。
導電部を圧密化する方法としては特に制限されないが、例えば、導電部を有する支持体を、少なくとも一対のロール間を加圧下で通過させるカレンダ処理工程が好ましい。以下、カレンダーロールを用いた圧密化処理をカレンダ処理と記す。
カレンダ処理に用いられるロールとしては、プラスチックロール及び金属ロールが挙げられる。シワ防止の点からプラスチックロールが好ましい。ロール間の圧力としては特に制限されない。ロール間の圧力は、富士フイルム株式会社製プレスケール（高圧用）を用いて測定できる。
カレンダ処理に用いられるロールの表面粗さＲａは、得られる導電部がより視認されにくい点で、０〜２．０μｍが好ましく、０．３〜１．０μｍがより好ましい。
カレンダ処理に用いられるロールの表面粗さＲａは、得られる導電部がより視認されにくい点で、０〜２．０μｍが好ましく、０．３〜１．０μｍがより好ましい。
圧密化処理の温度は特に制限されないが、１０℃（温調なし）〜１００℃が好ましく、導電部のパターンの画線密度、形状、及び、バインダ種によって異なるが、１０℃（温調なし）〜５０℃がより好ましい。
（工程Ｅ）
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Ｅは、工程Ｂの後であって、工程Ｄの前に、導電部（導電部に含有される）のゼラチンを除去する工程である。ゼラチンを除去することにより、結果として導電部の金属銀の含有量が相対的に高まるため、より優れた導電性を有する導電部が得られる。
工程Ｅはゼラチンの全部を除去する工程であってもよいし、ゼラチンの一部を除去する工程であってもよい。また、工程Ｅにおいては、導電部に加えて、支持体上の導電部以外の部分（例えば、非導電部）からゼラチンを除去してもよい。
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Ｅは、工程Ｂの後であって、工程Ｄの前に、導電部（導電部に含有される）のゼラチンを除去する工程である。ゼラチンを除去することにより、結果として導電部の金属銀の含有量が相対的に高まるため、より優れた導電性を有する導電部が得られる。
工程Ｅはゼラチンの全部を除去する工程であってもよいし、ゼラチンの一部を除去する工程であってもよい。また、工程Ｅにおいては、導電部に加えて、支持体上の導電部以外の部分（例えば、非導電部）からゼラチンを除去してもよい。
ゼラチンを除去する方法としては特に制限されないが、例えば、タンパク質分解酵素を用いて分解除去する方法、及び、所定の酸化剤を用いて分解除去する方法が挙げられる。
なお、タンパク質分解酵素を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開２０１４−２０９３３２号公報の段落００８４〜００７７に記載の方法を採用できる。
また、酸化剤を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開２０１４−１１２５１２号公報の段落００６４〜００６６に記載の方法を採用できる。
なお、タンパク質分解酵素を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開２０１４−２０９３３２号公報の段落００８４〜００７７に記載の方法を採用できる。
また、酸化剤を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開２０１４−１１２５１２号公報の段落００６４〜００６６に記載の方法を採用できる。
（易接着層形成工程）
易接着層形成工程は、工程Ａの前に、支持体上に易接着層（以下、「下塗り層」ともいう。）を形成し、易接着層（下塗り層）付き支持体を得る工程である。支持体上に下塗り層を形成する方法としては特に制限されないが、支持体上に下塗り層形成用組成物を塗布する方法が挙げられる。下塗り層形成工程では、形成される下塗り層が、隣接する他の層（支持体、及び、非導電部等）との間で、屈折率の差の絶対値がより小さくなるよう、調整されることが好ましい。下塗り層と隣接する他の層との間の屈折率の差を調整する方法としては特に制限されないが、各層の形成に用いられる組成物中に含有される各成分の種類を調整する方法が挙げられる。
易接着層形成工程は、工程Ａの前に、支持体上に易接着層（以下、「下塗り層」ともいう。）を形成し、易接着層（下塗り層）付き支持体を得る工程である。支持体上に下塗り層を形成する方法としては特に制限されないが、支持体上に下塗り層形成用組成物を塗布する方法が挙げられる。下塗り層形成工程では、形成される下塗り層が、隣接する他の層（支持体、及び、非導電部等）との間で、屈折率の差の絶対値がより小さくなるよう、調整されることが好ましい。下塗り層と隣接する他の層との間の屈折率の差を調整する方法としては特に制限されないが、各層の形成に用いられる組成物中に含有される各成分の種類を調整する方法が挙げられる。
易接着層を形成する方法としては特に制限されないが、易接着層形成用組成物を支持体上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。易接着層形成用組成物は、溶媒を含有してもよい。溶媒の種類は特に制限されず、ハロゲン化銀含有塗布液等が含有することがある溶媒として既に説明したとおりである。
易接着層の厚みは特に制限されないが、支持体と、ハロゲン化銀感光性層及び導電部との密着性がより向上する点で、０．０２〜０．３μｍが好ましい。
易接着層としては特に制限されず、たとえば特開２００８−２０８３１０号公報に記載の第１接着層の好適な適用例を、好適に用いることができる。
易接着層の厚みは特に制限されないが、支持体と、ハロゲン化銀感光性層及び導電部との密着性がより向上する点で、０．０２〜０．３μｍが好ましい。
易接着層としては特に制限されず、たとえば特開２００８−２０８３１０号公報に記載の第１接着層の好適な適用例を、好適に用いることができる。
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
［実施例１］
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
３０℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液及び３液のそれぞれ９０体積％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１２μｍの核粒子を形成した。続いて下記の４液及び５液を８分間にわたって加え、更に、下記の２液及び３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．１５μｍまで成長させた。更に、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
３０℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液及び３液のそれぞれ９０体積％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１２μｍの核粒子を形成した。続いて下記の４液及び５液を８分間にわたって加え、更に、下記の２液及び３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．１５μｍまで成長させた。更に、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。
１液：
水 ７５０ｍｌ
ゼラチン ９ｇ
塩化ナトリウム ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ
クエン酸 ０．７ｇ
２液：
水 ３００ｍｌ
硝酸銀 １５０ｇ
３液：
水 ３００ｍｌ
塩化ナトリウム ３８ｇ
臭化カリウム ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ ２０％水溶液） ８ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ ２０％水溶液） １０ｍｌ
４液：
水 １００ｍｌ
硝酸銀 ５０ｇ
５液：
水 １００ｍｌ
塩化ナトリウム １３ｇ
臭化カリウム １１ｇ
黄血塩 ５ｍｇ
水 ７５０ｍｌ
ゼラチン ９ｇ
塩化ナトリウム ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ
クエン酸 ０．７ｇ
２液：
水 ３００ｍｌ
硝酸銀 １５０ｇ
３液：
水 ３００ｍｌ
塩化ナトリウム ３８ｇ
臭化カリウム ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ ２０％水溶液） ８ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ ２０％水溶液） １０ｍｌ
４液：
水 １００ｍｌ
硝酸銀 ５０ｇ
５液：
水 １００ｍｌ
塩化ナトリウム １３ｇ
臭化カリウム １１ｇ
黄血塩 ５ｍｇ
その後、常法に従い、フロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第１水洗）。更に３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第２水洗）。第二水洗と同じ操作を更に１回繰り返して（第３水洗）、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ゼラチン３．９ｇ、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．１５μｍ、変動係数１０％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。
（ハロゲン化銀含有塗布液１の調製）
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０−４モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０−２モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０−４モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇ、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。
上記塗布液に、含有するゼラチンに対して、下記（Ｐ−１）で表され、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が＋４５℃であるポリマー（「第１高分子」に該当し、以後、単に「Ｐ−１」ともいう。）とジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤と水とを含有するポリマーラテックス１（分散剤／ポリマーの質量比が２．０／１００＝０．０２、固形分濃度：２２質量％）を、Ｐ−１／ゼラチン（質量比）＝０．２／１になるように添加した。ここで、ハロゲン化銀含有塗布液１において、ハロゲン化銀の質量に対するＰ−１の質量の比Ｒ１（Ｐ−１／ハロゲン化銀）は０．０２４であった。
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０−４モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０−２モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０−４モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇ、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。
上記塗布液に、含有するゼラチンに対して、下記（Ｐ−１）で表され、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が＋４５℃であるポリマー（「第１高分子」に該当し、以後、単に「Ｐ−１」ともいう。）とジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤と水とを含有するポリマーラテックス１（分散剤／ポリマーの質量比が２．０／１００＝０．０２、固形分濃度：２２質量％）を、Ｐ−１／ゼラチン（質量比）＝０．２／１になるように添加した。ここで、ハロゲン化銀含有塗布液１において、ハロゲン化銀の質量に対するＰ−１の質量の比Ｒ１（Ｐ−１／ハロゲン化銀）は０．０２４であった。
更に、架橋剤としてＥＰＯＸＹ ＲＥＳＩＮ ＤＹ ０２２（商品名：ナガセケムテックス社製）を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述する感光性層中における架橋剤の量が０．０９ｇ／ｍ２となるように調整した。
以上のようにしてハロゲン化銀含有塗布液１を調製した。
なお、上記（Ｐ−１）で表されるＰ−１は、特許第３３０５４５９号及び特許第３７５４７４５号を参照して合成した。
以上のようにしてハロゲン化銀含有塗布液１を調製した。
なお、上記（Ｐ−１）で表されるＰ−１は、特許第３３０５４５９号及び特許第３７５４７４５号を参照して合成した。
（下塗り層付き支持体の準備）
４０μｍの二軸配向ＰＥＴ支持体の片面に、後述する下塗り層形成用組成物１を、乾燥後の膜厚が６０ｎｍになるように塗布し、９０℃で１分間乾燥させて、下塗り層付き支持体を作製した。なお、下塗り層の膜厚はアンリツ社製の電子マイクロ膜厚計で測定した。
（下塗り層形成用組成物１（硬化性組成物１））
下記の成分を混合し、下塗り層形成用組成物１を調製した。
・アクリル系ポリマー ６６．４質量部
（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２７．５質量％)
・カルボジイミド系架橋剤 １６．６質量部
（カルボジライトＶ−０２−Ｌ２、日清紡（株）製、固形分：１０質量％）
・コロイダルシリカ ４．４質量部
(スノーテックスＸＬ、日産化学（株）製、固形分：１０質量％水希釈)
・滑り剤：カルナバワックス ２７．７質量部
（セロゾール５２４、中京油脂（株）製、固形分：３質量％水希釈）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 ２３．３質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１質量％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 １４．６質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１質量％水溶液）
・蒸留水 ８４７．０質量部
４０μｍの二軸配向ＰＥＴ支持体の片面に、後述する下塗り層形成用組成物１を、乾燥後の膜厚が６０ｎｍになるように塗布し、９０℃で１分間乾燥させて、下塗り層付き支持体を作製した。なお、下塗り層の膜厚はアンリツ社製の電子マイクロ膜厚計で測定した。
（下塗り層形成用組成物１（硬化性組成物１））
下記の成分を混合し、下塗り層形成用組成物１を調製した。
・アクリル系ポリマー ６６．４質量部
