JP6720913B2 - 不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法 - Google Patents

不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6720913B2
JP6720913B2 JP2017081700A JP2017081700A JP6720913B2 JP 6720913 B2 JP6720913 B2 JP 6720913B2 JP 2017081700 A JP2017081700 A JP 2017081700A JP 2017081700 A JP2017081700 A JP 2017081700A JP 6720913 B2 JP6720913 B2 JP 6720913B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dimethylvinylsilyl
unsaturated bond
carbon atoms
atom
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017081700A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018177722A (ja
Inventor
殿村 洋一
洋一 殿村
久保田 透
透 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2017081700A priority Critical patent/JP6720913B2/ja
Priority to EP18166048.1A priority patent/EP3392255B1/en
Priority to KR1020180043053A priority patent/KR102326216B1/ko
Priority to TW107113010A priority patent/TWI724294B/zh
Priority to CN201810340338.XA priority patent/CN108727423A/zh
Publication of JP2018177722A publication Critical patent/JP2018177722A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6720913B2 publication Critical patent/JP6720913B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • C07F7/0812Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/0825Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
    • C07F7/0827Syntheses with formation of a Si-C bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/0825Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
    • C07F7/083Syntheses without formation of a Si-C bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/10Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Description

本発明は、不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法に関し、さらに詳述すると、高分子改質剤等として有用な不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法に関する。
従来、高分子化合物の特性を向上させるために様々な試みがなされており、その一つとして高分子化合物に官能基を導入する方法が知られている。
上記官能基導入方法の一つとして、目的の官能基と不飽和結合を有する化合物を高分子改質剤として用いて、高分子化合物に当該官能基を導入する方法が知られており、例えば、ビニルトリメトキシシランを用いてポリオレフィンを変性する方法が挙げられる(特許文献1)。
その他、特許文献1記載の無水マレイン酸を用いてポリオレフィンを変性する方法(特許文献2)、ポリオレフィンをN−ビニルアルキルアミド化合物を用いて変性する方法(特許文献3)、アクリルアミド化合物を用いて熱可塑性エラストマーを変性する方法(特許文献4)などが挙げられる。
上記変性により高分子化合物の特性を向上させることが可能であり、例えば、特許文献2記載の無水マレイン酸変性ポリオレフィンは溶融張力と流動性のバランスに優れ、特許文献3記載のN−ビニルアルキルアミド化合物変性ポリオレフィンは剛性と耐衝撃性のバランスに優れ、特許文献4記載のアクリルアミド化合物変性熱可塑性エラストマーは引張特性に優れるとの記載がある。
特公昭48−1711号公報 特開2004−99632号公報 特開平7−228734号公報 特開2003−73503号公報
しかしながら、上記高分子改質剤は、反応点である不飽和結合と官能基との距離が短く、変性後に高分子化合物の近傍に官能基が存在することになるため、変性による特性向上効果が十分に発揮されない場合があった。
最近では高分子化合物の使用目的の多様化に伴い、更なる高分子化合物の特性向上が望まれており、変性による特性向上をより図ることができる高分子改質剤が求められている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、変性による高分子化合物の特性向上をより効果的に発揮させ得る新規な高分子改質剤およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、特定の不飽和結合含有ビスシリル化合物が、反応点である不飽和結合と官能基が適度な距離を有しており、変性による高分子化合物の特性向上をより効果的に図ることができる高分子改質剤として有用であることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
1. 下記一般式(1)で表される不飽和結合含有ビスシリル化合物、
Figure 0006720913
(式中、R1〜R3は、互いに独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20の1価炭化水素基を表し、R4、R5およびR7は、互いに独立して、置換または非置換の炭素数1〜20の1価炭化水素基を表し、R6は、酸素原子、ケイ素原子または硫黄原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の2価炭化水素基を表し、R8およびR9は、互いに独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の置換または非置換の1価炭化水素基を表すが、R8およびR9は、互いに結合して窒素原子と共に炭素数2〜20の環を形成してもよく、nは、0、1または2の整数である。)
2. 下記一般式(2)
Figure 0006720913
(式中、R1〜R7およびnは、前記と同じ意味を表し、Xは、ハロゲン原子を表す。)
で表される不飽和結合含有ハロシラン化合物と、下記一般式(3)
89NH (3)
(式中、R8およびR9は、前記と同じ意味を表す。)
で表されるアミン化合物とを反応させる1の不飽和結合含有ビスシリル化合物の製造方法
を提供する。
本発明の不飽和結合含有ビスシリル化合物は、反応点である不飽和結合と官能基が適度な距離を有しているため、変性による高分子化合物の特性向上をより効果的に図ることができ、高分子改質剤等として好適に用いることができる。
実施例1で得られた1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(ジエチルアミノ)メチルシリル]エタンの1H−NMRスペクトルである。 実施例1で得られた1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(ジエチルアミノ)メチルシリル]エタンのIRスペクトルである。 実施例2で得られた1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(ジエチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサンの1H−NMRスペクトルである。 実施例2で得られた1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(ジエチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサンのIRスペクトルである。
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明に係る不飽和結合含有ビスシリル化合物は、下記一般式(1)で示される。
Figure 0006720913
(式中、nは、0、1または2の整数である。)
上記一般式(1)において、R1〜R3は、互いに独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5の1価炭化水素基を表し、R4、R5およびR7は、互いに独立して、置換または非置換の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5の1価炭化水素基を表す。
上記1価炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、イコシル基等の直鎖状のアルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、テキシル、2−エチルヘキシル基等の分岐鎖状のアルキル基;シクロペンチル、シクロヘキシル基等の環状のアルキル基;ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニル基等のアルケニル基;フェニル、トリル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基などが挙げられる。
これらの中でも、特に原料の入手容易性や、生成物の有用性の観点から、R1〜R3としては水素原子が好ましく、R4、R5およびR7としては、メチル、エチル、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基;アリル、ブテニル、ペンテニル基等の炭素数1〜5のアルケニル基が好ましい。
なお、上記各炭化水素基の水素原子の一部または全部はその他の置換基で置換されていてもよく、この置換基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、(イソ)プロポキシ基等の炭素数1〜5のアルコキシ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;シアノ基;アミノ基;アセチル、プロピオニル、ベンゾイル基等の炭素数2〜10のアシル基;トリクロロシリル基;それぞれ各アルキル基、各アルコキシ基が炭素数1〜5である、トリアルキルシリル、ジアルキルモノクロロシリル、モノアルキルジクロロシリル、トリアルコキシシリル、ジアルキルモノアルコキシシリルまたはモノアルキルジアルコキシシリル基等が挙げられる。
上記R6は、酸素原子、ケイ素原子または硫黄原子を含んでいてもよい炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5の2価炭化水素基を表し、その具体例としては、メチレン、エチレン、プロピレン(メチルエチレン)、トリメチレン、メチルトリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、デカメチレン、イソブチレン基等のアルキレン基;フェニレン、メチルフェニレン基等のアリーレン基;エチレンフェニレン、エチレンフェニレンメチレン基等のアラルキレン基;3−オキサブチレン、3−アザブチレン、3−オキサへキシレン、3−アザヘキシレン基等のヘテロ原子含有アルキレン基等が挙げられる。
なお、上記ヘテロ原子は2種以上含まれていてもよく、また、アルキレン鎖末端にヘテロ原子が存在していてもよく、そのような2価の基としては、−O−Si(CH32−CH2−CH2−等が挙げられる。
