JP6764305B2 - レーザ照射装置、半導体装置の製造方法、及び、レーザ照射装置の動作方法 - Google Patents

レーザ照射装置、半導体装置の製造方法、及び、レーザ照射装置の動作方法 Download PDF

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Description

本発明は、レーザ照射装置、半導体装置の製造方法、及び、レーザ照射装置の動作方法に関し、例えばレーザ光のビームプロファイルの測定に関する。
特許文献1は、被処理体を浮上搬送すると共に、被処理体にレーザ光を照射するレーザアニール装置を開示している。
国際公開第2015/174347号
しかしながら、特許文献1には、レーザ光のビームプロファイルを測定することについて何ら言及されていない。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
上記の課題を解決するために、レーザ照射装置において、搬送ステージの一部を取り外しできるようにした。
上記構成によれば、搬送ステージの一部を取り外すことで設けられた開口部を介して、レーザ光のビームプロファイルを測定することが可能となる。
実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための平面図である。 実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための平面図である。 実施の形態1にかかる製造方法を示すフローチャートである。 実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 レーザ光のビームプロファイルの測定結果を例示するグラフである。 実施の形態1にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 実施の形態2にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 実施の形態3にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。 有機ELディスプレイの構成を簡略化して示す断面図である。 比較例1にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。 比較例2にかかるレーザアニール装置を説明するための側面断面図である。
<比較例1>
先ず、図15を参照して、比較例1にかかるレーザアニール装置400について説明する。レーザアニール装置400は、例えばシリコン基板やガラス基板に設けられたアモルファスシリコン膜にレーザ光を照射することでポリシリコン膜を形成する装置である。レーザアニール装置400は、処理室401と、移動式搬送ステージユニット402と、光学系403と、レーザ発振器404と、を備えている。
処理室401には、被処理体としてのワークWを処理室401内に搬入するための搬入口401aと、アニール処理されたワークWを処理室401から搬出するための搬出口401bと、が設けられている。
移動式搬送ステージユニット402は、処理室401内において搬入口401aから搬出口401bに向かって+X方向に移動可能に構成されている。移動式搬送ステージユニット402は、ワークWを支持するステージ本体402aと、ビームプロファイラ402bと、を備える。ビームプロファイラ402bは、ステージ本体402aに対して固定されており、ステージ本体402aと共に処理室401内において+X方向に移動可能とされる。
光学系403は、ミラー又はレンズを含んで構成されている。光学系403は、レーザ発振器404が発生するレーザ光Lを集光して所定形状に成形し、処理室401内に照射する。
そして、移動式搬送ステージユニット402を搬入口401aから搬出口401bに向かって+X方向に移動させつつ、ワークWにレーザ光Lを照射することで、ワークWがアニール処理される。
このとき、レーザ光Lのビームプロファイルは、移動式搬送ステージユニット402に設けられたビームプロファイラ402bを用いて測定することができる。ビームプロファイラ402bは、例えば、ステージ本体402aの側面に固定される。
