JP6717053B2 - 配線基板、タッチパネル、カラーフィルタ基板、及び表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、配線基板、及びそれを用いるタッチパネル、カラーフィルタ基板、並びにそれらを用いる液晶、有機エレクトロルミネッセンスなどの表示装置に関するものである。

近年、携帯電話機、携帯情報端末、ＡＴＭ、カーナビゲーションシステムをはじめとする様々な電子機器の操作部にはタッチパネルセンサーが採用されている。タッチパネルセンサーは、指先やペン先の接触位置を検出する入力装置として、液晶表示装置等の画像表示用パネルの表示面上に貼り合わされている。タッチパネルセンサーは、タッチパネルセンサーの構造、及び、検出方式の違いによって、抵抗膜型、静電容量型、光学式、超音波式等の様々なタイプに分類され、電子機器における用途に応じて使い分けられている。これらの中でも、耐久性、透過率、感度、安定性、及び、位置分解能が優れている観点から、電極同士が接触しない静電容量型がタッチパネルセンサーの主流となっている。

静電容量型のタッチパネルセンサーには、表面型と投影型とが含まれるが、いずれの型式も指のように静電的な導電性を有するポインタがタッチパネルセンサーの表面に近づくことによって静電容量結合が生じることを応用する技術であって、電極と指先との間の静電容量結合をタッチパネルセンサーが捉えて位置を検出する（例えば、特許文献１を参照）。

表面型のタッチパネルセンサーは、透明基材の上に平面状に広がる透明導電膜を位置検出用の電極として備え、導電膜の四隅に駆動回路に接続される電極を備えている。

投影型のタッチパネルセンサーは、液晶表示パネルや有機エレクトロルミネッセンスパネル等の表示デバイスと組み合わせて用いられる位置入力装置である。Ｘ方向に延びる複数の電極及びＹ方向に延びる複数の電極を有し、指などのポインタが接触または近接した電極の静電容量変化をこれらの電極間で検出することによって、ポインタの接触位置の座標を特定する。こうした位置検出用の電極は、平面視において例えばメッシュ状あるいはマトリクス状を有する導電層で形成され、配線のピッチが小さいほど位置の検出精度は高い。

上述のタッチパネルセンサーは画像表示用パネルの表示面に設置されることが多いため、いずれの型式のタッチセンサーにおいても光透過性が求められる。こうした光透過性の観点から、位置検出用の電極の形成材料は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＺｎＯ（Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透明性の高い透明導電材料であることが好ましいが、タッチセンサーの大型化が進むほど、透明導電材料のみから形成される電極の長さは大きくなり、結果として、電極自体の抵抗が高くなり、位置の検出感度が低くなってしまう。

一方、電極の形成材料を遮光性を有する金属とした場合は、複数の電極の有する形状が平面視において例えばメッシュ状であるとき、電極が視認されない程度にまで、例えば１０μｍ以下にまで電極の線幅を小さくする必要がある。さらに、細線である電極が視認されることを抑えるために、金属に特有の反射光沢（光の反射）を抑えることが必要である（例えば、特許文献２〜４を参照）。

すなわち、導電性の高い遮光性金属として銅のような金属配線が位置検出用の電極の形成材料に用いられ、電極自体の形状を細線にしてタッチパネルセンサーの透過率を上げる提案がなされているが、外光による配線の可視光域の反射が大きく発生し、表示画像の視認性を低下させてしまう問題があった。

他方、電子機器の更なる薄膜・軽量化のために、タッチパネルセンサーと液晶表示パネルの貼り合わせではなく、一部を一体化して組合せる方式が提案されている（例えば、特許文献５〜７を参照）。その中でも液晶表示パネルのカラーフィルタ基板のガラス裏面にタッチパネルセンサーの検出電極、若しくは検出電極及び走査電極を形成する方式があるが、この方式ではフッ酸を用いて液晶パネルのガラス基板など透明基材の薄膜化を行う、いわゆるスリミング実施後に電極を形成する必要がある。そのため、電極形成時には液晶パネル内の液晶や配向膜に影響を与えるような高温加熱処理を実施することができない。それ故、電極材料としてＩＴＯ単層の配線を用いていると十分に低い抵抗値を得ることができず、ディスプレイの大画面化に対応できなくなる。

前記の場合も、対策として、導電性の高い銅のような金属配線を位置検出用電極の形成材料として用い、ディスプレイの大画面化に対応する提案がなされているが、やはり外光により配線の可視光域の反射が高くなり、表示画像の視認性を低下させてしまう問題があった。

そこで金属層上にスパッタ法などを用いて金属酸化物や金属窒化物を積層することで外光による反射を抑える試みがなされているが、積層するために複数回のスパッタを行わなければならずコストや歩留りが大きな課題となる（例えば、特許文献８を参照）。また、金属膜上に有機系の黒色層を積層することで金属配線の反射を抑える試みがなされているが、これまでの黒色層により反射を抑える試みでは膜厚を１μｍ程度積層する必要があり、パネルとして厚膜化してしまうため近年の電子機器の薄膜・軽量化という技術開発の方向性とは逆行してしまう（例えば、特許文献９を参照）。

特許第４６１０４１６号公報 特開２０１４−１６９４４号公報 特開２０１４−１９９４７号公報 特開２０１３−１２９１８３号公報 特表２００９−５４０３７４号公報 特許第５３０６０５９号公報 特開２００８−９７５０号公報 特開２０１５−１０３２２３号公報 特開２０１６−１８１４１号公報

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、銅層や銅合金層などの導電率の高い金属配線材料を用いる場合であっても、外光の可視光域にわたる反射率が低く金属配線を使用者に視認されにくい配線基板とする。また、それを用いることで、検出感度の高いタッチパネル、及び表示画像の視認性低下を抑え大画面化対応を可能とするカラーフィルタ基板並びに表示装置を提供することである。

上述の課題を解決するために、請求項１に記載の本発明は、透明基材の少なくとも片面側に複数の配線形状にパターニングされた導電層を備えた配線基板であって、
前記導電層は前記透明基材側から順に金属層と黒化層の積層膜で構成され、
前記黒化層は黒色顔料又は黒色染料と屈折率調整剤とを少なくとも含有する黒色樹脂組成物からなり、
前記黒化層の屈折率ｎＢと膜厚ｄＢ（ｎｍ）の積が、９０≦ｎＢ×ｄＢ≦１５０の範囲内であり、
前記黒化層の単位膜厚当たりの光学濃度（ＯＤ）が１．５〜３．５／μｍであり、
前記導電層の前記黒化層側から見たＸＹＺ表色系における視感反射率が５％以下であることを特徴とする配線基板としたものである。

請求項２に記載の本発明は、透明基材の少なくとも片面側に複数の配線形状にパターニングされた導電層を備え、
前記導電層は前記透明基材側から順に金属層と金属酸化物層と黒化層の積層膜で構成された配線基板であって
前記黒化層は黒色顔料又は黒色染料と屈折率調整剤とを少なくとも含有する黒色樹脂組成物からなり、
前記黒化層の屈折率ｎＢと膜厚ｄＢ（ｎｍ）の積と前記金属酸化物層の膜厚ｄＯ（ｎｍ）が下記（数式１）、または（数式２）のいずれかの関係を満たすことを特徴とする配線基板としたものである。
−２．０ｄＯ＋９０≦ｎＢｄＢ≦−２．０ｄＯ＋１５０・・・（数式１）
−２．２５ｄＯ＋３７０≦ｎＢｄＢ≦−２．２５ｄＯ＋４３０・・・（数式２）

請求項３に記載の本発明は、前記黒化層は、前記黒色顔料としてカーボンブラックを含み、前記カーボンブラックの含有量が前記黒化層の固形比に対して、２５〜６０質量％であり、前記黒化層の膜厚が５１〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の配線基板としたものである。

請求項４に記載の本発明は、前記黒化層は、黒色顔料として窒化チタンを含み、前記窒化チタンの含有量が前記黒化層の固形比に対して、１０〜５０質量％であり、前記黒化層の膜厚が５１〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の配線基板としたものである。

請求項５に記載の本発明は、前記黒化層は、前記屈折率調整剤としてシリカ微粒子を含み、前記シリカ微粒子の含有量が前記黒化層の固形比に対して、１〜１５質量％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の配線基板としたものである。固形比の詳細については、後述する。

請求項６に記載の本発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載の配線基板を具備することを特徴とするタッチパネルとしたものである。

請求項７に記載の本発明は、透明基材の片面側に請求項１または２に記載の特徴を有する導電層を備え、他方の片面側に複数の開口部を備えるブラックマトリクスを具備し、前記開口部に複数の着色層を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板としたものである。

請求項８に記載の本発明は、請求項６に記載のタッチパネルを具備することを特徴とする表示装置としたものである。

請求項９に記載の本発明は、請求項７に記載のカラーフィルタ基板を具備することを特徴とする表示装置としたものである。

本発明の配線基板によれば、黒化層として好適な光学的特性、材料・構成を選定することで、銅層や銅合金層などの導電率の高い金属材料を用いる場合であっても、外光の反射率が低く金属配線を使用者に視認されにくい配線基板となる。それを用いることで、本発明のタッチパネルでは高い検出感度が得られ、本発明のカラーフィルタ基板及び表示装置では表示画像の視認性低下を抑えられ大画面化対応が可能となる。また、黒化層従って金属配線を厚くする必要がないので、電子機器の薄膜・軽量化に対応することも可能となる。