（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２７．５質量％)
・カルボジイミド系架橋剤 １６．６質量部
（カルボジライトＶ−０２−Ｌ２、日清紡（株）製、固形分：１０質量％）
・コロイダルシリカ ４．４質量部
(スノーテックスＸＬ、日産化学（株）製、固形分：１０質量％水希釈)
・滑り剤：カルナバワックス ２７．７質量部
（セロゾール５２４、中京油脂（株）製、固形分：３質量％水希釈）
・界面活性剤：アニオン性界面活性剤 ２３．３質量部
（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１質量％水溶液）
・界面活性剤：ノニオン性界面活性剤 １４．６質量部
（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１質量％水溶液）
・蒸留水 ８４７．０質量部
（ハロゲン化銀感光性層形成工程（その１））
次に、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、後述の組成調整塗布液１と、上記ハロゲン化銀含有塗布液１と、後述の組成調整塗布液２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液１／組成調整塗布液２）２５／２５／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成した。これを、シートＡとした。
なお、組成調整塗布液１は、上記ポリマーラテックス１とゼラチンとを混合質量比（Ｐ−１の質量／ゼラチンの質量）２／１で混合し、更に、光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料を含有する混合物からなる組成物である。また、組成調整塗布液１は、この組成調整塗布液１より形成される層中のＰ−１量（塗設量）が０．６５ｇ／ｍ２となるように濃度調整された。なお、組成調整塗布液１より形成される層には、染料が含まれるためアンチハレーションの機能を有する。
また、組成調整塗布液２は、下記（Ｐ−２）で表される繰り返し単位からなり、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が−２０℃であるポリマー（「第２高分子」に該当し、以下「Ｐ−２」ともいう。）とジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤と水とを含有するポリマーラテックス２（分散剤／ポリマーの質量比が７．５／１００＝０．０７５、固形分濃度：２０質量％）を、ポリマーラテックス２とゼラチンとを混合質量比（Ｐ−２／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２は、この組成調整塗布液２より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。
次に、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、後述の組成調整塗布液１と、上記ハロゲン化銀含有塗布液１と、後述の組成調整塗布液２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液１／組成調整塗布液２）２５／２５／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成した。これを、シートＡとした。
なお、組成調整塗布液１は、上記ポリマーラテックス１とゼラチンとを混合質量比（Ｐ−１の質量／ゼラチンの質量）２／１で混合し、更に、光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料を含有する混合物からなる組成物である。また、組成調整塗布液１は、この組成調整塗布液１より形成される層中のＰ−１量（塗設量）が０．６５ｇ／ｍ２となるように濃度調整された。なお、組成調整塗布液１より形成される層には、染料が含まれるためアンチハレーションの機能を有する。
また、組成調整塗布液２は、下記（Ｐ−２）で表される繰り返し単位からなり、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が−２０℃であるポリマー（「第２高分子」に該当し、以下「Ｐ−２」ともいう。）とジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤と水とを含有するポリマーラテックス２（分散剤／ポリマーの質量比が７．５／１００＝０．０７５、固形分濃度：２０質量％）を、ポリマーラテックス２とゼラチンとを混合質量比（Ｐ−２／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２は、この組成調整塗布液２より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。
（Ｐ−２）
また、ハロゲン化銀含有塗布液１より形成される層中においては、銀量６．２ｇ／ｍ２となるように塗布した。
（露光現像工程）
上記シートＡの片面上（ハロゲン化銀感光性層側）に、開口線幅２μｍ、ピッチ３００μｍの正方型メッシュパターンのフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、下記の現像液で現像し、更に定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ、富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った。更に、純水でリンスし、乾燥することで、Ａｇを含む導電部（線幅２μｍ）からなる導電性メッシュと、これに隣接するゼラチン及びポリマーを含む層（非導電部）とが形成された支持体を得た。なお、ゼラチン及びポリマーを含む層はＡｇを含む導電部間に形成されていた。得られたシートをシートＢとする。
上記シートＡの片面上（ハロゲン化銀感光性層側）に、開口線幅２μｍ、ピッチ３００μｍの正方型メッシュパターンのフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、下記の現像液で現像し、更に定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ、富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った。更に、純水でリンスし、乾燥することで、Ａｇを含む導電部（線幅２μｍ）からなる導電性メッシュと、これに隣接するゼラチン及びポリマーを含む層（非導電部）とが形成された支持体を得た。なお、ゼラチン及びポリマーを含む層はＡｇを含む導電部間に形成されていた。得られたシートをシートＢとする。
（現像液の組成）
現像液１リットル（Ｌ）中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム ０．３６０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ
現像液１リットル（Ｌ）中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム ０．３６０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ
（ゼラチン分解処理）
