JPH11171849A - 臭化ベンジル誘導体の製造法 - Google Patents
臭化ベンジル誘導体の製造法Info
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- JPH11171849A JPH11171849A JP10177158A JP17715898A JPH11171849A JP H11171849 A JPH11171849 A JP H11171849A JP 10177158 A JP10177158 A JP 10177158A JP 17715898 A JP17715898 A JP 17715898A JP H11171849 A JPH11171849 A JP H11171849A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】一般式 化１
【化１】
〔式中、Ｒ1はＣ１〜Ｃ５アルキル基を表わす。〕で示
される臭化ベンジル誘導体の製造法。 【解決手段】一般式 化２ 【化２】 〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
２ーメチルフェニル酢酸誘導体をアルカリ金属塩の存在
下に臭素と反応させる一般式 化１で示される臭化ベン
ジル誘導体の製造法。
される臭化ベンジル誘導体の製造法。 【解決手段】一般式 化２ 【化２】 〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
２ーメチルフェニル酢酸誘導体をアルカリ金属塩の存在
下に臭素と反応させる一般式 化１で示される臭化ベン
ジル誘導体の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は臭化ベンジル誘導体
の製造法に関する。
の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】一般
式 化３
式 化３
【化３】 〔式中、Ｒ2およびＲ3は、同一または相異なり、水素原
子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６
アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基またはＣ１〜
Ｃ６ハロアルコキシ基を表わすか、あるいは、Ｒ2とＲ3
とでフッ素原子で置換されていてもよいメチレンジオキ
シ基を表す。ＺはＣＨ基または窒素原子を表す。〕で示
されるジチオカルボンイミド誘導体が優れた植物病害防
除効力を有することは、特開平８−７３４２４号公報に
記載されており、また該公報には式 化４
子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６
アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基またはＣ１〜
Ｃ６ハロアルコキシ基を表わすか、あるいは、Ｒ2とＲ3
とでフッ素原子で置換されていてもよいメチレンジオキ
シ基を表す。ＺはＣＨ基または窒素原子を表す。〕で示
されるジチオカルボンイミド誘導体が優れた植物病害防
除効力を有することは、特開平８−７３４２４号公報に
記載されており、また該公報には式 化４
【化４】 で示される臭化ベンジル誘導体を中間体とする該ジチオ
カルボンイミド誘導体の製造法が開示されている。特開
昭６３−３０４６３号公報、特開平０３−２４６２６８
号公報には式 化５
カルボンイミド誘導体の製造法が開示されている。特開
昭６３−３０４６３号公報、特開平０３−２４６２６８
号公報には式 化５
【化５】 で示される２ーメチルフェニル酢酸誘導体をＮ-ブロモ
コハク酸イミド（ＮＢＳ）と反応させ式 化４で示され
る臭化ベンジル誘導体を製造する方法が記載され、特開
平０３−５２８７１号公報には式 化５で示される２ー
メチルフェニル酢酸誘導体を水銀ランプの照射下に臭素
と反応させ、式 化４で示される臭化ベンジル誘導体を
製造する方法が記載されている。しかしＮＢＳを用いる
臭素化反応は工業的には実用的でなく、また水銀ランプ
の照射下での臭素との反応にも工業規模の光反応設備が
必要とされることから、式 化４で示される臭化ベンジ
ル誘導体の工業的にも有利な製造法の開発が望まれてい
る。
コハク酸イミド（ＮＢＳ）と反応させ式 化４で示され
る臭化ベンジル誘導体を製造する方法が記載され、特開
平０３−５２８７１号公報には式 化５で示される２ー
メチルフェニル酢酸誘導体を水銀ランプの照射下に臭素
と反応させ、式 化４で示される臭化ベンジル誘導体を
製造する方法が記載されている。しかしＮＢＳを用いる
臭素化反応は工業的には実用的でなく、また水銀ランプ
の照射下での臭素との反応にも工業規模の光反応設備が
必要とされることから、式 化４で示される臭化ベンジ
ル誘導体の工業的にも有利な製造法の開発が望まれてい
る。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の状況
に鑑み、式 化４で示される臭化ベンジル誘導体を製造
する方法について鋭意検討した結果、下記、一般式 化
６で示される２ーメチルフェニル酢酸誘導体と臭素とを
反応させる際にアルカリ金属塩を存在させることによ
り、一般式 化７で示される臭化ベンジル誘導体が効率
よく得られることを見いだし、本発明に至った。即ち、
