JP6720887B2 - 発光装置の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、発光装置の製造方法に関する。
従来、蛍光体を含む波長変換部材と発光素子とを接着剤で接着した発光装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この接着剤は、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂などの透光性の熱硬化性樹脂がよいとされている。
また、従来、蛍光体を含む波長変換部材と発光素子とを表面活性化接合法により接合した発光装置が知られている(例えば、特許文献2参照)。この表面活性化接合法は、発光素子及び波長変換部材の接合面をイオンビームやプラズマなどでスパッタエッチングを行い、両接合面を活性化させた後に、その接合面にて発光素子及び波長変換部材を直接接合することをいうとされている。
特開2010−219324号公報 国際公開第2011/126000号
しかしながら、特許文献1、2に開示されているような技術によると、波長変換部材と発光素子の接合に接着剤の塗布や表面活性化処理が必要なため、発光装置の製造に要する時間が増加する。
また、複数の発光素子に波長変換部材を接合する場合には、接着剤や表面活性化接合法による接合処理は複数の発光装置について個別に行う必要があるため、発光装置の製造時間の増加がより顕著になる。
本発明の目的の1つは、短時間で波長変換部材を発光素子に接合することのできる発光装置の製造方法を提供することにある。
本発明の一態様は、上記目的を達成するために、下記[1]〜[7]の発光装置の製造方法を提供する。
[1]フェイスダウン実装された発光素子の素子基板上に、蛍光体を含むスラリーを塗布する工程と、前記スラリーを焼成させて、前記蛍光体を含む無機材料からなる波長変換部材を形成する工程と、を含む、発光装置の製造方法。
[2]前記素子基板の面積よりも面積が小さくなるように前記波長変換部材を形成し、前記素子基板の上面の前記波長変換部材に覆われていない露出領域、前記波長変換部材の側面、及び前記発光素子の側面を覆うように光反射部材を形成する工程、を含む、上記[1]に記載の発光装置の製造方法。
[3]前記光反射部材の前記露出領域及び前記波長変換部材の側面を覆う部分を無機材料により形成し、前記光反射部材の前記発光素子の側面を覆う部分を反射フィラーを含む樹脂により形成する、上記[2]に記載の発光装置の製造方法。
[4]スクリーン印刷により前記素子基板上に前記スラリーを塗布する、上記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
[5]前記スクリーン印刷に開口部の側面が傾斜したマスクを用いて、上面の面積が下面の面積よりも小さい錐台状の前記波長変換部材を形成する、上記[4]に記載の発光装置の製造方法。
[6]前記素子基板上に塗布された前記スラリーをフォトエッチング加工によりパターニングし、上面の面積が下面の面積よりも大きい逆錐台状の前記波長変換部材を形成する、上記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
[7]前記波長変換部材を構成する無機材料がセラミックスである、上記[1]〜[6]のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
本発明によれば、短時間で波長変換部材を発光素子に接合することのできる発光装置の製造方法を提供することができる。
図1は、第1の実施の形態に係る発光装置の上面図である。 図2は、図1の線分A−Aで示される位置で切断された発光装置の垂直断面図である。 図3(a)〜(c)は、第1の実施の形態に係る発光装置の製造工程を示す垂直断面図である。 図4は、第2の実施の形態に係る発光装置の垂直断面図である。 図5(a)〜(c)は、第2の実施の形態に係る発光装置の製造工程を示す垂直断面図である。 図6は、第3の実施の形態に係る発光装置の垂直断面図である。 図7(a)〜(d)は、第3の実施の形態に係る発光装置の製造工程を示す垂直断面図である。 図8は、第4の実施の形態に係る発光装置の垂直断面図である。 図9は、第5の実施の形態に係る発光装置の垂直断面図である。
〔第1の実施の形態〕
(発光装置の構成)
