JP6752585B2

JP6752585B2 - 撮像装置、撮像システム

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Description

本発明は、撮像装置、撮像システムに関する。

各々が、トランジスタを有する複数の画素を備える撮像装置が知られている。

特許文献１に記載の撮像装置では、トランジスタを形成する為に、画素内にウエル領域が形成されている。このウエルに対し、ウエルコンタクトを介して電位が与えられている。

特許文献１の撮像装置では、このウエルコンタクトを画素領域に配置することにより、シェーディングを低減することができるとされる。

特開２００１−２３０４００号公報

画素のＭＯＳトランジスタは、光に対応する画素信号を出力する。画素信号の電位の変化に伴って、ＭＯＳトランジスタのソース領域の電位が変動する。この電位の変動が、ソース領域に隣接するウエル領域の電位を変動させる。ウエル領域の電位はＭＯＳトランジスタのバックゲートの電位の変動でもある。よって、ウエル領域の電位の変動は、ＭＯＳトランジスタの出力の変動を生じさせる。このウエル領域の電位の変動の収束に要する時間は、ウエルコンタクトからウエル領域までの時定数が大きくなるにつれて、増加する。したがって、ウエルコンタクトからの距離が離れた画素ほど、ウエル領域の電位の変動の収束に時間を要することとなる。このウエル領域の電位の変動が収束しきらない状態で画素の画素信号をホールドした場合には、この画素信号には、ウエル領域の電位の変動によるノイズ成分が重畳されている。このように、ウエルコンタクトからの距離が離れた画素ほど、画素信号に、ウエル領域の電位の変動によるノイズ成分が重畳されることとなる。

ウエルコンタクトを一定の周期で配する場合、複数の画素の画素信号に重畳されるノイズ成分もまた、ウエルコンタクトの配列の周期に沿ったパターンとなる。よって、撮像装置が出力する信号を用いて生成した画像に、周期的な縞模様が生じる。

本発明は上記の課題を鑑みて為されたものであり、その一の態様は、各々が光電変換部を有する複数の画素を有する画素領域と、前記複数の画素の各々の前記光電変換部が形成されたウエル領域と、各々が前記画素領域に配されるとともに、前記ウエル領域に電位を各々が供給する第１、第２のウエル配線と、前記第１のウエル配線において第１の間隔で接続された、前記ウエル領域に接続される第１、第２のウエルコンタクトと、
前記第２のウエル配線において前記第１の間隔とは異なる第２の間隔で接続された、前記ウエル領域に接続される第３、第４のウエルコンタクトとを有することを特徴とする撮像装置である。

また、別の態様は、複数の画素を有する画素領域と、前記複数の画素に渡って形成されたウエル領域と、前記ウエル領域に電位を供給する複数のウエルコンタクトとを有し、互いに隣接する前記複数のウエルコンタクトを結んだ線が、第１、第２ひし形と、第１、第２正方形を形成し、前記第１ひし形は第１、第２、第３点を有し、前記第２ひし形は第４、第５、第６点を有し、前記第１正方形は第７、第８、第９点を有し、前記第２正方形は第１０、第１１、第１２点を有し、前記第１点と前記第３点とは対向する関係にあり、前記第１点と前記第７点とが共有され、前記第２点と前記第４点と前記第８点と前記第１０点とが共有され、前記第３点と前記第１２点とが共有され、前記第５点と前記第９点とが共有され、前記第６点と前記第１１点とが共有されるように、前記複数のウエルコンタクトが配置されたことを特徴とする撮像装置である。

本発明により、画像に生じる周期的な縞模様を低減することができる。

撮像装置の構成の一例を示した図撮像装置の断面の一例を示した図画素の回路の一例を示した図撮像装置の構成の一例を示した図ウエルコンタクトの配置の一例を示した図ウエルコンタクトの配置の一例を示した図ウエルコンタクトの配置の一例を示した図ウエルコンタクトの配置の一例を示した図ウエルコンタクトの配置の一例を示した図ウエルコンタクトの配置の一例を示した図ウエルコンタクトの配置の一例を示した図撮像システムの構成の一例を示した図

以下、図面を参照しながら、各実施例の撮像装置を説明する。なお、以下の実施例では、半導体領域について、導電型を規定した上で説明を述べることがある。この導電型は、実施例中の導電型のみに限定されるものではなく、実施例中の導電型とは反対の導電型にも適宜変更可能である。

