JP6797839B2 - テリフルノミドの新規製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は構造式−Iによって示されるテリフルノミドの新規製造方法に関する。
抗炎症特性をもつ免疫調節剤であるテリフルノミドは、デノボピリミジン合成に関与するミトコンドリア酵素であるジヒドロオロテートデヒドロゲナーゼを阻害する。テリフルノミドが多発性硬化症においてその治療効果を発揮する正確なメカニズムは不明であるが、CNSにおける活性化リンパ球の数の減少を伴い得る。
米国特許第5,679,709号は、テリフルノミドおよびその薬学的に許容される塩、組成物および自己免疫疾患を治療する方法を特許請求している。
(i)酸塩化物の調製における混合溶媒(高沸点溶媒を含む)の使用。酸塩化物の沸点がDMFの沸点に非常に近いため、溶媒を蒸留すると生成物が失われ得る。換言すれば、この操作は除去のために適用される真空/温度に大きく依存する。
(ii)レフルノミドの単離のための大変な後処理(work up)手順。
(iii)精製には、より高い沸点をもつ溶媒を伴うが、これは望ましくない。
(iv)総収率がしばしば低い(〜50%)。
本発明の課題は、より高い収率および純度のテリフルノミドの生産のための改良された方法を提供することである。
本発明の課題は、安全で簡単で経済的なテリフルノミドの製造方法を提供することである。
本発明のさらに別の課題は、高い収率および高い化学純度をもつ生成物を提供することである。
本発明のさらに別の課題は、純粋な結晶性テリフルノミドを提供することである。
本発明の一側面によれば、式−I
式−IV
d)任意に、溶媒の混合物から式−Iで表される化合物を精製して、純粋結晶の式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミド化合物を生成すること、
を含む、前記方法が提供される。
式−IV
d)任意に、溶媒の混合物から式−Iで表される化合物を精製して、純粋結晶の式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミド化合物を生成すること、
を含む、前記方法が提供される。
式−IV
d)任意に、アセトニトリルと水との混合物から式−Iで表される化合物を精製して、純粋結晶の式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミド化合物を生成すること、
を含む、前記方法が提供される。
本発明は中間体レフルノミドを単離することのない、テリフルノミドの合成を記載する。本発明において、テリフルノミドは5−メチルイソキサゾール−4−カルボン酸から、その酸塩化物に変換させ、4−トリフルオロメチルアニリンとカップリングさせてレフルノミドを得て(単離されていない)、続いてNaOH水溶液を用いて開環反応させることにより調製される。本方法は5−メチルイソキサゾール−4−カルボニルクロリドから短縮される。
本明細書に開示される方法の各工程は、記載された多段階シーケンスおよび個別の両方に企図される。
− 先行技術で言及されている過剰当量と比較して、所望の化学量論当量の4−(トリフルオロメチル)アニリンの使用。
− レフルノミドを分離する必要性の排除。
− より安価な溶媒の使用。
− 水溶性である固体塩基。
− 取り扱いの容易さ。
i.5−メチルイソキサゾール−4−カルボン酸(式−V)を、塩化チオニルおよび任意に溶媒を用いて、5−メチルイソキサゾール−4−カルボニルクロリド(式−IV)に変換すること。
ii.塩基および二相性媒体の存在下、式−IVを式−IIIとカップリングし、レフルノミド(式−II)を形成すること。塩基は、トリエチルアミン、4−(トリフルオロメチル)アニリンなどの有機塩基、あるいはNaOHまたは炭酸セシウムからなる無機塩基であってもよい。二相性媒体は有機溶媒および水からなる。有機溶媒は、メチルイソブチルケトン、酢酸エチルおよび酢酸イソプロピル、好ましくはメチルエチルケトンから選択してもよい。さらに、本方法は、所望の化学量論の式−IIIの使用を伴う。
iv.式−Iで表される粗(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドを、水および有機溶媒の混合物用いて精製し、純粋な式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミド、テリフルノミドを得ること。有機溶媒は、アルコールまたはニトリル、好ましくはメタノール、より好ましくはアセトニトリルであることができる。精製プロセスは、不純物としての式−IIIを特定の限界以下に制限するように設計されている。
本発明の別の態様において、無機塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムおよび炭酸セシウムである。;好ましくは炭酸セシウムである。
本発明の別の態様において、工程b)において用いられる二相性媒体は、酢酸エチル、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−メチルテトラヒドロフランおよび水から選択される。
本発明のさらに別の態様において、式Iで表される化合物を精製するために用いられる溶媒は、アセトニトリル−水、メタノール−水およびエタノール−水から選択される。
本発明の好ましい態様によれば、純粋な結晶形態のテリフルノミド(式I)の製造方法が提供される。
炭酸セシウムの使用:炭酸セシウムは、取り扱いが容易で商業的に入手可能であり、水に容易に溶解し、それにより生成物から容易に除去することができる。残留する酸性不純物は炭酸セシウムと容易に反応して水溶性生成物を形成する。 炭酸セシウムは、反応媒体に必要な塩基性を誘導する穏やかな塩基である。