本発明は、一般式 化６
に鑑み、式 化４で示される臭化ベンジル誘導体を製造
する方法について鋭意検討した結果、下記、一般式 化
６で示される２ーメチルフェニル酢酸誘導体と臭素とを
反応させる際にアルカリ金属塩を存在させることによ
り、一般式 化７で示される臭化ベンジル誘導体が効率
よく得られることを見いだし、本発明に至った。即ち、
本発明は、一般式 化６
【化６】 〔式中、Ｒ1はＣ１〜Ｃ５アルキル基を表わす。〕で示
される２ーメチルフェニル酢酸誘導体をアルカリ金属塩
の存在下に臭素と反応させる、一般式 化７
される２ーメチルフェニル酢酸誘導体をアルカリ金属塩
の存在下に臭素と反応させる、一般式 化７
【化７】 〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
臭化ベンジル誘導体の製造方法を提供する。
臭化ベンジル誘導体の製造方法を提供する。
【０００４】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明の製造法において用いられるアルカリ金属
塩としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、りん酸ナトリウム、
りん酸カリウム等のりん酸塩、および酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム等のカルボン酸塩があげられ、ナトリウム
塩を使用することが好ましい。反応は通常不活性溶媒中
で行い、該溶媒としては、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、クロロホル
ム、ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒
があげられる。反応温度は通常、５０〜１１０℃の範囲
であるが、好ましくは７５〜１００℃の範囲、さらに好
ましくは８０〜９５℃の範囲である。反応時間は通常
０．５〜１０時間である。反応に供せられる試剤の量
は、一般式 化６で示される２ーメチルフェニル酢酸誘
導体１モルに対して、アルカリ金属塩の量は１．５〜
５．０モルの割合であり、臭素の量は０．７〜１．５モ
ルの割合、好ましくは０．９〜１．２モルの割合であ
る。また、反応生成物から一般式 化６で示される２−
メチルフェニル酢酸誘導体を回収し、再使用する場合に
は、臭素の量は、一般式 化６で示される２ーメチルフ
ェニル酢酸誘導体１モルに対して、０．４〜０．８モル
の割合にすることが望ましい。臭素はそのままで、また
は溶媒で希釈して使用することも可能であるが、臭素を
加熱気化させて反応させることが好ましい。アルカリ金
属塩は市販品をそのまま使用することも可能であるが、
反応直前に該アルカリ金属塩を粉砕して使用することが
好ましい。反応はラジカル開始剤の添加なしでも進行す
るが、ラジカル開始剤を添加して行うことが好ましい。
かかるラジカル開始剤としては過酸化ベンゾイル、アゾ
ビス イソブチロニトリル、アゾビス（シクロヘキサン
カルボニトリル）等があげられる。反応に供せられるラ
ジカル開始剤の量は、一般式 化６で示される２ーメチ
ルフェニル酢酸誘導体１モルに対して、０．００５〜
０．２モルの割合、好ましくは０．０１〜０．１モルの
割合である。反応終了後の反応液は通常、アルカリ金属
塩を濾去した後、水または希塩酸水等で有機層を洗浄
し、有機層を濃縮し、目的物を得ることが出来る。
する。本発明の製造法において用いられるアルカリ金属
塩としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、りん酸ナトリウム、
りん酸カリウム等のりん酸塩、および酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム等のカルボン酸塩があげられ、ナトリウム
塩を使用することが好ましい。反応は通常不活性溶媒中
で行い、該溶媒としては、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、クロロホル
ム、ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒
があげられる。反応温度は通常、５０〜１１０℃の範囲
であるが、好ましくは７５〜１００℃の範囲、さらに好
ましくは８０〜９５℃の範囲である。反応時間は通常
０．５〜１０時間である。反応に供せられる試剤の量
は、一般式 化６で示される２ーメチルフェニル酢酸誘
導体１モルに対して、アルカリ金属塩の量は１．５〜
５．０モルの割合であり、臭素の量は０．７〜１．５モ
ルの割合、好ましくは０．９〜１．２モルの割合であ
る。また、反応生成物から一般式 化６で示される２−
メチルフェニル酢酸誘導体を回収し、再使用する場合に
は、臭素の量は、一般式 化６で示される２ーメチルフ
ェニル酢酸誘導体１モルに対して、０．４〜０．８モル
の割合にすることが望ましい。臭素はそのままで、また
は溶媒で希釈して使用することも可能であるが、臭素を
加熱気化させて反応させることが好ましい。アルカリ金
属塩は市販品をそのまま使用することも可能であるが、
反応直前に該アルカリ金属塩を粉砕して使用することが
好ましい。反応はラジカル開始剤の添加なしでも進行す
るが、ラジカル開始剤を添加して行うことが好ましい。
かかるラジカル開始剤としては過酸化ベンゾイル、アゾ