上述した比較例1にかかるレーザアニール装置400は、レーザ光Lのビームプロファイルを問題なく測定できる点で優れているものの、幾つかの課題が残っていた。即ち、第1に、ステージ本体402a上のワークWを交換する際に時間の無駄が生じていた。第2に、ワークWをステージ本体402aから剥離するに際し、ワークWが剥離帯電してしまう虞があった。第3に、ステージ本体402aにワークWを支持させる際に、ワークWがステージ本体402aとの接触によって汚染してしまう虞があった。第4に、第2及び第3を改善するためにはタクトタイムが増加する傾向にあり生産性が低下してしまう虞があった。
<比較例2>
次に、図16を参照して、比較例2にかかるレーザアニール装置405について説明する。レーザアニール装置405は、例えばシリコン基板やガラス基板に設けられたアモルファスシリコン膜にレーザ光を照射することでポリシリコン膜を形成する装置である。レーザアニール装置405は、処理室406と、浮上式搬送ステージ407と、光学系408と、レーザ発振器409と、図示しないワーク搬送ユニットと、を備えている。
処理室406には、被処理体としてのワークWを処理室406内に搬入するための搬入口406aと、アニール処理されたワークWを処理室406から搬出するための搬出口406bと、が設けられている。
浮上式搬送ステージ407は、処理室406内に移動不能に配置され、ワークWを浮上させて搬送可能に構成されている。
光学系408は、ミラー又はレンズを含んで構成されている。光学系408は、レーザ発振器409が発生するレーザ光Lを集光して所定形状に成形し、処理室406内に照射する。
そして、ワークWを浮上式搬送ステージ407上で浮上させ、前述のワーク搬送ユニットによってワークWを搬入口406aから搬出口406bに向かって+X方向に移動させつつ、ワークWにレーザ光Lを照射することで、ワークWがアニール処理される。
比較例2は、ワークWを浮上式搬送ステージ407上で浮上させつつ処理室406内で+X方向に移動させるので、上述した比較例1の3つの課題を解決している。
しかしながら、比較例2の構成では、レーザ光Lのビームプロファイルを測定するのに好適な位置にビームプロファイラを設置することができない。
<実施の形態1>
以下、図1から図3を参照して、実施の形態1にかかるレーザ照射装置が適用されたレーザアニール装置について説明する。なお、実施の形態1にかかるレーザ照射装置は、レーザアニール装置の他に、レーザ剥離装置に適用してもよい。
(レーザ照射装置の構造)
図1及び図2に示すように、実施の形態1にかかるレーザアニール装置1は、例えばシリコン基板やガラス基板に設けられたアモルファスシリコン膜にレーザ光を照射することで、アモルファスシリコン膜を結晶化してポリシリコン膜を形成する装置である。レーザアニール装置1は、処理室2と、搬送ステージとしての浮上式搬送ステージ3と、レーザ発振器4と、光学系5と、着脱アクチュエータ6と、測定器としてのビームプロファイラ7と、プロファイラアクチュエータ8と、制御部9と、を備える。なお、図2においては、説明の便宜上、レーザ発振器4、光学系5、制御部9の図示を省略している。
図1に示すように、処理室2には、被処理体としてのワークWを処理室2内に搬入するための搬入口2aと、アニール処理されたワークWを処理室2から搬出するための搬出口2bと、が設けられている。本実施の形態1において、搬入口2aと搬出口2bは、互いに対向する一対の側壁にそれぞれ設けられている。ワークWは、搬入口2aにおいて処理室2内に搬入され、アニール処理され、搬出口2bにおいて処理室2から搬出される。なお、説明の便宜上、本実施の形態1において、搬入口2aから搬出口2bへ向かう方向を搬送方向(+X方向)と定義する。また、鉛直方向上向きを+Z方向とし、X方向及びZ方向に対して直交する方向をY方向と定義する。
浮上式搬送ステージ3は、レーザ光Lが照射されるワークWを浮上させて搬送するための搬送ステージである。詳しくは、ワークWは、浮上式搬送ステージ3からワークWに対して気体を噴射させることで浮上する。浮上式搬送ステージ3は、ワークWと対向する搬送面3aと、搬送面3aと反対側の下面3bと、を有する。搬送面3aには、気体を上方に向かって噴射するための噴射孔Hが複数形成されている。