シートＢを、タンパク質分解酵素（ナガセケムテックス社製ビオプラーゼＡＬ−１５ＦＧ）の水溶液（タンパク質分解酵素の濃度：０．５質量％、液温：４０℃）へ１２０秒間浸漬した。シートＢを水溶液から取り出し、温水（液温：５０℃）に１２０秒間浸漬し、洗浄して、Ａｇを含有する導電部（線幅３μｍ）からなる導電性メッシュと、ゼラチン及びＰ−１を含有する層、並びに、ゼラチン及びＰ−２を含有する層とから、ゼラチンが除去された非導電部を有するシートＣを得た。
シートＢを、タンパク質分解酵素（ナガセケムテックス社製ビオプラーゼＡＬ−１５ＦＧ）の水溶液（タンパク質分解酵素の濃度：０．５質量％、液温：４０℃）へ１２０秒間浸漬した。シートＢを水溶液から取り出し、温水（液温：５０℃）に１２０秒間浸漬し、洗浄して、Ａｇを含有する導電部（線幅３μｍ）からなる導電性メッシュと、ゼラチン及びＰ−１を含有する層、並びに、ゼラチン及びＰ−２を含有する層とから、ゼラチンが除去された非導電部を有するシートＣを得た。
（カレンダ処理）
上記シートＣに対して、金属ローラと樹脂製のローラとの組み合わせによるカレンダ装置を使用して、３０ｋＮの圧力でカレンダ処理した。得られたシートをシートＤとした。
上記シートＣに対して、金属ローラと樹脂製のローラとの組み合わせによるカレンダ装置を使用して、３０ｋＮの圧力でカレンダ処理した。得られたシートをシートＤとした。
（融着処理）
上記シートＤを、１５０℃の過熱水蒸気槽を１２０秒間かけて通過させて、加熱した。得られたシートをシートＥ（タッチパネル用導電性シートに該当する）とした。
上記シートＤを、１５０℃の過熱水蒸気槽を１２０秒間かけて通過させて、加熱した。得られたシートをシートＥ（タッチパネル用導電性シートに該当する）とした。
（成分分布の測定）
導電部の厚み方向に沿ってＴＯＦ−ＳＩＭＳ（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry、アルゴンＧＣＩＢ：ガスクラスターイオンビーム）を用いて成分分布を測定した。Ｐ−１及びＰ−２はあらかじめ標準物質として測定しておき、成分分布を判断するためのイオン種を選定した。まず、支持体側とは反対側の表面からイオンビームで掘削しながら、測定を繰り返し、厚み方向における成分分布のプロファイルを得た。具体的には、金属銀の検出が始まる深さ（厚さ）近傍の領域（上部領域）、金属銀の検出が終わる深さ（厚み）近傍の下部領域、及び、中間領域が検出され、各領域における、Ｐ−１の及びＰ−２の含有量の合計に対する、Ｐ−２の含有量の含有質量比を表１に示した。
導電部の厚み方向に沿ってＴＯＦ−ＳＩＭＳ（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry、アルゴンＧＣＩＢ：ガスクラスターイオンビーム）を用いて成分分布を測定した。Ｐ−１及びＰ−２はあらかじめ標準物質として測定しておき、成分分布を判断するためのイオン種を選定した。まず、支持体側とは反対側の表面からイオンビームで掘削しながら、測定を繰り返し、厚み方向における成分分布のプロファイルを得た。具体的には、金属銀の検出が始まる深さ（厚さ）近傍の領域（上部領域）、金属銀の検出が終わる深さ（厚み）近傍の下部領域、及び、中間領域が検出され、各領域における、Ｐ−１の及びＰ−２の含有量の合計に対する、Ｐ−２の含有量の含有質量比を表１に示した。
［実施例２］
実施例１において、組成調整塗布液１の代わりに下記組成調整塗布液１−２を使用し、組成調整塗布液２の代わりに下記組成調整塗布液２−２を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
実施例１において、組成調整塗布液１の代わりに下記組成調整塗布液１−２を使用し、組成調整塗布液２の代わりに下記組成調整塗布液２−２を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
（組成調整塗布液１−２の調製方法）
組成調整塗布液１−２は、ポリマーラテックス２とゼラチンとを混合質量比（第２高分子／ゼラチン）２／１で混合し、更に、光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料を含有する混合物からなる組成物である。また、組成調整塗布液１−２は、この組成調整塗布液１−２より形成される層中のＰ−２量（塗設量）が０．６５ｇ／ｍ2となるように濃度調整した。なお、組成調整塗布液１−２より形成される層には、染料が含まれるためアンチハレーションの機能を有する。
組成調整塗布液１−２は、ポリマーラテックス２とゼラチンとを混合質量比（第２高分子／ゼラチン）２／１で混合し、更に、光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料を含有する混合物からなる組成物である。また、組成調整塗布液１−２は、この組成調整塗布液１−２より形成される層中のＰ−２量（塗設量）が０．６５ｇ／ｍ2となるように濃度調整した。なお、組成調整塗布液１−２より形成される層には、染料が含まれるためアンチハレーションの機能を有する。
（組成調整塗布液２−２の調製方法）
組成調整塗布液２−２は、ポリマーラテックス１とゼラチンとを混合質量比（Ｐ−１／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２−２は、この組成調整塗布液２−２より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。
組成調整塗布液２−２は、ポリマーラテックス１とゼラチンとを混合質量比（Ｐ−１／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２−２は、この組成調整塗布液２−２より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。
［実施例３］
（融着阻害処理）
実施例１において、カレンダ処理工程と融着処理工程の間の工程として、融着阻害処理工程を実施したこと以外は実施例１と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。融着阻害処理工程における融着阻害処理とは、上記シートＤを下記化合物Ａの０．３重量％水溶液３０℃に１２０秒間浸漬し、流水で９０秒間洗浄し、６５℃１５分間乾燥させる工程である。
（融着阻害処理）
実施例１において、カレンダ処理工程と融着処理工程の間の工程として、融着阻害処理工程を実施したこと以外は実施例１と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。融着阻害処理工程における融着阻害処理とは、上記シートＤを下記化合物Ａの０．３重量％水溶液３０℃に１２０秒間浸漬し、流水で９０秒間洗浄し、６５℃１５分間乾燥させる工程である。
（化合物Ａ）
［実施例４］
実施例３のハロゲン化銀感光性層形成工程において、下塗り層付き支持体を作製する際に使用した、「下塗り層形成用組成物１（硬化性組成物１）」に代えて、後述の下塗り層形成用組成物２（硬化性組成物２）を、乾燥後の膜厚が１００ｎｍになるように支持体上に塗布し、９０℃で１分間乾燥させて、下塗り層付き支持体を作製したこと以外は実施例３と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
実施例３のハロゲン化銀感光性層形成工程において、下塗り層付き支持体を作製する際に使用した、「下塗り層形成用組成物１（硬化性組成物１）」に代えて、後述の下塗り層形成用組成物２（硬化性組成物２）を、乾燥後の膜厚が１００ｎｍになるように支持体上に塗布し、９０℃で１分間乾燥させて、下塗り層付き支持体を作製したこと以外は実施例３と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