本発明の（ａ）第１の実施形態（ｂ）第１の実施形態の変形例の配線基板の模式断面図である。透明基材の片面側にパターニングされた導電層（黒化層／金属層／接着層／透明基材）を備えた配線基板。 本発明の第２の実施形態の配線基板の模式断面図である。透明基材の片面側にパターニングされた導電層（黒化層／金属層／接着層／透明基材）、及び保護膜を備えた配線基板。 本発明の第３の実施形態の配線基板の模式断面図である。透明基材の片面側にパターニングされた導電層（黒化層／金属酸化物層／金属層／接着層／透明基材）を備えた配線基板。 本発明の第４の実施形態の配線基板、若しくはタッチパネルの模式断面図である。透明基材の両面側にパターニングされた導電層を備えた配線基板（黒化層／金属層／接着層／透明基材／黒化層／金属層）。 本発明の第５の実施形態の配線基板、若しくはタッチパネルの模式断面図である。透明基材の片面側に絶縁層を介して２層にパターニングされた導電層を備えた配線基板（黒化層／金属層／接着層／絶縁層／黒化層／金属層／接着層／透明基材）。 本発明の第６の実施形態の配線基板、若しくはタッチパネルの模式断面図である。透明基材の両面側にパターニングされた導電層を備えた配線基板（黒化層／金属酸化物層／金属層／接着層／透明基材／黒化層／金属酸化物層／金属層）。 本発明の第２の実施形態の配線基板を用いた、本発明の第７の実施形態のカラーフィルタ基板の模式断面図である。透明基材の片面側にパターニングされた導電層を備えた配線基板、もう一方の片面側にカラーフィルタを備えた構造。 本発明の第２の実施形態の配線基板を用いた、本発明の第８の実施形態のカラーフィルタ基板の模式断面図である。透明基材の片面側にパターニングされた導電層を備えた配線基板、もう一方の片面側にカラーフィルタを備えた構造。 本発明の第７の実施形態のカラーフィルタ基板を用いた、本発明の第９の実施形態の表示装置の模式断面図である。 本発明の第８の実施形態のカラーフィルタ基板を用いた、本発明の第１０の実施形態の表示装置の模式断面図である。 薄膜の反射率の下地依存性を薄膜の光学膜厚を横軸として計算した特性図である。 導電層の反射率を黒化層の光学膜厚を横軸として計算した特性図である。 導電層の反射率を黒化層の光学膜厚を横軸として計算した特性図である。 実施例、比較例において、分光反射率を測定した結果を示す特性図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。尚、同一の構成要素については便宜上の理由がない限り同一の符号を付け、重複する説明は省略する。また、以下の全ての図面は、理解のしやすさを優先して各構成要素の厚さや寸法の比率は適宜調整しているので実際のものとは異なっている。

本発明の配線基板、及びそれを用いるタッチパネル、カラーフィルタ基板、並びにそれらを用いる表示装置は、以下の実施例に限定されず、それらを組み合わせた様々な実施形態が可能である。また、実施形態のうち表示装置については液晶表示装置を例として説明するが、本発明のタッチパネル、又はカラーフィルタ基板を具備する表示装置は有機ＥＬ表示装置のような他の表示装置にも適用可能である。

［第１の実施形態の配線基板］
当実施形態においては、図１（ａ）に示すように透明基材１の片面側に、複数の配線形状にパターニングされた導電層１０が具備されており、導電層３は透明基材１側から接着層２と金属層３と黒化層４の順に積層されている。

図１（ｂ）に示す形態は、図１（ａ）に示す形態の変形例であり、接着層２と金属層３の側面部にも黒化層４がコーティングされた構成の導電層１０ａとなっている。側面部にも黒化層４がコーティングされることにより、斜め方への光反射を抑制しさらなる視認性の向上の効果がある。

［第２の実施形態の配線基板］
当実施形態においては、図２に示すように、図１（ａ）に示す第１の実施形態のパターニングされた導電層１０を含む透明基材１の表面に保護膜６が形成されている。保護膜６は、パターニングされた導電層１０を保護するためのものである。

［第３の実施形態の配線基板］
当実施形態においては、図３に示すように、図１（ａ）に示す第１の実施形態の接着層２と金属層３との層間に金属酸化物層５が形成されパターニングされた導電層１１となっている。金属酸化物層５は金属層３と黒化層４の接着性、及び後述のように導電層の特性を改善するためのものである。

図１〜３の配線基板の実施形態では、導電層パターンが形成された同一面に、半導体でのスイッチング素子を配しても良い。また、ＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）などへの実装端子が併設されても良い。

図１〜３の配線基板の実施形態では透明基材１の片面側に導電層をパターニングする構成を示したが、これらの２枚の配線基板を、それぞれ配線の向きをＸ方向とＹ方向として貼り合わせ、Ｘ方向あるいはＹ方向の配線の１組を駆動電極（走査電極）、他方の１組を検出電極としてタッチパネルとして用いることができる。さらには、いずれかの配線の１組を、ＴＦＴなどアクティブ素子を形成したアレイ基板側に形成することもできる。

［第４の実施形態の配線基板、若しくはタッチパネル］
当実施形態においては、図４に示すように、透明基材１の両面側にパターニングされた導電層を備えている。すなわち、第１の面１ａ側には図１（ａ）の第１の実施形態と同じ構成でＹ方向に延びる導電層１０を備え、第２の面１ｂ側には透明基材１と金属層１３の層間に金属層１３の反射を抑止するための黒化層１４が存在しＸ方向に延びる導電層１０ｂを備えている。

［第５の実施形態の配線基板、若しくはタッチパネル］
当実施形態においては、図５に示すように、透明基材１の片面側に絶縁層６ａを介して２層にパターニングされた導電層を備えている。すなわち、透明基材１の第１の面１ａ側に図１（ａ）の第１の実施形態と同じ構成でＸ方向に延びる導電層１０ｃを備え、絶縁層６ａを介した上面に図１（ａ）の第１の実施形態と同じ構成でＹ方向に延びる導電層１０を備えている。

［第６の実施形態の配線基板、若しくはタッチパネル］
当実施形態においては、図６に示すように、透明基材１の両面側にパターニングされた導電層を備えている。すなわち、第１の面１ａ側には図３の第３の実施形態と同じ構成でＹ方向に延びる導電層１１を備え、第２の面１ｂ側には透明基材１と金属酸化物層１５の層間に金属層１３の反射を抑止するための黒化層１４が存在しＸ方向に延びる導電層１１ａを備えている。

図４〜６の配線基板の実施形態では透明基材１の両面側に導電層をパターニングする構成であるので、それぞれ配線の向きをＸ方向とＹ方向として、一方を駆動電極（走査電極）、他方を検出電極としてタッチパネルとして用いることができる。

以下、本発明の配線基板の特徴である導電層を構成する金属層、黒化層、接着層、金属酸化物層、保護膜について順次説明する。

［金属層］
金属層は、以下の記載において、銅あるいは銅合金としているが、アルミニウムやアルミニウム合金、あるいはニッケルであって良い。銅の薄膜や銅合金の薄膜の場合、金属層の膜厚を１００ｎｍ以上、あるいは１５０ｎｍ以上とすると、金属層は、可視光をほとんど透過しなくなる。したがって、本実施形態に関わる金属層の膜厚が例えば１００〜３００ｎｍ程度であれば十分な遮光性（吸光性）を得ることができる。またこれにより、金属層より下層にある材料は反射率特性に影響しない。

金属層は、アルカリ耐性のある金属層が好ましい。アルカリ耐性がある場合は、後工程（カラーフィルタやブラックマトリクスを形成する工程、金属配線に端子部を形成する工程など）でアルカリ現像液を用いることができる。尚、クロムはアルカリ耐性があるが、抵抗値が大きく、製造工程で生じるクロムイオンが有害であり実際の生産への適用は難しい。銅や銅合金は、低い抵抗値の観点から金属層として望ましい。

金属層は、銅合金の場合３原子組成百分率（以下3ａｔ％と表記する）以下の合金元素 を含有させることができる。合金元素は 、マグネシウム、カルシウム、銀、チタン、モリブデン、インジウム、錫、亜鉛、アルミニウム、ベリリウム、ニッケル、アンチモン、ビスマスから１以上の元素を選択できる。銅の合金化は、耐熱性を改善し銅の拡散を抑えることができる。３ａｔ％以上の合金元素の添加は、金属層の抵抗値を大きくする。金属層の抵抗値が高くなると、タッチ検出に関わる駆動電圧の波形なまりや信号遅延を生じるため好ましくない。マグネシウムやカルシウムは、熱処理により、銅合金層と黒化層との界面、さらには後述する複合金属酸化物との界面に、酸化マグネシムあるいは酸カルシウムの酸化物を形成できる。酸化マグネシムあるいは酸カルシウムの酸化物の界面への形成は、銅の拡散抑制に大きな効果がある。換言すれば、銅層や銅合金層からの銅のマイグレーションを抑止することで、配線基板の信頼性を大きく向上できる。

透明基材上の金属層のパターニング方法は、公知のインクジェット法、印刷法、フォトレジスト法、エッチング法など何れの方法で作製しても構わない。しかし、金属層の抵抗率やパターニング性の観点からウェットエッチング法が好ましい。

［黒化層の光学的特性］
黒化層の光学膜厚ｎ_Ｂｘｄ_Ｂ（ここでｎ_Ｂ：黒化層の屈折率、ｄ_Ｂ：黒化層の膜厚（ｎｍ）。以下ｎ_Ｂｄ_Ｂと略記する）と、単位膜厚当たりの光学濃度（ＯＤ値）の好適な範囲を求めることで金属層の反射率を大幅に低減することができる。以下、図１１〜１３により説明する。

図１１は、一般的な薄膜（屈折率：ｎ_１、消衰係数：ｋ_１、膜厚：ｄ_１）の反射率の下地（屈折率：ｎ_２、消衰係数：ｋ_２）依存性を、薄膜の光学膜厚（ｎ_１ｄ_１）を横軸として計算したものである。ここで、波長は可視光域のほぼ中央にあたる５８０ｎｍとし、入射側の媒体は空気（屈折率：ｎ_０＝１．０、消衰係数：ｋ_０＝０）とする。

図１１において、薄膜、及び下地ともに透明であり、ｋ_１＝０、ｋ_２＝０とすると、干渉効果により、反射率（Ｒ）にはピークとボトムが現れ、図１１（ｃ）のようになる。すなわち、ｎ_０＜ｎ_１＜ｎ_２の場合は実線のようになり、ｎ_１ｄ_１が波長（５８０ｎｍ）の１／４（＝１４５ｎｍ）の奇数倍のときに反射率は最も低く（ボトム）となる。一方で、ｎ_０＜ｎ_１＞ｎ_２の場合は一点鎖線のようになり、ｎ_１ｄ_１が波長（５８０ｎｍ）の１／４（＝１４５ｎｍ）の奇数倍のときに反射率は最も高く（ピーク）となる（後者では下地材料として銅を想定し、波長５８０ｎｍのときのｎ_２＝０．６としている）。