ビス イソブチロニトリル、アゾビス（シクロヘキサン
カルボニトリル）等があげられる。反応に供せられるラ
ジカル開始剤の量は、一般式 化６で示される２ーメチ
ルフェニル酢酸誘導体１モルに対して、０．００５〜
０．２モルの割合、好ましくは０．０１〜０．１モルの
割合である。反応終了後の反応液は通常、アルカリ金属
塩を濾去した後、水または希塩酸水等で有機層を洗浄
し、有機層を濃縮し、目的物を得ることが出来る。
【０００５】一般式 化６で示される２ーメチルフェニ
ル酢酸誘導体は、例えば、下記スキーム 化８
ル酢酸誘導体は、例えば、下記スキーム 化８
【化８】 〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。〕にしたがって
製造することができる。式中、２−メチルベンゾイル蟻
酸エステル類は例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．２１（１９８０年），３５３９
頁、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ
Ｖｏｌ．１１（１９８１年）９４３頁等に記載された方
法にて製造することができる。
製造することができる。式中、２−メチルベンゾイル蟻
酸エステル類は例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．２１（１９８０年），３５３９
頁、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ
Ｖｏｌ．１１（１９８１年）９４３頁等に記載された方
法にて製造することができる。
【０００６】
【実施例】以下、製造例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されない。 製造例１ 遠心粉砕機で粉砕した炭酸ナトリウム１２．７２ｇ（１
２０ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−ト
リル酢酸メチル１０．３６ｇ(５０ｍｍｏｌ)、クロロベ
ンゼン２９．９４ｇの混合物を激しく撹拌しながら８５
℃に加熱した。該混合物に９０〜１００℃で加熱し、気
化させたガス状臭素９．５９ｇ(６０ｍｍｏｌ)を窒素気
流にて１時間かけて吹き込んだ。吹き込み終了後反応液
を８６−８８℃にて２時間保温し、その後室温まで冷却
した。反応液に水１００ｍｌを加え分液し、有機層を水
５０ｍｌにて２回洗浄し、溶媒を減圧下に留去して粗生
成物１３．２１ｇを得た。この粗生成物をガスクロマト
グラフィー分析装置（ＧＣ）を用いて分析した結果、目
的物である（Ｅ）−α−メトキシイミノ−２−（ブロモ
メチル）フェニル酢酸メチルの含有量は７９．５％であ
り、原料および（Ｅ）−α−メトキシイミノ−２−（ジ
ブロモメチル）フェニル酢酸メチル［以下ジブロム体と
略す］の含有量は５．１％および１３．７％であった。
（％は面積百分率を示す）
説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されない。 製造例１ 遠心粉砕機で粉砕した炭酸ナトリウム１２．７２ｇ（１
２０ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−ト
リル酢酸メチル１０．３６ｇ(５０ｍｍｏｌ)、クロロベ
ンゼン２９．９４ｇの混合物を激しく撹拌しながら８５
℃に加熱した。該混合物に９０〜１００℃で加熱し、気
化させたガス状臭素９．５９ｇ(６０ｍｍｏｌ)を窒素気
流にて１時間かけて吹き込んだ。吹き込み終了後反応液
を８６−８８℃にて２時間保温し、その後室温まで冷却
した。反応液に水１００ｍｌを加え分液し、有機層を水
５０ｍｌにて２回洗浄し、溶媒を減圧下に留去して粗生
成物１３．２１ｇを得た。この粗生成物をガスクロマト
グラフィー分析装置（ＧＣ）を用いて分析した結果、目
的物である（Ｅ）−α−メトキシイミノ−２−（ブロモ
メチル）フェニル酢酸メチルの含有量は７９．５％であ
り、原料および（Ｅ）−α−メトキシイミノ−２−（ジ
ブロモメチル）フェニル酢酸メチル［以下ジブロム体と
略す］の含有量は５．１％および１３．７％であった。
（％は面積百分率を示す）
【０００７】製造例２ 遠心粉砕機で粉砕した炭酸ナトリウム６．３６ｇ（６０
ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル
酢酸エチル５．５３ｇ(２５ｍｍｏｌ)、クロロベンゼン
１４．９７ｇの混合物を激しく撹拌しながら８５℃に加
熱した。該混合物にアゾビス（シクロヘキサンカルボニ
トリル）０．６１ｇのクロロベンゼン６．００ｇ溶液と
臭素４．８０ｇ(３０ｍｍｏｌ)のクロロベンゼン２．０
０ｇ溶液とを１時間かけて併注滴下した。滴下終了後反
応液を８６−８８℃にて２時間保温し、その後室温まで
冷却した。反応液に水５０ｍｌを加え分液し、有機層を
水２５ｍｌを用いて２回洗浄し、溶媒を減圧下に留去し
て粗生成物６．７７ｇを得た。この粗生成物をＧＣにて
分析した結果、目的物である（Ｅ）−α−メトキシイミ
ノ−２−（ブロモメチル）フェニル酢酸エチルの含有量
は７５．４％であり、原料およびジブロム体の含有量は
４．５％および１３．７％であった。
ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル
酢酸エチル５．５３ｇ(２５ｍｍｏｌ)、クロロベンゼン
