JP6764123B1 - ソルダペースト - Google Patents

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Abstract

【課題】環境にやさしい洗浄液を用いて容易に洗浄でき、粉末とフラックスが分離せず、ボイドの発生が抑制されるフラックス、ソルダペーストを提供する。【解決手段】フラックスは、ロジン、活性剤、溶剤、ポリエチレングリコールを含むチキソ剤、及びはんだ粉末を含有し、ポリエチレングリコールの含有量がフラックスの全質量に対して10〜20質量%であり、ポリエチレングリコールを除くチキソ剤の含有量がフラックスの全質量に対して5質量%以下である。【選択図】なし

Description

本発明は、加熱後の焦げ及び粉末とフラックスとの分離が抑制されたフラックス、ソルダペーストに関する。
ソルダペーストは、フラックスとはんだ粉末で構成されている。電子部品が実装される基板には電極パッドが設けられている。電極パッドにはソルダペーストが印刷され、リフロー処理によりはんだ接合部が形成される。ソルダペーストの印刷は、開口部が設けられたメタルマスクを基板上に置き、スキージをメタルマスクに押し付けながら移動させ、メタルマスクの開口部からソルダペーストを基板の電極パッドに一括塗布することにより行われる。
近年、電子部品の小型化が進むにつれて電極パッドが小さくなり、購入したソルダペーストを使い切るまでの時間は長期化している。保管期間が長期に渡る場合には、保管状況によってはソルダペーストの粘度が上がりメタルマスクの開口部からソルダペーストが塗布されないなど、購入当初の印刷性能を発揮することができないことがある。また、電極パットが小さくなり印刷面積が狭くなることから、ソルダペーストに用いるはんだ粉末の粒径は小さくせざるを得ない。このため、はんだ粉末の表面積が大きくなり表面が酸化してソルダペーストが経時的に劣化することがあった。
そこで、例えば特許文献1〜3には、はんだ粉末の構成元素とフラックス中のロジンが錯体を生成することによるソルダペーストの粘度上昇を抑制して印刷性能や保存安定性が向上するように、ポリエチレングリコール(以下、適宜、「PEG」と称する。)を7重量%以下含有するフラックスが開示されている。
特開平5−228690号公報 特開平10−109188号公報 特開平10−128573号公報
特許文献1〜3に記載の発明はソルダペーストの粘度上昇を抑制するためにPEGを所定量含有するが、特許文献1には、PEGが7質量%を超えて含有する場合にはだれ性が低下することが記載されている。特許文献2には、PEGが3質量%を超えて含有するとはんだ粉末の活性力を阻害してはんだボールの発生が多くなることが記載されている。特許文献3には、PEGを2質量%以上含有するとはんだボールの発生が多くなることが記載されている。このように、特許文献1〜3に記載の発明では、粘度上昇を抑制して印刷性能や保存安定性を向上させることによる弊害として、だれ性やはんだボールの発生に着目してPEGの含有量が定められている。
しかし、特許文献1〜3に記載のように、チキソ剤の含有量を増やせばだれ性やはんだボールの発生を抑制できるとも思われるが、ボイドの発生を低減するためにリフロー時の溶融時間を延ばすとピーク温度が上がってしまう。この結果、チキソ剤が焦げ付いてしまい、洗浄が困難になる。また、これらの特許文献には、はんだ継手において発生が抑制されなければならないボイド発生率の低減に関して一切検討されていない。
焦げ付きが発生したとしても、洗浄力の高い洗浄液を使用すれば焦げ付いた場合も洗浄することができるが、このような洗浄液を用いると環境負荷が大きいために使用を避けるべきである。さらには、特許文献1〜3に記載の発明では、ソルダペーストの粘度上昇を抑えているため、粘度によっては粘性が低すぎるためにはんだ粉末とフラックスが保管時に分離してしまう懸念がある。
このように、従来のソルダペーストでは、はんだ粉末とフラックスとの分離、洗浄時の環境負荷、およびボイドの発生という課題を同時に解決することが困難であるため、更なる検討が必要である。
本発明の課題は、環境にやさしい洗浄液を用いて容易に洗浄でき、粉末とフラックスが分離せず、ボイドの発生が抑制されるソルダペーストを提供することである。
本発明者らは、十分な溶融時間を確保してボイドの発生を低減しても環境負荷が小さい洗浄液にて容易に残渣を除去できるように、洗浄残渣の原因物質に着目した。洗浄残渣の原因物質は上述のようにチキソ剤の焦げ付きにより発生する。そこで、本発明者らは、従来のフラックスとは異なり、チキソ剤の含有量を敢えて低減することを着想した。ただ、チキソ剤の含有量を低減したとしてもチキソ剤が焦げ付くため、環境負荷が小さく洗浄力が低い洗浄液を用いると残渣が残ることに変わりはない。更には、ソルダペーストの粘度低下によるはんだ粉末とフラックスとの分離も避けなければならない。