さらに、ｋ_２≠０の場合は、前記ボトム、ピークとなるｎ_１ｄ_１の位置はｋ_２の値によって変化する。ここで下地材料として銅（膜厚＝３００ｎｍ）を想定し、波長５８０ｎｍのときのｋ_２＝２．７を用いると、図１１（ｃ）の点線のようになり、ボトムの位置はｋ_２＝０の場合（一点鎖線）よりも約ｎ_１ｄ_１＝９０（ｎｍ）大きくなることが分る。（尚、銅膜厚は３００ｎｍとしているので、反射光以外の光は銅層で吸収され、銅層より下層にある材料は反射特性に影響しない）。

図１２（ａ）〜（ｃ）は、前記薄膜として黒化層を想定し（従ってｎ_１＝ｎ_Ｂ、ｋ_１＝ｋ_Ｂ）、ｎ_Ｂは本発明で使用する黒化層の典型的な値であるｎ_Ｂ＝１．９０とし、下地材料は銅（膜厚＝３００ｎｍ）として、ｋ_Ｂ＝０．１６、０．３７を選び（ｋ_Ｂ＝０．１６、０．３７は、ｎ_Ｂ＝１．９０で、膜厚＝１μｍのときのＯＤ値が、それぞれ１．５、３．５となる値である）、黒化層と銅層の間に金属酸化物層としてのＩＺＯ層がない場合、膜厚＝２０ｎｍ、４０ｎｍのＩＺＯ層がある場合の反射率を、ｎ_Ｂｄ_Ｂを横軸として計算したものである。

尚、後述の図１３も含め、計算に用いた材料の光学定数（屈折率：ｎ、消衰係数：ｋ）を表１にまとめて示す。尚、図１２、図１３の計算は波長＝５８０ｎｍで行っているので、波長＝５８０ｎｍにおける値を用いている。これは、５８０ｎｍの波長が可視光域の中間付近にあるため、分光反射率の推定への影響が比較的小さいためである。

図１２（ａ）〜（ｃ）において反射率は、半透明膜である黒化層の干渉効果によるボトムの現出と、黒化層の光学濃度（ＯＤ値）による光の減衰によって低下している。ボトムの位置（ボトムを与えるｎ_Ｂｄ_Ｂの大きさ）は黒化層の消衰係数（ｋ_Ｂ）に依存しないが、ＩＺＯの膜厚に依存することが分る。有効なボトムは概ね２つずつ存在する（ｎ_Ｂｄ_Ｂの小さい方から順に、第１ボトム、第２ボトムと呼ぶことにする）。

図１２（ａ）で、ＩＺＯが存在しない場合、ｎ_Ｂｄ_Ｂ＝１１０ｎｍ付近に第１ボトムが現れ、ＯＤ＝３．５（／μｍ）となるｋ_Ｂ＝０．３７において、十分に低い反射率（Ｒ）となることが分る。さらに、反射率が低くなる第１ボトムのｎ_Ｂｄ_Ｂの範囲は、概ね
９０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦１５０（ｎｍ）であることが分る。これは、反射率がボトムとなるｎ_Ｂｄ_Ｂ＝１１０ｎｍに対して、−２０〜＋４０ｎｍの許容範囲があることを示している。尚、実際の積層膜では表面粗さや層間の界面に遷移層が存在するため、さらに反射率を低下させる要因となる。

図１２（ｂ）において、ＩＺＯ膜厚＝２０ｎｍの場合、ｋ_Ｂ＝０．３７のときの反射率はまだ低いレベルにあるが、図１２（ｂ）（ｃ）のように、ＩＺＯ膜厚が厚くなるにつれて第１ボトムにおける反射率は上昇する。図１２（ｄ）は、ＩＺＯ膜厚（ｄ_Ｏ）を横軸として、ボトムを与えるｎ_Ｂｄ_Ｂの大きさをプロットしたものであり、実線が第１ボトム、点線が第２ボトムに相当する。前記のように、ＩＺＯ膜厚が厚くなるにつれて第１ボトムにおける反射率は上昇するが、ＩＺＯ膜厚が厚くなるにつれてボトムを与えるｎ_Ｂｄ_Ｂの大きさは小さくなることが分る。

図１２（ｄ）におけるプロット線を直線近似すると、ＩＺＯ膜厚（ｄ_Ｏ）をｘ軸、ｎ_Ｂｄ_Ｂをｙ軸として、
第１ボトム（実線）の場合：ｎ_Ｂｄ_Ｂ＝−２．０ｄ_Ｏ＋１１０
第２ボトム（点線）の場合：ｎ_Ｂｄ_Ｂ＝−２．２５ｄ_Ｏ＋３９０
となる。ここで、反射率がボトムとなるｎ_Ｂｄ_Ｂに対する許容範囲はＩＺＯが存在しない図１２（ａ）の場合と同程度であるので、ＩＺＯが存在しない場合のｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲は、
第１ボトム（実線）の場合：
−２．０ｄ_Ｏ＋１１０−２０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．０ｄ_Ｏ＋１１０＋４０
すなわち、 −２．０ｄ_Ｏ＋９０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．０ｄ_Ｏ＋１５０・・・（数式１）
第２ボトム（点線）の場合：
−２．２５ｄ_Ｏ＋３９０−２０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．２５ｄ_Ｏ＋３９０＋４０
すなわち、 −２．２５ｄ_Ｏ＋３７０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．２５ｄ_Ｏ＋４３０・・・（数式２）
となる。

図１３（ａ）は、金属酸化物層をＩＺＯの代わりに、ＩＴＯとして同様の計算を行ったものである。図１３（ａ）の結果は、図１２（ｂ）に類似しており、ＩＴＯにおいてもＩＺＯと同様のｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲が適用できることが分る。これはＩＺＯ、ＩＴＯともにＩｎＯの成分が支配的なためである。なお、本発明には、ＩＴＯ，ＩＺＯのほか、これらの混合酸化物（複合酸化物）であるＩＺＴＯを用いることができる。

図１３（ｂ）は、入射側の媒体を空気の代わりに、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムとして同様の計算を行ったものである。すなわち、図２の第２の実施形態で、ＰＥＴフィルムを保護膜６とした場合を想定している。図１３（ｂ）の結果を、図１２（ｂ）と比べると、ｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲が約５０ｎｍ大きい方向へ移動していることが分る。従って、この場合のｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲は、
−２．０ｄ_Ｏ＋１４０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．０ｄ_Ｏ＋２００・・・（数式３）
−２．２５ｄ_Ｏ＋４２０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．２５ｄ_Ｏ＋４８０・・・（数式４）となる。

図１３（ｃ）は、入射側の媒体を空気の代わりに、ガラス基板（石英）として同様の計算を行ったものである。すなわち、図４の第４の実施形態において、透明基材１の第２の面１ｂ側の導電層１０ｂの反射率を計算している。図１３（ｃ）の結果を、図１２（ｂ）と比べると、ｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲が約３０ｎｍ大きい方向へ移動していることが分る。従って、導電層１０ｂにおける黒化層１４のｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲は、
−２．０ｄ_Ｏ＋１２０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．０ｄ_Ｏ＋１８０・・・（数式５）
−２．２５ｄ_Ｏ＋４００≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．２５ｄ_Ｏ＋４６０・・・（数式６）となる。

以上の検討では、金属層を銅（Ｃｕ）として計算を行っているが、銅合金層としても殆ど同じ結果となり、上記のように求めたｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲を適用することができる。これは導電層としての銅合金層の合金元素含有率は小さく、Ｃｕ成分が支配的なためである。

図１３（ｄ）は、金属層を銅（Ｃｕ）の代わりに、アルミニウム（Ａｌ）として同様の計算を行ったものである。図１３（ｄ）の結果を、図１２（ｂ）と比べると、ｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲が約４０ｎｍ大きい方向へ移動していることが分る。従って、この場合のｎ_Ｂｄ_Ｂの好適な範囲は、
−２．０ｄ_Ｏ＋１３０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．０ｄ_Ｏ＋１９０・・・（数式７）
−２．２５ｄ_Ｏ＋４１０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦−２．２５ｄ_Ｏ＋４７０・・・（数式８）となる。

以上の検討において、黒化層の単位膜厚当たりの光学濃度（ＯＤ値）は１．５〜３．５／μｍが好ましい。ＯＤ値が１．５／μｍ以下である場合、十分な黒色を得ることができず、下地の金属層の反射が大きくなり、表示画像の視認性を低下させるため実用に向かない。一方、ＯＤ値が３．５／μｍ以上である場合、黒化層の吸収性が大きく、干渉効果を利用できなくなるため反射率が飽和して下がらなくなり、表示画像の視認性を低下させるため実用に向かない。

［黒化層の含有物］
黒化層を形成するための黒色樹脂組成物としては、（Ａ）黒色顔料又は黒色染料、（Ｂ）重合性多官能モノマー、（Ｃ）バインダー樹脂、（Ｄ）熱重合開始剤又は光重合開始剤を含有することが好ましい。また、反射率及び反射色を調整するために（Ｅ）屈折率調整剤、（Ｆ）反射色調整剤を含有していても良い。前記した固形比とは、黒化層に硬化物として含まれる、これら（Ａ）黒色顔料又は黒色染料、（Ｂ）重合性多官能モノマー、（Ｃ）バインダー樹脂、（Ｄ）熱重合開始剤又は光重合開始剤、（Ｅ）屈折率調整剤、（Ｆ）反射色調整剤の全硬化物の質量を母数として、（Ａ）黒色顔料など色材の固形比を質量％で示したものである。

（黒化層に含有する黒色顔料又は黒色染料）
（Ａ）黒色顔料又は黒色染料としては、カーボンブラック、黒鉛、アニリンブラック及びシアニンブラックなどの有機顔料、酸化チタン、窒化チタン、酸化鉄などの無機顔料が挙げられるが、遮光性に優れたカーボンブラックが特に好ましい。

黒色顔料又は黒色染料の含有量としては、黒色樹脂組成物の固形分中１０〜６０質量％であることが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の範囲である。黒色顔料の含有量が１０質量％以下である場合、十分な黒色を得ることができず、下地の金属層の反射が大きく視認性を低下させるため実用に向かない。一方、黒色顔料の含有量が６０質量％以上である場合、黒化層と空気界面での反射が強くなってしまうため、反射が大きく視認性を低下させるため実用に向かない。

（黒化層に含有する重合性多官能モノマー）
（Ｂ）光重合性モノマーとしては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、グリセリンテトラ（メタ）アクリレート、テトラトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられ、これらの成分は単独又は混合物として使用される。また、各種変性（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等を用いることも可能である。この中でも、ポストベーク工程における線幅シフト量を抑えることができる５官能／６官能モノマー、具体的にはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好適に用いられる。

