JP6753740B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

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Description

本発明は、センサ信号を処理するために使用される半導体集積回路に関する。
センサから出力されるセンサ信号を処理するセンサ信号処理装置は、一般的に発振器を有する構成である(例えば特許文献1参照)。そして、センサ信号処理装置で用いられる発振器は通常圧電振動子を有する構成である。このため、一般的なセンサ信号処理装置は、半導体集積回路と、当該半導体集積回路に外付けされる圧電振動子と、を有する構成となる。
特開2012−225723号公報(段落0003)
上記の半導体集積回路に対して、例えば、上記の半導体集積回路の電源として一次電池を用い、電池交換を行うこと無く上記の半導体集積回路を長期間(例えば10年間等)動作可能にする等の要望がある。このような要望を満たすためには、上記の半導体集積回路の低消費電力化を図る必要がある。
上記の半導体集積回路の低消費電力化を実現するための手法として、上記の半導体集積回路を間欠動作させることが考えられる。上記の半導体集積回路を間欠動作させる場合、低消費電力化を推進すればするほど、上記の半導体集積回路が動作を停止している期間が長くなる。したがって、上記の半導体集積回路を間欠動作させる場合において、上記の半導体集積回路に外付けされる圧電振動子の長寿命化を図るには、上記の半導体集積回路が動作を停止しているときに上記の半導体集積回路が圧電振動子に悪影響を与えないことが重要になる。
加速度センサや角速度センサなどのセンサがMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を用いて形成した圧電振動子やシリコン振動子を内蔵して振動子の振動を利用してセンシングを行い、上記の半導体集積回路が当該センサに内蔵される振動子を発振させる発振回路を有し、センサ信号処理装置が当該センサから出力されるセンサ信号を処理する場合がある。この場合にも、当該センサに内蔵され上記の半導体集積回路に外付けされる振動子の長寿命化を図るには、上記の半導体集積回路が動作を停止しているときに上記の半導体集積回路が当該センサに内蔵される振動子に悪影響を与えないことが重要になる。
本発明は、上記の状況に鑑み、センサ信号を処理するために使用され間欠動作を行う半導体集積回路であって、外付けされる振動子の長寿命化を図ることができる半導体集積回路並びにこれを用いたセンサシステム及び車両を提供することを目的とする。
本明細書中に開示されている半導体集積回路は、センサから出力されるセンサ信号を処理するセンサ信号処理装置の一部を構成する半導体集積回路であって、前記半導体集積回路に外付けされる振動子の一端が接続される第1の端子と、前記振動子の他端が接続される第2の端子と、前記第1の端子及び前記第2の端子を介して接続される前記振動子を発振させる発振回路と、を有し、前記発振回路は制御信号に基づいて前記振動子を間欠的に発振させ、前記発振回路が前記振動子を発振させている第1の期間と前記発振回路が前記振動子を発振させていない第2の期間とが交互に切り替わり、前記第1の期間では前記第1の端子及び前記第2の端子の電位がハイレベルとローレベルとに相補的に交互に切り替わり、前記第2の期間では前記第1の端子及び前記第2の端子の電位が前記ローレベルに固定される構成(第1の構成)である。
また、上記第1の構成の半導体集積回路において、前記第1の期間が前記第2の期間より短い構成(第2の構成)であってもよい。
また、上記第1又は第2の構成の半導体集積回路において、一の前記第1の期間において前記センサ信号処理装置が前記センサ信号を複数回処理する構成(第3の構成)であってもよい。
また、上記第1〜第3いずれかの構成の半導体集積回路において、前記発振回路は前記振動子を発振させてクロック信号を生成する構成(第4の構成)であってもよい。
また、上記第4の構成の半導体集積回路において、一の前記第1の期間の長さが前記クロック信号に基づいて定められる構成(第5の構成)であってもよい。
また、上記第1〜第3いずれかの構成の半導体集積回路において、前記振動子が前記センサに内蔵されている構成(第6の構成)であってもよい。
また、上記第1〜第6いずれかの構成の半導体集積回路において、前記半導体集積回路の外部から前記半導体集積回路に供給されるトリガー信号に基づいて前記第1の期間の開始タイミングが定められる構成(第7の構成)であってもよい。