１４．９７ｇの混合物を激しく撹拌しながら８５℃に加
熱した。該混合物にアゾビス（シクロヘキサンカルボニ
トリル）０．６１ｇのクロロベンゼン６．００ｇ溶液と
臭素４．８０ｇ(３０ｍｍｏｌ)のクロロベンゼン２．０
０ｇ溶液とを１時間かけて併注滴下した。滴下終了後反
応液を８６−８８℃にて２時間保温し、その後室温まで
冷却した。反応液に水５０ｍｌを加え分液し、有機層を
水２５ｍｌを用いて２回洗浄し、溶媒を減圧下に留去し
て粗生成物６．７７ｇを得た。この粗生成物をＧＣにて
分析した結果、目的物である（Ｅ）−α−メトキシイミ
ノ−２−（ブロモメチル）フェニル酢酸エチルの含有量
は７５．４％であり、原料およびジブロム体の含有量は
４．５％および１３．７％であった。
【０００８】製造例３ 遠心粉砕機で粉砕した炭酸ナトリウム６．３６ｇ（６０
ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−α−メトキシイミノ−ｏ−トリル
酢酸イソプロピル５．８８ｇ(２５ｍｍｏｌ)、クロロベ
ンゼン１４．９７ｇの混合物を激しく撹拌しながら８５
℃に加熱した。該混合物にアゾビス（シクロヘキサンカ
ルボニトリル）０．６１ｇのクロロベンゼン６．００ｇ
溶液を滴下しながら、９０〜１００℃で加熱し、気化さ
せたガス状臭素４．８０ｇ(３０ｍｍｏｌ)を窒素気流に
て１時間かけて吹き込んだ。吹き込み終了後反応液を８
６〜８８℃にて２時間保温し、その後室温まで冷却し
た。反応液に水５０ｍｌを加え分液し、有機層を水２５
ｍｌを用いて２回洗浄し、溶媒を減圧下に留去して粗生
成物７．１３ｇを得た。この粗生成物をＧＣにて分析し
た結果、目的物である（Ｅ）−α−メトキシイミノ−２
−（ブロモメチル）フェニル酢酸イソプロピルの含有量
は７６．３％であり、原料およびジブロム体の含有量は
４．８％および１３．５％であった
ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−α−メトキシイミノ−ｏ−トリル
酢酸イソプロピル５．８８ｇ(２５ｍｍｏｌ)、クロロベ
ンゼン１４．９７ｇの混合物を激しく撹拌しながら８５
℃に加熱した。該混合物にアゾビス（シクロヘキサンカ
ルボニトリル）０．６１ｇのクロロベンゼン６．００ｇ
溶液を滴下しながら、９０〜１００℃で加熱し、気化さ
せたガス状臭素４．８０ｇ(３０ｍｍｏｌ)を窒素気流に
て１時間かけて吹き込んだ。吹き込み終了後反応液を８
６〜８８℃にて２時間保温し、その後室温まで冷却し
た。反応液に水５０ｍｌを加え分液し、有機層を水２５
ｍｌを用いて２回洗浄し、溶媒を減圧下に留去して粗生
成物７．１３ｇを得た。この粗生成物をＧＣにて分析し
た結果、目的物である（Ｅ）−α−メトキシイミノ−２
−（ブロモメチル）フェニル酢酸イソプロピルの含有量
は７６．３％であり、原料およびジブロム体の含有量は
４．８％および１３．５％であった
【０００９】製造例４ 炭酸ナトリウム１２．７２ｇ（１２０ｍｍｏｌ）および
（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸メチル１
０．３６ｇ(５０ｍｍｏｌ)に代えて酢酸ナトリウム９．
８４ｇ(１２０ｍｍｏｌ)および（Ｅ）−α−メトキシイ
ミノ−Ｏ−トリル酢酸イソプロピル１１．７６ｇ(５０
ｍｍｏｌ)を用いる以外は、上記製造例１と同様の操作
にて反応を行い、粗生成物１３．９６ｇを得た。この粗
生成物をＧＣにて分析した結果、目的物である（Ｅ）−
α−メトキシイミノ−２−（ブロモメチル）フェニル酢
酸イソプロピルの含有量は７８．５％であり、原料およ
びジブロム体の含有量は６．１％および１３．０％であ
った。
（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸メチル１
０．３６ｇ(５０ｍｍｏｌ)に代えて酢酸ナトリウム９．
８４ｇ(１２０ｍｍｏｌ)および（Ｅ）−α−メトキシイ
ミノ−Ｏ−トリル酢酸イソプロピル１１．７６ｇ(５０
ｍｍｏｌ)を用いる以外は、上記製造例１と同様の操作
にて反応を行い、粗生成物１３．９６ｇを得た。この粗
生成物をＧＣにて分析した結果、目的物である（Ｅ）−
α−メトキシイミノ−２−（ブロモメチル）フェニル酢
酸イソプロピルの含有量は７８．５％であり、原料およ
びジブロム体の含有量は６．１％および１３．０％であ
った。
【００１０】製造例５ 炭酸ナトリウム１２．７２ｇ（１２０ｍｍｏｌ）および
（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸メチル１
０．３６ｇ(５０ｍｍｏｌ)に代えて酢酸ナトリウム９．
８４ｇ(１２０ｍｍｏｌ)および（Ｅ）−α−メトキシイ
ミノ−Ｏ−トリル酢酸イソプロピル１１．７６ｇ(５０
ｍｍｏｌ)を用いる以外は、上記製造例１と同様の操作
にて反応を行い、粗生成物１２．３５ｇを得た。この粗
生成物をＧＣにて分析した結果、目的物である（Ｅ）−
α−メトキシイミノ−２−（ブロモメチル）フェニル酢
酸イソプロピルの含有量は７５．２％、原料およびジブ
ロム体の含有量は１７．２％および６．１％であった。
（Ｅ）−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸メチル１
０．３６ｇ(５０ｍｍｏｌ)に代えて酢酸ナトリウム９．
８４ｇ(１２０ｍｍｏｌ)および（Ｅ）−α−メトキシイ
ミノ−Ｏ−トリル酢酸イソプロピル１１．７６ｇ(５０