上記R8およびR9は、互いに独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5の置換または非置換の1価炭化水素基を表すが、R8およびR9は、互いに結合して窒素原子と共に炭素数2〜20の環を形成してもよい。上記ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。
8およびR9の炭素数1〜20の置換または非置換の1価炭化水素基の具体例としては、上記R1〜R5およびR7で例示した基と同様のものが挙げられる。
一方、R8およびR9が互いに結合して窒素原子と共に形成する炭素数2〜20の環構造としては、アジリジン環、アゼチジン環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、4−メチルピペラジン環、モルホリン環、アゼパン環等が挙げられ、中でも、原料の入手容易性や、生成物の有用性の観点から、ピロリジン環、ピペリジン環、4−メチルピペラジン環、モルホリン環が好ましい。
上記一般式(1)で示される不飽和結合含有ビスシリル化合物の具体例としては、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[トリス(ジメチルアミノ)シリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[ビス(ジメチルアミノ)メチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[(ジメチルアミノ)ジメチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[トリス(ジメチルアミノ)シリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(ジメチルアミノ)メチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[(ジメチルアミノ)ジメチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[トリス(ジメチルアミノ)シリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[ビス(ジメチルアミノ)メチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[(ジメチルアミノ)ジメチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[トリス(ジメチルアミノ)シリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[ビス(ジメチルアミノ)メチルシリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[(ジメチルアミノ)ジメチルシリル]オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリス(ジメチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(ジメチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−ジメチルアミノ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[トリス(ジエチルアミノ)シリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[ビス(ジエチルアミノ)メチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[(ジエチルアミノ)ジメチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[トリス(ジエチルアミノ)シリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(ジエチルアミノ)メチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[(ジエチルアミノ)ジメチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[トリス(ジエチルアミノ)シリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[ビス(ジエチルアミノ)メチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[(ジエチルアミノ)ジメチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[トリス(ジエチルアミノ)シリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[ビス(ジエチルアミノ)メチルシリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[(ジエチルアミノ)ジメチルシリル]オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリス(ジエチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(ジエチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−ジエチルアミノ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[トリス(ジブチルアミノ)シリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[ビス(ジブチルアミノ)メチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[(ジブチルアミノ)ジメチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[トリス(ジブチルアミノ)シリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(ジブチルアミノ)メチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[(ジブチルアミノ)ジメチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[トリス(ジブチルアミノ)シリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[ビス(ジブチルアミノ)メチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[(ジブチルアミノ)ジメチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[トリス(ジブチルアミノ)シリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[ビス(ジブチルアミノ)メチルシリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[(ジブチルアミノ)ジメチルシリル]オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリス(ジブチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(ジブチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−ジブチルアミノ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[トリス(モルホリノ)シリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[ビス(モルホリノ)メチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[(モルホリノ)ジメチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[トリス(モルホリノ)シリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(モルホリノ)メチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[(モルホリノ)ジメチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[トリス(モルホリノ)シリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[ビス(モルホリノ)メチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[(モルホリノ)ジメチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[トリス(モルホリノ)シリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[ビス(モルホリノ)メチルシリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[(モルホリノ)ジメチルシリル]オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリス(モルホリノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(モルホリノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−モルホリノ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[トリス(4−メチルピペラジン−1−イル)シリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[ビス(4−メチルピペラジン−1−イル)メチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−[(4−メチルピペラジン−1−イル)ジメチルシリル]メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[トリス(4−メチルピペラジン−1−イル)シリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(4−メチルピペラジン−1−イル)メチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−[(4−メチルピペラジン−1−イル)ジメチルシリル]エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[トリス(4−メチルピペラジン−1−イル)シリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[ビス(4−メチルピペラジン−1−イル)メチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−[(4−メチルピペラジン−1−イル)ジメチルシリル]プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[トリス(4−メチルピペラジン−1−イル)シリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[ビス(4−メチルピペラジン−1−イル)メチルシリル]オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−[(4−メチルピペラジン−1−イル)ジメチルシリル]オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリス(4−メチルピペラジン−1−イル)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(4−メチルピペラジン−1−イル)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−(4−メチルピペラジン−1−イル)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン等が例示される。
本発明における上記一般式(1)で示される不飽和結合含有ビスシリル化合物は、例えば、下記一般式(2)で示される不飽和結合含有ハロシラン化合物と下記一般式(3)で示されるアミン化合物とを反応させて得ることができる。
Figure 0006720913