タッチパネル用導電性シートは、支持体、下塗り層（易接着層）、アンチハレーション層、非導電部の順に、１．６４、１．５８、１．４９、１．４９の屈折率（波長：５８９ｎｍ）を有していた。
なお、実施例１〜３のタッチパネル用導電性シートは、支持体、下塗り層（易接着層）、アンチハレーション層、非導電部の順に、１．６４、１．４９、１．４９、１．４９の屈折率（波長：５８９ｎｍ）を有していた。
また、実施例５〜７のタッチパネル用導電性シートは、支持体、下塗り層（易接着層）、アンチハレーション層、非導電部の順に、１．６４、１．５８、１．４９、１．４９の屈折率（波長：５８９ｎｍ）を有していた。
また、実施例５〜７のタッチパネル用導電性シートは、支持体、下塗り層（易接着層）、アンチハレーション層、非導電部の順に、１．６４、１．５８、１．４９、１．４９の屈折率（波長：５８９ｎｍ）を有していた。
（下塗り層形成用組成物２（硬化性組成物２）の組成）
下塗り層形成用組成物２の組成は下記のとおりである。
・アクリル系ポリマー：２５．６質量部
（「ＡＳ−５６３Ａ」、ダイセルファインケム株式会社製、固形分：２７．５質量％）
・ポリエステル系ポリマー：２１．２質量部
（「プラスコートＺ−６９０」、互応化学工業株式会社製、固形分：２５．０質量％）
・カルボジイミド系架橋剤：２２．０質量部
（「カルボジライトＶ−０２−Ｌ２」、日清紡株式会社製、固形分：１０質量％）
・コロイダルシリカ：３．２質量部
（「スノーテックスＺＬ」、日産化学工業株式会社製、固形分：１０質量％、水希釈液）
・滑り剤：１８．５質量部
（カルナバワックス、「セロゾール５２４」、中京油脂株式会社製、固形分：３質量％、水希釈液）
・アニオン性界面活性剤：５８．２質量部
（「ラピゾールＡ−９０」、日油株式会社製、固形分：１質量％、水溶液）
・ノニオン性界面活性剤：７３．２質量部
（「ナロアクティーＣＬ９５」、三洋化成工業株式会社製、固形分：１質量％、水溶液）
・蒸留水：７７８．２質量部
下塗り層形成用組成物２の組成は下記のとおりである。
・アクリル系ポリマー：２５．６質量部
（「ＡＳ−５６３Ａ」、ダイセルファインケム株式会社製、固形分：２７．５質量％）
・ポリエステル系ポリマー：２１．２質量部
（「プラスコートＺ−６９０」、互応化学工業株式会社製、固形分：２５．０質量％）
・カルボジイミド系架橋剤：２２．０質量部
（「カルボジライトＶ−０２−Ｌ２」、日清紡株式会社製、固形分：１０質量％）
・コロイダルシリカ：３．２質量部
（「スノーテックスＺＬ」、日産化学工業株式会社製、固形分：１０質量％、水希釈液）
・滑り剤：１８．５質量部
（カルナバワックス、「セロゾール５２４」、中京油脂株式会社製、固形分：３質量％、水希釈液）
・アニオン性界面活性剤：５８．２質量部
（「ラピゾールＡ−９０」、日油株式会社製、固形分：１質量％、水溶液）
・ノニオン性界面活性剤：７３．２質量部
（「ナロアクティーＣＬ９５」、三洋化成工業株式会社製、固形分：１質量％、水溶液）
・蒸留水：７７８．２質量部
［実施例５］
実施例４において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液１と、ハロゲン化銀含有塗布液１と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、組成調整塗布液２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液２／組成調整塗布液２）２５／２５／１０／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例４と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
実施例４において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液１と、ハロゲン化銀含有塗布液１と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、組成調整塗布液２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液２／組成調整塗布液２）２５／２５／１０／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例４と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
（ハロゲン化銀含有塗布液２の調製）
実施例１に記載の乳剤に純水を加えて１０倍希釈し、更に、含有するゼラチンに対して、４倍当量のゼラチンを添加し、更に、ポリマーラテックス２を、Ｐ−２／ゼラチン（質量比）＝０．４／１になるように添加した。クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。ここで、ハロゲン化銀含有塗布液２において、ハロゲン化銀の質量に対するＰ−２の質量の比Ｒ２（Ｐ−２／ハロゲン化銀）は０．２４であった。
実施例１に記載の乳剤に純水を加えて１０倍希釈し、更に、含有するゼラチンに対して、４倍当量のゼラチンを添加し、更に、ポリマーラテックス２を、Ｐ−２／ゼラチン（質量比）＝０．４／１になるように添加した。クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。ここで、ハロゲン化銀含有塗布液２において、ハロゲン化銀の質量に対するＰ−２の質量の比Ｒ２（Ｐ−２／ハロゲン化銀）は０．２４であった。
［実施例６］
実施例４において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液１−２と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、ハロゲン化銀含有塗布液１と、組成調整塗布液２−２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１−２／ハロゲン化銀含有塗布液２／ハロゲン化銀含有塗布液１／組成調整塗布液２−２）２５／１０／２５／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例４と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
実施例４において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液１−２と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、ハロゲン化銀含有塗布液１と、組成調整塗布液２−２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１−２／ハロゲン化銀含有塗布液２／ハロゲン化銀含有塗布液１／組成調整塗布液２−２）２５／１０／２５／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例４と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
［実施例７］