光重合性モノマーの含有量としては、黒色樹脂組成物の固形分中５〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０〜１５質量％の範囲である。光重合性モノマーの含有量がこの範囲である場合、黒色樹脂組成物の感度、現像速度を生産上好適な水準に調整することができる。光重合性モノマーの含有量が５質量％以下である場合、黒色樹脂組成物の感度が不足する。一方、光重合性モノマーの含有量が２０質量％以上である場合、パターンの直線性が悪化し、逆テーパー形状になりやすくなる。

（黒化層に含有するバインダー樹脂）
（Ｃ）バインダー樹脂としては、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレートなどのアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレート、環状のシクロヘキシルアクリレートまたはメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレートまたはメタクリレート、スチレンなどの内から３〜５種類程度のモノマーを用いて合成した、分子量２０００〜１００００程度の樹脂を好ましく用いることができる。

また、アクリル系樹脂の一部に不飽和二重結合を付加させた樹脂として、上記のアクリル樹脂、イソシアネート基と少なくとも１個以上のビニル基を有するイソシアネートエチルアクリレート、メタクリロイルイソシアネートなどの化合物を反応させて得られる、酸価５０〜１５０の感光性共重合体が、耐熱性、現像性等の点から好ましく使用できる。更に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸グリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエステル、脂肪族又は脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の通常の光重合可能な樹脂等やカルド樹脂も使用できる。これらの樹脂には、フッ素基を導入して低屈折率化した樹脂を用いることができる。

（黒化層に含有する熱重合開始剤又は光重合開始剤）
（Ｄ）熱重合開始剤又は光重合開始剤としては、熱重合開始剤はアゾニトリル、アゾエステル、アゾアミド等の従来公知の化合物を適宜使用することができるが、生産上の観点から危険物第５類である自己反応性物質を避けるためアゾアミジン、アゾイミダゾリウム化合物を用いることが好ましい。

前記アゾアミジン、アゾイミダゾリウム化合物としてはＶＡ−０６１、ＶＡ−０５７、Ｖ−５０、ＶＡ−０４６Ｂ、ＶＡ−０４４（和光純薬工業株式会社）等が挙げられる。

熱重合開始剤の含有量は、前記黒色樹脂組成物の固形分中０．１〜１０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．２〜５質量％の範囲である。熱重合開始剤の含有量が０．２質量％以下である場合、黒色樹脂組成物の硬化が不足する。一方、熱重合開始剤の含有量が１０質量％以上である場合、ガラス上にパターン残渣が発生してしまう。

光重合開始剤は従来公知の化合物を適宜使用することができるが、光を透過しない黒色樹脂組成物に用いた際にも高感度化を達成することができるオキシムエステル化合物を用いることが好ましい。

前記オキシムエステル系化合物としてはＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０２（商品名、共にＢＡＳＦジャパン社製）、ＮＣＩ−８３１（商品名、ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、前記黒色樹脂組成物の固形分中０．５〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５質量％の範囲である。光重合開始剤の含有量が０．５質量％以下である場合、黒色樹脂組成物の感度が不足する。一方、光重合開始剤の含有量が２０質量％以上である場合、パターン線幅が太りすぎてしまう。

本発明の黒色樹脂組成物には、上記オキシムエステル系化合物と共に、他の光重合開始剤を併用することができる。他の光重合開始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、２−クロルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系化合物、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が用いられる。これらの光重合開始剤は１種または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。他の光重合開始剤の含有量は、前記黒色樹脂組成物の固形分中０．１〜１質量％であることが好ましく、より好ましくは０．２〜０．５質量％の範囲である。

（黒化層に含有する屈折率調整剤）
（Ｅ）屈折率調整剤としては、反射率低減のためにシリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子、氷晶石（ヘキサフルオロアルミン酸ナトリウム）微粒子等の従来公知の低屈折率化合物を適宜使用することができるが、汎用性の観点からシリカ微粒子を用いることが好ましい。

シリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子、氷晶石（ヘキサフルオロアルミン酸ナトリウム）微粒子を含む屈折率調整剤の含有量は黒色樹脂組成物の固形分中１〜１５質量パーセントが好ましく、より好ましくは２〜１０質量パーセントである。含質量が１質量パーセント以下である場合、反射率低減能が不足する。一方、含有量が２０質量パーセント以上である場合、黒色感光性樹脂組成物の固形分中でカーボンブラックが占める割合が低下し遮光性が不足する。

（黒化層に含有する反射色調整剤）
（Ｆ）反射色調整剤については、前記黒色樹脂組成物に着色顔料又は着色染料を添加することにより、黒化層の反射色を調整することが可能である。着色顔料又は着色染料としては、黄色顔料、黄色染料、赤色顔料、赤色染料等の従来公知の化合物を適宜使用することができるが、特にＣ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ１３９、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＹｅｌｌｏｗ８３、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＲｅｄ１２４を用いることが好ましい。Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ１３９、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＹｅｌｌｏｗ８３を添加することで、ＣＩＥ Ｌａｂ色空間表示系におけるａ＊値を保ったまま、ｂ＊値をマイナス化することができる。一方、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＲｅｄ１２４を添加することで、ｂ＊値を保ったまま、ａ＊値をマイナス化することができる。よって、両者を併用することにより黒化層の反射色度をニュートラルな色度に調整することが可能である。また、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ１３９、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＹｅｌｌｏｗ８３、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＲｅｄ１２４は着色力が強いため、少量添加で黒化層のａ＊、ｂ＊値を大きくシフトさせることが可能である。よって、黒化層であるカーボンブラック等の添加濃度を抑えることが出来、クリア成分の調整によるパターニング性の調整幅を増やすことができる。Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ１３９、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＹｅｌｌｏｗ８３、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＲｅｄ１２４を含む着色顔料又は着色染料の含有量は黒色樹脂組成物の固形分中１〜１５質量パーセントが好ましく、より好ましくは２〜１０質量パーセントである。含有量が１質量パーセント以下である場合、反射色度のシフト量が不足する。一方、含有量が２０質量パーセント以上である場合、黒色感光性樹脂組成物の固形分中でカーボンブラックが占める割合が低下し遮光性が不足する。

黒色樹脂組成物に添加する着色顔料又は着色染料は、上記Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ１３９、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＹｅｌｌｏｗ８３、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＲｅｄ１２４以外の着色顔料、例えば各種青色、紫色、緑色、橙色顔料又は染料等も適宜用いることが可能である。

赤色顔料としては、例えばＣ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ ７、９、１４、４１、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、８１：１、８１：２、８１：３、９７、１２２、１２３、１４６、１４９、１６８、１７８、１７９、１８０、１８４、１８５、１８７、１９２、２００、２０２、２０８、２１０、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４６、２５４、２５５、２６４、２６９、２７２、２７９等が挙げられる。

黄色顔料としてはＣ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ １、２、３、４、５、６、１０、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、２０、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４２、４３、５３、５５、６０、６１、６２、６３、６５、７３、７４、７７、８１、８３、８６、９３、９４、９５、９７、９８、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１５、１１６、１１７、１１８、１１９、１２０、１２３、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１４４、１４６、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６１、１６２、１６４、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７９、１８０、１８１、１８２、１８５、１８７、１８８、１９３、１９４、１９９、２１３、２１４等が挙げられる。

青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＢｌｕｅ １５：３、１５：４、紫色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＶｉｏｌｅｔ２３等が挙げられる。

橙色顔料としてはＣ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＯｒａｎｇｅ ３６、４３、５１、５５、５９、６１、７１、７３等が挙げられる。

緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＧｒｅｅｎ ７、３６、５８等を用いることができる。

赤色染料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＲｅｄ １、２、３、４、８、１６、１７、１８、１９、２３、２４、２５、２６、２７、３０、３３、３５、４１、４３、４５、４８、４９、５２、６８、６９、７２、７３、８３：１、８４：１、８９、９０、９０：１、９１、９２、１０６、１０９、１１０、１１８、１１９、１２２、１２５、１２７、１３０、１３２、１３５、１４１、１４３、１４５、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６０、１６１、１６４、１６４：１、１６５、１６６、１６８、１６９、１７２、１７５、１７９、１８０、１８１、１８２、１９５、１９６、１９７、１９８、２０７、２０８、２１０、２１２、２１４、２１５、２１８、２２２、２２３、２２５、２２７、２２９、２３０、２３３、２３４、２３５、２３６、２３８、２３９、２４０、２４１、２４２、２４３、２４４、２４５、２４７、２４８、Ｃ．Ｉ．ＡｃｉｄＲｅｄ６、１１、２６、６０、８８、１１１、１８６、２１５、Ｃ．Ｉ．ＢａｓｉｃＲｅｄ１、２、１３、１４、２２、２７、２９、３９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ４、２３、３１、７５、７６、７９、８０、８１、８３、８４、１４９、２２４、Ｃ．Ｉ．ＳｕｌｐｈｕｒＲｅｄ５、６、７、Ｃ．Ｉ．ＲｅａｃｔｉｖｅＲｅｄ ８、２２、４６、１２０、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＲｅｄ ４、１１、５４、５５、５８、６５、７３、１２７、１２９、１４１、１９６、２１０、２２９、３５４、３５６等が挙げられる。

黄色染料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＹｅｌｌｏｗ ２、３、７、１２、１３、１４、１６、１８、１９、２１、２５、２５：１、２７、２８、２９、３０、３３、３４、３６、４２、４３、４４、４７、５６、６２、７２、７３、７７、７９、８１、８２：１、８８、８９、９０、９３、９４、９６、９８、１０４、１０７、１１４、１１６、１１７、１２４、１３０、１３１、１３３、１３５、１４１、１４３、１４５、１４６、１５７、１６０：１、１６１、１６２、１６３、１６７、１６９、１７２、１７４、１７５、１７６、１７９、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８６、１８７、１８９、１９０、１９１、Ｃ．Ｉ．ＡｃｉｄＹｅｌｌｏｗ１７、２３、２５、３６、３８、４２、４４、７２、７８、Ｃ．Ｉ．ＢａｓｉｃＹｅｌｌｏｗ１１、２３、２５、２８、４１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ ２６、２７、２８、３３、４４、５０、８６、１４２、Ｃ．Ｉ．ＳｕｌｐｈｕｒＹｅｌｌｏｗ ４、Ｃ．Ｉ．ＶａｔＹｅｌｌｏｗ ２、１２、２０、３３、Ｃ．Ｉ．ＲｅａｃｔｉｖｅＹｅｌｌｏｗ１、２、４、１４、１６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＹｅｌｌｏｗ ３、４、５、７、２３、３３、４２、６０、６４等が挙げられる。

