JP6784132B2 - 薄膜キャパシタを製造する方法 - Google Patents
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- (a)少なくとも第1電極層と、第1誘電体層と、第2電極層と、第2誘電体層と、がこの順に積層された積層体を形成する工程と、
(b)前記第2誘電体層の直上に開口を有する第1マスクを形成する工程であって、前記積層体の積層方向から見て当該開口は略円形の外形を有する工程と、
(c)前記第1マスクを用いて前記第2誘電体層をエッチングすることにより、前記第1マスクの前記開口の下に前記第2電極層に至る深さの第1の積層体開口部を形成する工程と、
(d)前記第1マスクと前記第2誘電体層の双方をマスクとして用いたウェットエッチング法によって前記第2電極層をエッチングすることにより、前記第1の積層体開口部を前記第1誘電体層に至る深さまで深くすると同時に、前記積層体の積層方向から見て、前記第1の積層体開口部のうち前記第2電極層によって規定される開口要素の側面を、前記第1の積層体開口部のうち前記第2誘電体層によって規定される開口要素の側面よりも、前記第1の積層体開口部の半径方向外側に離間させる、工程と、
(e)前記第1誘電体層上に第2マスクを形成する工程であって、前記第2マスクの一部は前記第1の積層体開口部内の前記第1誘電体層の直上に設けられて開口を規定し、前記積層体の積層方向から見て当該開口は略円形の外形を有し、前記第2マスクの他の一部は前記第2電極層及び前記第2誘電体層を覆う、工程と、
(f)前記第2マスクを用いて前記第1誘電体層をエッチングすることにより、前記第1の積層体開口部を前記第1電極層に至る深さまで深くすると同時に、前記積層体の積層方向から見て、前記第1の積層体開口部のうち前記第1誘電体層によって規定される開口要素の側面を、前記第1の積層体開口部のうち前記第2電極層によって規定される開口要素の側面よりも、前記第1の積層体開口部の半径方向内側に離間させる、工程と、
を有する、薄膜キャパシタを製造する方法。 - (g)前記工程(a)の後に、前記第2誘電体層をエッチングすることにより、前記第2電極層に至る深さの第2の積層体開口部を形成する工程と、
(h)前記工程(f)の後に、前記第1電極層と接するように前記第1の積層体開口部内に第1引き出し電極を形成する工程と、
(i)前記工程(g)の後に、前記第2電極層と接するように前記第2の積層体開口部内に第2引き出し電極を形成する工程と、
をさらに有する、請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016200169A JP6784132B2 (ja) | 2016-10-11 | 2016-10-11 | 薄膜キャパシタを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016200169A JP6784132B2 (ja) | 2016-10-11 | 2016-10-11 | 薄膜キャパシタを製造する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2018063991A JP2018063991A (ja) | 2018-04-19 |
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ID=61967990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2016200169A Active JP6784132B2 (ja) | 2016-10-11 | 2016-10-11 | 薄膜キャパシタを製造する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6784132B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021193513A1 (ja) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | Tdk株式会社 | コンデンサ部品及びこれを備える電子回路モジュール |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3498190B2 (ja) * | 1994-06-06 | 2004-02-16 | 株式会社村田製作所 | 薄膜積層電極の製造方法 |
JPH11233732A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-08-27 | Toshiba Corp | 薄膜キャパシタ |
JP2008210843A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
CN101896985B (zh) * | 2007-12-14 | 2012-05-23 | 株式会社村田制作所 | 薄膜叠层电容器的制造方法 |
JP5267251B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-08-21 | Tdk株式会社 | 薄膜コンデンサ、及び薄膜コンデンサの製造方法 |
JP5929540B2 (ja) * | 2012-06-19 | 2016-06-08 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
JP2018063989A (ja) * | 2016-10-11 | 2018-04-19 | Tdk株式会社 | 薄膜キャパシタ |
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2016
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Publication number | Publication date |
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JP2018063991A (ja) | 2018-04-19 |
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