そこで、ボイド発生率の低減、洗浄性およびはんだ粉末とフラックスとの分離の抑制が同時に奏するように鋭意検討を行った。チキソ剤の含有量を低く抑えた上で、従来ではだれ性の低下やはんだボールの発生を抑制するために含有量の増加が避けられていたPEGの含有量を敢えて増加させた。その結果、PEGは加熱時間が長くなることにより加熱時のピーク温度が上昇しても分解せずに液体状態を維持するため、チキソ剤の焦げ付きが抑制されることにより環境負荷が小さい洗浄液にて容易に残渣を除去できる。これにともない、ボイド発生率が低減するように加熱時間を確保することもできる。更には、従来よりもPEGの含有量が多いため、はんだ粉末とフラックスの分離をも抑制される知見が得られ、本発明は完成した。
これらの知見により得られた本発明は次の通りである。
(1)ロジン、活性剤、溶剤、ポリエチレングリコールを含むチキソ剤を含有するフラックスと、はんだ粉末とを含むソルダペーストであって、ポリエチレングリコールの含有量がフラックスの全質量に対して10〜20質量%であり、ポリエチレングリコールを除くチキソ剤の含有量がフラックスの全質量に対して5質量%以下であり、ロジンの含有量がフラックスの全質量に対して15質量%超え50質量%以下であることを特徴とするソルダペースト
(2)ポリエチレングリコールは常温で固体である、上記(1)に記載のソルダペースト。
本発明を以下により詳しく説明する。本明細書において、「%」は、特に指定しない限り「質量%」である。本発明に係るフラックスを構成する各成分について詳述する
1.ロジン
本発明に係るフラックスは金属酸化物を除去するためにロジンを含有する。本発明で用いられるロジンとしては、以下に例示されるものが挙げられる。例えば、ガムロジン、ウッドロジン及びトール油ロジン等の原料ロジン、並びに該原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。該誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに該重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びに該α,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物及び不均化物等が挙げられ、これらの中で二種以上を同時に含有してもよい。
ロジンの含有量は、フラックスの全質量に対して15〜50%である。
2. 活性剤
本発明に係るフラックスは、金属酸化物を除去するために活性剤を含有する。本発明で用いられる活性剤としては、有機酸、有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩などが挙げられる。
有機酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ダイマー酸、プロピオン酸、2,2−ビスヒドロキシメチルプロピオン酸、酒石酸、リンゴ酸、グリコール酸、ジグリコール酸、チオグリコール酸、ジチオグリコール酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、パルミチン酸、オレイン酸等が挙げられる。好ましくはマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フタル酸が挙げられる。これらの中で二種以上を同時に含有してもよい。
有機ハロゲン化合物としては、例えば、trans−2,3−ジブロモ−1,4−ブテンジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオールなどが挙げられる。
アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素を反応させた化合物であり、アニリン塩化水素、アニリン臭化水素等が挙げられる。アミンハロゲン化水素酸塩のアミンとしては、エチルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン等が挙げられ、ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の水素化物(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素)などが挙げられる。
活性剤の含有量は、フラックスの全質量に対して1〜10%であることが好ましい。
3. 溶剤