（実施例１）
図１は、本実施例の撮像装置１０８を示した図である。

画素領域１０３は、第１方向と、第１方向に対し平面視において直交する方向である第２方向に渡って、複数の画素１０２が配されている。第１方向は、本実施例では、同一列に属する画素１０２において、ある画素１０２から他の行の画素１０２を見た方向（行方向）であるとして説明する。また、第２方向は、同一行に属する画素１０２において、ある画素１０２から他の列の画素１０２を見た方向（列方向）であるとして説明する。画素領域１０３はウエル領域１０４の内部に形成されている。ウエルコンタクト１０５は、複数の画素１０２に対し、１つの割合で配置されている。また、ウエルコンタクト１０５は、ウエル配線１０６に接続されている。画素１０２の各々は、光電変換部１０１を有する。

図２は、図１に示したＡ−Ｂ間の断面を示した図である。

ウエル領域１０４はＰ型の半導体領域である。ウエルコンタクト１０５は、ウエル領域１０４よりも不純物濃度が濃いＰ＋領域を介してウエル領域１０４に接続されている。光電変換部１０１は、ｎ型の半導体領域と、ｎ型の半導体領域の下部のｐ型の半導体領域とで形成される。光電変換部１０１の導電型が第１導電型であるとすると、ウエル領域１０４の導電型は、第１導電型とは反対の第２導電型である。

図３は、画素１０２の構成を示した図である。図３に示した画素１０２は、図１に示した画素領域１０３が有する画素１０２のうちの１つを示している。

画素１０２は、光電変換部１０１および複数のトランジスタを含む。光電変換部１０１は、入射光を受けて電荷を生成する。光電変換部１０１は転送トランジスタ１１５を介して増幅トランジスタ１１７の入力ノードＦＤに接続される。入力ノードＦＤはまた、リセットトランジスタ１１６を介して電源ＳＶＤＤに接続される。増幅トランジスタ１１７の第１主電極は電源ＳＶＤＤに接続され、増幅トランジスタ１１７の第２主電極は選択トランジスタ１１８を介して垂直出力線１１３に接続される。選択トランジスタ１１８のゲート電極は画素制御線１１２の１つである、行選択線に接続される。行選択線は信号ＰＳＥＬを伝送する。リセットトランジスタ１１６のゲート電極は、画素制御線１１２の１つである、リセット線に接続される。リセット線は、信号ＰＲＥＳを伝送する。また、転送トランジスタ１１５のゲート電極は、行制御線の１つである、転送線に接続される。転送線は、信号ＰＴＸを伝送する。垂直走査回路１４０は、画素１０２の動作を制御する制御部である。

信号ＰＳＥＬがハイレベルになると増幅トランジスタ１１７には、垂直出力線１１３と、選択トランジスタ１１８を介して、垂直出力線１１３に接続された不図示の電流源によって電流が流れる。この増幅トランジスタ１１７に電流が流れる期間が、画素１０２から垂直出力線１１３に信号を読み出す期間である。

増幅トランジスタ１１７、電源電圧ＳＶＤＤ、電流源によって、ソースフォロワ回路が構成される。これにより、増幅トランジスタ１１７の入力ノードＦＤに対応する画素信号が、増幅トランジスタ１１７から選択トランジスタ１１８を介して垂直出力線１１３に出力される。

ウエル領域１０７には、画素１０２が有する各トランジスタが形成されている。この書くトランジスタはＭＯＳトランジスタである。

画素信号の電位の変化に伴って、増幅トランジスタ１１７のソース領域の電位が変動する。この電位の変動が、増幅トランジスタ１１７のソース領域に隣接するウエル領域の電位を変動させる。ウエル領域１０７の電位は増幅トランジスタ１１７のバックゲートの電位の変動でもある。よって、ウエル領域１０７の電位の変動は、増幅トランジスタ１１７の出力の変動を生じさせる。このウエル領域１０７の電位の変動の収束に要する時間は、ウエルコンタクト１０５からの距離が離れた画素１０２ほど、長くなる。このウエル領域１０７の電位の変動が収束しきらない状態で画素の画素信号をホールドした場合には、この画素信号には、ウエル領域１０７の電位の変動によるノイズ成分が重畳されている。このように、ウエルコンタクト１０５からの距離が離れた画素ほど、画素信号に、ウエル領域１０７の電位の変動によるノイズ成分が重畳されることとなる。