また、上記第1〜第7いずれかの構成の半導体集積回路において、前記発振回路が、NAND回路と、前記NAND回路の出力端子と前記第2の端子との間に設けられる第1のスイッチと、電位が前記ローレベルに固定されている部分と前記第2の端子との間に設けられる第2のスイッチと、一端が前記第1の端子に接続され他端が前記第2の端子に接続される抵抗と、を有し、前記第1の期間では前記第1のスイッチがオン状態になり前記第2のスイッチがオフ状態になり、前記第2の期間では前記第1のスイッチがオフ状態になり前記第2のスイッチがオン状態になる構成(第8の構成)であってもよい。
また、上記第8の構成の半導体集積回路において、前記第1のスイッチ及び前記2のスイッチが前記制御信号に基づいて制御される構成(第9の構成)であってもよい。
また、上記第8又は第9の構成の半導体集積回路において、前記NAND回路がCMOS型NAND回路である構成(第10の構成)であってもよい。
本明細書中に開示されているセンサシステムは、センサと、上記第1〜第10いずれかの構成の半導体集積回路を含み前記センサから出力されるセンサ信号を処理するセンサ信号処理装置と、を有する構成(第11の構成)である。
本明細書中に開示されている車両は、上記第11の構成のセンサシステムを有する構成(第12の構成)である。
本明細書中に開示されている半導体集積回路、センサシステム及び車両によれば、発振回路が振動子を発振させていない期間に、第1の端子及び第2の端子の電位がローレベルに固定される。したがって、発振回路が振動子を発振させていない期間において、第1の端子及び第2の端子に外付け接続される振動子が電流及び高電位による悪影響を受けるおそれをなくすことができる。これにより、外付けされる振動子の長寿命化を図ることができる。
センサシステムの一構成例を示す図 流量測定の手順を示すタイムチャート 間欠動作を示すタイムチャート 発振回路の第1実施例を示す図 発振回路の比較例を示す図 COS型NAND回路の構成を示す図 COS型NOR回路の構成を示す図 発振回路の第2実施例を示す図 センサシステムが搭載される車両の外観図
<センサシステム>
図1は、センサシステムの一構成例を示す図である。図1に示すセンサシステムは、超音波センサ100及び200と、センサ信号処理装置と、を有する。センサ信号処理装置は、半導体集積回路300と、半導体集積回路300に外付けされる素子と、を有し、超音波センサ100及び200それぞれから出力されるセンサ信号を処理する。半導体集積回路300は、マイクロコンピュータ400に接続されており、センサ信号の処理結果をマイクロコンピュータ400に出力する。
超音波センサ100及び200はパイプP1に設置される。超音波センサ100の設置位置と超音波センサ200の設置位置とはパイプP1の軸線方向D1において互いにずれている。パイプP1内では流体がパイプP1の軸線方向D1に沿って流れている。上記のセンサ信号処理装置は、パイプP1内を流れる流体の流量を時間t1と時間t2との差分に基づいて測定している。時間t1は、超音波センサ100から送信された超音波が超音波センサ200で受信されるまでの時間である。時間t2は、超音波センサ200から送信された超音波が超音波センサ100で受信されるまでの時間である。
半導体集積回路300は、シーケンサ1と、ドライバ2と、パルス信号発生回路3と、アンプ4と、可変利得アンプ5と、波形整形回路6と、コンパレータ7と、可変電圧源8と、タイマー9と、多点平均演算部10と、を有する。
半導体集積回路300は発振回路を有している。当該発振回路と、外付け部品である圧電振動子XO並びにコンデンサC1及びC2とによってクロック信号が生成される。当該クロック信号は半導体集積回路300の内部においてタイマー9等の動作基準として用いられる。発振回路の詳細については後述する。
ドライバ2は、シーケンサ1からの指令に基づいてパルス信号発生回路3及びタイマー9を動作させる。
パルス信号発生回路3はパルス信号列を生成してアンプ4に出力する。アンプ4によって増幅されたパルス信号列は、スイッチSW1がオンである場合には超音波センサ100に供給され、スイッチSW3がオンである場合には超音波センサ200に供給される。超音波センサ100及び200はアンプ4から送られてくるパルス信号列に基づいて超音波を送信する。ここで、流体の流れの上流側に超音波センサ100が設置され、流体の流れの下流側に超音波センサ200が設置されているので、以下の説明においては超音波センサ100を上流側超音波センサ100と呼び、超音波センサ200を下流側超音波センサ200と呼ぶ。