本発明に係るフラックスはロジンなどを溶融して均一に分散させるために溶剤を含有する。本発明で用いる溶剤としては、以下に例示されるものが挙げられる。例えば、アルコール系溶剤、エステル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。エステル系溶剤としては、脂肪酸アルキル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸2−エチルヘキシル、ステアリン酸イソトリデシル、オレイン酸メチル、オレイン酸イソブチル、ヤシ脂肪酸メチル、ラウリン酸メチル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸2−エチルヘキシル、ミリスチン酸オクチルドデシル等が挙げられる。アルコール系溶剤としてはイソプロピルアルコール、1,2−ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2−エチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,2′−オキシビス(メチレン)ビス(2−エチル−1,3−プロパンジオール)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2−トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール等が挙げられる。グリコールエーテル系溶剤としては、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2−メチルペンタン−2,4−ジオール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、1,3−ブチレングリコール、フェニルグリコール、へキシレングリコール等が挙げられる。これらの中で二種以上を同時に含有してもよい。
溶剤の含有量は、フラックスの全質量に対して20〜50%であることが好ましい。
4. ポリエチレングリコールを含むチキソ剤
本発明に係るフラックスはPEGを含むチキソ剤を含有する。PEGは240℃以上の温度域で液体となる。また、沸点が350℃程度と高温であるため、高融点はんだと呼ばれるはんだ合金が溶融する温度で液体状態を維持することができる。加熱時に液体状態が維持されると、液状のPEGが流動しているためにチキソ剤に起因する焦げの付着が抑制され、環境負荷が小さく洗浄力が低い洗浄液でも容易に残渣を洗浄することができる。また、PEGはチキソ性を有するため、焦げ付きの原因となるチキソ剤の代替物質となり、チキソ剤の含有量を低減できることにより焦げの付着量が抑制され、上述の洗浄液により残渣を容易に洗浄することができる。さらに、加熱時間が長くなることにより加熱時のピーク温度が上昇しても残渣を容易に洗浄することができるため、その結果としてボイド発生率を低減することにも繋がる。これに加えて、PEGは常温で固体であり、チキソ剤と同様に常温でのソルダペーストの流動性を調整することができるため、はんだ粉末とフラックスとの分離をも抑制することが可能になる。
このような効果を発揮するため、本発明に係るソルダペーストは、フラックスの質量に対してPEGを10〜20%含有する。PEG含有量が10%未満では上記のような効果が発揮されない。一方、PEG含有量が20%を超える場合には、使用に適した粘度とするためには含有できるロジン量を制限され、これによりリフロー性が低下し、ボイドの発生を抑制することができない。また、PEGは親水性であるため、ロジン系フラックスの洗浄に適した準水系洗浄液を用いると、洗浄性が劣ることがある。PEGの含有量は、好ましくは10〜16%であり、より好ましくは12〜16%である。
本発明で用いるPEGは、ソルダペーストに十分なチキソ性を付与するとともに、ソルダペーストの粘性を増加させて保存時に発生し得るフラックスとはんだ粉末の分離を抑制するため、常温で固体であることが好ましい。
また、本発明に係るソルダペーストは、PEGの他にチキソ剤を含有することができる。例えば、ワックス系チキソ剤、アマイド系チキソ剤が挙げられる。ワックス系チキソ剤としては、例えば硬化ヒマシ油等が挙げられる。
アマイド系チキソ剤としてはラウリン酸アマイド、パルミチン酸アマイド、ステアリン酸アマイド、ベヘン酸アマイド、ヒドロキシステアリン酸アマイド、オレイン酸アマイド、エルカ酸アマイド、メチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスラウリン酸アマイド、エチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド、メチロールステアリン酸アマイド、等が挙げられる。これらの中で二種以上を同時に含有してもよい。
PEG以外のチキソ剤の含有量は、フラックスの全質量に対して5%以下であることが好ましく、含有しなくてもよい。
5. その他の成分
本発明に係るソルダペーストは、アミン類を含有してもよい。
アミン類としては、脂肪族アミン、アミノアルコール、イミダゾール等を使用することができる。