− 有機溶媒単独の使用は、反応中のレフルノミドの分解を引き起こす。さらに、二酸化炭素の激しい放出のために、プロセスが「スケールアップ」にふさわしくない。
− 水のみの使用は、酸塩化物の分解を引き起こし、結果として生成物の収率が低下する。
− 二相性媒体の使用は、副生成物を、形成されるとすぐに容易に除去することを促進する。これは間接的に、反応速度および生成物の収率および品質を向上させる。
− 生成物と共に塩基が存在しないことは、ユニット操作中の劣化を防止する。
− 従来のアセトニトリルと比較して経済的。
− 商業的に入手可能。
− メチルエチルケトンは反応条件下で不活性である。
− 低い揮発性および低い粘性、これによりスケールアップで取り扱いやすい。
− クラスIII溶媒。
− 生成物は溶媒に容易に溶解し、これにより反応容積が比較的少ない。生成物が溶解しにくいDCM、トルエンなどの溶媒を使用すると、生成物が沈殿し、これによりデカンテーション、濃縮または濾過などの操作が必要となる。
− その後の工程における溶媒の存在は、APIのナトリウム塩の溶解性による反応を促進する。換言すれば、溶媒の濃縮は必要な基準ではない。
− また、溶媒の存在は、生成物の塊の形成を避けることによって生成物の単離を助ける。換言すれば、生成物を容易に濾過することができる。逆に、MIBKのような類似の溶媒の使用は、塊の形成をもたらす。
− メチルエチルケトン中のレフルノミドの溶液は安定である。
スキームは、以下の例により例証される。これらの例は説明のためのものであり、したがって本発明の範囲を限定するものと解釈すべきではない。
メカニカルスターラー、冷却器、温度計ポケットおよびストッパーを備えた丸底フラスコに、5−メチルイソキサゾール−4−カルボン酸[式−V](75.0g、0.59mol)およびトルエン(225mL)を添加した。スラリーに塩化チオニル(140.41g、1.18mol)を添加し、反応混合物を75±5℃に徐々に加熱し、同温度で10〜12時間撹拌した。反応の進行をHPLCによってモニターした(酸塩化物を、メタノール中で試料を急冷することによって対応するメチルエステルとして分析した)。反応の完了後、反応混合物を減圧下、55±5℃で濃縮して、式−IVで表される5−メチルイソオキサゾール−4−カルボニルクロリドを液体として得た。
メカニカルスターラー、冷却器、温度計ポケットおよびストッパーを備えた丸底フラスコに、5−メチルイソキサゾール−4−カルボン酸[式−V](3.00g、0.02mol)および塩化チオニル(14.66g、0.12mol)を添加し、反応混合物を45±5℃に徐々に加熱し、同温度で2〜3時間撹拌した。反応の進行をTLCによってモニターした(酸塩化物を、メタノール中で試料を急冷することによって対応するメチルエステルとして分析した)。反応の完了後、反応混合物を減圧下、45±5℃で濃縮して、式−IVで表される5−メチルイソオキサゾール−4−カルボニルクロリド(0.59mol)を液体として得た。
メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、4−(トリフルオロメチル)アニリン[式−III](95.08g、0.59mol)、エチルメチルケトン(150mL)、炭酸セシウム(144.19g、0.44mol)および水(150mL)を入れた。反応混合物を45±2℃に加熱した。エチルメチルケトン(75.0mL)中の(例−1からの)5−メチルイソオキサゾール−4−カルボニルクロリド[式‐IV]の溶液を55±10℃で反応混合物にゆっくりと添加し、1時間撹拌した。反応の進行をHPLCによってモニターした。反応の完了後、得られた反応混合物を室温に冷却し、層を分離した。5−メチル−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]イソオキサゾール−4−カルボキサミド(レフルノミド)[式−II]を含有する有機(エチルメチルケトン)層を、単離せずに開環した。
メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、4−(トリフルオロメチル)アニリン[式−III](3.80g、0.023mol)、酢酸エチル(12.0mL)、炭酸セシウム(7.69g、0.023mol)、水(9.00mL)を入れ、混合物を40±2℃に加熱した。エチルアセテート(6.00mL)中の5−メチルイソオキサゾール−4−カルボニルクロライド[式−IV](0.023モル)の溶液を反応混合物に45±5℃でゆっくりと添加し、1時間撹拌した。エチルアセテート(6.00mL)中の5−メチルイソオキサゾール−4−カルボニルクロリド[式IV](0.023モル)の溶液を反応混合物に45±5℃でゆっくりと添加し、1時間撹拌した。反応の進行をHPLCによってモニターした。反応完了後、5−メチル−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]イソオキサゾール−4−カルボキサミド(レフルノミド)[式−II]を含有する得られた反応混合物を、単離せずに開環した。
メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、4−(トリフルオロメチル)アニリン[式III](6.34g、0.039mol)、エチルメチルケトン(10.0mL)、水酸化ナトリウム(1.57g、0.039mol)および水(10.0mL)を入れ、反応混合物を45±5℃に加熱した。エチルメチルケトン(5.00mL)中の5−メチルイソオキサゾール−4−カルボニルクロリド[式−IV](0.039モル)の溶液を同じ温度を維持しながら反応混合物にゆっくりと加え、1時間撹拌した。反応の進行をHPLCによってモニターした。反応の完了後、得られた反応混合物を25℃〜30℃で冷却し、層を分離した。5−メチル−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]イソオキサゾール−4−カルボキサミド(レフルノミド)[式−II]を含有する有機(エチルメチルケトン)層を、単離することなく開環へと進めた。
メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、(例−2からの)5−メチル−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]イソオキサゾール−4−カルボキサミド(レフルノミド)[式−II]を含有する有機(エチルメチルケトン)層を入れた。メタノール(150mL)を加え、反応混合物を45±2℃に加熱した。水(150mL)中の水酸化ナトリウム(30.69g、0.76mol)の溶液をゆっくり添加し、反応混合物を55±5℃で1時間撹拌した。反応の進行をHPLCによってモニターした。反応の完了後、反応混合物を水(300mL)中の炭スラリー(charcoal slurry)(15.0g、5−メチルイソオキサゾール−4−カルボン酸に対して20%w/w)で、55±5℃で1時間処理した。反応混合物を25℃〜30℃で冷却し、Celite(登録商標)床を通して濾過し、水(300mL)で該床を洗浄した。濾液を5N HClで酸性化し、1時間撹拌した。固体を濾過し、水(300mL)で洗浄した。湿ったケーキをフラスコに入れ、水(750mL)と共に撹拌し、濾過し、水(300mL)で洗浄した。湿ったケーキを減圧下で60±5℃で20時間乾燥させて(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]ブタ−2−エナミド(粗テリフルノミド)[式−I]を固体として得た(140g、87.8%収率、99.36%AUC)。
メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、酢酸エチル中の5−メチル−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]イソオキサゾール−4−カルボキサミド(レフルノミド)[式−II]溶液を含有する(実施例3からの)反応混合物を入れた。水(12.0mL)中の水酸化ナトリウム(1.23g、0.030mol)の溶液を反応混合物にゆっくり加えた。メタノール(12.0mL)を添加し、反応混合物を50±5℃に加熱し、混合物を同じ温度で1時間撹拌した。反応の進行をHPLCによってモニターした。反応塊を水(30.0mL)で希釈した。反応塊を2N HCl溶液を用いて25±5℃で酸性化し、1時間撹拌した。固体を濾過し、水(12.0mL)で洗浄した。湿ったケーキを減圧下で55±2℃で15時間乾燥して、(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]ブタ−2−エナミド(粗テリフルノミド)[式−I]を固体として得た(5.75g、90.15%収率、99.42%AUC)。
メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、エチルメチルケトン中の5−メチル−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]イソオキサゾール−4−カルボキサミド(レフルノミド)[式−II]溶液を含有する(実施例−4からの)有機層を入れた。メタノール(10.0mL)を加え、反応混合物を50±5℃に加熱した。水(10.0mL)中の水酸化ナトリウム(1.57g、0.039モル)の溶液を反応混合物にゆっくりと加え、該混合物を同じ温度で1時間攪拌した。反応の進行をHPLCによってモニターした。反応塊を水(10.0mL)およびエチルメチルケトン(10mL)で希釈した。反応塊を5N HCl溶液を用いて25±5℃で酸性化し、1時間撹拌した。固体を濾過し、水(20.0mL)で洗浄した。湿ったケーキを減圧下で55±2℃で15時間乾燥して、(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]ブタ−2−エナミド(粗テリフルノミド)[式−I]を固体として得た(10.0g、94.0%収率、99.38%AUC)。
i. メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、粗テリフルノミド[式−I](90.0g、0.33mol、99.12%AUC)、メタノール(2250mL)および水(180mL)を入れた。反応混合物を62±2℃に加熱し、同じ温度で1〜2時間維持した。得られたスラリーを25℃〜30℃に冷却し、1時間撹拌した。それを濾過し、湿った固体をメタノール(180mL)で洗浄した。湿ったケーキを減圧下、60±2℃で15時間乾燥して、純粋な結晶性テリフルノミド[式−I](78.7g、87.44%回収率、>99.9%AUC)を得た。
メカニカルスターラー、冷却器、温度インジケーターおよび追加の漏斗を備えた丸底フラスコに、粗テリフルノミド[式I](140g、0.52mol、例−5)およびアセトニトリル(1820mL)および水(280mL)を入れた。スラリーを65±5℃に加熱し、1〜2時間撹拌した。得られたスラリーを25±5℃に冷却し、同じ温度で2〜3時間維持した。スラリーを濾過し、湿った固体をアセトニトリル(280mL)で洗浄した。湿ったケーキを減圧下、60±5℃で15時間乾燥し、純粋な化合物(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブト−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミド テリフルノミド[式−I]を与えた(125.2g、89.46%回収率、>99.9%AUC。式−I中の式−IIIの含量は32ppm未満であることが認められた)。