図1は、第1の実施の形態に係る発光装置1の上面図である。また、図2は、図1の線分A−Aで示される位置で切断された発光装置1の垂直断面図である。なお、図1では、後述する光反射部材31の図示が省略されている。
発光装置1は、配線12が基板11の表面に設けられた配線基板10と、配線基板10上にフェイスダウン実装された発光素子20と、発光素子20上に形成された波長変換部材30と、波長変換部材30の側面及び発光素子20の露出面を覆う光反射部材31を有する。
発光素子20は、例えば、素子基板21と、発光層及びそれを挟むクラッド層を含む発光機能層22と、発光機能層22に接続された素子電極23を有するフリップチップ型のLEDチップである。また、発光素子20は、レーザーダイオード等のLEDチップ以外の発光素子であってもよい。発光装置1に含まれる発光素子20の数は特に限定されない。
発光素子20は、フェイスダウン実装されるため、素子基板が上方(配線基板10の反対側)を向いている。発光素子20の素子電極23は、配線基板10の配線12に接続される。
基板11は、例えば、Al基板、AlN基板等のセラミック基板、表面が絶縁膜で覆われたAl基板やCu基板等の金属基板、又はガラスエポキシ基板であり、配線12は、Cu等の導電材料からなる。
波長変換部材30は、蛍光体を含むセラミックスからなる。このセラミックスとしては、例えば、アルミナを用いることができる。波長変換部材30はセラミックスを母材とするため、樹脂を母材とする波長変換部材と比べて耐熱性に優れ、また、発光素子20の素子基板21との線膨張係数差が小さいために素子基板21から剥がれ難い。
波長変換部材30に含まれる蛍光体の種類や蛍光色は特に限定されない。発光素子20は、波長変換部材30に含まれる蛍光体の励起光源として機能し、発光素子20の発光色と波長変換部材30の発光色の混色が発光装置1の発光色になる。例えば、発光素子20の発光色が青色であり、波長変換部材30の発光色が黄色である場合、発光装置1の発光色は白色になる。
光反射部材31は、発光素子20の素子基板21の上面の波長変換部材30に覆われていない露出領域、波長変換部材30の側面、及び発光素子20の側面を覆っている。
光反射部材31は、例えば、反射フィラーを含むシリコーン系樹脂やエポキシ系樹脂等の樹脂やガラスからなる。樹脂からなる光反射部材31をポッティングにより形成する場合は、発光装置1は発光素子20を囲むように配置されたダム32を有することが好ましい。
また、波長変換部材30の面積が素子基板21の面積と等しい場合には、素子基板21の上面が露出しないため、光反射部材31は、波長変換部材30の側面及び発光素子20の側面を覆う。
(発光装置の製造方法)
以下に、発光装置1の製造方法の一例について述べる。
図3(a)〜(c)は、第1の実施の形態に係る発光装置1の製造工程を示す垂直断面図である。
まず、図3(a)に示されるように、配線基板10上に発光素子20を実装する。発光素子20の素子電極23と配線基板10の配線12とをバンプ、ハンダ、表面活性化法等により接合する。
次に、図3(b)に示されるように、スクリーン印刷により発光素子20の素子基板21上に蛍光体を含むセラミックインク等のスラリー40を塗布する。具体的には、メタルマスク等のマスク41をその開口部42が素子基板21上に位置するように設置し、スキージ43によってスラリー40を開口部42に塗り込む。
次に、図3(c)に示されるように、加熱によりスラリー40を焼成させて、蛍光体を含むセラミックスからなる波長変換部材30を得る。このとき、パルスランプ加熱等の表面加熱が可能な方法を用いることにより、耐熱性の低い部材や接合部におけるハンダ等の温度の上昇を抑えることができる。
このスクリーン印刷を用いた方法によれば、複数の発光素子20上の波長変換部材30を一括して形成することができる。また、素子基板21上に塗布したスラリー40を焼成することにより波長変換部材30が素子基板21に接合されるため、接合のために接着剤や表面処理等を必要としない。
その後、ポッティングやスクリーン印刷により、素子基板21の上面の波長変換部材30に覆われていない露出領域、波長変換部材30の側面、及び発光素子20の側面を覆うように光反射部材31を形成する。