脂肪族アミンとしては、例えば、ジメチルアミン、エチルアミン、1−アミノプロパン、イソプロピルアミン、トリメチルアミン、n−ブチルアミン、ジエチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、イソブチルアミン、シクロヘキシルアミンなどが挙げられる。
アミノアルコールとしては、例えば、2−アミノエタノール、2−(エチルアミノ)エタノール、ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、N−ブチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−シクロヘキシルアミン、N,N,N',N'−テトラキス(2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン、N,N,N',N'',N''−ペンタキス(2−ヒドロキシプロピル)ジエチレントリアミンなどが挙げられる。
イミダゾールとしては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2'―メチルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'―ウンデシルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'―エチル−4'―メチルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'―メチルイミダゾリル−(1')]―エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、エポキシ―イミダゾールアダクト、2−メチルベンゾイミダゾール、2−オクチルベンゾイミダゾール、2−ペンチルベンゾイミダゾール、2−(1−エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2−ノニルベンゾイミダゾール、2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾールなどが挙げられる。
6. ソルダペースト
本発明に係るソルダペーストは、上記フラックスとはんだ粉末を含有する。
はんだ粉末としては特に限定されず、Sn−3Ag−0.5Cu、Pb−10Sn、Sn−Sb系はんだ合金など、種々のはんだ合金組成を有するはんだ粉末を用いることができる。本発明に係るソルダペーストは上記フラックスを用いるため、高融点はんだ粉末を用いた場合であっても、従来のフラックスと高融点はんだ粉末とを混合したソルダペーストにおいて発生する課題を解決することができる。本発明に係るソルダペーストは、はんだ粉末の融点が240℃以上、または280℃以上であっても、PEGを所定量含有するために、焦げ付きによる洗浄不良やはんだ粉末とフラックスとの分離、さらにはボイドの発生を抑制することができる。
はんだ粉末の粒径は、10〜50μmが好ましい。はんだ粉末の含有量は、ソルダペーストの全質量に対して85〜92%であることが好ましい。
本発明に係るソルダペーストは、当業界で一般的な方法により製造される。まず、はんだ粉末の製造は、加熱した溶融はんだを滴下して粒子を得る滴下法や遠心噴霧する噴霧法、バルクのはんだ材料を粉砕する方法等、公知の方法を採用することができる。滴下法や噴霧法において、滴下や噴霧は、粒子状とするために不活性雰囲気や溶媒中で行うことが好ましい。そして、各成分を加熱混合してフラックスを調製し、フラックス中に上記はんだ粉末を導入し、攪拌、混合して製造することができる。
本発明を以下の実施例により説明するが、本発明が以下の実施例に限定されることはない。実施例中、「%」は特に指定しない限り「質量%」である。また、はんだ粉末の合金組成の数字は質量%での含有量を意味する。
合金組成がSn−3Ag−0.5Cu(Ag:3質量%、Cu0.5質量%、残部:Snおよび不純物、融点:220℃)、およびPb−10Sn(Sn:10質量%、残部:Pbおよび不純物、融点:302℃)であり、粒径20〜38μmのはんだ粉末を用意した。表1および表3に示すように調整したフラックスとはんだ粉末とを混合してソルダペーストを作製した。表1および表3に示す数値は「質量%」である。表1に示す実施例1〜7、および比較例1〜4で用いたはんだ粉末の合金組成はSn−3Ag−0.5Cuであり、表3に示す実施例8〜14、および比較例5〜8で用いたはんだ粉末の合金組成はPb−10Snである。フラックスとはんだ粉末との質量比は、Sn−3Ag−0.5Cuはんだ粉末を用いた場合には、フラックス:はんだ粉末=12:88とし、Pb−10Snはんだ粉末を用いた場合には、フラックス:はんだ粉末=9:91とした。各ソルダペーストについて、1.洗浄性、2.フラックスとはんだ粉末との分離(分離)、および3.ボイド(の有無)を評価した。詳細は以下のとおりである。