トルエン(3.00L)中の5−メチルイソオキサゾール−4−カルボン酸(1.00kg、7.86mol)の撹拌スラリーに塩化チオニル(〜2.34kg、19.67mol)を加え、反応混合物を75±5℃に徐々に加熱し、同じ温度で10〜12時間撹拌した。反応の完了後、反応混合物を減圧下、55±5℃で濃縮して、5−メチルイソオキサゾール−4−カルボニルクロライドを液体として与えた。
結晶性(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(−4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドのDSCサーモグラムを図2に示す。
13C NMR (DMSO-d6, 100 MHz):δ 187.42, 166.91, 141.79, 126.24, 123.40, 121.75, 120.46, 118.10, 81.61, 23.20. (Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(−4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドの結晶形態の13CNMRを図4に示す。
MS: 269.0 (M+-1). (Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(−4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドの結晶形態のLCMSを図6に示す。
IR (cm-1): 3302.1, 2220.3, 1918.4, 1641.2, 1596.7, 1551.7, 1410.3, 1325.6, 1158.4, 1069.8, 969.2, 840.5 and 683.6. (Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(−4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドの結晶形態のIRを図7に示す。
Claims (15)
- 式−I
で表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドの製造方法であって、
以下の工程:
a)式−V
で表される5−メチルイソキサゾール−4−カルボン酸を、
式−IV
で表される5−メチルイソキサゾール−4−カルボニルクロリドに、芳香族炭化水素溶媒と一緒に塩素化剤を用いて変換すること;
b)無機塩基の存在下、二相媒体中で、式−IVで表される化合物を式−III
で表される4−(トリフルオロメチル)アニリンと反応させて式−II
で表されるN−(4’−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルイソキサゾール−4−カルボキサミドをもたらすこと;
c)溶媒の混合物中で、式−IIで表される化合物を水酸化ナトリウム水溶液と反応させて、式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミド化合物を生成すること;
を含み、
式−IIで表されるN−(4’−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルイソキサゾール−4−カルボキサミドを単離する工程を含まない、
前記方法。 - d)溶媒の混合物から式−Iで表される化合物を精製して、純粋結晶の式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドを生成すること、
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 工程a)において用いられる塩素化剤が、塩化チオニル、塩化オキサリル、オキシ塩化リンまたは五塩化リンから選択される、請求項1に記載の方法。
- 工程b)において用いられる無機塩基が、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは炭酸セシウムから選択される、請求項1に記載の方法。
- 工程b)において用いられる二相媒体が、酢酸エチル、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−メチルテトラヒドロフランおよび水から選択される、請求項1に記載の方法。
- 工程b)において、式IIで表される化合物が有機層に残る、請求項1に記載の方法。
- 工程b)において、式IIで表される化合物がメチルエチルケトン層に残る、請求項1に記載の方法。
- メチルエチルケトン中の式IIで表される化合物が、水層の分離有りまたは無しで、工程c)に移される、請求項7に記載の方法。
- 工程c)において用いられる溶媒の混合物が、メチルエチルケトン、メタノール、メチルイソブチルケトン、2−メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチルおよび水から選択される、請求項1に記載の方法。
- 工程d)において用いられる溶媒の混合物が、アセトニトリル−水、メタノール−水およびエタノール−水から選択される、請求項1に記載の方法。
- 工程a)において用いられる芳香族炭化水素溶媒が、トルエン、ベンゼンおよびキシレンから選択される、請求項1に記載の方法。
- 工程a)において用いられる芳香族炭化水素溶媒がトルエンである、請求項11に記載の方法。
- 工程b)において用いられる有機溶媒が、酢酸エチルおよびエチルメチルケトンから選択される、請求項1に記載の方法。
- 式−I