図４は、本実施例の撮像装置のウエルコンタクト１０５の配置を示した図である。

図２に示した第１のウエル配線１０６−１と、第２のウエル配線１０６−２とについて説明する。

第１のウエル配線１０６−１における、ウエルコンタクト１０５の配置間隔はａ１である。一方、第２のウエル配線１０６−２における、ウエルコンタクト１０５の配置間隔は、ａ１よりも大きいａ２である。

このように本実施例の撮像装置は、第１のウエル配線１０６−１と第２のウエル配線１０６−２とで、ウエルコンタクト１０５の配置間隔を異ならせている。これにより、ウエルコンタクト１０５の配置の周期性を崩すことができる。よって、ウエルコンタクト１０５を、同一周期、つまり同じ配置間隔で配置した場合に比べて、撮像装置が出力する信号によって生成する画像で生じる、周期的なシェーディングを低減、もしくはシェーディング発生を防止することができる。

本実施例では、ウエル領域１０４に、一つのみのウエルが形成されているものとして説明したが、本実施例は、この例には限定されない。つまり、ウエル領域１０４が複数のウエルを有していてもよい。この場合においても、ウエル領域１０４が有する第１のウエルと、第２のウエルとにおいて、ウエルコンタクト１０５の配置の間隔を異ならせてもよい。また、ウエル領域１０４が有する第１のウエルにおいて、ウエルコンタクト１０５の配置の間隔を異ならせてもよい。

（実施例２）
本実施例の撮像装置について、実施例１と異なる点を中心に説明する。

図５は、本実施例の撮像装置のウエルコンタクト１０５の配置を示した図である。

ウエル配線１０６は、本実施例においても、実施例１で説明したように、第１方向に沿って延在している。

本実施例では、第１のウエル配線１０６−１には、間隔ａ、間隔ｂでそれぞれウエルコンタクト１０５が接続されている。また、第２のウエル配線１０６−２には、間隔ｃでウエルコンタクト１０５が接続されている。このように、第１のウエル配線１０６−１と、第２のウエル配線１０６−２とで、ウエルコンタクト１０５の配置間隔を異ならせている。ただし、本実施例の撮像装置は、第１のウエル配線１０６−１において、第１、第２のウエルコンタクト１０５と、第１、第２のウエルコンタクト１０５の間に第３のウエルコンタクト１０５を備える。そして、本実施例の撮像装置は、第１、第３のウエルコンタクト１０５間の間隔である間隔ａと、第２、第３のウエルコンタクト１０５間の間隔である間隔ｂとを異ならせている。また、この間隔ａ、間隔ｂは、第１のウエル配線１０６−１とは別の第２のウエル配線１０６−２におけるウエルコンタクト１０５の配置間隔である間隔ｃとも異ならせている。

また、ウエル領域１０７におけるウエルコンタクト１０５の配置は、ウエルコンタクト１０５の配置を単位配置として、この単位配置が繰り返されたものとする。この単位配置に対応するウエル領域を、部分ウエル領域１０７−１とする。

このように本実施例の撮像装置は、部分ウエル領域１０７−１においてはウエルコンタクト１０５の配置パターンをランダムなものとする。これにより、本実施例の撮像装置は、実施例１の撮像装置と同じ効果を得ることができる。一方、本実施例の撮像装置は、この部分ウエル領域１０７−１のウエルコンタクト１０５の配置パターンを複数の部分ウエル領域１０７−１において繰り返す。これにより、本実施例の撮像装置は、撮像装置の製造に用いられる露光マスクパターンの設計を、複数の部分ウエル領域１０７−１で互いにウエルコンタクト１０５の配置パターンを異ならせる場合に比べて、容易なものとすることができる。また、本実施例の撮像装置は、実施例１で述べた効果を得ることができる。

（実施例３）
本実施例の撮像装置について、実施例２と異なる点を中心に説明する。

実施例２の撮像装置では、同一列において、一方の行の画素１０２から他方の行の画素１０２を見た方向（以下、行方向と表記する）において、ウエルコンタクト１０５の配置パターンをランダムなものとしていた。

本実施例の撮像装置では、同一行において、一方の列の画素１０２から他方の列の画素１０２を見た方向（以下、列方向と表記する）において、ウエルコンタクト１０５の配置パターンをランダムとする。

図６は、本実施例の撮像装置のウエルコンタクト１０５の配置を示した図である。なお、ウエル配線１０６は、実施例１、実施例２と同じく、行方向に延在するように配されている。ある行におけるウエルコンタクト１０５では、第１、第３のウエルコンタクト１０５間の間隔である間隔ｄと、第２、第３のウエルコンタクト１０５間の間隔である間隔ｅとを異ならせている。また、この間隔ｄ、間隔ｅは、別の行におけるウエルコンタクト１０５同士の間隔である間隔ｆとも異ならせている。