ガラスからなる光反射部材31を形成する場合は、プレス機を用いた加熱圧着により、発光素子20及び波長変換部材30を封入する。その後、波長変換部材30が露出するまで波長変換部材30を研磨する。波長変換部材30は耐熱性に優れるため、過熱圧着時の温度にも耐えることができる。ただし、発光素子20の素子電極23と配線基板10の配線12との接合にハンダ等の耐熱性に乏しい接着部材を用いることができないため、金バンプ等の耐熱性に優れる接着部材や、表面活性化法を用いる。
〔第2の実施の形態〕
第2の実施の形態は、波長変換部材の形状において第1の実施の形態と異なる。なお、第1の実施の形態と同様の点については、説明を省略又は簡略化する。
(発光装置の構成)
図4は、第2の実施の形態に係る発光装置2の垂直断面図である。図4に示される発光装置2の断面の切断位置は、図2に示される発光装置1の断面の切断位置に対応している。
発光装置2は、配線12が基板11の表面に設けられた配線基板10と、配線基板10上にフェイスダウン実装された発光素子20と、発光素子20上に形成された波長変換部材30aと、波長変換部材30aの側面及び発光素子20の露出面を覆う光反射部材31を有する。
波長変換部材30aは、上面の面積が下面の面積よりも小さい錐台状の形状を有する。波長変換部材30aは、第1の実施の形態の波長変換部材30と同じ材料からなる。
波長変換部材30aを錐台状にすることによって、万が一、波長変換部材30aと光反射部材31との間に隙間が生じてしまった場合であっても、その隙間が素子基板21の上面に対して傾斜するため、発光素子20から発せられた光が直接外部へ漏れるおそれが少ない。
また、波長変換部材30aを錐台状にすることによって、上面の面積を小さくし、発光面積を小さくすることができる。
(発光装置の製造方法)
以下に、発光装置2の製造方法の一例について述べる。
図5(a)〜(c)は、第2の実施の形態に係る発光装置2の製造工程を示す垂直断面図である。
まず、図5(a)に示されるように、配線基板10上に発光素子20を実装する。
次に、図5(b)に示されるように、スクリーン印刷により発光素子20の素子基板21上に蛍光体を含むセラミックインク等のスラリー40を塗布する。このとき、側面が傾斜した開口部42aを有するマスク41aを用いる。
次に、図5(c)に示されるように、加熱によりスラリー40を焼成させて、蛍光体を含むセラミックスからなる波長変換部材30aを得る。
その後、ポッティングやスクリーン印刷により、素子基板21の上面の波長変換部材30aに覆われていない露出領域、波長変換部材30aの側面、及び発光素子20の側面を覆うように光反射部材31を形成する。
〔第3の実施の形態〕
第3の実施の形態は、波長変換部材の形状において第1の実施の形態と異なる。なお、第1の実施の形態と同様の点については、説明を省略又は簡略化する。
(発光装置の構成)
図6は、第3の実施の形態に係る発光装置3の垂直断面図である。図6に示される発光装置3の断面の切断位置は、図2に示される発光装置1の断面の切断位置に対応している。
発光装置3は、配線12が基板11の表面に設けられた配線基板10と、配線基板10上にフェイスダウン実装された発光素子20と、発光素子20上に形成された波長変換部材30bと、波長変換部材30bの側面及び発光素子20の露出面を覆う光反射部材31を有する。
波長変換部材30bは、上面の面積が下面の面積よりも大きい逆錐台状の形状を有する。波長変換部材30bは、第1の実施の形態の波長変換部材30と同じ材料からなる。
波長変換部材30bを逆錐台状にすることによって、万が一、波長変換部材30bと光反射部材31との間に隙間が生じてしまった場合であっても、その隙間が素子基板21の上面に対して傾斜するため、発光素子20から発せられた光が直接外部へ漏れるおそれが少ない。
さらに、波長変換部材30bを逆錐台状にすることによって、素子基板21中から波長変換部材30bと光反射部材31との間の隙間へ進入した光が波長変換部材30bの側面に進入しやすくなるため、第2の実施の形態の錐台状の波長変換部材30aよりも、発光素子20から発せられた光が直接外部へ漏れることをより効果的に抑えることができる。
(発光装置の製造方法)
以下に、発光装置3の製造方法の一例について述べる。
図7(a)〜(d)は、第3の実施の形態に係る発光装置3の製造工程を示す垂直断面図である。
まず、図7(a)に示されるように、配線基板10上に実装された発光素子20上に、スクリーン印刷法等により、スラリー40を塗布する。このとき、図7(a)に示されるように、発光素子20の実装領域の全体を覆うようにスラリー40を塗布することが好ましい。