で表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドの製造方法であって、
以下の工程:
a)式−V
で表される5−メチルイソキサゾール−4−カルボン酸を、
式−IV
で表される5−メチルイソキサゾール−4−カルボニルクロリドに、トルエン中の塩化チオニルを用いて変換すること;
b)炭酸セシウムの存在下、エチルメチルケトンおよび水中で、式−IVで表される化合物を式−III
で表される4−(トリフルオロメチル)アニリンと反応させて式−II
で表されるN−(4’−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルイソキサゾール−4−カルボキサミドをもたらすこと;
c)メチルエチルケトンとメタノールとの混合物中で、式−IIで表される化合物を水酸化ナトリウム水溶液と反応させて、式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドを生成すること;
を含み、
式−IIで表されるN−(4’−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルイソキサゾール−4−カルボキサミドを単離する工程を含まない、
前記方法。 - 式−Iで表される(Z)−2−シアノ−3−ヒドロキシ−ブタ−2−エン酸−(4−トリフルオロメチルフェニル)−アミドの精製方法であって、
以下の工程:
i.粗式−Iをアセトニトリルと水との混合物で希釈すること;
ii.スラリーを加熱すること;
iii.熱い状態でスラリーを攪拌すること;
iv.スラリーを冷却すること;
v.スラリーを攪拌すること;
vi.固体をろ過し、アセトニトリルで洗浄すること;
vii.固体を乾燥し、純粋な式−Iを得ること
を含む、前記方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IN3028CH2015 | 2015-06-17 | ||
| IN3028/CHE/2015 | 2015-06-17 | ||
| PCT/IB2016/053556 WO2016203410A1 (en) | 2015-06-17 | 2016-06-16 | A novel process for the preparation of teriflunomide |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018517733A JP2018517733A (ja) | 2018-07-05 |
| JP6797839B2 true JP6797839B2 (ja) | 2020-12-09 |
Family
ID=57545389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017565042A Active JP6797839B2 (ja) | 2015-06-17 | 2016-06-16 | テリフルノミドの新規製造方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10526279B2 (ja) |
| EP (1) | EP3310755B1 (ja) |
| JP (1) | JP6797839B2 (ja) |
| KR (1) | KR102719583B1 (ja) |
| AU (1) | AU2016280243B2 (ja) |
| BR (1) | BR112017027175B1 (ja) |
| CA (1) | CA2989394C (ja) |
| ES (1) | ES2870205T3 (ja) |
| MX (1) | MX2017016192A (ja) |
| RU (1) | RU2722316C2 (ja) |
| WO (1) | WO2016203410A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116924938B (zh) * | 2022-04-02 | 2025-10-31 | 江苏康缘药业股份有限公司 | 一种特立氟胺的制备方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE634286C (de) | 1935-02-23 | 1936-08-26 | Hoffmann La Roche & Co Akt Ges | Verfahren zur Herstellung dialkylsubstituierter Amide von Isoxazolcarbonsaeuren |
| NL186239B (nl) * | 1975-06-05 | Hoechst Ag | Werkwijze voor de bereiding van een geneesmiddel met antiflogistische en/of analgetische werking, alsmede werkwijze voor de bereiding van een 2-hydroxyethylideencyaanazijnzuuranilide geschikt voor toepassing bij deze werkwijze. | |
| US5268382A (en) | 1985-09-27 | 1993-12-07 | Hoechst Aktiengesellschaft | Medicaments to combat autoimmune diseases, in particular systemic lupus erythematosus |