また、浮上式搬送ステージ3は、上下(Z方向)に開口する開口部Sを有する搬送ステージ本体11と、搬送ステージ本体11の開口部Sに対して着脱自在の着脱部12と、を含む。即ち、浮上式搬送ステージ3は、その一部に取り外し可能な着脱部12を有している。そして、着脱部12を浮上式搬送ステージ3から取り外すことにより、搬送面3aから下面3bに達する開口部Sが浮上式搬送ステージ3に設けられる。開口部S及び着脱部12は、レーザ光Lの光軸上に位置する。即ち、着脱部12は、浮上式搬送ステージ3のうちレーザ光Lが照射される部分である。
レーザ発振器4は、レーザ光Lを発生する。本実施の形態1において、レーザ発振器4が発生するレーザ光Lの種別は問わない。レーザ光Lとして、例えばエキシマレーザ光が挙げられる。
光学系5は、ミラー又はレンズを含んで構成されている。図3に示すように、光学系5は、レーザ発振器4が発生するレーザ光Lを集光して所定形状に成形し、処理室2内に照射する。本実施の形態1においてレーザ光Lの焦点位置Fにおける所定形状とは、長方形である。即ち、レーザ光Lの平面形状は、搬送方向に対して直交する方向に延びる長方形であって、長軸と短軸を有する。
図1に戻り、着脱アクチュエータ6は、着脱部12を移動させるアクチュエータである。詳しくは、着脱アクチュエータ6は、着脱部12を搬送ステージ本体11の開口部Sに対して着脱させるアクチュエータである。着脱アクチュエータ6は、浮上式搬送ステージ3の搬送ステージ本体11に固定されている。着脱アクチュエータ6は、搬送ステージ本体11の開口部Sに取り付けられた着脱部12を鉛直方向(Z方向)に移動させる鉛直アクチュエータ13と、鉛直アクチュエータ13による移動後に着脱部12を水平方向(X方向)に移動させる水平アクチュエータ14と、を有する。鉛直アクチュエータ13は、着脱部12に連結された軸13aと、軸13aを鉛直方向(Z方向)に進退させる駆動源13bと、を含むアクチュエータである。水平アクチュエータ14は、鉛直アクチュエータ13の駆動源13bに連結された軸14aと、軸14aを水平方向(X方向)に進退させる駆動源14bと、を含むアクチュエータである。鉛直アクチュエータ13及び水平アクチュエータ14は、例えばエアシリンダーである。
ビームプロファイラ7は、レーザ光Lのビームプロファイルを測定する測定器である。本実施の形態1において、ビームプロファイラ7は、浮上式搬送ステージ3の下面3bの下方に位置している。ビームプロファイラ7は、搬送ステージ本体11の開口部Sに取り付けられた着脱部12の真下に配置されている。ビームプロファイラ7は、レーザ光Lの光軸上に位置している。
プロファイラアクチュエータ8は、ビームプロファイラ7を移動させるアクチュエータである。プロファイラアクチュエータ8は、処理室2に固定されている。プロファイラアクチュエータ8は、挿抜アクチュエータ8aと、スキャンアクチュエータ8bと、を含む。挿抜アクチュエータ8aは、ビームプロファイラ7を鉛直方向(Z方向)に移動させるアクチュエータである。挿抜アクチュエータ8aは、搬送ステージ本体11の開口部Sにビームプロファイラ7を挿抜するアクチュエータである。挿抜アクチュエータ8aは、軸とこの軸を進退させる駆動源によって構成されている。挿抜アクチュエータ8aは、例えばエアシリンダーである。挿抜アクチュエータ8aによりビームプロファイラ7は浮上式搬送ステージ3の下面3bの下方の位置から開口部Sの位置まで移動可能となっており、これにより、ビームプロファイラ7は、レーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイルを測定可能となっている。スキャンアクチュエータ8bは、ビームプロファイラ7を幅方向(Y方向)に移動させるアクチュエータである。詳しくは、スキャンアクチュエータ8bは、図3に示すレーザ光Lの平面形状の長軸に沿ってビームプロファイラ7を移動させるアクチュエータである。従って、ビームプロファイラ7は、レーザ光Lの平面形状の長軸に沿って移動可能である。
制御部9は、着脱アクチュエータ6やプロファイラアクチュエータ8の動作、レーザ発振器4の出力の制御を行なう制御部であって、搬送ステージ本体11に対する着脱部12の着脱動作、ビームプロファイラ7の昇降動作等を制御する。制御部9は、中央演算処理器としてのCPU(Central Processing Unit)と、読み書き自由のRAM(Random Access Memory)、読み出し専用のROM(Read Only Memory)を備えている。ROMには、CPUが読み出して実行可能な制御プログラムが記憶されている。