次に、図7(b)に示されるように、フォトリソグラフィー等により、スラリー40上にエッチングマスク44を形成する。エッチングマスク44のパターンは、波長変換部材30bの形成位置に対応する。
次に、図7(c)に示されるように、エッチングによりスラリー40をパターニングする。このとき、ウェットエッチング等の異方性の小さいエッチング法を用いることにより、エッチングマスク44の下のスラリー40を逆錐台状に残すことができる。
次に、図7(d)に示されるように、加熱によりスラリー40を焼成させて、蛍光体を含むセラミックスからなる波長変換部材30bを得る。
このフォトエッチング加工を用いた方法によれば、複数の発光素子20上の波長変換部材30を一括して形成することができる。また、素子基板21上に塗布したスラリー40を焼成することにより波長変換部材30が素子基板21に接合されるため、接合のために接着剤や表面処理等を必要としない。
その後、ポッティングやスクリーン印刷により、素子基板21の上面の波長変換部材30bに覆われていない露出領域、波長変換部材30bの側面、及び発光素子20の側面を覆うように光反射部材31を形成する。
〔第4の実施の形態〕
第4の実施の形態は、光反射部材の構成において第1の実施の形態と異なる。なお、第1の実施の形態と同様の点については、説明を省略又は簡略化する。
(発光装置の構成)
図8は、第4の実施の形態に係る発光装置4の垂直断面図である。図8に示される発光装置4の断面の切断位置は、図2に示される発光装置1の断面の切断位置に対応している。
発光装置4は、配線12が基板11の表面に設けられた配線基板10と、配線基板10上にフェイスダウン実装された発光素子20と、発光素子20上に形成された波長変換部材30と、波長変換部材30の側面及び発光素子20の露出面を覆う光反射部材33を有する。
光反射部材33は、波長変換部材30の側面及び発光素子20の素子基板21の上面の波長変換部材30に覆われていない露出領域を覆うセラミック部33aと、発光素子20の側面を覆う、セラミック部33aと連続した樹脂部33bを有する。
セラミック部33aは、アルミナ等のセラミックスからなり、波長変換部材30の母材であるセラミックスと同じセラミックスからなることが好ましい。セラミック部33aは、例えば、スクリーン印刷により形成される。
樹脂部33bは、白色のフィラーを含むシリコーン系樹脂やエポキシ系樹脂等の樹脂からなる。樹脂部33bは、ポッティングやスクリーン印刷等により形成される。
セラミック部33aは、波長変換部材30の母材と同様にセラミックスからなるため、波長変換部材30との線膨張係数差が小さく、波長変換部材30から剥がれ難い。このため、発光素子20から発せられた光が直接外部へ漏れるおそれが少ない。
また、セラミック部33aと樹脂部33bとの間に剥離が生じた場合であっても、これらの間の隙間は素子基板21の上面の縁の近くに生じるため、発光素子20から発せられた光が直接外部へ漏れるおそれは少ない。
〔第5の実施の形態〕
第5の実施の形態は、波長変換部材の配置において第1の実施の形態と異なる。なお、第1の実施の形態と同様の点については、説明を省略又は簡略化する。
(発光装置の構成)
図9は、第5の実施の形態に係る発光装置5の上面図である。なお、図9では、光反射部材31の図示を省略している。
発光装置5は、配線12が基板11の表面に設けられた配線基板10と、配線基板10上にフェイスダウン実装された発光素子20と、発光素子20上に形成された波長変換部材30cと、波長変換部材30cの側面及び発光素子20の露出面を覆う光反射部材31を有する。
発光装置5においては、近接して並べられた複数の発光素子20上の波長変換部材30cは、1組の発光面として配置が決定される。このため、波長変換部材30cは大きさや形状が均一ではない。
図9に示される例では、4つの波長変換部材30cが1組の長方形の発光面として配置されており、両端の2つの波長変換部材30cの面積がそれらの間の2つの波長変換部材30cの面積よりも小さい。このように配置される波長変換部材30cは、例えば、発光装置5の発光面積を小さくしたいときに有効である。
