JP6762790B2 - 硬質皮膜被覆部材 - Google Patents
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(硬質皮膜被覆部材の構成)
まず、本発明の実施形態1に係る硬質皮膜被覆部材としての金型1について説明する。図1に示すように、金型1は、被プレス部材である金属板7をプレス成形するためのものであって、上金型(第1金型)2と、下金型(第2金型)3と、を有する。上金型2及び下金型3は、上下方向(図1中矢印)に互いに離れて配置されている。上金型2には下金型3側に出っ張った凸部4が形成されており、下金型3には上金型2と反対側に凹む凹部5が形成されている。凸部4及び凹部5は、互いに嵌合可能な形状及び大きさに形成されている。
次に、基材10の窒化処理プロセス及び硬質皮膜11の成膜プロセスについて説明する。本実施形態では、アンモニアガスを窒素原として用いたガス窒化法により基材10の表層部に窒化層10Aが形成され、その後AIP法により窒化層10Aを覆うように硬質皮膜11が形成される場合について説明する。
次に、本発明の実施形態2に係る硬質皮膜被覆部材としての切削工具1Aについて説明する。
上記実施形態1,2では、窒化層10Aの最大窒素濃度が10at%以上25at%以下の範囲内に制御されると共に、窒化層10Aの表層部における平均窒素濃度が8at%以上20at%以下の範囲内に制御される場合について説明したが、これに限定されない。図6のグラフに示すように、最大窒素濃度(Max.)が10at%以上25at%以下の範囲内に制御される一方で、表層部の平均窒素濃度(Ave.)が20at%を超えていてもよい。また図7のグラフに示すように、表層部の平均窒素濃度(Ave.)が8at%以上20at%以下の範囲内に制御される一方で、最大窒素濃度(Max.)が25at%を超えていてもよい。なお、図6及び図7のグラフでは、図2のグラフと同様に、窒化層10Aの最表面から深さ5μmまでの領域である表層部が斜線により示され、当該表層部における平均窒素濃度が一点鎖線で示されている。
JIS規格SKD11の化学成分を有する試験片(40mm×40mm×10mm)を基材として準備し、表面に鏡面研磨処理を施した。そして、この試験片をガス窒化炉内に配置し、以下の条件でガス窒化処理を施すことにより表層部に窒化層を形成した。
ガス:水素−アンモニア混合ガス(アンモニア:5vol%以上20vol%以下)
全圧力:140Pa
処理時間:12時間
下記の表1において、No.5〜13,31〜34の試験片に対しては窒化処理後に投射型の研磨処理を施し、No.14〜17の試験片に対しては砥石研磨による研磨処理を施した。またGD−OESを用いて窒化層における深さ方向の窒素濃度分布を測定し(測定元素はN、C、Cr、Fe、O)、この分布に基づいて窒素濃度(at%)を測定した。またX線回折測定を用いてFe4N(γ’相)又はFe2−3N(ε相)の化合物層に基づくピークの有無を確認することにより、これらの化合物層が形成されているか否かを確認した。
窒化処理後の基材に対して、図3に示した成膜装置6を用いたAIP法により硬質皮膜を形成した。AIPの条件は以下の通りである。
基材バイアス:10〜100V
アーク電流:150A
温度:400℃
まず、窒化処理後の基材10をステージ24上にセットし、Cr、Ti、Alなどのターゲットをアーク蒸発源22Aにセットした。そして、Arイオンエッチングにより基材10の表面をクリーニングした後、チャンバー21内に窒素ガスを導入し、アーク蒸発源22Aにアーク電流を流してアーク放電を開始させることにより、基材10上に硬質皮膜11を成膜した。
硬質皮膜を成膜した試験片に対して、以下の条件でスクラッチ試験を行うことにより、皮膜の密着性を確認した。表1に評価結果を示す。
荷重範囲:0〜100N(密着が100N以上のサンプルに対しては荷重範囲の上限を150Nにして実施)
荷重増加速度:100N/分
圧子移動速度:10mm/分
表1に示される通り、窒化層の最表面における窒素濃度(最大窒素濃度)が25at%を超えると共に平均窒素濃度が20at%を超え、窒化層中にγ’相及びε相が形成される場合(No.1,5)及び最大窒素濃度が10%未満であると共に平均窒素濃度が8at%未満である場合(No.4,12,17)に比べて、最大窒素濃度が10at%以上25at%以下の範囲及び平均窒素濃度が8at%以上20at%以下の範囲、の少なくとも一方の条件を満たした場合において、密着性(N)が向上した。また硬質皮膜のビッカース硬さが1700HVを超える場合(No.22〜26)に比べて、1700HV以下の場合にも密着性(N)が向上した。またNo.27〜30では、上層側の皮膜の硬さが1700HVを超えているが、窒化層と接触する下層側の皮膜の硬さが1700HV以下となっており、良好な密着性(N)が確認された。以上の結果より、窒化層における最大窒素濃度が10at%以上25at%以下の範囲及び平均窒素濃度が8at%以上20at%以下の範囲の少なくとも一方の条件を満たすと共に、硬質皮膜の硬さを1000HV以上1700HV以下にすることにより、硬質皮膜の密着性が向上することが明らかとなった。
1A 切削工具(硬質皮膜被覆部材)
10 基材
11 硬質皮膜
Claims (4)
- 鉄系材料からなり、表層部に窒化層が形成された基材と、
金属窒化物、金属炭窒化物又は金属炭化物からなり、前記窒化層上に形成された硬質皮膜と、を備え、
前記窒化層における最大窒素濃度が10at%以上23at%以下であり、
前記硬質皮膜の硬度が1000HV以上1700HV以下であることを特徴とする、硬質皮膜被覆部材。 - 鉄系材料からなり、表層部に窒化層が形成された基材と、
金属窒化物、金属炭窒化物又は金属炭化物からなり、前記窒化層上に形成された硬質皮膜と、を備え、
前記窒化層の最表面から5μmの深さまでの領域における平均窒素濃度が8at%以上20at%以下であり、
前記硬質皮膜の硬度が1000HV以上1700HV以下であることを特徴とする、硬質皮膜被覆部材。 - 前記窒化層と前記硬質皮膜との硬度差が700HV以下であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の硬質皮膜被覆部材。
- 前記鉄系材料は、4wt%以上のCrを含有することを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載の硬質皮膜被覆部材。
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