その他、レーザアニール装置1は、浮上式搬送ステージ3上で浮上しているワークWを保持してワークWを搬送する図示しない搬送ユニットを備えている。搬送ユニットによるワークWの保持は、例えば、把持による保持、吸着による保持、などが挙げられる。
以上の構成で、ビームプロファイラ7によってレーザ光Lのビームプロファイルを測定するときは、着脱部12を浮上式搬送ステージ3から取り外す。これにより、搬送面3aから下面3bに達する開口部Sが浮上式搬送ステージ3に設けられ、ビームプロファイラ7によって、開口部Sを介して、レーザ光Lのビームプロファイルを測定することが可能となる。従って、ビームプロファイラ7を用いてレーザ光Lのビームプロファイルを測定するに際し、浮上式搬送ステージ3の存在が障害となることがない。一方、浮上式搬送ステージ3上でワークWを搬送するときは、着脱部12を浮上式搬送ステージ3に取り付ければよい。
(レーザ照射装置の動作)
次に、図4〜図10を参照して、レーザアニール装置1を用いた半導体装置の製造方法を詳細に説明する。図4には、レーザアニール装置1の動作方法のフローチャートを示している。
先ず、制御部9は、図5に示すように、搬入口2aから処理室2内に搬入されたワークWを浮上させながら、図示しないワーク搬送ユニットを制御して+X方向に搬送する(S100)。即ち、浮上式搬送ステージ3からワークWに対して気体を噴射させて浮上式搬送ステージ3上でワークWを浮上させながらワークWを搬送する。本実施の形態1においてワークWは、ガラス基板及びアモルファスシリコン膜を含むものである。
そして、制御部9は、レーザ発振器4及び光学系5を制御することで、搬送されるワークWのアモルファスシリコン膜に向かってレーザ光Lを照射する(S110)。これにより、アモルファスシリコン膜が結晶化してポリシリコン膜が形成される。ワークWは、その後、搬出口2bから次工程へと搬出される。
次に、制御部9は、図6に示すように、鉛直アクチュエータ13を制御して、浮上式搬送ステージ3の着脱部12を取り外す(S120)。これにより、浮上式搬送ステージ3の一部に、搬送面3aから下面3bに達する開口部Sを設ける。
本実施の形態1では、更に、制御部9は、図7に示すように、着脱部12が水平方向(―X方向)に移動するように水平アクチュエータ14を制御する。
次に、制御部9は、図8に示すように、挿抜アクチュエータ8aを制御して、開口部Sの位置までビームプロファイラ7を移動する。そして、制御部9は、開口部Sを介して、レーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイルを測定する(ステップS130)。
なお、図3に示すように、本実施の形態1において、レーザ光Lの平面形状は幅方向(Y方向)に延びる長方形に成形されいる。従って、制御部9は、図8に示すスキャンアクチュエータ8bを制御して、ビームプロファイラ7を幅方向(Y方向)に移動させながらレーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイルを測定する。図9には、ビームプロファイラ7による測定結果を例示している。図9は、レーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイルを示すグラフであって、横軸は幅方向(Y方向)における位置、縦軸は相対強度である。本実施の形態1では、レーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイルとして、例えば、レーザ光Lの焦点位置Fにおける相対強度に着目している。そして、制御部9は、レーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイルが所望のビームプロファイルでなかった場合は、レーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイルが所望のビームプロファイルとなるように、レーザ発振器4や光学系5の動作を修正する。
次に、制御部9は、図10に示すように、プロファイラアクチュエータ8を制御して開口部Sからビームプロファイラ7を抜去し、着脱アクチュエータ6を制御して着脱部12を開口部Sに挿入して取り付ける(S140)。