(式中、R1〜R7およびnは、上記と同じ意味を表し、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を表す。)
89NH (3)
(式中、R8およびR9は、上記と同じ意味を表す。)
上記一般式(2)で示される不飽和結合含有ハロシラン化合物の具体例としては、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(トリクロロシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(ジクロロメチルシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(クロロジメチルシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(トリクロロシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(ジクロロメチルシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(クロロジメチルシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(トリクロロシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(ジクロロメチルシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(クロロジメチルシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(トリクロロシリル)オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(ジクロロメチルシリル)オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(クロロジメチルシリル)オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリクロロ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ジクロロ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−クロロ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(トリブロモシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(ジブロモメチルシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(ブロモジメチルシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(トリブロモシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(ジブロモメチルシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(ブロモジメチルシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(トリブロモシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(ジブロモメチルシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(ブロモジメチルシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(トリブロモシリル)オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(ジブロモメチルシリル)オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(ブロモジメチルシリル)オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリブロモ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ジブロモ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−ブロモ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(トリヨードシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(ジヨードメチルシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−1−(ヨードジメチルシリル)メタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(トリヨードシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(ジヨードメチルシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(ヨードジメチルシリル)エタン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(トリヨードシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(ジヨードメチルシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−3−(ヨードジメチルシリル)プロパン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(トリヨードシリル)オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(ジヨードメチルシリル)オクタン、1−(ジメチルビニルシリル)−8−(ヨードジメチルシリル)オクタン、1−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル−6,6,6−トリヨード−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ジヨード−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン、1−ビニル−1,1,3,3,6,6−ヘキサメチル−6−ヨード−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン等が挙げられる。
上記一般式(3)で示されるアミン化合物の具体例としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)アミン等のジアルキルアミン;ジシクロペンチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジシクロアルキルアミン;ジフェニルアミン等のジアリールアミン;ジベンジルアミン等のジアラルキルアミン;ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、1−メチルピペラジン等の脂環式アミンなどが挙げられる。
上記一般式(2)で示される不飽和結合含有ハロシラン化合物と上記一般式(3)で示されるアミン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式(2)で示される化合物のハロゲン原子1molに対し、一般式(3)で示される化合物0.5〜5.0mol、特に0.8〜3.0molの範囲が好ましい。
上記反応においては、ハロゲン化水素が副生するが、これは上記一般式(3)で示されるアミン化合物を塩基として捕捉してもよく、その他の含窒素化合物を塩基として捕捉してもよい。
その他の含窒素化合物の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、メチルイミダゾール、テトラメチルエチレンジアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等が挙げられる。
その他の含窒素化合物の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、上記一般式(2)で示される不飽和結合含有ハロシラン化合物1molに対し、0.3〜10.0mol、特に0.5〜5.0molの範囲が好ましい。
上記反応は無触媒でも進行するが、反応速度を向上させる目的で触媒を用いることもできる。
このような触媒の具体例としては、硫酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸化合物、塩酸、硝酸、およびこれらの酸の塩が挙げられる。
触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、上記一般式(2)で示される化合物1molに対し、0.0001〜0.1mol、特に0.001〜0.05molの範囲が好ましい。
上記反応の反応温度は特に限定されないが、0〜200℃、特に20〜150℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、1〜60時間、特に1〜30時間が好ましい。
反応雰囲気は窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。
使用可能な溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒などが挙げられ、これらの溶媒は1種を単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。
反応終了後には含窒素化合物のハロゲン化水素塩が生じるが、これは反応液を濾過、または水、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、エチレンジアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等を添加し、含窒素化合物のハロゲン化水素塩を溶解、分離する等の方法により除去できる。
以上のようにして塩を除去した反応液からは、蒸留、低沸点化合物留去等の通常の方法で目的物を回収することができる。
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
撹拌機、還流器、滴下ロートおよび温度計を備えたフラスコに、1−(ジメチルビニルシリル)−2−(ジクロロメチルシリル)エタン45.5g(0.2mol)、メタンスルホン酸0.4g(0.004mol)、トルエン120mlを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、ジエチルアミン61.4g(0.84mol)を1時間かけて滴下し、その温度で10時間撹拌した。室温まで冷却後、20質量%水酸化ナトリウム水溶液90gを加え、下層を除去した。上層である有機層を蒸留し、沸点123℃/0.4kPaの留分35.3gを得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定し、得られた化合物が1−(ジメチルビニルシリル)−2−[ビス(ジエチルアミノ)メチルシリル]エタンであることを確認した。1H−NMRスペクトルを図1に、IRスペクトルを図2に示す。
質量スペクトル
m/z 300,285,228,212,187,116
[実施例2]
撹拌機、還流器、滴下ロートおよび温度計を備えたフラスコに、1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ジクロロ−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサン75.4g(0.25mol)、メタンスルホン酸0.5g(0.005mol)、トルエン150mlを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、ジエチルアミン76.8g(1.05mol)を1時間かけて滴下し、その温度で8時間撹拌した。室温まで冷却後、生じた塩をろ過により除去した。ろ液を蒸留し、沸点142−143℃/0.4kPaの留分82.5gを得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定し、得られた化合物が1−ビニル−1,1,3,3,6−ペンタメチル−6,6−ビス(ジエチルアミノ)−2−オキサ−1,3,6−トリシラヘキサンであることを確認した。1H−NMRスペクトルを図3に、IRスペクトルを図4に示す。
質量スペクトル
m/z 374,302,286,231,187,116