ｍｍｏｌ)を用いる以外は、上記製造例１と同様の操作
にて反応を行い、粗生成物１２．３５ｇを得た。この粗
生成物をＧＣにて分析した結果、目的物である（Ｅ）−
α−メトキシイミノ−２−（ブロモメチル）フェニル酢
酸イソプロピルの含有量は７５．２％、原料およびジブ
ロム体の含有量は１７．２％および６．１％であった。
【００１１】参考製造例１ 炭酸ナトリウムを加えない以外は、上記製造例１と同様
の操作にて反応を行い、粗生成物７．２３ｇを得た。粗
生成物を同じくＧＣにて分析した結果、目的物および原
料の含有量は４．８％および８４．５％であった。 参考製造例２ 炭酸ナトリウムを加えない以外は、上記製造例２と同様
の操作にて反応を行い、粗生成物５．６５ｇを得た。こ
の粗生成物を同じくＧＣにて分析した結果、目的物、原
料の含有量は２５．７％、６０．８％であった。
の操作にて反応を行い、粗生成物７．２３ｇを得た。粗
生成物を同じくＧＣにて分析した結果、目的物および原
料の含有量は４．８％および８４．５％であった。 参考製造例２ 炭酸ナトリウムを加えない以外は、上記製造例２と同様
の操作にて反応を行い、粗生成物５．６５ｇを得た。こ
の粗生成物を同じくＧＣにて分析した結果、目的物、原
料の含有量は２５．７％、６０．８％であった。
【００１２】次に、一般式 化6で示される２ーメチル
フェニル酢酸誘導体の製造例を示す。 参考製造例３ （１）２−メチルベンゾイル蟻酸エチル１９．２ｇ
（０．１ｍｏｌ）のエタノール１００ｍｌ溶液にヒドロ
キシルアミン塩酸塩７．６ｇ（０．１１ｍｏｌ）を加
え、5時間加熱還流した。その後、後処理操作として、
溶媒を減圧下に留去し固形物を得た。この固形物にヘキ
サンを加えて、該固形物を砕き、ロ取し、(Ｅ)−α−ヒ
ドロキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸エチル１４．１ｇ（収
率６８％）を得た。また、ロ液を濃縮し、残渣にエタノ
ールと触媒量の塩化チオニルを加え５時間加熱還流を行
い、上記と同様の後処理操作を行うことにより、さらに
４．５ｇ（収率２１％）の目的物を得た。融点８８．０
−８９．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.25(3H,t,J=8Hz)、
2.21(3H,s)、4.28(2H,q,J=8Hz)、7.15(1H,dd,J=8,1H
z)、7.20〜7.40(3H,m)、10.25(1H,brs) 同様の操作にて２−メチルベンゾイル蟻酸イソプロピル
２０．６ｇ（０．１ｍｏｌ）のイソプロパノール溶液を
用い、(Ｅ)−α−ヒドロキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸イ
ソプロピル１４．９ｇ（収率６８％）を得た。融点７
７．０−７８．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.27(6H,d,J=6Hz)、
2.23(3H,s)、5.16(1H,sept,J=6Hz)、7.15(1H,dd,J=8,1H
z)、7.2 〜7.4(3H,m)、9.78(1H,brs) （２）(Ｅ)−α−ヒドロキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸エ
チル１０．０ｇ（４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５０ｍｌ溶液
に氷冷下、６０％水素化ナトリウム２．２ｇ（５３ｍｍ
ｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。この溶液にジメチル
硫酸６．７ｇ（５３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後１時間
室温にて撹拌した。反応液に水と酢酸エチルを加え、有
機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、
(Ｅ)−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸エチル１
０．４ｇ（収率９８％）を得た。 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.33(3H,t,J=8Hz)、
2.19(3H,s)、4.04(3H,s)、4.33(2H,q,J=8Hz)、7.12(1H,
dd,J=8,1Hz)、7.15〜7.40(3H,m) 同様の操作にて(Ｅ)−α−ヒドロキシイミノ−Ｏ−トリ
ル酢酸イソプロピル１０．０g（４６ｍｍｏｌ）から
(Ｅ)−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸イソプロピ
ル１０．１ｇ（収率７５％）を得た。 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.28(6H,d,J=6Hz)、
2.19(3H,s)、4.02(3H,s)、５．17(1H,sept,J=6Hz)、7.0
9(1H,dd,J=8,1Hz)、7.15〜7.35(3H,m) 次に本発明で得られた臭化ベンジル誘導体を用いる、特
開平８−７３４２４号公報記載のジチオカルボンイミド
誘導体の製造例を示す。
フェニル酢酸誘導体の製造例を示す。 参考製造例３ （１）２−メチルベンゾイル蟻酸エチル１９．２ｇ
