JP2015232952A - カソードの取得方法および電子ビーム描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子放出部材と、隙間を設けて電子放出材料の側面を覆うカバー部とを有する複数のカソードを製作する工程S106と、複数のカソードのカソード毎に、電子放出部材の上面の外径寸法を測定する工程S108と、複数のカソードのカソード毎に、電子放出部材の上面と同一面での隙間の外径寸法を測定する工程S110と、複数のカソードのカソード毎に、同一面での隙間の面積を電子放出部材の上面の面積で除した面積比を演算する工程S112と、輝度と面積比との相関関係を用いて、所望の輝度に対応する面積比の上限値を取得する工程と、製作された複数のカソードのうち、上限値以下の面積比を有するカソードを選択する工程S114と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置は、以下のように動作する。第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向され、第2のアパーチャ420の可変成形開口421の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340に照射される。すなわち、第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式(VSB方式)という。
電子放出部材と、隙間を設けて電子放出材料の側面を覆うカバー部とを有する複数のカソードを製作する工程と、
複数のカソードのカソード毎に、電子放出部材の上面の外径寸法を測定する工程と、
複数のカソードのカソード毎に、電子放出部材の上面と同一面での隙間の外径寸法を測定する工程と、
複数のカソードのカソード毎に、同一面での隙間の面積を電子放出部材の上面の面積で除した面積比を演算する工程と、
輝度と面積比との相関関係を用いて、所望の輝度に対応する面積比の上限値を取得する工程と、
製作された複数のカソードのうち、上限値以下の面積比を有するカソードを選択する工程と、
を備えたことを特徴とする。
カバー部の材料として、カーボン(C)が用いられると好適である。
上述したカソードの取得方法によって取得されたカソードが搭載された電子銃と、
カソードから放出された電子ビームを用いて、試料にパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
電子放出部材と、隙間を設けて前記電子放出部材の側面を覆うカバー部とを有するカソードを製作する工程と、
前記カソードの、前記電子放出部材の上面の外径寸法を測定する工程と、
前記カソードの、前記電子放出部材の上面と同一面での前記隙間の外径寸法を測定する工程と、
前記カソードの、前記同一面での前記隙間の面積を前記電子放出部材の上面の面積で除した面積比を演算する工程と、
予め求めた輝度と前記面積比との相関関係を用いて、所望の輝度に対応する前記面積比の上限値を取得する工程と、
製作された前記カソードが前記上限値以下の前記面積比を有するか否かを判定し、前記上限値以下の前記面積比を有するカソードを取得する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるカソードの取得方法の要部工程を示すフローチャート図である。図1において、実施の形態1におけるカソードの取得方法は、輝度(B)と面積比(R)との相関取得工程(S102)と、上限面積比(Rm)取得工程(S104)と、カソード製作工程(S106)と、半径(r1)測定工程(S108)と、半径(r2)測定工程(S110)と、面積比(R)演算工程(S112)と、選択工程(S114)と、いう一連の工程を実施する。なお、半径(r1)測定工程(S108)と、半径(r2)測定工程(S110)とは同時に行われても構わないし、別々に実施されても構わない。また、別々に実施される場合にどちらの工程が先に実施されても構わない。また、相関取得工程(S102)から上限面積比(Rm)取得工程(S104)までの工程と、カソード製作工程(S106)から面積比(R)取得工程(S112)までの工程とは、どちらを先に実施しても構わない。
(1) Ie=I1+I2
(2) Jem=Ie/πr1 2
(3) I1=Je1・πr1 2
(4) I2=Je2・π(r2 2−r1 2)
(5) Jem=(I1+I2)/πr1 2
=Je1+Je2・{(r2/r1)2−1}
(6) Je1=Jem−Je2・{(r2/r1)2−1}
(7) B=Je1(eU/πkT)
=3693.8Je1(U/T)
(8) B=3693.8(U/T)(Jem−Je2・{(r2/r1)2−1})
(9) R=π(r2 2−r1 2)/πr1 2
=(r2/r1)2−1
(10) B=3693.8(U/T)(Jem−Je2・R)
(11) B=I/{π(D1/2)2・π(D2/2L)2}
21 側面
22 上面
30 カソード本体
31 外周側面
40 カバー部
41 上側カバー部
42 下側カバー部
43 上面
50 隙間
100 描画装置
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
120 制御回路
122 DACアンプ
130 レンズ制御回路
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
204 投影レンズ
205 偏向器
206,420 第2のアパーチャ
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
211 電子レンズ
212 ブランキング偏向器
214 ブランキングアパーチャ
216 高さ調整機構
230 電子銃機構
320 カソード
321 陰極ホルダ
322 ウェネルト
324 アノード
330 電子線
400 面
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
510 描画領域
520 ストライプ領域
530 SF
552,554,556 ショット図形
Claims (6)
- 電子放出部材と、隙間を設けて前記電子放出部材の側面を覆うカバー部とを有する複数のカソードを製作する工程と、
前記複数のカソードのカソード毎に、前記電子放出部材の上面の外径寸法を測定する工程と、
前記複数のカソードのカソード毎に、前記電子放出部材の上面と同一面での前記隙間の外径寸法を測定する工程と、
前記複数のカソードのカソード毎に、前記同一面での前記隙間の面積を前記電子放出部材の上面の面積で除した面積比を演算する工程と、
輝度と前記面積比との相関関係を用いて、所望の輝度に対応する前記面積比の上限値を取得する工程と、
製作された前記複数のカソードのうち、前記上限値以下の前記面積比を有するカソードを選択する工程と、
を備えたことを特徴とするカソードの取得方法。 - 前記電子放出部材の材料として、六ホウ化ランタン(LaB6)と六ホウ化セリウム(CeB6)とのうち1つが用いられ、
前記カバー部の材料として、カーボン(C)が用いられることを特徴とする請求項1記載のカソードの取得方法。 - 前記電子放出部材の上部は、円錐形状の先端を上面が平面になるように切り取った形状に形成されることを特徴とする請求項1又は2記載のカソードの取得方法。
- 選択対象のカソードには、前記同一面での前記隙間の外周形状と前記電子放出部材の上面形状とが同心円に形成されていないカソードが含まれることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載のカソードの取得方法。
- 請求項1〜4のいずれか記載のカソードの取得方法によって取得されたカソードが搭載された電子銃と、
前記カソードから放出された電子ビームを用いて、試料にパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 電子放出部材と、隙間を設けて前記電子放出部材の側面を覆うカバー部とを有するカソードを製作する工程と、
前記カソードの、前記電子放出部材の上面の外径寸法を測定する工程と、
前記カソードの、前記電子放出部材の上面と同一面での前記隙間の外径寸法を測定する工程と、
前記カソードの、前記同一面での前記隙間の面積を前記電子放出部材の上面の面積で除した面積比を演算する工程と、
予め求めた輝度と前記面積比との相関関係を用いて、所望の輝度に対応する前記面積比の上限値を取得する工程と、
製作された前記カソードが前記上限値以下の前記面積比を有するか否かを判定し、前記上限値以下の前記面積比を有するカソードを取得する工程と、
を備えたことを特徴とするカソードの取得方法。
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