間隔ｄで配置されるウエルコンタクト１０５の一方は、第１のウエル配線１０６−１に接続され、他方は第２のウエル配線１０６−２に接続される。また、間隔ｅで配置されるウエルコンタクトの一方は、第２のウエル配線１０６−２に接続され、他方は第３のウエル配線１０６に接続される。

この間隔ｄ、間隔ｅで設けられたウエルコンタクト１０５の配置の関係は次のようになる。第１のウエル配線１０６−１に接続されるウエルコンタクト１０５から、第２方向（列方向）に、間隔ｄで延在させた線と、第２のウエル配線１０６−２との交点に、第２のウエル配線１０６−２に接続されたウエルコンタクト１０５が設けられている。また、第１のウエル配線１０６−１に接続されるウエルコンタクト１０５から、第２方向（列方向）に間隔ｅと間隔ｄの和の間隔で延在させた線と、第３のウエル配線１０６との交点に、第３のウエル配線１０６に接続されたウエルコンタクト１０５が設けられている。

また、本実施例においても、ウエル領域１０７を、複数の部分ウエル領域１０７−２に疑似的に分割している。そして、１つの部分ウエル領域１０７−２におけるウエルコンタクト１０５の配置パターンを、複数の部分ウエル領域１０７−２で繰り返している。

これにより、本実施例の撮像装置においても、実施例２の撮像装置と同じ効果を得ることができる。

また、撮像装置のウエルコンタクト１０５の配置は、例えば、図７に示すように、実施例２と実施例３とを組み合わせた配置としてもよい。

（実施例４）
本実施例の撮像装置について、実施例３と異なる点を中心に説明する。

図８は、本実施例の撮像装置のウエルコンタクト１０５の配置を示した図である。

部分ウエル領域１０７−４のＸ方向（列方向の一例）の長さをｍとし、Ｙ方向（行方向の一例）の長さをｍとは異なるｎとする。以下、部分ウエル領域１０７−４の左下を原点とし、ウエルコンタクト１０５の座標を（ｘ、ｙ）で表す。図中では、Ｘ方向、Ｙ方向のそれぞれを、小文字のｘ方向、ｙ方向と表すこともある。本実施例では、ウエルコンタクト１０５がそれぞれ、（ｍ／６，ｎ／６），（ｍ／６，３ｎ／６），（２ｍ／６，５ｎ／６），（３ｍ／６，２ｎ／６），（４ｍ／６，４ｎ／６），（４ｍ／６，６ｎ／６），（５ｍ／６，２ｎ／６），（６ｍ／６，５ｎ／６）に相当する位置に配置される。

部分ウエル領域１０７−４のウエルコンタクト１０５の配置パターンは、複数の部分ウエル領域１０７−４で繰り返される。したがって、上述したウエルコンタクト１０５の座標は、本質的にはウエルコンタクト１０５同士の相対的な位置を規定するものである。

すなわち繰り返し配置した際にウエルコンタクトの相対的な位置が上記配置と同一であれば、図９に図示されたどこに原点を移動させても良い。その場合にはウエルコンタクト１０５の位置は上記で規定した位置から原点を移動させた分だけオフセットさせた位置となる。

本実施例においても、実施例３の撮像装置と同じ効果を得ることができる。

また、部分ウエル領域１０７−４のウエルコンタクト１０５の配置パターンは、図８に示したものに限定されるものではない。つまり、図８に示した部分ウエル領域１０７−４の配置パターンの上下左右を反転させたものであっても良いし、回転したものであっても良い。その場合でも、本実施例の撮像装置が得られる効果と同じ効果を得ることができる。

（実施例５）
本実施例の撮像装置について、実施例４と異なる点を中心に説明する。

図９は、本実施例の撮像装置のウエルコンタクト１０５の配置を示した図である。

実施例４の撮像装置では、部分ウエル領域１０７−４の行方向と列方向とで長さを異ならせていた。本実施例の撮像装置では、ウエルコンタクト１０５の配置パターンの繰り返しとなる部分ウエル領域１０７−５の行方向と列方向とで同じ長さｍとしている。