（０．１ｍｏｌ）のエタノール１００ｍｌ溶液にヒドロ
キシルアミン塩酸塩７．６ｇ（０．１１ｍｏｌ）を加
え、5時間加熱還流した。その後、後処理操作として、
溶媒を減圧下に留去し固形物を得た。この固形物にヘキ
サンを加えて、該固形物を砕き、ロ取し、(Ｅ)−α−ヒ
ドロキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸エチル１４．１ｇ（収
率６８％）を得た。また、ロ液を濃縮し、残渣にエタノ
ールと触媒量の塩化チオニルを加え５時間加熱還流を行
い、上記と同様の後処理操作を行うことにより、さらに
４．５ｇ（収率２１％）の目的物を得た。融点８８．０
−８９．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.25(3H,t,J=8Hz)、
2.21(3H,s)、4.28(2H,q,J=8Hz)、7.15(1H,dd,J=8,1H
z)、7.20〜7.40(3H,m)、10.25(1H,brs) 同様の操作にて２−メチルベンゾイル蟻酸イソプロピル
２０．６ｇ（０．１ｍｏｌ）のイソプロパノール溶液を
用い、(Ｅ)−α−ヒドロキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸イ
ソプロピル１４．９ｇ（収率６８％）を得た。融点７
７．０−７８．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.27(6H,d,J=6Hz)、
2.23(3H,s)、5.16(1H,sept,J=6Hz)、7.15(1H,dd,J=8,1H
z)、7.2 〜7.4(3H,m)、9.78(1H,brs) （２）(Ｅ)−α−ヒドロキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸エ
チル１０．０ｇ（４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５０ｍｌ溶液
に氷冷下、６０％水素化ナトリウム２．２ｇ（５３ｍｍ
ｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。この溶液にジメチル
硫酸６．７ｇ（５３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後１時間
室温にて撹拌した。反応液に水と酢酸エチルを加え、有
機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、
(Ｅ)−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸エチル１
０．４ｇ（収率９８％）を得た。 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.33(3H,t,J=8Hz)、
2.19(3H,s)、4.04(3H,s)、4.33(2H,q,J=8Hz)、7.12(1H,
dd,J=8,1Hz)、7.15〜7.40(3H,m) 同様の操作にて(Ｅ)−α−ヒドロキシイミノ−Ｏ−トリ
ル酢酸イソプロピル１０．０g（４６ｍｍｏｌ）から
(Ｅ)−α−メトキシイミノ−Ｏ−トリル酢酸イソプロピ
ル１０．１ｇ（収率７５％）を得た。 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.28(6H,d,J=6Hz)、
2.19(3H,s)、4.02(3H,s)、５．17(1H,sept,J=6Hz)、7.0
9(1H,dd,J=8,1Hz)、7.15〜7.35(3H,m) 次に本発明で得られた臭化ベンジル誘導体を用いる、特
開平８−７３４２４号公報記載のジチオカルボンイミド
誘導体の製造例を示す。
【００１３】参考製造例４ （１）α−（Ｅ）−メトキシイミノ−２−（ブロモメチ
ル）フェニル酢酸エチル６．０ｇ（含有量９５．８％、
１９ｍｍｏｌ）、４−エチルフェニルジチオカルバミン
酸メチル４．０５ｇ(１９ｍｍｏｌ)、臭化テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウム０．３３ｇ(１ｍｍｏｌ)、トルエン
２０ｍｌの混合物を激しく撹拌し、該混合物に水酸化ナ
トリウムの８モル水溶液２．５０ｍｌ(２０ｍｍｏｌ)を
内温１０℃以下にて滴下した。滴下終了後、反応液を２
０℃にてさらに２時間攪拌した。反応液に水２０ｍｌを
加え分液し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾
燥した。無水硫酸マグネシウムをろ過した後、溶媒を減
圧下に留去して油状物を得た。この油状物に少量のエタ
ノールを加え、氷冷下、固化させ、得られた固形物を砕
き、ろ取して Ｓ−〔２−（（Ｅ）−α−メトキシイミ
ノ−α−エトキシカルボニル）メチル〕フェニルメチル
−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフェニル）ジチオカル
ボンイミド６．６３ｇ（収率８１％）を得た。融点６
９．０−７０．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.21(3H,t,J=6Hz)、
1.28(3H,t,J=6Hz)、2.42(3H,s)、2.61(2H,q,J=6Hz)、4.