以上の半導体装置の製造方法(ステップS100からステップS140まで)によれば、浮上式搬送ステージ3の一部を取り外すことで設けられた開口部Sを介して、レーザ光Lのビームプロファイルを測定することが可能となる。
以上に、実施の形態1を説明した。上記実施の形態1において、レーザ照射装置としての上記レーザアニール装置1は、少なくとも、レーザ発振器4、浮上式搬送ステージ3、ビームプロファイラ7を備えて構成されている。
<実施の形態2>
以下、図11を参照して、実施の形態2にかかるレーザ照射装置が適用されたレーザアニール装置について説明する。ここでは、実施の形態2が上記実施の形態1と異なる点を中心に説明し、重複する説明は省略する。
上記実施の形態1では、着脱部12が浮上式搬送ステージ3に対して着脱可能に構成されているとした。これに対し、本実施の形態2では、浮上式搬送ステージ3のうちレーザ光Lの光軸上に位置する部分がレンズ20で構成されている。レンズ20は、レーザ光Lの焦点を、浮上式搬送ステージ3の下側に配置されたビームプロファイラ7に投影するように設計されている。以上の構成によれば、浮上式搬送ステージ3の下方に配置したビームプロファイラ7を用いて、レーザ光Lの焦点位置Fにおけるビームプロファイラを測定することができるようになる。
<実施の形態3>
以下、図12を参照して、実施の形態3にかかるレーザ照射装置が適用されたレーザアニール装置について説明する。ここでは、実施の形態3が上記実施の形態1と異なる点を中心に説明し、重複する説明は省略する。
上記実施の形態1では、着脱部12が浮上式搬送ステージ3に対して着脱可能に構成されているとした。また、ビームプロファイラ7は、浮上式搬送ステージ3の下側に配置するとした。
これに対し、本実施の形態3では、ビームプロファイラ7を浮上式搬送ステージ3の上側に配置すると共に、レーザ光Lの光軸上にミラー等の光軸を反射又は屈曲する光学素子21を配置し、光学系5から照射されたレーザ光Lをビームプロファイラ7に導くように構成している。以上の構成によれば、レーザ光Lの焦点位置におけるビームプロファイラを測定することができるようになる。
<その他の実施の形態>
次に、図13及び図14を参照して、その他の実施の形態として、実施の形態1、2、3で説明したレーザ照射装置を用いた半導体装置の製造方法、及び半導体装置について説明する。
(半導体装置の製造方法)
まず、上記で説明したレーザ照射装置を用いた半導体装置の製造方法について説明する。本実施の形態では、レーザ照射装置としてレーザアニール装置を用いることで、基板上に形成した非晶質膜にレーザ光を照射して非晶質膜を結晶化させることができる。例えば、半導体装置はTFT(薄型トランジスタ、Thin Film transistor)を備える半導体装置であり、この場合はアモルファスシリコン膜にレーザ光を照射して結晶化させてポリシリコン膜を形成することができる。ポリシリコン膜は、TFTを構成する。
図13は、半導体装置の製造方法の一例を説明するための断面図である。上記で説明した本実施の形態にかかるレーザ照射装置は、TFTアレイ基板の製造に好適である。以下、TFTを有する半導体装置の製造方法について説明する。
まず、図13(a)に示すように、ガラス基板201上に、ゲート電極202を形成する。ゲート電極202は、例えば、アルミニウムなどを含む金属薄膜を用いることができる。次に、図13(b)に示すように、ゲート電極202の上に、ゲート絶縁膜203を形成する。ゲート絶縁膜203は、ゲート電極202を覆うように形成される。その後、図13(c)に示すように、ゲート絶縁膜203の上に、アモルファスシリコン膜204を形成する。アモルファスシリコン膜204は、ゲート絶縁膜203を介して、ゲート電極202と重複するように配置されている。
ゲート絶縁膜203は、窒化シリコン膜(SiN)、酸化シリコン膜(SiO膜)、又はこれらの積層膜等などである。具体的には、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により、ゲート絶縁膜203とアモルファスシリコン膜204とを連続成膜する。
そして、図13(d)に示すように、上記で説明したレーザ照射装置を用いてアモルファスシリコン膜204にレーザ光を照射してアモルファスシリコン膜204を結晶化させて、ポリシリコン膜205を形成する。これにより、シリコンが結晶化したポリシリコン膜205がゲート絶縁膜203上に形成される。