部分ウエル領域１０７−５の左下を原点とし、ウエルコンタクト１０５の座標を（ｘ、ｙ）で表す。本実施例では、ウエルコンタクト１０５がそれぞれ、（ｍ／６，ｍ／６），（ｍ／６，３ｍ／６），（２ｍ／６，５ｍ／６），（３ｍ／６，２ｍ／６），（４ｍ／６，４ｍ／６），（４ｍ／６，６ｍ／６），（５ｍ／６，２ｍ／６），（６ｍ／６，５ｍ／６）に相当する位置に配置される。

図１０は、図９に示したウエルコンタクト１０５の配置の一部を示した図である。図１０に示した配置レイアウトでは、図１１に示した、２つのひし形と２つの正方形とを有する単位集合が繰り返し配置されている。この単位集合を、図１１を用いて説明する。図１１に示したウエルコンタクト１０５の配置の単位集合は、第１ひし形、第２ひし形、第１正方形、第２正方形を有する。第１ひし形、第２ひし形、第１正方形、第２正方形の各々が有する全ての辺は、同じ長さである。また、第１ひし形、第２ひし形、第１正方形、第２正方形の各々が有する全ての辺は、互いに隣接するウエルコンタクト１０５を結んだ線である。

第１ひし形は、第１点〜第３点を含む。第１点と第３点とは対向する関係にある。
第２ひし形は、第４点〜第６点を含む。
第１正方形は、第７点〜第９点を含む。
第２正方形は、第１０点〜第１２点を含む。
第１ひし形の第１点と第１正方形の第７点とが共有されている。
第１ひし形の第２点と、第２ひし形の第４点と、第１正方形の第８点と、第２正方形の第１０点とが共有されている。
第１ひし形の第３点と、第２正方形の第１２点とが共有されている。
第２ひし形の第５点と、第１正方形の第９点とが共有されている。
第２ひし形の第６点と、第２正方形の第１１点とが共有されている。

図１０に示した配置レイアウトでは、ウエルコンタクト１０５が、この単位集合を繰り返すように配置されている。この配置にすることにより、どの位置のウエルコンタクト１０５においても、近接する他のウエルコンタクト１０５から受ける電位の影響を同じとすることができる。図１０に示したＡの位置のウエルコンタクト１０５について述べる。Ａの位置のウエルコンタクト１０５と、近接する他のウエルコンタクト１０５とは、図１０において太線で示したように、それぞれがひし形と正方形とで共有される４辺で示される位置関係となる。同じく、図１０に示したＢの位置のウエルコンタクト１０５と、近接する他のウエルコンタクト１０５とは、図１０において太線で示したように、それぞれがひし形と正方形とで共有される４辺で示される位置関係となる。ウエルコンタクトＡ、ウエルコンタクトＢのそれぞれにおいて、近接するウエルコンタクト１０５を結んだ線で形成される図形は同じものとなる。つまり、ウエルコンタクトＡと、ウエルコンタクトＢとは、近接する他のウエルコンタクト１０５から受ける電位の影響を互いに等しいものとすることができる。

したがって本実施例の撮像装置のウエルコンタクト１０５の配置は、画素領域１０２に対して、ほぼ均一なウエル電位を与えることができる。これにより、撮像装置が出力する信号を用いた画像に生じるシェーディングを低減することができる。

（実施例６）
本実施例は、上述した各実施例の撮像装置を有する撮像システムに関する。

撮像システムとして、デジタルスチルカメラやデジタルカムコーダーや監視カメラなどがあげられる。図１２に、撮像システムの例としてデジタルスチルカメラに撮像装置を適用した場合の模式図を示す。

図１２に例示した撮像システムは、レンズの保護のためのバリア１５０１、被写体の光学像を撮像装置１５０４に結像させるレンズ１５０２、レンズ１５０２を通過する光量を可変にするための絞り１５０３を有する。レンズ１５０２、絞り１５０３は撮像装置１５０４に光を集光する光学系である。また、図１２に例示した撮像システムは撮像装置１５０４より出力される出力信号の処理を行う出力信号処理部１５０５を有する。出力信号処理部１５０５は必要に応じて各種の補正、圧縮を行って信号を出力する動作を行う。この信号は、典型的には画像データである。