青色染料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＢｌｕｅ ２、３、４、５、７、１８、２５、２６、３５、３６、３７、３８、４３、４４、４５、４８、５１、５８、５９、５９：１、６３、６４、６７、６８、６９、７０、７８、７９、８３、９４、９７、９８、１００、１０１、１０２、１０４、１０５、１１１、１１２、１２２、１２４、１２８、１２９、１３２、１３６、１３７、１３８、１３９、１４３、Ｃ．Ｉ．ＡｃｉｄＢｌｕｅ２２、２５、４０、７８、９２、１１３、１２９、１６７、２３０、Ｃ．Ｉ．ＢａｓｉｃＢｌｕｅ３、７、９、１７、４１、６６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ ７１、７８、９８、１０６、１０８、１９２、２０１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ ７１、７８、９８、１０６、１０８、１９２、２０１、Ｃ．Ｉ．ＳｕｌｐｈｕｒＢｌｕｅ２、３、７、９、１３、１５、Ｃ．Ｉ．ＶａｔＢｌｕｅ ６、１４、２６、３０、Ｃ．Ｉ．ＲｅａｃｔｉｖｅＢｌｕｅ １、２、７、１９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＢｌｕｅ３、２４、７９、８２、８７、１０６、１２５、１６５、１８３等が挙げられる。

紫色染料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＶｉｏｌｅｔ ２、８、９、１１、１３、１４、２１、２１：１、２６、３１、３６、３７、３８、４５、４６、４７、４８、４９、５０、５１、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、Ｃ．Ｉ．ＢａｓｉｃＶｉｏｌｅｔ１、３、１８、３９、６６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＶｉｏｌｅｔ ５１、Ｃ．Ｉ．ＳｕｌｐｈｕｒＶｉｏｌｅｔ ２、３、４、Ｃ．Ｉ．ＶａｔＶｉｏｌｅｔ１、３、９、１３、１５、１６、Ｃ．Ｉ．ＲｅａｃｔｉｖｅＶｉｏｌｅｔ ２、４、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＶｉｏｌｅｔ １、６、１２、２６、２７、２８等が挙げられる。

橙色染料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＯｒａｎｇｅ １、２、３、４、５、７、１１、１４、２０、２３、２５、３１、４０：１、４１、４５、５４、５６、５８、６０、６２、６３、７０、７５、７７、８０、８１、８６、９９、１０２、１０３、１０５、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１１１、１１２、１１３、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＯｒａｎｇｅ２６、２９、３４、３７、７２、Ｃ．Ｉ．ＶａｔＯｒａｎｇｅ ２、５、１１、１５、１８、２０、Ｃ．Ｉ．ＲｅａｃｔｉｖｅＯｒａｎｇｅ １、４、７、１３、１６、２０、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＯｒａｎｇｅ１３、２９、３０等が挙げられる。

緑色染料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ＳｏｌｖｅｎｔＧｒｅｅｎ １、３、４、５、７、２８、２９、３２、３３、３４、３５、Ｃ．Ｉ．ＡｃｉｄＧｒｅｅｎ ２５、２７、Ｃ．Ｉ．ＢａｓｉｃＧｒｅｅｎ ３、４、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＧｒｅｅｎ２６、２８、Ｃ．Ｉ．ＳｕｌｐｈｕｒＧｒｅｅｎ２、３、６、Ｃ．Ｉ．ＶａｔＧｒｅｅｎ ３、５、８等が挙げられる。

（黒化層のその他の添加剤）
本発明の黒色樹脂組成物には、さらに塗布性を向上させるための界面活性剤、基板との密着性を向上させるためにシランカップリング剤、チオール化合物、重合禁止剤等を併用することができる。

上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。

シランカップリング剤は、黒色樹脂組成物の固形分比率０．１〜１０質量％であることが良く、好ましくは０．２〜５質量％が良い。アルコキシシリル基、シラノール基、シラノール縮合基等の量が多すぎると、フォトリソパターニングに際にガラス面に黒色樹脂組成物の現像残渣が発生してしまう。シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルシラン類、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシシラン等のエポキシシラン類、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタクリルシラン類、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン類等のアミノシラン類、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトシラン類、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネートシラン類等が挙げられる。

多官能チオールは、光重合開始剤とともに使用した場合、光照射後のラジカル重合過程において、連鎖移動剤として働き、酸素による重合阻害を受け難いチイルラジカルを発生する。従って、多官能チオールを更に含有させると、黒色樹脂組成物はより高感度となる。特に、ＳＨ基がメチレン及びエチレン基等の脂肪族基に結合した多官能脂肪族チオールが好ましい。脂肪族基に結合した多官能脂肪族チオールとしては、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４−ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン及び２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。これらの中では、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート及びペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートが好ましい。これら多官能チオールは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

多官能チオールの含有量は、連鎖移動剤としての効果を充分に発揮し、現像性及び密着性等を損なわないように定められる。多官能チオールの含有量は、前記黒色樹脂組成物の固形分中０．５〜５．０質量％であることが好ましく、より好ましくは１．０〜３．０質量％の範囲である。

重合禁止剤としては、黒色樹脂組成物及びアルカリ現像液との相溶性に優れ、露光感度の水準そのものへの影響が軽微なハイドロキノン系の重合禁止剤が好適に用いられる。具体的には、ハイドロキノン、ｔｅｒｔ‐ブチルハイドロキノン、２，５‐ビス（１，１‐ジメチルブチル）ハイドロキノン、２，５‐ビス（１，１，３，３‐テトラメチルブチル）ハイドロキノン等が用いられる。その他、カテコール、ｔｅｒｔ‐ブチルカテコールといったカテコール系の重合禁止剤を用いることも可能である。重合禁止剤を添加することにより、近接露光方式で細線を形成する際の障壁となる回折光起因の線幅太りを大幅に抑制することが可能である。また、回折光の影響を受けにくいことからパターンエッジの硬化性に優れ、現像ばらつきに対する線幅変化を低減することができる。重合禁止剤の添加量は、前記黒色樹脂組成物の固形分中０．０１〜０．５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０２〜０．１５質量％の範囲である。前述した光重合開始剤又は熱重合開始剤の効果と重合禁止剤の効果を組み合わせることにより、線幅５μｍ以下のパターンを精度よく形成することが可能になる。

その他、溶剤としては、メタノール、エタノール、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジグライム、シクロヘキサノン、エチルベンゼン、キシレン、酢酸イソアミル、酢酸nアミル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、液体ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エステル、エチルエトキシプロピオネートなどが挙げられる。

［黒化層の形成方法］
黒化層の形成は以下のようにして行う。まず、基板にスプレーコートやスピンコート、スリットコート、ロールコート等の塗布方法により、前記黒色樹脂組成物の塗膜を形成する。

次に、減圧乾燥、プレベーク処理により塗膜中の残留溶剤を除去した後、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光光源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノン灯、アーク灯、ＬＥＤ−ＵＶ等従来公知の光源を用いることができる。

次に、アルカリ性水溶液からなる現像液を用いて現像を行う。このアルカリ性水溶液からなる現像液の例としては、炭酸カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、または炭酸水素ナトリウム水溶液、さらに、これらの水溶液に適当な界面活性剤などを加えたものが挙げられる。現像後、水洗、乾燥してベークすることにより、所定のパターンを形成した基板を得ることができる。

尚、前記露光は必ずしも必要は無く、露光工程を省略し現像工程のみを行うことで、金属配線上に選択的に黒色パターンを得ることもできる。透明基材にガラス基板、金属層に銅あるいは銅合金を用いる場合、ガラス基板と銅で黒色樹脂組成物の現像密着性が異なり、ガラス基板よりも銅上の現像密着性が高いため未露光でのパターニングが可能である。

［接着層］
透明基材と金属層の接着については熱膨張率が同一な組み合わせが好ましい。透明基材と導電層に用いる金属層あるいは黒化層の熱膨張率が異なると、膜応力により歪が生じて密着性の悪化が懸念される。例えば、透明基材にガラス基板、金属層に銅を用いる場合、インジウムを含む接着層を層間に導入することで密着性の向上が期待できる。

インジウムを含む接着層は、インジウムを含む導電性の複合金属酸化物、あるいは、銅に対して金属インジウムを０．５ａｔ％〜４０ａｔ％含む銅インジウム合金から選択できる。銅インジウム合金中のインジウムを増やすことにより、接着層の表面に形成されやすい酸化銅の形成を抑制し、電気的なコンタクトを容易とすることができる。銅インジウム合金の場合、金属インジウムを４０ａｔ％以上含む合金であっても良いが、インジウムは高価であるため、多く含有させることは経済的理由で好ましくない。また、金属インジウムを４０ａｔ％以下とする５００℃までの耐熱性を持つため、タッチパネルの金属配線として用いることができる。インジウムは銅より原子量が大きく、かつ、銅より酸素と結びつき易く銅インジウム合金の表面は銅酸化物よりインジウム酸化物を形成しやすい。銅インジウム合金は、銅単体であるときの問題である銅の拡散、ボイド形成、ブリッジ形成などを抑制できる。後述する銅の合金元素も、同様、銅の拡散、ボイド形成、ブリッジ形成などを抑制できる。

インジウムを含む導電性金属酸化物には、ＩＴＯと呼称される酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物、また、ＩＺＯと呼称される酸化インジウムと酸化亜鉛の混合酸化物を用いることができる。これら金属酸化物に限定する必要なく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化セリウムなど他の金属酸化物を少量、さらに添加した混合酸化物であっても良い。「インジウムを含む」は、混合酸化物（複合金属酸化物と同義）の場合、その混合酸化物表面の電気的コンタクト、すなわち電気的な接続を考慮して、混合酸化物中の酸化インジウムを５１ｗｔ％〜９９ｗｔ％含有させることができる。上記混合酸化物において、酸化亜鉛の添加量を増やすことにより、後工程となるウェットエッチングでのエッチングレートを高くでき、銅層あるいは銅合金層のエッチングレートに合わせることができる。銅層あるいは銅合金層は、その表面に酸化銅を形成しやすく、この酸化銅形成を抑止するために、上記混合酸化物による銅合金層などの挟持構成とすることは好ましい。