実施例４において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液１−２と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、ハロゲン化銀含有塗布液１と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、組成調整塗布液２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１−２／ハロゲン化銀含有塗布液２／ハロゲン化銀含有塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液２／組成調整塗布液２）２５／１０／２５／１０／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例４と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
実施例４において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液１−２と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、ハロゲン化銀含有塗布液１と、ハロゲン化銀含有塗布液２と、組成調整塗布液２とを、塗液流量比（組成調整塗布液１−２／ハロゲン化銀含有塗布液２／ハロゲン化銀含有塗布液１／ハロゲン化銀含有塗布液２／組成調整塗布液２）２５／１０／２５／１０／５で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例４と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
［比較例１］
実施例１において、組成調整塗布液２の代わりに上記組成調整塗布液２−２を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
実施例１において、組成調整塗布液２の代わりに上記組成調整塗布液２−２を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
［比較例２］
比較例１において、ポリマーラテックス１の代わりに、ポリマーラテックス２を使用したこと以外は、比較例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
比較例１において、ポリマーラテックス１の代わりに、ポリマーラテックス２を使用したこと以外は、比較例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
（評価１）
タッチパネル用導電性シートの表面抵抗値を測定した。測定は ＤＥＬＣＯＭ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製ＣＯＮＤＵＣＴＡＮＣＥ ＭＯＮＩＴＯＲ ＭＯＤＥＬ７１７Ｂを用いて測定した。結果を以下の基準により評価した。表面抵抗値が小さい方が導電性が高く、タッチパネル用導電性シートとしては優れた性能を有することを示す。
タッチパネル用導電性シートの表面抵抗値を測定した。測定は ＤＥＬＣＯＭ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製ＣＯＮＤＵＣＴＡＮＣＥ ＭＯＮＩＴＯＲ ＭＯＤＥＬ７１７Ｂを用いて測定した。結果を以下の基準により評価した。表面抵抗値が小さい方が導電性が高く、タッチパネル用導電性シートとしては優れた性能を有することを示す。
Ａ：表面抵抗値が２０Ω／ｓｑ．未満である。
Ｂ：表面抵抗値が２０Ω／ｓｑ．以上、５０Ω／ｓｑ．未満である。
Ｃ：表面抵抗値が５０Ω／ｓｑ．以上、７０Ω／ｓｑ．未満である。
Ｄ：表面抵抗値が７０Ω／ｓｑ．以上である。
なお、Ω／ｓｑ．はｏｈｍｓ ｐｅｒ ｓｑｕａｒｅ（Ω毎スクエア）表す。
Ｂ：表面抵抗値が２０Ω／ｓｑ．以上、５０Ω／ｓｑ．未満である。
Ｃ：表面抵抗値が５０Ω／ｓｑ．以上、７０Ω／ｓｑ．未満である。
Ｄ：表面抵抗値が７０Ω／ｓｑ．以上である。
なお、Ω／ｓｑ．はｏｈｍｓ ｐｅｒ ｓｑｕａｒｅ（Ω毎スクエア）表す。
（評価２）
レノボ社製ＹＯＧＡ Ｔａｂｌｅｔ２−８３０Lを液体窒素に浸漬して粘着材の粘着性を失活させた後に、分解してディスプレーとカバーガラスを取りだした。更に、ディスプレーとカバーガラスを、酢酸エチルを含ませたウエスで擦り、粘着材を落とした。取り出したディスプレーとカバーガラスの間に３Ｍ社製透明粘着フィルム８１４６−４を用いて、上記タッチパネル用導電性シートを貼り合わせて積層し、視認性評価用モジュールを作製した（なお、貼り合わせの構成は、ディスプレー／粘着フィルム／透明導電性フィルム／粘着フィルム／カバーガラスである。）。なお、タッチパネル用導電性シートにおける上部領域側が視認面側に配置されるモジュール（言い換えれば、支持体と反対側の表面が視認面側に配置されるモジュール）と、下部領域側が視認面側に配置されるモジュール（言い換えれば、支持体が視認面側に配置されるモジュール）とを、それぞれ作製し、評価した。上部領域側が視認面側に配置されるモジュールは、タッチパネル用導電性フィルムの上部領域側をカバーガラス側に向けて貼り合わせた。一方、下部領域側が視認面側に配置されるモジュールは、タッチパネル用導電性シートの下部領域側をカバーガラス側に向けて貼り合わせた。
レノボ社製ＹＯＧＡ Ｔａｂｌｅｔ２−８３０Lを液体窒素に浸漬して粘着材の粘着性を失活させた後に、分解してディスプレーとカバーガラスを取りだした。更に、ディスプレーとカバーガラスを、酢酸エチルを含ませたウエスで擦り、粘着材を落とした。取り出したディスプレーとカバーガラスの間に３Ｍ社製透明粘着フィルム８１４６−４を用いて、上記タッチパネル用導電性シートを貼り合わせて積層し、視認性評価用モジュールを作製した（なお、貼り合わせの構成は、ディスプレー／粘着フィルム／透明導電性フィルム／粘着フィルム／カバーガラスである。）。なお、タッチパネル用導電性シートにおける上部領域側が視認面側に配置されるモジュール（言い換えれば、支持体と反対側の表面が視認面側に配置されるモジュール）と、下部領域側が視認面側に配置されるモジュール（言い換えれば、支持体が視認面側に配置されるモジュール）とを、それぞれ作製し、評価した。上部領域側が視認面側に配置されるモジュールは、タッチパネル用導電性フィルムの上部領域側をカバーガラス側に向けて貼り合わせた。一方、下部領域側が視認面側に配置されるモジュールは、タッチパネル用導電性シートの下部領域側をカバーガラス側に向けて貼り合わせた。
次に、得られたモジュールを、ディスプレー消灯状態で、三波長蛍光灯の光の照射角度、距離、及び、観察角度を種々変えながら目視観察し、ディスプレーのビューエリアの黒締りのよさを官能評価した。官能評価にあたり、黒締り良好な基準サンプルとして、透明導電性フィルムを貼り合わせないモジュール（貼り合わせ構成；ディスプレー／粘着フィルム／カバーガラス）を作製し、この黒締りを１０点（良好）とした。また、最も黒締りの悪かった比較例１のタッチパネル用導電性シートの下部領域側が視認面側に配置されたモジュールの黒締りを１点（不良）とした。任意の６名で、それぞれ、上記の１０点と１点の基準サンプルを元に、黒締りの官能評価値を点数付けした。６名による点数付けの平均値を元に、下記のランク付けを行い、評価値とした。
ＡＡＡ： ９点以上１０点以下
ＡＡ： ８点以上９点未満
Ａ： ７点以上８点未満
Ｂ： ６点以上７点未満
Ｃ： ５点以上６点未満
Ｄ： ５点未満
ＡＡ： ８点以上９点未満
Ａ： ７点以上８点未満
Ｂ： ６点以上７点未満
Ｃ： ５点以上６点未満
Ｄ： ５点未満
表１には、各タッチパネル用導電性シートの各領域における、Ｐ−１及びＰ−２の合計含有量に対するＰ−２の含有量の含有質量比、評価１、及び、評価２の結果を示した。