波長変換部材30cは、第1の実施の形態の波長変換部材30と同じ材料からなる。また、波長変換部材30cは、第1の実施の形態の波長変換部材30と同様に、スクリーン印刷等により形成することができる。波長変換部材30cのように大きさや形状が均一ではない波長変換部材であっても、スクリーン印刷であれば、対応する開口パターンを有するマスク41を用いて一括して形成することができる。
(実施の形態の効果)
上記第1〜第5の実施の形態によれば、波長変換部材がセラミックスを母材とするため耐熱性に優れ、また、発光素子の素子基板との線膨張係数差が小さいために素子基板から剥がれ難い。
また、スクリーン印刷やフォトエッチング加工により、複数の発光素子上の波長変換部材を一括して形成することができる。また、素子基板上に塗布したスラリーを焼成することにより波長変換部材が素子基板に接合されるため、接合のために接着剤や表面処理等を必要としない。このため、短時間で波長変換部材を発光素子に接合することができる。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されず、発明の主旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。例えば、上記実施の形態では、波長変換部材30が蛍光体を含むセラミックスからなるとしたが、波長変換部材30を構成するセラミックスを焼成により得られる他の無機材料に置き換えることができる。
例えば、波長変換部材30を蛍光体を含むガラスで形成する場合、図3(b)に示される工程において、スクリーン印刷により発光素子20の素子基板21上に蛍光体を含む金属アルコキシドをスラリー40として塗布する。そして、加熱によりスラリー40を乾燥させた後、加熱により焼成させ、蛍光体を含むガラスからなる波長変換部材30を得る。
また、同様に、発光装置4の光反射部材33に含まれるセラミック部33aも他の無機材料に置き換えることができる。例えば、波長変換部材30を構成するセラミックスを他の無機材料に置き換える場合、セラミック部33aも波長変換部材30を構成するものと同じ無機材料で置き換えることが好ましい。
また、発明の主旨を逸脱しない範囲内において上記実施の形態の構成要素を任意に組み合わせることができる。
また、上記の実施の形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。また、実施の形態の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。
1、2、3、4、5 発光装置
10 配線基板
11 基板
12 配線
20 発光素子
21 素子基板
22 発光機能層
23 素子電極
30、30a、30b、30c 波長変換部材
31、33 光反射部材
32 ダム
33a セラミック部
33b 樹脂部
40 スラリー
41 、41a マスク
42 、42a 開口部
43 スキージ
44 エッチングマスク

Claims (5)

  1. フェイスダウン実装された発光素子の素子基板上に、蛍光体を含むスラリーを塗布する工程と、
    前記スラリーを焼成させて、前記蛍光体を含む無機材料からなる波長変換部材を、前記素子基板の面積よりも面積が小さくなるように形成する工程と、
    前記素子基板の上面の前記波長変換部材に覆われていない露出領域、前記波長変換部材の側面、及び前記発光素子の側面を覆うように光反射部材を形成する工程と、
    を含
    前記光反射部材の前記露出領域及び前記波長変換部材の側面を覆う部分を無機材料により形成し、前記光反射部材の前記発光素子の側面を覆う部分を反射フィラーを含む樹脂により形成する、
    発光装置の製造方法。
  2. スクリーン印刷により前記素子基板上に前記スラリーを塗布する、
    請求項1に記載の発光装置の製造方法。
  3. 前記スクリーン印刷に開口部の側面が傾斜したマスクを用いて、上面の面積が下面の面積よりも小さい錐台状の前記波長変換部材を形成する、
    請求項に記載の発光装置の製造方法。
  4. 前記素子基板上に塗布された前記スラリーをフォトエッチング加工によりパターニングし、上面の面積が下面の面積よりも大きい逆錐台状の前記波長変換部材を形成する、
    請求項1に記載の発光装置の製造方法。
  5. 前記波長変換部材を構成する無機材料がセラミックスである、
    請求項1〜のいずれか1項に記載の発光装置の製造方法。
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