| WO1991017748A1 (de) * | 1990-05-18 | 1991-11-28 | Hoechst Aktiengesellschaft | Isoxazol-4-carbonsäureamide und hydroxyalkyliden-cyanessigsäureamide, diese verbindungen enthaltende arzneimittel und deren verwendung |
| KR20020072312A (ko) * | 2000-02-15 | 2002-09-14 | 테바 파마슈티컬 인더스트리즈 리미티드 | 레플루노미드를 합성하는 방법 |
| US6727272B1 (en) * | 2002-07-15 | 2004-04-27 | Unitech Pharmaceuticals, Inc. | Leflunomide analogs for treating rheumatoid arthritis |
| US8389757B2 (en) * | 2008-06-05 | 2013-03-05 | Alembic Ltd. | Process for preparing teriflunomide |
| CN101817798B (zh) * | 2009-02-26 | 2014-04-16 | 江苏亚邦爱普森药业有限公司 | 制备来氟米特的绿色工艺 |
| WO2012110911A1 (en) * | 2011-02-18 | 2012-08-23 | Alembic Pharmaceuticals Limited | Novel polymorphic form of teriflunomide |
| WO2015029063A2 (en) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | Msn Laboratories Private Limited | Novel polymorph of (z)-2-cyano-3-hydroxy-but-2-enoic acid-(4-trifluoromethyl phenyl)-amide and process for the preparation thereof |
-
2016
- 2016-06-16 EP EP16811119.3A patent/EP3310755B1/en active Active
- 2016-06-16 JP JP2017565042A patent/JP6797839B2/ja active Active
- 2016-06-16 KR KR1020187000970A patent/KR102719583B1/ko active Active
- 2016-06-16 RU RU2017145967A patent/RU2722316C2/ru active
- 2016-06-16 MX MX2017016192A patent/MX2017016192A/es active IP Right Grant
- 2016-06-16 AU AU2016280243A patent/AU2016280243B2/en active Active
- 2016-06-16 BR BR112017027175-3A patent/BR112017027175B1/pt active IP Right Grant
- 2016-06-16 WO PCT/IB2016/053556 patent/WO2016203410A1/en not_active Ceased
- 2016-06-16 ES ES16811119T patent/ES2870205T3/es active Active
- 2016-06-16 US US15/736,981 patent/US10526279B2/en active Active
- 2016-06-16 CA CA2989394A patent/CA2989394C/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MX2017016192A (es) | 2018-06-19 |
| CA2989394C (en) | 2023-08-01 |
| ES2870205T3 (es) | 2021-10-26 |
| WO2016203410A1 (en) | 2016-12-22 |
| EP3310755A4 (en) | 2019-02-27 |
| JP2018517733A (ja) | 2018-07-05 |
| KR102719583B1 (ko) | 2024-10-18 |
| US10526279B2 (en) | 2020-01-07 |
| BR112017027175A2 (ja) | 2017-12-15 |
| EP3310755B1 (en) | 2021-02-24 |
| AU2016280243B2 (en) | 2020-12-03 |
| CA2989394A1 (en) | 2016-12-22 |
| US20180170859A1 (en) | 2018-06-21 |
| KR20180018697A (ko) | 2018-02-21 |
| AU2016280243A1 (en) | 2018-01-18 |
| RU2017145967A (ru) | 2019-07-18 |
| RU2722316C2 (ru) | 2020-05-29 |
| EP3310755A1 (en) | 2018-04-25 |
| BR112017027175B1 (pt) | 2022-02-08 |
| RU2017145967A3 (ja) | 2019-12-06 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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