Claims (2)

  1. 下記一般式(1)で表される不飽和結合含有ビスシリル化合物。
    Figure 0006720913
    (式中、R1〜R3、水素原子を表し、R4、R5およびR7は、互いに独立して、非置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基を表し、R6は、酸素原子またはケイ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜の2価炭化水素基を表し、R8およびR9は、互いに独立して、炭素数1〜10の置換または非置換の1価炭化水素基を表すが、R8およびR9は、互いに結合して窒素原子と共に炭素数2〜の環を形成してもよく、nは、0、1または2の整数である。)
  2. 下記一般式(2)
    Figure 0006720913
    (式中、R1〜R7およびnは、前記と同じ意味を表し、Xは、ハロゲン原子を表す。)
    で表される不飽和結合含有ハロシラン化合物と、下記一般式(3)
    89NH (3)
    (式中、R8およびR9は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるアミン化合物とを反応させる請求項1記載の不飽和結合含有ビスシリル化合物の製造方法。
JP2017081700A 2017-04-18 2017-04-18 不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法 Active JP6720913B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017081700A JP6720913B2 (ja) 2017-04-18 2017-04-18 不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法
EP18166048.1A EP3392255B1 (en) 2017-04-18 2018-04-06 Unsaturated bond-containing bissilyl compound and making method
KR1020180043053A KR102326216B1 (ko) 2017-04-18 2018-04-13 불포화 결합 함유 비스실릴 화합물 및 그의 제조 방법
TW107113010A TWI724294B (zh) 2017-04-18 2018-04-17 含有不飽和鍵結之雙甲矽烷基化合物及其製造方法
CN201810340338.XA CN108727423A (zh) 2017-04-18 2018-04-17 含不饱和键的双甲硅烷基化合物和制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017081700A JP6720913B2 (ja) 2017-04-18 2017-04-18 不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018177722A JP2018177722A (ja) 2018-11-15
JP6720913B2 true JP6720913B2 (ja) 2020-07-08