インジウムは金属としても、酸化物としてもカラーフィルタの基材であるアクリル樹脂などの樹脂、ガラスなどの透明基材、あるいは酸化ケイ素や室化ケイ素などの無機膜との密者性を大きく改善できるため、銅や銅合金の金属層と、黒化層、あるいは透明基材や無機絶縁層との界面に接着層の基材として用いることができる。後述する銅の合金元素も、同様、銅合金層の黒化層やＩＴＯなどの導電性複合酸化物との密着性を改善できる。

インジウムを含む接着層はスパッタリングなどの手法で成膜できる。インジウムを含む接着層を成膜する場合、スパッタリング時にアルゴンのほか酸素ガスを導入して成膜できる。

［金属酸化物層］
図３、図６の第３、第６の実施形態で用いる金属酸化物層５、１５は、金属層と黒化層の接着性、導電層の特性を改善するためのものであり、上記接着層の項で述べた各種金属酸化物を用いることができる。

すなわち、銅や銅合金は透明基材だけではなく黒化層との密着性も低いことに加え、経時や熱処理により銅成分が黒化層に拡散するため、導電層としての信頼性を損なう原因となる。また、銅や銅合金は、表面に銅酸化物を形成し、電気的接続に支障をきたす。ＩＺＯやＩＴＯなどの金属酸化物は、金属層と黒化層の接着性を改善するとともに銅拡散のバリア性があるためオーミックコンタクトが取れ、電気的実装に好適である。

［保護膜］
本発明の第２の実施形態の配線基板では、配線パターンを形成した透明基材の全面に保護膜６を形成する。保護膜は、少なくとも（Ｇ）光重合開始剤、（Ｈ）重合性多官能モノマー、（Ｉ）シランカップリング剤を含有する透明樹脂組成物からなり、必要に応じて樹脂、溶剤、添加剤を含むことができる。

保護膜に用いる（Ｇ）光重合開始剤としては、４-フェノキシジクロロアセトフェノン、４-ｔ-ブチル-ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１-（４-イソプロピルフェニル）-２-ヒドロキシ-２-メチルプロパン-１-オン、１-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルフォリノフェニル）-ブタン-１-オン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４-ベンゾイル-４'-メチルジフェニルサルファイド、３，３'，４，４'-テトラ（ｔ-ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、２-クロルチオキサントン、２-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４-ジイソプロピルチオキサントン、２，４-ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、２，４，６-トリクロロ-ｓ-トリアジン、２-フェニル-４，６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-（ｐ-メトキシフェニル）-４，６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-（ｐ-トリル）-４，６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-ピペロニル-４，６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２，４-ビス（トリクロロメチル）-６-スチリル-ｓ-トリアジン、２-（ナフト-１-イル）-４，６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-（４-メトキシ-ナフト-１-イル）-４，６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２，４-トリクロロメチル-（ピペロニル）-６-トリアジン、２，４-トリクロロメチル（４'-メトキシスチリル）-６-トリアジン等のトリアジン系化合物、１，２-オクタンジオン，１-〔４-（フェニルチオ）-，２-（Ｏ-ベンゾイルオキシム）〕、Ｏ-（アセチル）-Ｎ-（１-フェニル-２-オキソ-２-（４'-メトキシ-ナフチル）エチリデン）ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物、ビス（２，４，６-トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物、９，１０-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が用いられるが、透過率と硬化性の観点から、アセトフェノン系化合物やホスフィン系化合物が好ましい。

光重合開始剤の使用量は、着色組成物の全固形分量を基準として０．５〜５０質量％が好ましく、より好ましくは３〜３０質量％である。

保護膜に用いる（Ｈ）重合性多官能モノマーとして、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２-ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、β-カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６-ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１，６-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、エステルアクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ-ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ-ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。これらは、単独でまたは２種類以上混合して用いることができる。

酸価調整の観点から、重合性多官能モノマーとして少なくとも一種類が、カルボキシル基を含有することが好ましい。カルボキシル基を含有する重合性多官能モノマーとしては、アロニックスＭ−５３００、Ｍ−５４００、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０（以上、東亞合成社製）、ＮＫエステルＡ-ＳＡ（新中村化学社製）等が挙げられる。

保護膜には、密着性付与剤として（Ｉ）シランカップリング剤が添加される。本発明に使用できるシランカップリング剤としては、ＫＢＭ-３０３、ＫＢＭ-４０２、ＫＢＭ-４０３、ＫＢＥ-４０２、ＫＢＥ-４０３、ＫＢＭ-５０２、ＫＢＭ-５０３、ＫＢＥ-５０２、ＫＢＥ-５０３、ＫＢＭ-５１０３、ＫＢＭ-８０２、ＫＢＭ-８０３、ＫＢＥ-９００７（以上、信越シリコーン社製）、Ｚ-６０１１、Ｚ-６０２０、Ｚ-６０３０、Ｚ-６０４０、Ｚ-６０４３、Ｚ-６０９４、Ｚ-６５１９（以上、東レダウコーニング社製）等が挙げられる。シランカップリング剤は、透明樹脂組成物全量を基準として、０．１〜３０質量％以下の量で含有させることができる。

透明樹脂組成物の酸価として０．５乃至２．０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が０．５ｍｇＫＯＨ／ｇより低いと、極性の水酸基を持つ透明基材１４Ｂとの十分な密着力が十分得られず、酸価が２．０ｍｇＫＯＨ／ｇよりも高いと透明樹脂組成物の安定性や電極の腐食を起こすことが考えられる。尚、酸価の測定にはビュレットと指示薬を用いた滴定法が用いられる。

保護膜の代わりにカバーガラス基板を用いることができる。カバーガラスは、最表面となる透明な前面板であり、使用者によってタッチされる部材であり、液晶表示パネルと粘着剤を介して貼り合せられる。カバーガラス基板には、加飾層やガラス表面に樹脂材料からなる飛散防止膜を備えることができる。

［透明基材］
本発明の方法に用いられる透明基材は可視光に対してある程度の透過率を有するものが好ましく、より好ましくは８０％以上の透過率を有するものを用いる。一般にタッチパネルや液晶表示装置に用いられているものでよく、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）などのプラスチック基板やガラスが挙げられる。

［第７の実施形態のカラーフィルタ基板］
図７は本発明の第７の実施形態であるカラーフィルタ基板の模式断面図である。カラーフィルタ基板２００は、透明基材１の一方の面にブラックマトリクス（ＢＭ）と着色画素（Ｒ：赤色層、Ｇ：緑色層、Ｂ：青色層）からなるカラーフィルタ７を備え、さらに保護層、絶縁層として透明樹脂層８を備えている。他方の面にはタッチパネル電極としての導電層１０を備え、導電層１０は、透明基板１に近い側から順に、接着層２、金属層３が積層され、金属層３の上面には黒化層４が形成され、これらの層はパターニングされている。導電層１０の並びは紙面に対して垂直なＹ方向にストライプパターン形状で配列される。さらに、導電層１０を覆うように保護膜６が形成され、透明基材１から保護膜６まで、図２に示す第２の実施形態の配線基板１２０の構成となっている。

［第８の実施形態のカラーフィルタ基板］
図８は本発明の第８の実施形態であるカラーフィルタ基板の模式断面図である。第７の実施形態のカラーフィルタ基板と異なるのは、透明樹脂層８上に透明電極９を形成した構造であることである。透明樹脂層８上に、導電層１０の並びに直交して、透明電極９のストライプパターンが形成される。

透明電極９による差異は、後述の本発明の表示装置以降に現れるので、以下の本発明のカラーフィルタ基板の説明は、第７の実施形態、第８の実施形態で共通である。

（ブラックマトリクスの形成方法）
本発明のカラーフィルタ基板が備えるブラックマトリクスは、下記のように形成することができる。

基板に、スプレーコートやスピンコート、スリットコート、ロールコート等の塗布方法により、ブラックマトリクス用の樹脂組成物の塗膜を形成する。

減圧乾燥、プレベーク処理により塗膜中の残留溶剤を除去した後、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光光源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノン灯、アーク灯、ＬＥＤ−ＵＶ等従来公知の光源を用いることができる。

次に、アルカリ性水溶液からなる現像液を用いて現像を行う。このアルカリ性水溶液からなる現像液の例としては、炭酸カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、または炭酸水素ナトリウム水溶液、さらに、これらの水溶液に適当な界面活性剤などを加えたものが挙げられる。現像後、水洗、乾燥してベークすることにより、所定のパターンのブラックマトリクスを形成した基板を得ることができる。

（着色画素の形成方法）
本発明のカラーフィルタ基板が備える画素を構成する着色層は、下記のように形成することができる。

透明基材上に、感光性着色組成物を塗布し、プリベークを行う。塗布する手段はスピンコート、ディップコート、ダイコートなどが通常用いられるが、４０〜６０ｃｍ四方程度の基板上に均一な膜厚で塗布可能な方法ならばこれらに限定されるものではない。プリベークは５０〜１２０℃で１０〜２０分ほどすることが好ましい。塗布膜厚は任意であるが、分光透過率などを考慮すると通常はプリベーク後の膜厚で２〜２．５μｍ程度である。感光性着色組成物を塗布し着色層を形成した基板にパターンマスクを介して露光を行う。光源には通常の高圧水銀灯などを用いればよい。

続いて現像を行う。現像液にはアルカリ性水溶液を用いる。アルカリ性水溶液の例としては、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、または両者の混合水溶液、若しくはそれらに適当な界面活性剤などを加えたものが挙げられる。現像後、水洗、焼成して任意の一色の画素が得られる。

以上の一連の工程を、感光性着色組成物及びパターンを替え、必要な数だけ繰り返すことで必要な色数が組み合わされた着色パターンすなわち複数色の画素を得ることができる。

複数の着色層としては赤・緑・青（ＲＧＢ）や黄・マゼンダ・シアン（ＹＭＣ）の組合せ、その混合系のほか、輝度調整のための透明画素を適用することができる。

［第９の実施形態の表示装置］
図９は、本発明の第７の実施形態のカラーフィルタ基板を用いた、本発明の第９の実施形態である表示装置の模式断面図である。本実施形態は、いわゆる横電界方式の液晶表示装置の場合の実施形態である。