なお、表１において「第２高分子／（第１高分子＋第２高分子）」欄には、所定の領域における第１高分子及び第２高分子の合計含有量に対する第２高分子の含有量の含有質量比を示した。また、「融着阻害処理」欄には、ハロゲン化銀感光性層又は導電部と特定化合物とを接触させる工程の有無を示した。また、「下塗屈折率調整」欄には、非導電部の屈折率をＲＩ１、易接着層（下塗り層）の屈折率をＲＩ２、及び、支持体の屈折率をＲＩ３としたとき、式３；ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３が成り立つよう下塗り層形成用組成物の組成を調整したものを「あり」とし、それ以外を「なし」とした。また、「表面抵抗」欄には、評価１の結果と、「黒締り」欄には、評価２の結果を、各タッチパネル用導電性シートの上部領域側を視認側とした際の結果、及び、下部領域側を視認側とした場合の結果を示した。
表１に記載した結果から、ＲＵ、ＲＭ、及び、ＲＬが既に説明した式１又は式２を満たす実施例１〜実施例７に係るタッチパネル用導電性シートは、優れた導電性を有するとともに、タッチパネルに適用した際、画面がより黒く見える（優れた黒締りを有する）ことがわかった。
一方、比較例１及び比較例２のタッチパネル用導電性シートは、上記式１及び式２のいずれも満たさず、所望の効果が得られなかった。
また、ＲＭ＜ＲＵを満たす実施例１のタッチパネル用導電性シートは上部領域側を視認側とした場合に、より優れた黒締りを有することがわかった。
一方、ＲＭ＜ＲＬを満たす実施例２のタッチパネル用導電性シートは下部領域側を視認側とした場合に、より優れた黒締りを有することがわかった。
また、カレンダ処理工程（導電部を圧密化する工程Ｄ）の後であって、融着処理工程（導電部の金属銀同士を互いに融着させる処理を施す工程Ｆ）の前に、融着阻害処理工程（導電部と特定化合物とを接触させる工程Ｃ２）を有する方法により製造された実施例３のタッチパネル用導電性シートは、上記工程Ｃ２（及び工程Ｃ１）を有さない製造方法により製造された実施例１のタッチパネル用導電性シートと比較して、より優れた黒締りを有していた。
また、支持体と導電部との間に易接着層を有し、易接着層上に導電部に隣接するように配置された非導電部を更に有し、非導電部の屈折率をＲＩ１、易接着層の屈折率をＲＩ２、及び、支持体の屈折率をＲＩ３としたとき、式３ ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３を満たす、実施例４のタッチパネル用導電性シートは、実施例１のタッチパネル用導電性シートと比較して更に優れた黒締りを有していた。
また、式１及び式２の両方を満たす、実施例７のタッチパネル用導電性シートは、上部領域を視認側とした場合、及び、下部領域を視認側とした場合のいずれの場合も、特に優れた黒締りを有していた。
一方で、式１及び式２のいずれか一方を満たす、実施例１及び実施例２のタッチパネル用導電性シートは、表面抵抗値がより低く優れた導電性を有するとともに、上部又は下部領域の一方側を視認側とした場合に優れた黒締りを有していた。
一方、比較例１及び比較例２のタッチパネル用導電性シートは、上記式１及び式２のいずれも満たさず、所望の効果が得られなかった。
また、ＲＭ＜ＲＵを満たす実施例１のタッチパネル用導電性シートは上部領域側を視認側とした場合に、より優れた黒締りを有することがわかった。
一方、ＲＭ＜ＲＬを満たす実施例２のタッチパネル用導電性シートは下部領域側を視認側とした場合に、より優れた黒締りを有することがわかった。
また、カレンダ処理工程（導電部を圧密化する工程Ｄ）の後であって、融着処理工程（導電部の金属銀同士を互いに融着させる処理を施す工程Ｆ）の前に、融着阻害処理工程（導電部と特定化合物とを接触させる工程Ｃ２）を有する方法により製造された実施例３のタッチパネル用導電性シートは、上記工程Ｃ２（及び工程Ｃ１）を有さない製造方法により製造された実施例１のタッチパネル用導電性シートと比較して、より優れた黒締りを有していた。
また、支持体と導電部との間に易接着層を有し、易接着層上に導電部に隣接するように配置された非導電部を更に有し、非導電部の屈折率をＲＩ１、易接着層の屈折率をＲＩ２、及び、支持体の屈折率をＲＩ３としたとき、式３ ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３を満たす、実施例４のタッチパネル用導電性シートは、実施例１のタッチパネル用導電性シートと比較して更に優れた黒締りを有していた。
また、式１及び式２の両方を満たす、実施例７のタッチパネル用導電性シートは、上部領域を視認側とした場合、及び、下部領域を視認側とした場合のいずれの場合も、特に優れた黒締りを有していた。
一方で、式１及び式２のいずれか一方を満たす、実施例１及び実施例２のタッチパネル用導電性シートは、表面抵抗値がより低く優れた導電性を有するとともに、上部又は下部領域の一方側を視認側とした場合に優れた黒締りを有していた。
[実施例８]
組成調整塗布液２の代わりに組成調整塗布液２−３を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
なお、組成調整塗布液２−３は、日本合成化学社製モビニールＬＤＭ７５２３とゼラチンとを混合質量比（モビニールＬＤＭ７５２３固形分／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２−３は、この組成調整塗布液２−３より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。モビニールＬＤＭ７５２３の固形分の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度は＋１７℃であった。
組成調整塗布液２の代わりに組成調整塗布液２−３を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
なお、組成調整塗布液２−３は、日本合成化学社製モビニールＬＤＭ７５２３とゼラチンとを混合質量比（モビニールＬＤＭ７５２３固形分／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２−３は、この組成調整塗布液２−３より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。モビニールＬＤＭ７５２３の固形分の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度は＋１７℃であった。
[実施例９]
組成調整塗布液２の代わりに組成調整塗布液２−４を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
なお、組成調整塗布液２−４は、日本ゼオン株式会社製Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１５Ｍとゼラチンとを混合質量比（Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１５Ｍ固形分／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２−４は、この組成調整塗布液２−４より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１５Ｍの固形分の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度は＋２７℃であった。
組成調整塗布液２の代わりに組成調整塗布液２−４を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