その後、図13(e)に示すように、ポリシリコン膜205の上に層間絶縁膜206、ソース電極207a、及びドレイン電極207bを形成する。層間絶縁膜206、ソース電極207a、及びドレイン電極207bは、一般的なフォトリソグラフィー法や成膜法を用いて形成することができる。
上記で説明した半導体装置の製造方法を用いることで、TFTを備える半導体装置を製造することができる。なお、これ以降の製造工程については、最終的に製造するデバイスによって異なるので説明を省略する。
(有機ELディスプレイ)
次に、TFTを備える半導体装置を用いたデバイスの一例として、有機ELディスプレイについて説明する。図14は、有機ELディスプレイの概要を説明するための断面図であり、有機ELディスプレイの画素回路を簡略化して示している。図14に示す有機ELディスプレイ300は、各画素PXにTFTが配置されたアクティブマトリクス型の表示装置である。
有機ELディスプレイ300は、基板310、TFT層311、有機層312、カラーフィルタ層313、及び封止基板314を備えている。図14では、封止基板314側が視認側となるトップエミッション方式の有機ELディスプレイを示している。なお、以下の説明は、有機ELディスプレイの一構成例を示すものであり、本実施の形態は、以下に説明される構成に限られるものではない。例えば、本実施の形態にかかる半導体装置は、ボトムエミッション方式の有機ELディスプレイに用いられていてもよい。
基板310は、ガラス基板又は金属基板である。基板310の上には、TFT層311が設けられている。TFT層311は、各画素PXに配置されたTFT311aを有している。さらに、TFT層311は、TFT311aに接続される配線等を有している。TFT311a、及び配線等が画素回路を構成する。なお、TFT層311は、図13で説明したTFTに対応しており、ゲート電極202、ゲート絶縁膜203、ポリシリコン膜205、層間絶縁膜206、ソース電極207a、及びドレイン電極207bを有する。
TFT層311の上には、有機層312が設けられている。有機層312は、画素PXごとに配置された有機EL発光素子312aを有している。有機EL発光素子312aは、例えば、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、及び陰極が積層された積層構造を有している。トップエミッション方式の場合、陽極は金属電極であり、陰極はITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜である。さらに、有機層312には、画素PX間において、有機EL発光素子312aを分離するための隔壁312bが設けられている。
有機層312の上には、カラーフィルタ層313が設けられている。カラーフィルタ層313は、カラー表示を行うためのカラーフィルタ313aが設けられている。すなわち、各画素PXには、R(赤色)、G(緑色)、又はB(青色)に着色された樹脂層がカラーフィルタ313aとして設けられている。有機層312から放出された白色光は、カラーフィルタ313aを通過すると、RGBの色の光に変換される。なお、有機層312に、RGBの各色を発光する有機EL発光素子が設けられている3色方式の場合、カラーフィルタ層313を省略してもよい。
カラーフィルタ層313の上には、封止基板314が設けられている。封止基板314は、ガラス基板などの透明基板であり、有機層312の有機EL発光素子の劣化を防ぐために設けられている。
有機層312の有機EL発光素子312aに流れる電流は、画素回路に供給される表示信号によって変化する。よって、表示画像に応じた表示信号を各画素PXに供給することで、各画素PXでの発光量を制御することができる。これにより、所望の画像を表示することができる。
なお、上記のTFTを備える半導体装置は、有機ELディスプレイを制御するために用いられるとした。しかし、これに代えて、TFTを備える半導体装置は、液晶ディスプレイを制御するために用いられてもよい。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
1 レーザアニール装置
2 処理室
3 浮上式搬送ステージ
4 レーザ発振器
5 光学系
6 着脱アクチュエータ
7 ビームプロファイラ
8 プロファイラアクチュエータ
9 制御部