02(3H,s)、4.21(2H,s)、4.25(2H,q,J=6Hz)、6.78(2H,d,
J=8Hz)、7.0 〜7.6(6H,m) （２）上記（１）で得たＳ−〔２−（（Ｅ）−α−メト
キシイミノ−α−エトキシカルボニル）メチル〕フェニ
ルメチル−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフェニル）ジ
チオカルボンイミド５.０ｇ(１２ｍｍｏｌ)をエタノー
ル２５ｍｌで希釈し、４０％メチルアミン水溶液４．６
５ｇ(６０ｍｍｏｌ)を加え、室温にて７時間攪拌した。
反応終了後、水を加え、減圧下にメチルアミンとエタノ
ールを留去し、残査にトルエンを加えて、分液した。有
機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を減
圧下に留去して固形物を得た。この固形物にジイソプロ
ピルエーテルを加え、固形物を砕き、ろ取してＳ−｛２
−〔（Ｅ）−α−メトキシイミノ−α−（Ｎ−メチルカ
ルバモイル）〕メチル｝フェニルメチル−Ｓ−メチル−
Ｎ−（４−エチルフェニル）ジチオカルボンイミド４．
５８ｇ（収率９２％）を得た。
ル）フェニル酢酸エチル６．０ｇ（含有量９５．８％、
１９ｍｍｏｌ）、４−エチルフェニルジチオカルバミン
酸メチル４．０５ｇ(１９ｍｍｏｌ)、臭化テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウム０．３３ｇ(１ｍｍｏｌ)、トルエン
２０ｍｌの混合物を激しく撹拌し、該混合物に水酸化ナ
トリウムの８モル水溶液２．５０ｍｌ(２０ｍｍｏｌ)を
内温１０℃以下にて滴下した。滴下終了後、反応液を２
０℃にてさらに２時間攪拌した。反応液に水２０ｍｌを
加え分液し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾
燥した。無水硫酸マグネシウムをろ過した後、溶媒を減
圧下に留去して油状物を得た。この油状物に少量のエタ
ノールを加え、氷冷下、固化させ、得られた固形物を砕
き、ろ取して Ｓ−〔２−（（Ｅ）−α−メトキシイミ
ノ−α−エトキシカルボニル）メチル〕フェニルメチル
−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフェニル）ジチオカル
ボンイミド６．６３ｇ（収率８１％）を得た。融点６
９．０−７０．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.21(3H,t,J=6Hz)、
1.28(3H,t,J=6Hz)、2.42(3H,s)、2.61(2H,q,J=6Hz)、4.
02(3H,s)、4.21(2H,s)、4.25(2H,q,J=6Hz)、6.78(2H,d,
J=8Hz)、7.0 〜7.6(6H,m) （２）上記（１）で得たＳ−〔２−（（Ｅ）−α−メト
キシイミノ−α−エトキシカルボニル）メチル〕フェニ
ルメチル−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフェニル）ジ
チオカルボンイミド５.０ｇ(１２ｍｍｏｌ)をエタノー
ル２５ｍｌで希釈し、４０％メチルアミン水溶液４．６
５ｇ(６０ｍｍｏｌ)を加え、室温にて７時間攪拌した。
反応終了後、水を加え、減圧下にメチルアミンとエタノ
ールを留去し、残査にトルエンを加えて、分液した。有
機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を減
圧下に留去して固形物を得た。この固形物にジイソプロ
ピルエーテルを加え、固形物を砕き、ろ取してＳ−｛２
−〔（Ｅ）−α−メトキシイミノ−α−（Ｎ−メチルカ
ルバモイル）〕メチル｝フェニルメチル−Ｓ−メチル−
Ｎ−（４−エチルフェニル）ジチオカルボンイミド４．
５８ｇ（収率９２％）を得た。
【００１４】参考製造例５ （１）α−（Ｅ）−メトキシイミノ−２−（ブロモメチ
ル）フェニル酢酸イソプロピル５．０ｇ（含有量９６．
４％、１５ｍｍｏｌ）、４−エチルフェニルジチオカル
バミン酸メチル３．２５ｇ(１５ｍｍｏｌ)、無水炭酸カ
リウム４．２０ｇ(３０ｍｍｏｌ)、２−プロパノール２
５ｍｌの混合物を５０℃にて４時間撹拌した。不溶物を
セライトろ過し、２−プロパノールで洗浄後、ろ液を減
圧濃縮して油状物を得た。この油状物にトルエンと水を
加え分液し、さらに有機層を水洗した後、無水硫酸マグ
ネシウムを加えて乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ
去した後、溶媒を減圧下に留去して油状物を得た。この
油状物にエタノールを加え、氷水で冷却して固化させ、
得られた固形物を砕き、ろ取して Ｓ−〔２−（（Ｅ）
−α−メトキシイミノ−α−イソプロピルオキシカルボ
ニル）メチル〕フェニルメチル−Ｓ−メチル−Ｎ−（４
−エチルフェニル）ジチオカルボンイミド５.５３ｇ
（収率８７％）を得た。融点８５．０−８６．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.21(3H,t,J=6Hz)、
1.25(6H,d,J=6Hz)、2.42(3H,s)、2.61(2H,q,J=6Hz)、4.