上流側超音波センサ100及び下流側超音波センサ200は、超音波を受信すると、受信した超音波に基づいた高周波信号を出力する。スイッチSW2がオンである場合には上流側超音波センサ100から出力される高周波信号が可変利得アンプ5に供給され、スイッチSW4がオンである場合には下流側超音波センサ200から出力される高周波信号が可変利得アンプ5に供給される。可変利得アンプ5によって増幅された高周波信号は、波形整形回路6によって波形整形されてパルス信号列に変換される。コンパレータ7は、波形整形回路6から出力されるパルス信号列と、可変電圧源8の出力電圧とを比較し、比較結果をタイマー9に出力する。タイマー9は、コンパレータ7の出力信号に基づいて、上述した時間t1と時間t2との差分を計測する。多点平均演算部10は、タイマー9によって計測された時間t1と時間t2との差分の平均値を演算し、その演算結果に基づいてパイプP1内を流れる流体の流量を求めている。
スイッチSW1及びSW4とスイッチSW2及びSW3とは、シーケンサ1からの指令に基づいて相補的にオン状態とオフ状態とを切り替える。
図2は、パイプP1内を流れる流体の流量を測定する手順を示すタイムチャートである。
(上流側送信)
まず初めに、半導体集積回路300のパルス信号列を送信するために必要な機能部(送信機能部)を起動し、その起動完了後に複数個のパルスを含むパルス信号列を送信し、パルス信号列の送信完了後に送信機能部をオフ状態にする。
(上流側受信)
その後、半導体集積回路300の高周波信号を受信するために必要な機能部(受信機能部)及び半導体集積回路300の差分値計測を行うために必要な機能部(計測機能部)を起動し、その起動完了後に複数個の極値を含む高周波信号の受信及び時間t1の計測を順次行い、時間t1の計測完了後に受信機能部及び計測機能部をオフ状態にする。
(下流側送信)
更にその後、送信機能部を再び起動し、その起動完了後に複数個のパルスを含むパルス信号列を送信し、パルス信号列の送信完了後に送信機能部をオフ状態にする。
(下流側受信)
更にその後、受信機能部及び計測機能部を再び起動し、その起動完了後に複数個の極値を含む高周波信号の受信及び時間t2の計測を順次行い、時間t2の計測完了後に受信機能部及び計測機能部をオフ状態にする。
送信機能部、受信機能部、及び計測機能部を必要なときのみオン状態にしているので、図2に示す通り送信機能部、受信機能部、及び計測機能部の消費電流を抑えることができ、低消費電力化を図ることができる。
図3は、間欠動作を示すタイムチャートである。半導体集積回路300は、発振回路がクロック信号を生成している第1の期間PD1と、発振回路がクロック信号を生成していない第2の期間PD2とを交互に切り替えている。
このような発振回路の間欠動作によって低消費電力化を図ることができる。発振回路の間欠動作による消費電力の低減量を大きくする観点から、第1の期間PD1を第2の期間PD2により短くすることが望ましい。従って、本実施形態では、一の第1の期間PD1の長さを500μSとし、一の第2の期間PD2の長さを1.5mSとする。なお、これらの数値はあくまで一例で有り、当然の事ながら他の数値も採用し得る。
一の第1の期間PD1において、図2に示した時間t1及びt2の一対の計測が64回(n=64)繰り返される。図2に示した時間t1及びt2の一対の計測並びに64回の繰り返しは、発振回路によって生成されるクロック信号に基づいて実行される。このため、一の第1の期間PD1の長さは、発振回路によって生成されるクロック信号に基づいて定められることになる。
マイクロコンピュータ400は2秒周期でトリガー信号を半導体集積回路300に送信している。半導体集積回路300は当該トリガー信号の受信タイミングで期間PD1を開始する。すなわち、マイクロコンピュータ400から半導体集積回路300に送信されるトリガー信号は、半導体集積回路300にとってウェイクアップ信号となっている。なお、半導体集積回路300は、時間t1と時間t2との差分の平均値を演算し、その演算結果に基づいてパイプP1内を流れる流体の流量を求める処理も期間PD1内で行っている。
<発振回路の第1実施例>
図4は、半導体集積回路300内に設けられる発振回路の第1実施例を示す図である。発振回路OSC11は、NOT回路A1と、NOR回路A2と、抵抗A3と、AND回路A4と、を有する構成である。