10 搬送面
11 搬送ステージ本体
12 着脱部
L レーザ光
S 開口
W ワーク

Claims (19)

  1. 以下を有するレーザ照射装置:
    レーザ光を発生するレーザ発振器;
    前記レーザ光が照射されるワークを浮上させて搬送するための搬送ステージ;および
    前記レーザ光のビームプロファイルを測定するための測定器、
    ここで、
    前記搬送ステージは、前記ワークと対向する搬送面と、前記搬送面と反対側の下面を有し、
    前記測定器は、前記搬送ステージの前記下面の下方に位置し、
    前記搬送ステージは、その一部に取り外し可能な着脱部を有し、
    前記着脱部を前記搬送ステージから取り外すことにより、前記搬送面から前記下面に達する開口部が設けられ、
    前記測定器によって、前記開口部を介して、前記レーザ光のビームプロファイルを測定することが可能となる。
  2. 前記着脱部は、前記レーザ光の光軸上に位置する請求項1記載のレーザ照射装置。
  3. 前記測定器は、前記開口部の位置まで移動可能である請求項1記載のレーザ照射装置。
  4. 前記測定器は、前記レーザ光の焦点位置のビームプロファイルを測定可能である請求項1記載のレーザ照射装置。
  5. 前記開口部および前記測定器は、前記レーザ光の光軸上に位置している請求項1記載のレーザ照射装置。
  6. 前記レーザ光の平面形状は長軸と短軸を有する長方形であり、
    前記測定器は前記長軸に沿って移動可能である請求項1記載のレーザ照射装置。
  7. 前記搬送ステージから前記ワークに対して気体を噴射させて前記ワークを浮上させる請求項1記載のレーザ照射装置。
  8. 前記ワークは非晶質半導体膜を含み、前記レーザ光を前記非晶質半導体膜に照射することで多結晶半導体膜が形成可能な請求項1記載のレーザ照射装置。
  9. 以下の工程を含む半導体装置の製造方法:
    (a)搬送ステージ上を浮上させて、非晶質半導体膜を含むワークを搬送する工程;
    (b)前記非晶質半導体膜にレーザ光を照射し、多結晶半導体膜を形成する工程;
    (c)前記搬送ステージの着脱部を取り外し、前記搬送ステージの一部に開口部を設ける工程;
    (d)前記開口部を介して、前記レーザ光のビームプロファイルを測定する工程。
  10. 前記工程(c)と(d)の間に、さらに、
    前記レーザ光のビームプロファイルを測定するための測定器を、前記開口部の位置まで移動する工程
    を含む請求項9記載の半導体装置の製造方法。
  11. 前記開口部および前記レーザ光のビームプロファイルを測定する測定器は、前記レーザ光の光軸上に位置している請求項9記載の半導体装置の製造方法。
  12. 前記工程(a)において、前記搬送ステージから前記ワークに対して気体を噴射させて前記ワークを浮上させる請求項9記載の半導体装置の製造方法。
  13. 前記ワークはガラス基板を含む請求項9記載の半導体装置の製造方法。
  14. 前記多結晶半導体膜は薄膜トランジスタを構成する請求項9記載の半導体装置の製造方法。
  15. 前記薄膜トランジスタは液晶ディスプレイ又は有機ELディスプレイを制御するために用いられる請求項14記載の半導体装置の製造方法。
  16. 以下の工程を含むレーザ照射装置の動作方法:
    (a)搬送ステージ上を浮上させてワークを搬送する工程;
    (b)前記ワークにレーザ光を照射する工程;
    (c)前記搬送ステージの着脱部を取り外し、前記搬送ステージの一部に開口部を設ける工程;
    (d)前記開口部を介して、前記レーザ光のビームプロファイルを測定する工程。
  17. 前記工程(c)と(d)の間に、さらに、
    前記レーザ光のビームプロファイルを測定するための測定器を、前記開口部の位置まで移動する工程
    を含む請求項16記載のレーザ照射装置の動作方法。
  18. 前記開口部および前記レーザ光のビームプロファイルを測定する測定器は、前記レーザ光の光軸上に位置している請求項16記載のレーザ照射装置の動作方法。
  19. 前記工程(a)において、前記搬送ステージから前記ワークに対して気体を噴射させて前記ワークを浮上させる請求項16記載のレーザ照射装置の動作方法。
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