Family

ID=62046632

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017081700A Active JP6720913B2 (ja) 2017-04-18 2017-04-18 不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP3392255B1 (ja)
JP (1) JP6720913B2 (ja)
KR (1) KR102326216B1 (ja)
CN (1) CN108727423A (ja)
TW (1) TWI724294B (ja)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02172992A (ja) * 1988-12-26 1990-07-04 Shin Etsu Chem Co Ltd 有機けい素化合物及びその製造方法
JP3368651B2 (ja) 1994-02-18 2003-01-20 昭和電工株式会社 変性ポリオレフィン系樹脂組成物
JP2003073503A (ja) 2001-08-31 2003-03-12 Sumitomo Chem Co Ltd 熱可塑性エラストマー組成物
JP4172971B2 (ja) 2002-09-04 2008-10-29 株式会社プライムポリマー 変性ポリプロピレン系樹脂組成物及びその製造方法
WO2004018557A1 (ja) * 2002-08-22 2004-03-04 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. α-オレフィン重合体組成物及びその製造方法
JP2005290355A (ja) * 2004-03-11 2005-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 変性ジエン系重合体ゴム及びその製造方法
JP5088510B2 (ja) * 2009-06-15 2012-12-05 信越化学工業株式会社 アミノ基を有するビニルシラン化合物及びその製造方法
SG11201603025RA (en) * 2013-10-18 2016-05-30 Trinseo Europe Gmbh Vinylsilanes for use in functionalized elastomeric polymers
US10118973B2 (en) * 2014-12-25 2018-11-06 Sumitomo Chemical Company, Limited Modified conjugated diene polymer, and polymer composition containing said polymer
JP2017081700A (ja) 2015-10-28 2017-05-18 株式会社日立製作所 エレベータ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018177722A (ja) 2018-11-15
EP3392255B1 (en) 2020-06-03
KR102326216B1 (ko) 2021-11-15
TWI724294B (zh) 2021-04-11
EP3392255A1 (en) 2018-10-24
TW201843163A (zh) 2018-12-16
KR20180117046A (ko) 2018-10-26
CN108727423A (zh) 2018-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011121906A (ja) 2以上のアミノ基を有するシラン化合物及びその製造方法
KR102341724B1 (ko) 아미노알킬알콕시디실록산 화합물 및 그의 제조 방법
JP6720913B2 (ja) 不飽和結合含有ビスシリル化合物およびその製造方法
EP3015471B1 (en) Novel bisalkoxysilane compound and its production method
KR102458128B1 (ko) 질소 함유 오르가녹시실란 화합물 및 그의 제조 방법
JP5359185B2 (ja) アミノ基と保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法
JP5900399B2 (ja) ビス(アミノアルキル)シラン化合物及びその製造方法
JP5699990B2 (ja) ピペラジニル基を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法及びピペラジン化合物
KR20150058025A (ko) 질소 함유 오르가녹시실란 화합물 함유 조성물 및 그의 제조 방법
JP2016040233A (ja) ビシクロアミノオルガノキシシラン化合物及びその製造方法
US11312734B2 (en) Nitrogen-containing cyclic organoxysilane compound and method for producing the same
JP6531656B2 (ja) 含窒素オルガノキシシラン化合物の製造方法
JP6319122B2 (ja) 含硫黄アミノオルガノキシシラン化合物及びその製造方法
JP6207287B2 (ja) シリル基含有ノルボルネン化合物及びその製造方法
JP5929837B2 (ja) シリル基で保護された含窒素環状化合物及びその製造方法
JP2012144445A (ja) 不飽和結合含有シリル基保護アミノ酸化合物及びその製造方法
JP2013221001A (ja) 環状シラザン化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190423

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200318

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200519

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200601

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6720913

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150