JP6779847B2 - 荷電粒子装置、荷電粒子描画装置および荷電粒子ビーム制御方法 - Google Patents
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Description
Claims (5)
- 荷電粒子ビームを出射するカソードと、
前記カソードから出射された荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアノードと、
前記アノードを通過した荷電粒子ビームのうち、所定の位置および形状の開口部を通過した荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアパーチャと、
前記アノードと前記アパーチャとの間に配置され、前記アパーチャに荷電粒子ビームが衝突することにより発生される所定の極性のイオンと反発し合う極性の第1電位に設定される第1電極と、を備え、
前記アノードは接地電位に設定される、荷電粒子装置。 - 荷電粒子ビームを出射するカソードと、
前記カソードから出射された荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアノードと、
前記アノードを通過した荷電粒子ビームのうち、所定の位置および形状の開口部を通過した荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアパーチャと、
前記アノードと前記アパーチャとの間に配置され、前記アパーチャに荷電粒子ビームが衝突することにより発生される所定の極性のイオンと反発し合う極性の第1電位に設定される第1電極と、を備え、
前記第1電極よりも試料面側に前記第1電極に対向して配置され、前記アノードと同じ電位に設定される第2電極を備える、荷電粒子装置。 - 荷電粒子ビームを出射するカソードと、
前記カソードから出射された荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアノードと、
前記アノードを通過した荷電粒子ビームのうち、所定の位置および形状の開口部を通過した荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアパーチャと、
前記アノードと前記アパーチャとの間に配置され、前記アパーチャに荷電粒子ビームが衝突することにより発生される所定の極性のイオンと反発し合う極性の第1電位に設定される第1電極と、を備え、
前記アパーチャの周囲に配置され、前記イオンを捕集する第3電極を備える、荷電粒子装置。 - 前記第1電位は、前記カソードの電位の極性とは逆の極性である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
- 荷電粒子ビームを出射するカソードと、
前記カソードから出射された荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアノードと、
前記アノードを通過した荷電粒子ビームのうち、所定の位置および形状の開口部を通過した荷電粒子ビームを試料面方向に進行させるアパーチャと、
前記アノードと前記アパーチャとの間に配置され、前記アパーチャに荷電粒子ビームが衝突することにより発生される所定の極性のイオンと反発し合う極性の所定電位に設定される第1電極と、
前記アパーチャを通過した荷電粒子ビームを試料面に照射させて描画を行う描画制御部と、を備え、
前記アノードは接地電位に設定される、荷電粒子描画装置。
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