図９において、アレイ基板２０にはアクティブ素子（ＴＦＴ、図示せず）が配設され、アクティブ素子はゲート配線（図示せず）と並行に走る金属配線（以下、この金属配線を第２のタッチパネル電極２７と呼ぶ）を備えている。ゲート配線と、第２のタッチパネル電極２７は同じ金属材料、構成で同じ工程で形成されるが、電気的に独立している。なお、表示駆動用の金属配線は、ゲート配線とソース配線よりなる。

液晶層３０の液晶は、アレイ基板２０の面に水平に配向されている。液晶の駆動は、画素電極２５と共通電極２６との間に生じるフリンジ電界で駆動する。この液晶駆動方式は、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、あるいはＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、すなわち横電界方式と呼ばれている。共通電極２６は、ＩＴＯなどの透明導電膜で形成されている。アレイ基板２０の基板には、カラーフィルタ基板と同じ熱膨張率を持つガラス基板である透明基材２４が通常適用される。

タッチセンシングのための静電容量は、タッチパネル電極である導電層１０と第２のタッチパネル電極２７との間に形成される。図９での構成では、共通電極２６の液晶駆動と、タッチセンシングでの第２のタッチパネル電極２７の駆動は時分割でなされても良く、あるいは、第２のタッチパネル電極２７の駆動を液晶駆動と異なる周波数で駆動しても良い。第２のタッチパネル電極２７は、駆動電極（走査電極）あるいは検出電極として用いることができる。画素電極２５や共通電極２６は、いずれかの絶縁層２１、２２、２３上に形成されている。

［第１０の実施形態の表示装置］
図１０は、本発明の第８の実施形態のカラーフィルタ基板を用いた、本発明の第１０の実施形態である表示装置の模式断面図である。本実施形態は、いわゆる縦電界方式の液晶表示装置の場合の実施形態である。

図１０の液晶表示装置は、カラーフィルタ基板３００とアクティブ素子（ＴＦＴ、図示せず）を備えるアレイ基板４０を、液晶層５０を介して貼り合わせた構成である。カラーフィルタ基板３００に配設される透明電極９は、第２のタッチパネル電極と液晶の共通電極（液晶の駆動電極）を兼用する。アクティブ素子には、ポリシリコンＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴなどを用いることができる。さらにこれらの素子を２階建て（２層化）して用いることができる。また、タッチセンシングに係る１組の配線をアレイ基板側に具備することができる。

この実施形態の液晶表示装置は、液晶層５０を、共通電極である透明電極９とアレイ基板４０に具備される画素電極４５との間に、液晶の駆動電圧を印加して液晶層５０を駆動する。液晶層５０や透明基材４４の厚み方向（縦方向＝Ｚ方向）に電圧が印加されるので、縦電界方式と呼ばれる液晶駆動方式である。

図１０において、タッチパネル電極である導電層１０は、紙面に対して垂直なＹ方向にストライプパターン形状に並んでいる。透明樹脂層８上に配設された透明電極９はＸ方向に、同じくストライプパターン形状で具備され、導電層１０と透明電極９は、誘電体である透明樹脂層８を介して直交している。

当実施形態において透明電極９は共通電極であり、例えば、第２のタッチパネル電極の検出電極の役割を担い、導電層１０は、タッチセンシングでの駆動電極として用いることができる。導電層１０と透明電極９の間には、おおよそ一定の静電容量が形成されているが、指などポインタの接触あるいは近接によりその部位の静電容量が変化し、タッチ位置を検出する。

導電層１０をタッチセンシングでの駆動電極とし、透明電極９を検出電極とすると、タッチセンシングの駆動条件と液晶の駆動条件（周波数や電圧など）を異なるものにできる。タッチセンシングの駆動周波数と液晶の駆動周波数を異なるものとすることで、それぞれ駆動の影響を受けにくくできる。たとえば、タッチセンシングの駆動周波数を数ｋＨｚ〜数十ｋＨｚとし、液晶駆動の周波数を６０Ｈｚ〜２４０Ｈｚとすることができる。さらには、タッチセンシング駆動と液晶駆動を時分割にすることもできる。導電層１０を駆動電極とする場合に、要求されるタッチの入力の速さにあわせて静電容量検出の走査周波数を任意に調整できる。アレイ基板のアクティブ素子に、ＩＧＺＯなどの酸化物半導体を適用することで、液晶駆動の周波数は、３０Ｈｚ以下、さらには１Ｈｚ以下の周波数とすることができる。

あるいは、タッチセンシングでの駆動電極と検出電極を入れ替え、透明電極９を一定の周波数での電圧を印加する駆動電極としても良い。なお、タッチセンシングや液晶駆動での、駆動電極に印加する電圧（交流信号）は、正負の電圧を反転する反転駆動方式であっても良い。タッチセンシングと液晶駆動は時分割であっても良く、時分割でなくても良い。

（表示装置のその他の要素）
図９、図１０の第９、第１０の実施形態である表示装置では、保護膜６の上面、及び透明基材２４、４４の裏面に、偏光板や位相差板となる光学フィルム２８、２９、４８、４９を設けることができる。また、場合によってはこれらの層間に別途接着層を設けることができる。

以下に、実施例を例示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。

実施と評価は、まず、黒化層となる黒色樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６の単層膜について、単位膜厚当たりのＯＤ値（／μｍ）、及び屈折率の測定を行った。また、別途図１（ａ）に示す形態である、黒色樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６からなる黒化層４／金属層３／接着層２のパターンを形成し、黒化層／金属層／接着層の反射率を測定する試料（実施例１〜７、比較例１〜５）を作製し、視感反射率を求めた。以下、順次内容を説明する。

［黒色樹脂組成物の調製］
下記組成混合物をよく攪拌し、黒色樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６を得た。尚、「％」は「質量％」を意味する。

（黒色樹脂組成物Ｎｏ．１の調製）
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（新日鉄住金化学社製「Ｖ２５９−ＭＥ」、固形分５６．５％）２．８４ｇに対し、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート混合物（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ」）０．２４ｇ、カーボンブラック分散液（御国色素社製「ＡＢＫ−２０１５」、固形分２２．７％）８．４６ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＮＣＩ‐８３１」）０．０９ｇ、熱重合開始剤（和光純薬工業社製「ＶＡ−０６１」）０．０９ｇ、表面調整剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ‐３２３」）の１％プロピレングリコールモノメチルアセテート溶液１．００ｇ、シランカップリング剤（信越化学「ＫＢＥ−９００７」）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．８０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８６．４８ｇを加えてよく攪拌し、黒色樹脂組成物Ｎｏ．１を得た。

（黒色樹脂組成物Ｎｏ．２の調製）
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（新日鉄住金化学社製「Ｖ２５９−ＭＥ」、固形分５６．５％）２．１３ｇに対し、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート混合物（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ」）０．１８ｇ、カーボンブラック分散液（御国色素社製「ＡＢＫ−２０１５」、固形分２２．７％）１０．７１ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＮＣＩ‐８３１」）０．０７ｇ、熱重合開始剤（和光純薬工業社製「ＶＡ−０６１」）０．０７ｇ、表面調整剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ‐３２３」）の１％プロピレングリコールモノメチルアセテート溶液１．００ｇ、シランカップリング剤（信越化学「ＫＢＥ−９００７」）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．８０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５．０４ｇを加えてよく攪拌し、黒色樹脂組成物Ｎｏ．２を得た。

（黒色樹脂組成物Ｎｏ．３の調製］
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（新日鉄住金化学社製「Ｖ２５９−ＭＥ」、固形分５６．５％）４．１１ｇに対し、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート混合物（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ」）０．３５ｇ、カーボンブラック分散液（御国色素社製「ＡＢＫ−２０１５」、固形分２２．７％）４．４８ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＮＣＩ‐８３１」）０．１３ｇ、熱重合開始剤（和光純薬工業社製「ＶＡ−０６１」）０．１３ｇ、表面調整剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ‐３２３」）の１％プロピレングリコールモノメチルアセテート溶液１．００ｇ、シランカップリング剤（信越化学「ＫＢＥ−９００７」）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．８０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８９．００ｇを加えてよく攪拌し、黒色樹脂組成物Ｎｏ．３を得た。

（黒色樹脂組成物Ｎｏ．４の調製）
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（新日鉄住金化学社製「Ｖ２５９−ＭＥ」、固形分５６．５％）３．７９ｇに対し、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート混合物（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ」）０．３２ｇ、カーボンブラック分散液（御国色素社製「ＡＢＫ−２０１５」、固形分２２．７％）５．４６ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＮＣＩ‐８３１」）０．１２ｇ、熱重合開始剤（和光純薬工業社製「ＶＡ−０６１」）０．１２ｇ、表面調整剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ‐３２３」）の１％プロピレングリコールモノメチルアセテート溶液１．００ｇ、シランカップリング剤（信越化学「ＫＢＥ−９００７」）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．８０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８８．３９ｇを加えてよく攪拌し、黒色樹脂組成物Ｎｏ．４を得た。

（黒色樹脂組成物Ｎｏ．５の調製］
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（新日鉄住金化学社製「Ｖ２５９−ＭＥ」、固形分５６．５％）３．４６ｇに対し、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート混合物（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ」）０．２９ｇ、窒化チタン分散液（御国色素社製「ＭＰ−１２９」、固形分２５．１％）５．５８ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＮＣＩ‐８３１」）０．１３ｇ、熱重合開始剤（和光純薬工業社製「ＶＡ−０６１」）０．１３ｇ、表面調整剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ‐３２３」）の１％プロピレングリコールモノメチルアセテート溶液１．００ｇ、シランカップリング剤（信越化学「ＫＢＥ−９００７」）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．８０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８８．６１ｇを加えてよく攪拌し、黒色樹脂組成物Ｎｏ．５を得た。

（黒色樹脂組成物Ｎｏ．６の調製）
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（新日鉄住金化学社製「Ｖ２５９−ＭＥ」、固形分５６．５％）２．４２ｇに対し、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート混合物（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ」）０．２０ｇ、カーボンブラック分散液（御国色素社製「ＡＢＫ−２０１５」、固形分２２．７％）８．４６ｇ、シリカ微粒子分散液（ＣＩＫナノテック社製「ＳＩＲＰＭＡ２５ＷＴ％−Ｈ９８」）１．３６ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＮＣＩ‐８３１」）０．０８ｇ、熱重合開始剤（和光純薬工業社製「ＶＡ−０６１」）０．０８ｇ、表面調整剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ‐３２３」）の１％プロピレングリコールモノメチルアセテート溶液１．００ｇ、シランカップリング剤（信越化学「ＫＢＥ−９００７」）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液０．８０ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５．６０ｇを加えてよく攪拌し、黒色樹脂組成物Ｎｏ．６を得た。