NOT回路A1の入力端子及びAND回路A4の第1入力端子に制御信号CTRLが供給される。制御信号CTRLは、半導体集積回路300内で生成される信号であって、上述した第1の期間PD1においてハイレベルになり、上述した第2の期間PD2においてローレベルになる。したがって、制御信号CTRLは、例えばクロック信号CK及びマイクロコンピュータ400から出力されるトリガー信号に基づいて生成される。
NOT回路A1の出力端子がNOR回路A2の第1入力端子に接続される。NOR回路A2の第2入力端子がAND回路A4の第2入力端子、抵抗A3の一端、及び端子XTINに接続される。NOR回路A2の出力端子が抵抗A3の他端及び端子XTOUTに接続される。
外付け部品である圧電振動子XOの一端及び外付け部品であるコンデンサC1の一端が半導体集積回路300の端子XTINに接続される。また、圧電振動子XOの他端及び外付け部品であるコンデンサC2の一端が半導体集積回路300の端子XTOUTに接続される。コンデンサC1及びC2の他端の電位はローレベル(典型的にはグランド電位)に固定されている。
発振回路OSC11は、圧電振動子XOを発振させてクロック信号CKを生成し、AND回路A4の出力端子からクロック信号CKを出力する。また、発振回路OSC11は、制御信号CTRLに基づいてクロック信号CKを間欠的に生成する。すなわち、制御信号CTRLがハイレベルである場合に発振回路OSC11はイネーブル状態となりクロック信号CKを生成し、制御信号CTRLがローレベルである場合に発振回路OSC11はディセーブル状態となりクロック信号CKを生成しない。
発振回路OSC11がディセーブル状態である場合、AND回路A4の出力端子、端子XTIN、及び端子XTOUTはローレベルに固定される。
次に、発振回路OSC11が奏する効果を比較例と対比しながら説明する。図5は、半導体集積回路300内に設けられる発振回路の比較例を示す図である。発振回路OSC10は、NAND回路B1と、抵抗B2と、AND回路B3と、を有する構成である。
NAND回路B1の第1入力端子及びAND回路B3の第1入力端子に制御信号CTRLが供給される。制御信号CTRLは、半導体集積回路300内で生成される信号であって、上述した第1の期間PD1においてハイレベルになり、上述した第2の期間PD2においてローレベルになる。したがって、制御信号CTRLは、例えばクロック信号CK及びマイクロコンピュータ400から出力されるトリガー信号に基づいて生成される。
NAND回路B1の第2入力端子がAND回路B3の第2入力端子、抵抗B2の一端、及び端子XTINに接続される。NAND回路B1の出力端子が抵抗B2の他端及び端子XTOUTに接続される。
外付け部品である圧電振動子XOの一端及び外付け部品であるコンデンサC1の一端が半導体集積回路300の端子XTINに接続される。また、圧電振動子XOの他端及び外付け部品であるコンデンサC2の一端が半導体集積回路300の端子XTOUTに接続される。コンデンサC1及びC2の他端の電位はローレベル(典型的にはグランド電位)に固定されている。
発振回路OSC10は、圧電振動子XOを発振させてクロック信号CKを生成し、AND回路B3の出力端子からクロック信号CKを出力する。また、発振回路OSC10は、制御信号CTRLに基づいてクロック信号CKを間欠的に生成する。すなわち、制御信号CTRLがハイレベルである場合に発振回路OSC10はイネーブル状態となりクロック信号CKを生成し、制御信号CTRLがローレベルである場合に発振回路OSC10はディセーブル状態となりクロック信号CKを生成しない。
発振回路OSC10がディセーブル状態である場合、AND回路B3の出力端子がローレベルに固定され、端子XTIN及びXTOUTがハイレベルに固定される。
発振回路OSC10を用いた場合、発振回路OSC10がディセーブル状態である期間において、端子XTIN及びXTOUTがハイレベルに固定される。このため、コンデンサC1の両端電位差に応じた電荷がコンデンサC1に蓄えられるまで端子XTINからコンデンサC1に充電電流が流れ、コンデンサC2の両端電位差に応じた電荷がコンデンサC2に蓄えられるまで端子XTOUTからコンデンサC2に充電電流が流れる。したがって、発振回路OSC10がディセーブル状態である期間において、圧電振動子XOが、コンデンサC1及びC2の充電電流及び圧電振動子XOの両端のハイレベル電位による悪影響を受けるおそれがある。