なお、組成調整塗布液２−４は、日本ゼオン株式会社製Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１５Ｍとゼラチンとを混合質量比（Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１５Ｍ固形分／ゼラチン）２／１で混合した組成物である。また、組成調整塗布液２−４は、この組成調整塗布液２−４より形成される層中のゼラチン量が０．１０ｇ／ｍ２となるように濃度調整した。Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１５Ｍの固形分の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度は＋２７℃であった。
実施例８及び実施例９により得られたタッチパネル用導電性シートについて、上述した（評価２）の方法により黒締りを評価し、結果を表２に示した。また、あわせて、実施例１及び比較例１の各タッチパネル用導電性シートの評価結果も表２に示した。なお、表２中において、官能平均とあるのは、官能評価の平均値を表わし、判定あとあるのは、黒締りの評価結果を表すものであり、評価は上部領域側を視認側として行った。
表２に示した結果から、第２高分子のガラス転移温度が２５℃である、実施例１及び実施例８のタッチパネル用導電性シートは、第２高分子のガラス転移温度が２７℃以上である実施例９のタッチパネル用導電性シートと比較して、より優れた黒締りを有していた。
１０ タッチパネル用導電性シート
１２ 支持体
１４ 導電部
１６ バインダ
１８ 金属部
１１４Ａ 表面
２６ 開口部
５１ 非導電部
６１ 易接着層
１２ 支持体
１４ 導電部
１６ バインダ
１８ 金属部
１１４Ａ 表面
２６ 開口部
５１ 非導電部
６１ 易接着層
Claims (14)
- 支持体と、前記支持体上に配置され、バインダ及び金属部を含有する導電部と、を有するタッチパネル用導電性シートであって、
前記バインダは、第１高分子と、第１高分子よりもガラス転移温度が低い第２高分子とを含有し、
前記導電部の垂直断面において、前記導電部の前記支持体側とは反対側の表面Ｘから前記支持体側に向かって、前記導電部の前記表面Ｘの表面形状に沿った輪郭線を移動させたとき、前記導電部に含まれる前記金属部に前記輪郭線が到達した位置を上端位置として、前記上端位置から前記支持体側に向かって１００ｎｍまでの領域における前記第１高分子及び前記第２高分子の合計含有量に対する前記第２高分子の含有量の含有質量比をＲＵとし、
前記上端位置よりも前記支持体側に前記輪郭線を移動させたとき、前記導電部で前記金属部を含まなくなる位置を下端位置として、前記上端位置と前記下端位置との中間位置から前記支持体側に向かって５０ｎｍ及び前記表面Ｘ側に向かって５０ｎｍの領域における前記第１高分子及び前記第２高分子の合計含有量に対する前記第２高分子の含有量の含有質量比をＲＭとし、
前記下端位置から、前記表面Ｘ側に向って１００ｎｍの領域における前記第１高分子及び前記第２高分子の合計含有量に対する前記第２高分子の含有量の含有質量比をＲＬとしたとき、
以下の式１及び式２；
式１ ＲＭ＜ＲＵ
式２ ＲＭ＜ＲＬ
からなる群より選択される少なくとも一方が成り立つ、タッチパネル用導電性シート。 - 前記第２高分子のガラス転移温度が２５℃以下である、請求項１に記載のタッチパネル用導電性シート。
- 前記金属部が、金、銀、銅、ニッケル、及び、パラジウムからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含有する、請求項１又は２に記載のタッチパネル用導電性シート。
- 前記支持体と前記導電部との間に易接着層を有し、
前記易接着層上に、前記導電部に隣接するよう配置された非導電部を更に有し、
前記非導電部の屈折率をＲＩ１、前記易接着層の屈折率をＲＩ２、及び、前記支持体の屈折率をＲＩ３としたとき、以下の式３；
式３ ＲＩ１＜ＲＩ２＜ＲＩ３
を満たす、請求項１〜３のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電性シート。 - 前記金属部が金属銀を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法であって、
支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第１高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第２高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程Ａと、
前記ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程Ｂと、を有するタッチパネル用導電性シートの製造方法。 - 前記組成調整塗布液が更にハロゲン化銀を含有する、請求項５に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
- 前記ハロゲン化銀含有塗布液、及び、前記組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が更に非金属の微粒子を含有する、請求項５又は６に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
- 前記工程Ｂの後に、前記導電部の前記金属銀同士を互いに融着させる処理を施す工程Ｆを更に有する、請求項５〜７のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
- 前記工程Ａの後であって、前記工程Ｂの前に、前記ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造を有する化合物とを接触させる工程Ｃ１を有するか、又は、
前記工程Ｂの後であって、前記工程Ｆの前に、前記導電部と、前記化合物とを接触させる工程Ｃ２を有する、請求項８に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。 - 前記金属吸着性置換基が、カルボキシル基又はその塩、酸アミド基、アミノ基、イミダゾール基、ピラゾール基、チオール基、チオエーテル基、及び、ジスルフィド基からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項９に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
- 前記工程Ｂの後であって、前記工程Ｆの前に、更に、前記導電部を圧密化する工程Ｄを有する、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
- 前記ハロゲン化銀含有塗布液、及び、前記組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも１種が、更にゼラチンを含有し、
前記工程Ｂの後であって、前記工程Ｄの前に、更に前記導電部のゼラチンを除去する工程Ｅを有する、請求項１１に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。 - 前記工程Ｄが、前記導電部を有する前記支持体を、少なくとも一対のロール間を加圧下で通過させるカレンダ処理工程である、請求項１１又は１２に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
- 請求項１〜４のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電性シートを有するタッチパネル。
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