02(3H,s)、4.22(2H,s)、5.12(1H,sept,J=6Hz)、6.79(2
H,d,J=8Hz)、7.0〜7.6(6H,m) （２）上記（１）で得たＳ−〔２−（（Ｅ）−α−メト
キシイミノ−α−イソプロピルオキシカルボニル）メチ
ル〕フェニルメチル−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフ
ェニル）ジチオカルボンイミド５．０ｇ（１１ｍｍｏ
ｌ）をエタノール２０ｍｌおよびクロロベンゼン５ｍｌ
で希釈し、４０％メチルアミン水溶液４．２６ｇ(５５
ｍｍｏｌ)を加え、室温にて1晩攪拌した。反応終了後、
水を加え、減圧下にメチルアミンと溶媒を留去し、残査
にトルエンを加え、分液した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥した後、溶媒を減圧下に留去して油状物
を得た。この油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて分離精製を行い、原料１．４０ｇ（収率２８
％）とＳ−｛２−〔（Ｅ）−α−メトキシイミノ−α−
（Ｎ−メチルカルバモイル）〕メチル｝フェニルメチル
−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフェニル）ジチオカル
ボンイミド２．９６ｇ（収率６５％）を得た。
ル）フェニル酢酸イソプロピル５．０ｇ（含有量９６．
４％、１５ｍｍｏｌ）、４−エチルフェニルジチオカル
バミン酸メチル３．２５ｇ(１５ｍｍｏｌ)、無水炭酸カ
リウム４．２０ｇ(３０ｍｍｏｌ)、２−プロパノール２
５ｍｌの混合物を５０℃にて４時間撹拌した。不溶物を
セライトろ過し、２−プロパノールで洗浄後、ろ液を減
圧濃縮して油状物を得た。この油状物にトルエンと水を
加え分液し、さらに有機層を水洗した後、無水硫酸マグ
ネシウムを加えて乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ
去した後、溶媒を減圧下に留去して油状物を得た。この
油状物にエタノールを加え、氷水で冷却して固化させ、
得られた固形物を砕き、ろ取して Ｓ−〔２−（（Ｅ）
−α−メトキシイミノ−α−イソプロピルオキシカルボ
ニル）メチル〕フェニルメチル−Ｓ−メチル−Ｎ−（４
−エチルフェニル）ジチオカルボンイミド５.５３ｇ
（収率８７％）を得た。融点８５．０−８６．０℃ 1H-NMR(CDCl3/TMS,300MHz,δ(ppm))1.21(3H,t,J=6Hz)、
1.25(6H,d,J=6Hz)、2.42(3H,s)、2.61(2H,q,J=6Hz)、4.
02(3H,s)、4.22(2H,s)、5.12(1H,sept,J=6Hz)、6.79(2
H,d,J=8Hz)、7.0〜7.6(6H,m) （２）上記（１）で得たＳ−〔２−（（Ｅ）−α−メト
キシイミノ−α−イソプロピルオキシカルボニル）メチ
ル〕フェニルメチル−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフ
ェニル）ジチオカルボンイミド５．０ｇ（１１ｍｍｏ
ｌ）をエタノール２０ｍｌおよびクロロベンゼン５ｍｌ
で希釈し、４０％メチルアミン水溶液４．２６ｇ(５５
ｍｍｏｌ)を加え、室温にて1晩攪拌した。反応終了後、
水を加え、減圧下にメチルアミンと溶媒を留去し、残査
にトルエンを加え、分液した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥した後、溶媒を減圧下に留去して油状物
を得た。この油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて分離精製を行い、原料１．４０ｇ（収率２８
％）とＳ−｛２−〔（Ｅ）−α−メトキシイミノ−α−
（Ｎ−メチルカルバモイル）〕メチル｝フェニルメチル
−Ｓ−メチル−Ｎ−（４−エチルフェニル）ジチオカル
ボンイミド２．９６ｇ（収率６５％）を得た。
【００１５】
【発明の効果】本発明方法により、一般式 化７で示さ
れる臭化ベンジル誘導体を、工業的に有利に製造するこ
とができる。
れる臭化ベンジル誘導体を、工業的に有利に製造するこ
とができる。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒ1はＣ１〜Ｃ５アルキル基を表わす。〕で示
される２ーメチルフェニル酢酸誘導体をアルカリ金属塩
の存在下に臭素と反応させることを特徴とする、一般式
化２ 【化２】 〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
臭化ベンジル誘導体の製造法。 - 【請求項２】アルカリ金属塩が炭酸塩、りん酸塩または
カルボン酸塩である請求項１に記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10177158A JPH11171849A (ja) | 1997-10-08 | 1998-06-24 | 臭化ベンジル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-275733 | 1997-10-08 | ||
| JP27573397 | 1997-10-08 | ||
| JP10177158A JPH11171849A (ja) | 1997-10-08 | 1998-06-24 | 臭化ベンジル誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11171849A true JPH11171849A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=26497797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10177158A Pending JPH11171849A (ja) | 1997-10-08 | 1998-06-24 | 臭化ベンジル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11171849A (ja) |
-
1998
- 1998-06-24 JP JP10177158A patent/JPH11171849A/ja active Pending
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