1.洗浄性
1)印刷
50×50mmのCu板状に、5×5mmの開口サイズ、厚さ0.4mmのメタルマスクを用いて上述のように調整したソルダペーストを印刷した。
2)リフロー条件
・Sn−3.0Ag−0.5Cuの場合
プリヒート温度を150〜180℃として200秒間保持し、プリヒート温度からピーク温度までの昇温速度を1.34℃/秒、ピーク温度を250℃、220℃以上の加熱時間を250秒、酸素濃度を2000ppmとして加熱し、その後室温にて冷却した。
・Pb−10Snの場合
室温からピーク温度までの昇温速度を4℃/秒、ピーク温度を380℃、302℃以上の加熱時間を50秒、酸素濃度100ppm以下として加熱し、その後室温にて冷却した。
3)洗浄条件
・水系洗浄液の場合
商品名「VIGON A200」(Zestron社製)の洗浄剤を用い、浄剤:イオン交換水=30:70(質量比)にて希釈して洗浄液を得た。その後、以下の手順で洗浄した。
(1)洗浄液を満たした超音波槽中で超音波洗浄(50℃、10分)
(2)イオン交換水を満たした超音波槽中でリンス(常温、3分を2回)
(3)50℃の恒温槽中で10分乾燥
・準水系洗浄液の場合
商品名「クリンスルー750J」(花王株式会社製)の洗浄液を用い、以下の手順で洗浄した。
(1)洗浄液を満たした超音波槽中で超音波洗浄(40℃、10分)
(2)イオン交換水を満たした超音波槽中でリンス(常温、3分)
(3)50℃の恒温槽中で10分乾燥
4)判定
乾燥後の試験片を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察した。洗浄残渣が見られない場合には「○」とし、洗浄残渣が見られる場合には「×」とした。
2.分離
常温にて3日間放置し、放置後、目視によりペーストの表面状態を確認した。分離が見られない場合には「〇」とし、分離が見られる(分離によりフラックスの浮き出しが見られる)場合には「×」とした。
3.ボイド(の有無)
1)印刷
50×50mmのCu板状に、5×5mmの開口サイズ、厚さ0.4mmのメタルマスクを用いて上述のように調整したソルダペーストを印刷した。
2)リフロー条件
・Sn−3.0Ag−0.5Cuの場合
プリヒート温度を150〜180℃として200秒間保持し、プリヒート温度からピーク温度までの昇温速度を1.34℃/秒、ピーク温度を250℃、220℃以上の加熱時間を250秒、酸素濃度を2000ppmとして加熱し、その後室温にて冷却した。
・Pb−10Snの場合
室温からピーク温度までの昇温速度を4℃/秒、ピーク温度を380℃、302℃以上の加熱時間を50秒、酸素濃度100ppm以下として加熱し、その後室温にて冷却した。
3)ボイド観察
リフロー後のはんだ付け部の透過画像をUNi−HiTE SYSTEM社製Microfocus X−ray System XVR−160を用いて観察し、ボイド発生率を求めた。
4)判定基準
ボイド率が3%以上である場合には「×」とし、ボイド率が3%以下である場合には「〇」とし、ボイド率が1%以下である場合には「◎」とした。
評価した結果を表2および4に示す。
Figure 0006764123
Figure 0006764123
Figure 0006764123
Figure 0006764123
表2および4に示すように、実施例ではいずれも本発明の要件を満たすために洗浄性、分離およびボイドの発生が抑制されていることがわかった。
これに対して、比較例1、2、5および6は、PEGを含有しないか又はPEGの含有量が少ないため、より親水性の高い水系洗浄液では、残渣が見られた。比較例3および7は、PEGの含有量が多い分ロジンの含有量が制限されるため、リフロー性が低下し、高いボイド率になった。また、PEGは親水性であるため、準水系洗浄液による洗浄性は劣ることがわかった。比較例4および8は、PEG以外のチキソ剤の含有量が多いため、焦げが発生し、いずれの洗浄液においても洗浄性が低下した。

Claims (2)

  1. ロジン、活性剤、溶剤、ポリエチレングリコールを含むチキソ剤を含有するフラックスと、はんだ粉末とを含むソルダペーストであって、
    前記ポリエチレングリコールの含有量が前記フラックスの全質量に対して10〜20質量%であり、前記ポリエチレングリコールを除くチキソ剤の含有量が前記フラックスの全質量に対して5質量%以下であり、前記ロジンの含有量が前記フラックスの全質量に対して15質量%超え50質量%以下であることを特徴とするソルダペースト
  2. 前記ポリエチレングリコールは常温で固体である、請求項1に記載のソルダペースト
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