［光学濃度（ＯＤ値）測定方法］
ガラス基板上に黒化層を膜厚１μｍとなるように形成し、顕微分光測定装置（大塚電子社製「ＬＣＦ‐１１００」）を用いて、波長範囲４００〜７００ｎｍにわたる透過率を測定し、得られた分光透過率曲線からＪＩＳＲ３１０６に従って視感透過率（Ｔ）を求め、下記式によってＯＤ値を求めた。
ＯＤ＝−Ｌｏｇ₁₀Ｔ

［屈折率測定方法］
真空紫外域自動多入射角分光エリプソメーター装置（ジェー・エー・ウーラム社製「ＶＵＶ−ＶＡＳＥ」）でシリコンウエハ基板上に黒化層を膜厚１μｍとなるように形成し、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲について屈折率を測定した。屈折率（ｎ）ｘ膜厚（ｄ）の計算は、ナトリウムのＤ線（波長５８９ｎｍ）の光に対する屈折率を採用した。

［反射率測定試料の作製］
以下の条件で、反射率を測定するための実施例１〜７、比較例１〜５の試料を作製した。

（共通条件；金属層／接着層のパターン形成）
透明基材としてのガラス基板（コーニング社製「ＥＡＧＬＥ ＸＧ」）上に、スパッタリング装置により、接着層としてＩＺＯを２０ｎｍの膜厚で形成し、次いで金属層として銅合金を３００ｎｍの膜厚で積層した。銅合金は、銅に対しカルシウムを１．５ａｔ％含む銅合金を用いた。その後、通常のフォトリソグラフィの手法で配線のフォトレジストパターンを形成した。フォトレジストパターン形成後の銅合金とＩＺＯ積層構成のウェットエッチングは、燐酸と塩化第二鉄の混酸を用いた。エッチング後、フォトレジストはアルカリ水溶液で剥膜した。次に、金属層／接着層パターンの信頼性を向上するプロセスとして、金属層／接着層のパターンに２４０℃の熱処理を施すことで銅合金層とＩＺＯ層の界面に酸化カルシウムを形成した。

（共通条件；金属層／接着層パターン上の黒化層パターン形成）
上記の金属層／接着層パターン上にスピンコート法により、上記黒色樹脂組成物Ｎｏ．１〜６の塗膜をそれぞれ形成した。乾燥後、１１５℃のホットプレートで１分間プリベークを行った。次に、露光せずに２．５質量％炭酸ナトリウム水溶液で現像を行い、金属層／接着層パターン上に所望の膜厚の黒化層パターンを形成した。ここで、黒色樹脂組成物の現像密着性はガラス基板よりも銅上の現像密着性が高いため未露光でのパターニングが可能であった。膜厚（ｄ_Ｂ）測定は、触針式膜厚計（小坂研究所社製「ＥＴ−４０００Ａ」）により行った。

＜実施例１＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．１を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝５１ｎｍの黒化層形成を行い、実施例１の反射率測定試料を得た。

＜実施例２＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．１を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝５３ｎｍの黒化層形成を行い、実施例２の反射率測定試料を得た。

＜実施例３＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．１を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝５８ｎｍの黒化層形成を行い、実施例３の反射率測定試料を得た。

＜実施例４＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．１を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝５９ｎｍの黒化層形成を行い、実施例４の反射率測定試料を得た。

＜実施例５＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．２を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝６４ｎｍの黒化層形成を行い、実施例５の反射率測定試料を得た。

＜実施例６＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．５を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝５５ｎｍの黒化層形成を行い、実施例６の反射率測定試料を得た。

＜実施例７＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．６を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝６０ｎｍの黒化層形成を行い、実施例７の反射率測定試料を得た。

＜比較例１＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．３を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝４９ｎｍの黒化層形成を行い、比較例１の反射率測定試料を得た。

＜比較例２＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．２を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝８０ｎｍの黒化層形成を行い、比較例２の反射率測定試料を得た。

＜比較例３＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．４を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝８１０ｎｍの黒化層形成を行い、比較例３の反射率測定試料を得た。

＜比較例４＞
金属層／接着層パターン上に、黒色樹脂組成物Ｎｏ．４を用いて上記の方法で膜厚ｄ_Ｂ＝１２１６ｎｍの黒化層形成を行い、比較例４の反射率測定試料を得た。

＜比較例５＞
金属層／接着層パターン上に、黒化層形成を行わず、比較例５の反射率測定試料を得た。

［分光反射率測定、視感反射率測定］
顕微分光測定装置（大塚電子社製「ＬＣＦ‐１１００）を用いて、波長範囲４００〜７００ｎｍにわたる分光反射率を測定した。条件はアルミニウムをリファレンスとして、Ｄ６５光源で行った。得られた分光反射率曲線からＪＩＳＲ３１０６に従って視感反射率を求めた。

以上のＯＤ値（／μｍ）、屈折率（ｎ_Ｂ）、膜厚（ｄ_Ｂ）の測定値、ｎ_Ｂｄ_Ｂの計算値、視感反射率の測定値を、表２にまとめて示す。

図１４（ａ）、（ｂ）に実施例２、実施例４、比較例３〜５の分光反射率の測定結果を示す。（ｂ）は（ａ）の縦軸スケールを変え、拡大したものである。

表２の結果より、実施例１〜７では、Ｃｕ合金による金属層上の黒化層の屈折率ｎ_Ｂと膜厚ｄ_Ｂ（ｎｍ）が、９０≦ｎ_Ｂｄ_Ｂ≦１５０の範囲内にあり、黒化層の単位膜厚当たりの光学濃度（ＯＤ値）が１．５〜３．５／μｍの範囲内にあるため、導電層の黒化層側から見たＸＹＺ表色系における視感反射率が５％以下となり、導電層の可視光域の反射率を大幅に低減できることがわかった。

これに対し、比較例１はＯＤ値、ｎ_Ｂｄ_Ｂともに小さいため十分な光吸収が得られず、低反射化が得られなかった。比較例２は逆にＯＤ値、ｎ_Ｂｄ_Ｂともに大きいこと、また比較例３、４は膜厚（ｄ_Ｂ）が大きいことで光吸収が過大になり、干渉効果が使えず、いずれも視感反射率が大きく低反射化できない結果となった。

本発明は、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器用のタッチパネル及びオンセル・インセル型カラーフィルタ、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、ＬＥＤチップをマトリクス状の配列したマイクロＬＥＤ表示装置として利用することができる。

１、２４、４４・・・透明基材
１ａ・・・透明基材の第１の面、１ｂ・・・透明基材の第２の面
２、１２・・・接着層
３、１３・・・金属層
４、１４・・・黒化層
５、１５・・・金属酸化物層
６・・・保護膜
６ａ・・・絶縁層
７・・・着色層（カラーフィルタ）
８・・・透明樹脂層
９・・・透明電極
１０、１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１１、１１ａ・・・導電層
２０、４０・・・アレイ基板
２１、２２、２３、４１、４２、４３・・・絶縁層
２５、４５・・・・画素電極
２６・・・・共通電極
２７・・・・第２のタッチパネル電極
２８、２９、４８、４９・・・光学フィルム（偏光板、位相差板）
３０、５０・・・・液晶層
１００、１１０、１２０、１３０・・・配線基板
１４０、１５０、１６０・・・配線基板またはタッチパネル
２００、３００・・・・カラーフィルタ基板
４００、５００・・・・液晶表示装置

Claims (9)

1. 透明基材の少なくとも片面側に複数の配線形状にパターニングされた導電層を備えた配線基板であって、
   前記導電層は前記透明基材側から順に金属層と黒化層の積層膜で構成され、
   前記黒化層は黒色顔料又は黒色染料と屈折率調整剤とを少なくとも含有する黒色樹脂組成物からなり、
   前記黒化層の屈折率ｎＢと膜厚ｄＢ（ｎｍ）の積が、９０≦ｎＢ×ｄＢ≦１５０の範囲内であり、
   前記黒化層の単位膜厚当たりの光学濃度（ＯＤ）が１．５〜３．５／μｍであり、
   前記導電層の前記黒化層側から見たＸＹＺ表色系における視感反射率が５％以下であることを特徴とする配線基板。
2. 透明基材の少なくとも片面側に複数の配線形状にパターニングされた導電層を備え、
   前記導電層は前記透明基材側から順に金属層と金属酸化物層と黒化層の積層膜で構成された配線基板であって
   前記黒化層は黒色顔料又は黒色染料と屈折率調整剤とを少なくとも含有する黒色樹脂組成物からなり、
   前記黒化層の屈折率ｎＢと膜厚ｄＢ（ｎｍ）の積と前記金属酸化物層の膜厚ｄＯ（ｎｍ）が下記（数式１）、または（数式２）のいずれかの関係を満たすことを特徴とする配線基板。
   −２．０ｄＯ＋９０≦ｎＢ×ｄＢ≦−２．０ｄＯ＋１５０・・・（数式１）
   −２．２５ｄＯ＋３７０≦ｎＢ×ｄＢ≦−２．２５ｄＯ＋４３０・・・（数式２）
3. 前記黒化層は、前記黒色顔料としてカーボンブラックを含み、前記カーボンブラックの含有量が前記黒化層の固形比に対して、２５〜６０質量％であり、前記黒化層の膜厚が５１〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の配線基板。
4. 前記黒化層は、黒色顔料として窒化チタンを含み、前記窒化チタンの含有量が前記黒化層の固形比に対して、１０〜５０質量％であり、前記黒化層の膜厚が５１〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の配線基板。
5. 前記黒化層は、前記屈折率調整剤としてシリカ微粒子を含み、前記シリカ微粒子の含有量が前記黒化層の固形比に対して、１〜１５質量％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の配線基板。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の配線基板を具備することを特徴とするタッチパネル。
7. 透明基材の片面側に請求項１または２に記載の特徴を有する導電層を備え、他方の片面側に複数の開口部を備えるブラックマトリクスを具備し、前記開口部に複数の着色層を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板。
8. 請求項６に記載のタッチパネルを具備することを特徴とする表示装置。
9. 請求項７に記載のカラーフィルタ基板を具備することを特徴とする表示装置。