図１２に例示した撮像システムはさらに、画像データを一時的に記憶する為のバッファメモリ部１５０６、外部コンピュータ等と通信する為の外部インターフェース部１５０７を有する。さらに撮像システムは、画像データの記録または読み出しを行う為の半導体メモリ等の着脱可能な記録媒体１５０９、記録媒体１５０９に記録または読み出しを行うための記録媒体制御インターフェース部１５０８を有する。さらに撮像システムは、各種演算とデジタルスチルカメラ全体を制御する全体制御演算部１５１０、撮像装置１５０４と出力信号処理部１５０５に各種タイミング信号を出力するタイミング供給部１５１１を有する。ここで、タイミング信号などは外部から入力されてもよく、撮像システムは少なくとも撮像装置１５０４と、撮像装置１５０４から出力された出力信号を処理する出力信号処理部１５０５とを有すればよい。

以上のように、本実施例の撮像システムは、撮像装置１５０４を適用して撮像動作を行うことが可能である。

なお、上記実施例は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。また、これまで述べた各実施例を種々組み合わせて実施することができる。

１０１光電変換部
１０２画素
１０３画素領域
１０４ウエル領域
１０５ウエルコンタクト
１０６ウエル配線
１０７−１〜１０７−５部分ウエル領域

Claims

各々が光電変換部を有する複数の画素を有する画素領域と、
前記複数の画素の各々の前記光電変換部が形成されたウエル領域と、
各々が前記画素領域に配されるとともに、前記ウエル領域に電位を各々が供給する第１、第２のウエル配線と、
前記第１のウエル配線において第１の間隔で接続された、前記ウエル領域に接続される第１、第２のウエルコンタクトと、
前記第２のウエル配線において前記第１の間隔とは異なる第２の間隔で接続された、前記ウエル領域に接続される第３、第４のウエルコンタクトとを有することを特徴とする撮像装置。
前記第１〜第４のウエルコンタクトが含まれる、前記ウエルコンタクトの配置パターンが、前記ウエル領域において繰り返されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
前記複数の画素は第１の方向および前記第１の方向に対して平面視で直交する第２の方向に沿って配され、
前記ウエルコンタクトの配置パターンが繰り返される周期が、前記第１の方向における長さと、前記第２の方向における長さとで互いに同じであることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
前記複数の画素は第１の方向および前記第１の方向に対して平面視で直交する第２の方向に沿って配され、
前記ウエルコンタクトの配置パターンの繰り返される周期が、前記第１の方向における長さが、前記第２の方向における長さと異なることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
前記複数の画素は第１の方向、および前記第１の方向に対して平面視で直交する第２の方向のそれぞれに沿って配され、
さらに第３のウエル配線を有し、
前記第１、第２、第３のウエル配線は、前記第１の方向に沿って延在し、
前記第１のウエルコンタクトから前記第２の方向に延在させた線と、前記第２、第３のウエル配線とのそれぞれの交点に、前記ウエル領域に接続される第５、第６のウエルコンタクトが設けられ、
前記第１のウエルコンタクトから前記第５のウエルコンタクトまでの間隔と、前記第５のウエルコンタクトと前記第６のウエルコンタクトとの間隔とが異なることを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
前記第１のウエル配線において、前記第２のウエルコンタクトに対し、前記第１の間隔とは異なる間隔で配置された、前記ウエル領域に接続される第５のウエルコンタクトと、
前記第２のウエル配線において、前記第５のウエルコンタクトに対し、前記第２の間隔とは異なる間隔で配置された、前記ウエル領域に接続される第６のウエルコンタクトとをさらに有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の撮像装置。
複数の画素を有する画素領域と、
前記複数の画素に渡って形成されたウエル領域と、
前記ウエル領域に電位を供給する複数のウエルコンタクトとを有し、
互いに隣接する前記複数のウエルコンタクトを結んだ線が、第１、第２ひし形と、第１、第２正方形を形成し、
前記第１ひし形は第１、第２、第３点を有し、
前記第２ひし形は第４、第５、第６点を有し、
前記第１正方形は第７、第８、第９点を有し、
前記第２正方形は第１０、第１１、第１２点を有し、
前記第１点と前記第３点とは対向する関係にあり、
前記第１点と前記第７点とが共有され、
前記第２点と前記第４点と前記第８点と前記第１０点とが共有され
前記第３点と前記第１２点とが共有され、
前記第５点と前記第９点とが共有され、
前記第６点と前記第１１点とが共有されるように、前記複数のウエルコンタクトが配置されたことを特徴とする撮像装置。
前記第１、第２ひし形と、前記第１、第２正方形とを単位集合として、
前記ウエル領域に、複数の前記単位集合が配されたことを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
請求項１〜８のいずれか１項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置が出力する信号を用いて画像データを生成する信号処理部とを有することを特徴とする撮像システム。