これに対して、発振回路OSC11を用いた場合、発振回路OSC11がディセーブル状態である期間において、端子XTIN及びXTOUTがローレベルに固定される。このため、端子XTINからコンデンサC1に充電電流が流れず、端子XTOUTからコンデンサC2に充電電流が流れない。したがって、発振回路OSC11がディセーブル状態である期間において、圧電振動子XOが、コンデンサC1及びC2の充電電流及び圧電振動子XOの両端のハイレベル電位による悪影響を受けるおそれをなくすことができる。これにより、発振回路OSC11を用いた場合、半導体集積回路300に外付けされる圧電振動子XOの長寿命化を図ることができる。
次に、発振回路OSC10及びOSC11のサイズについて検討する。発振回路OSC10に設けられるNAND回路B1に図6に示すCMOS型NAND回路を適用し、発振回路OSC11に設けられるNOR回路A2に図7に示すCMOS型NOR回路を適用した場合を考える。
図6に示すCMOS型NAND回路及び図7に示すCMOS型NOR回路はともに、PMOSトランジスタQ1及びQ2と、NMOSトランジスタQ3及びQ4と、によって構成される。
図6に示すCMOS型NAND回路では、PMOSトランジスタQ1及びQ2が並列接続された並列回路と、NMOSトランジスタQ3及びQ4が直列接続された直列回路と、が直列接続されている。これに対して、図7に示すCMOS型NOR回路では、PMOSトランジスタQ1及びQ2が直列接続された直列回路と、NMOSトランジスタQ3及びQ4が並列接続された並列回路と、が直列接続されている。
PMOSトランジスタの電流供給能力とNMOSトランジスタの電流供給能力とを同一にした場合、PMOSトランジスタの方がNMOSトランジスタよりも3倍程度大きくなることは周知の事実である。
そこで、NMOSトランジスタの単位サイズを「1」として考えたときPMOSトランジスタの単位サイズが3倍の「3」になるとして、図6に示すCMOS型NAND回路及び図7に示すCMOS型NOR回路の大きさについて考察する。なお、2つのトランジスタが直列接続されている場合には、各トランジスタの電圧降下を半分にする必要があるため、各トランジスタのサイズを単位サイズの2倍すなわち「単位サイズ×2」とする。
したがって、図6に示すCMOS型NAND回路では、PMOSトランジスタQ1のサイズが「3」となり、PMOSトランジスタQ2のサイズが「3」となり、NMOSトランジスタQ3のサイズが「1×2」となり、NMOSトランジスタQ4のサイズが「1×2」となり、その合計サイズが「10」(=3+3+1×2+1×2)になる。一方、図7に示すCMOS型NOR回路では、PMOSトランジスタQ1のサイズが「3×2」となり、PMOSトランジスタQ2のサイズが「3×2」となり、NMOSトランジスタQ3のサイズが「1」となり、NMOSトランジスタQ4のサイズが「1」となり、その合計サイズが「14」(=3×2+3×2+1+1)になる。
すなわち、図6に示すCMOS型NAND回路の電流供給能力と図7に示すCMOS型NOR回路の電流供給能力を同一にした場合、図7に示すCMOS型NOR回路は図6に示すCMOS型NAND回路よりも1.4倍(=14÷10)程度大きくなる。したがって、発振回路OSC10及びOSC11の電流供給能力を同一にした場合、発振回路OSC11は発振回路OSC10よりも大きくなる。
上記の検討から明らかなように発振回路の大幅なサイズアップを回避するには、NOR回路を有する構成である発振回路OSC11を用いるのではなく、NOR回路を有さない構成である発振回路を用いる必要がある。
<発振回路の第2実施例>
図8は、半導体集積回路300内に設けられる発振回路の第2実施例を示す図である。発振回路OSC12は、NOR回路を有さない構成とすることで図5に示す発振回路OSC10からの変更点を少なくした構成を実現している。
発振回路OSC12は、NOT回路B4、スイッチB5、及びNMOSトランジスタB6を発振回路OSC10に追加した構成である。すなわち、発振回路OSC12は、NAND回路B1と、抵抗B2と、AND回路B3と、NOT回路B4と、スイッチB5と、NMOSトランジスタB6と、を有する構成である。
NAND回路B1の第1入力端子、AND回路B3の第1入力端子、及びNOT回路B4の入力端子に制御信号CTRLが供給される。制御信号CTRLは、半導体集積回路300内で生成される信号であって、上述した第1の期間PD1においてハイレベルになり、上述した第2の期間PD2においてローレベルになる。したがって、制御信号CTRLは、例えばクロック信号CK及びマイクロコンピュータ400から出力されるトリガー信号に基づいて生成される。
NAND回路B1の第2入力端子がAND回路B3の第2入力端子、抵抗B2の一端、及び端子XTINに接続される。NAND回路B1の出力端子がスイッチB5の一端に接続される。スイッチB5の他端が抵抗B2の他端、NMOSトランジスタB6のドレイン、及び端子XTOUTに接続される。
NOT回路B4の出力端子がスイッチB5の開閉制御用端子及びNMOSトランジスタB6のゲートに接続される。スイッチB5は、開閉制御用端子の電位がハイレベルになると開状態になり、開閉制御用端子の電位がローレベルになると閉状態になる開閉スイッチである。NMOSトランジスタB6のソースの電位はローレベル(典型的にはグランド電位)に固定されている。
外付け部品である圧電振動子XOの一端及び外付け部品であるコンデンサC1の一端が半導体集積回路300の端子XTINに接続される。また、圧電振動子XOの他端及び外付け部品であるコンデンサC2の一端が半導体集積回路300の端子XTOUTに接続される。コンデンサC1及びC2の他端の電位はローレベル(典型的にはグランド電位)に固定されている。
発振回路OSC12は、圧電振動子XOを発振させてクロック信号CKを生成し、AND回路B3の出力端子からクロック信号CKを出力する。また、発振回路OSC12は、制御信号CTRLに基づいてクロック信号CKを間欠的に生成する。すなわち、制御信号CTRLがハイレベルである場合に発振回路OSC12はイネーブル状態となりクロック信号CKを生成し、制御信号CTRLがローレベルである場合に発振回路OSC12はディセーブル状態となりクロック信号CKを生成しない。
発振回路OSC12がディセーブル状態である場合、AND回路B3の出力端子がローレベルに固定される。また、発振回路OSC12がディセーブル状態である場合、スイッチB5が開状態になり且つNMOSトランジスタB6がオン状態になることによって端子XTIN及びXTOUTがローレベルに固定される。
したがって、発振回路OSC12は、発振回路OSC11と同様に、半導体集積回路300に外付けされる圧電振動子XOの長寿命化を図ることができる。また、発振回路OSC12は、発振回路OSC11とは異なり、CMOS型NOR回路を有さずCMOS型NAND回路を有する構成であるため、図5に示す発振回路OSC10からの変更点を少なくした構成を実現することができている。
<センサシステムの用途例>
上記したセンサシステムは、例えば図9に示す車両Z1に搭載される。例えば、内燃機関の吸気経路と排気経路とを接続する再循環(Exhaust Gas Recirculation)経路に超音波センサ100及び200を配置し、再循環経路を流れるガスの流量を測定するセンサシステムとして上記したセンサシステムを利用することができる。
<留意点>
本明細書中に開示されている種々の技術的特徴は、上記実施形態のほか、その技術的創作の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では超音波センサから出力されるセンサ信号を処理するセンサ信号処理装置について挙げたが、センサは超音波センサに限定されることはなく、例えば温度センサ、圧力センサ、加速度センサ、角速度センサなどであってもよい。
ここで、加速度センサや角速度センサなどのセンサがMEMS技術を用いて形成した圧電振動子やシリコン振動子を内蔵して振動子の振動を利用してセンシングを行い、半導体集積回路300が当該センサに内蔵される振動子を発振させる発振回路を有し、センサ信号処理装置が当該センサから出力されるセンサ信号を処理する場合がある。この場合には、当該センサに内蔵される振動子の長寿命化を図るために、当該センサに内蔵される振動子を発振させる発振回路を例えば上述した発振回路OSC11又はOSC12と同一の構成にすることが望ましい。当該センサに内蔵される振動子を発振させる発振回路を例えば上述した発振回路OSC11又はOSC12と同一の構成にすることは、上述した第1実施例又は第2実施例と合わせて実施してもよく、上述した第1実施例又は第2実施例とは別に実施してもよい。
また、クロック信号CKを用いるロジック回路を構成する素子の耐圧よりも高耐圧である素子(以下、「高耐圧素子」と称す)を上述した発振回路OSC11又はOSC12において用いることが望ましい。上述した発振回路OSC11又はOSC12において高耐圧素子を用いることで素子の電流供給能力を下げることができ、上述した発振回路OSC11又はOSC12の消費電力を小さくすることができる。一方、上述した発振回路OSC11又はOSC12の電流供給能力が不足する場合には、上述した発振回路OSC11又はOSC12において高耐圧素子と高耐圧素子よりも耐圧の低い素子とを混在させせることによって、必要な電流供給能力を確保するようにすればよい。また、高耐圧素子ではオフリーク電流も低減されるので、上述した発振回路OSC11又はOSC12において高耐圧素子を用いることで、図3に示す第2の期間PD2でのリーク電流も低減することができ、図3に示す第2の期間PD2での消費電力を低減することもできる。
また、発振回路OSC11及びOSC12においてNOT回路の配置を変更して、上述した実施形態とは異なり、制御信号CTRLがローレベルである場合に発振回路がイネーブル状態になるようにしてもよい。すなわち、上記実施形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。
100、200 超音波センサ
300 半導体集積回路
400 マイクロコンピュータ
A1、B4 NOT回路
A2 NOR回路
A3、B2 抵抗
A4、B3 AND回路
B1 NAND回路
B5 スイッチ
B6 NMOSトランジスタ
C1、C2 コンデンサ
OSC10〜OSC12 発振回路
XO 圧電振動子
XTIN、XTOUT 端子
Z1 車両

Claims (12)

  1. センサから出力されるセンサ信号を処理するセンサ信号処理装置の一部を構成する半導体集積回路であって、
    前記半導体集積回路に外付けされる振動子の一端が接続される第1の端子と、
    前記振動子の他端が接続される第2の端子と、
    前記第1の端子及び前記第2の端子を介して接続される前記振動子を発振させる発振回路と、を有し、
    前記発振回路は制御信号に基づいて前記振動子を間欠的に発振させ、
    前記発振回路が前記振動子を発振させている第1の期間と前記発振回路が前記振動子を発振させていない第2の期間とが交互に切り替わり、
    前記第1の期間では前記第1の端子及び前記第2の端子の電位がハイレベルとローレベルとに相補的に交互に切り替わり、
    前記第2の期間では前記第1の端子及び前記第2の端子の電位が前記ローレベルに固定されることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 前記第1の期間が前記第2の期間より短い請求項1に記載の半導体集積回路。
  3. 一の前記第1の期間において前記センサ信号処理装置が前記センサ信号を複数回処理する請求項1又は請求項2に記載の半導体集積回路。
  4. 前記発振回路は前記振動子を発振させてクロック信号を生成する請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体集積回路。
  5. 一の前記第1の期間の長さが前記クロック信号に基づいて定められる請求項4に記載の半導体集積回路。
  6. 前記振動子が前記センサに内蔵されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体集積回路。
  7. 前記半導体集積回路の外部から前記半導体集積回路に供給されるトリガー信号に基づいて前記第1の期間の開始タイミングが定められる請求項1〜6のいずれか一項に記載の半導体集積回路。
  8. 前記発振回路が、
    NAND回路と、
    前記NAND回路の出力端子と前記第2の端子との間に設けられる第1のスイッチと、
    電位が前記ローレベルに固定されている部分と前記第2の端子との間に設けられる第2のスイッチと、
    一端が前記第1の端子に接続され他端が前記第2の端子に接続される抵抗と、を有し、
    前記第1の期間では前記第1のスイッチがオン状態になり前記第2のスイッチがオフ状態になり、
    前記第2の期間では前記第1のスイッチがオフ状態になり前記第2のスイッチがオン状態になる請求項1〜7のいずれか一項に記載の半導体集積回路。
  9. 前記第1のスイッチ及び前記2のスイッチが前記制御信号に基づいて制御される請求項8に記載の半導体集積回路。
  10. 前記NAND回路がCMOS型NAND回路である請求項8又は請求項9に記載の半導体集積回路。
  11. センサと、
    請求項1〜10のいずれか一項に記載の半導体集積回路を含み前記センサから出力されるセンサ信号を処理するセンサ信号処理装置と、を有することを特徴とするセンサシステム。
  12. 請求項11に記載のセンサシステムを有することを特徴とする車両。
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