JP6425838B2 - タッチセンサ付き表示パネル - Google Patents

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Description

本発明は、タッチセンサ付き表示パネルに関するものである。
使用者の指またはペンなどの指示体によって指示された、スクリーン上の位置（以下「タッチ位置」という場合がある）を検出することができる表示パネルが、広く知られている。タッチ位置を検出するために、表示装置には、タッチセンサを有するタッチパネルが設けられる。タッチセンサの一種として投影型静電容量（Projected Capacitive）タッチセンサがある。投影型静電容量方式においては、タッチスクリーンの使用者側の面、言い換えれば表示装置の観察される側の面（以下「観察面」という場合がある）が、厚み数ｍｍ程度のガラス板などの保護板で覆われていても、タッチ位置の検出が可能である。このため優れた堅牢性が得られる。また、可動部がないので長い寿命が得られる。
投影型静電容量タッチセンサは、行方向のタッチ位置の座標を検出する検出用行方向配線と、列方向のタッチ位置の座標を検出する検出用列方向配線とにより構成される（たとえば特許文献１参照）。以下の説明では、検出用行方向配線と検出用列方向配線とを合わせて、「検出用配線」という場合がある。特許文献１には、タッチパネルに相当するタッチパッドシステムが開示されている。特許文献１に開示されるタッチパッドシステムは、静電容量（以下、単に「容量」という場合がある）を検出するための検出用配線として、薄い誘電膜上に形成された第１シリーズの導体エレメントと、第１シリーズの導体エレメント上に絶縁膜を隔てて形成された第２シリーズの導体エレメントとを有している。平面視において第１シリーズの導体エレメントと第２シリーズの導体エレメントとが互い交差するが、この交差部分に電気的接触はない。タッチ位置は、指などの指示体と、タッチセンサである導体エレメントとの間に形成される容量（以下「タッチ容量」という場合がある）を検出回路で検出することによって特定される。また、２つ以上の導体エレメントの検出容量の相対値によって、導体エレメント間のタッチ位置を補間することができる。
以下の説明では、透明誘電体基板に検出用列方向配線と検出用行方向配線とが配置された部材を「タッチスクリーン」といい、タッチスクリーンに検出用回路が接続された装置を「タッチパネル」という。また、タッチスクリーンにおいて、タッチ位置を検出可能な領域を「操作領域」または「検出可能エリア」という。
タッチスクリーンの操作領域において、指示体のタッチ位置をくまなく検出するためには、検出用配線を操作領域上に密に配置する必要がある。密な検出用配線は、使用者に視認されやすいので、表示パネルの画像品質上は好ましくない。検出用配線を、たとえばインジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）などの透明導電膜で構成すると、検出用配線が使用者に視認される可能性は低くなる。しかし透明導電膜は、比較的高い電気抵抗（以下、単に「抵抗」という場合がある）を有するため、タッチスクリーンの大型化には不利である。また透明導電膜は、他の金属配線との間で比較的容易に腐食が発生し、その結果、配線が断線することがある。このため、液晶表示素子（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）にタッチスクリーンを装着して使用する場合には、配線の、湿度や水滴などに対する安定性に課題がある。
上記問題を避けるためには、検出用配線の材料として、たとえば銀またはアルミニウムなどの低抵抗の金属材料を用いることが考えられる。検出用配線として、金属材料で構成される配線（以下「金属配線」という場合がある）を用いることによって、検出用配線の抵抗を低くすることができる。金属配線は不透明であるので、上述したように使用者から視認されやすい。使用者からの視認のされやすさを抑える方法として、金属配線を細線化（たとえばメッシュ配線化）する方法がある。特許文献２には、金属の微細配線による投影容量タッチスクリーンが開示されている。
細線化された金属メッシュ配線をタッチスクリーンの操作領域上に密に配置すると、検出用列方向配線と検出用行方向配線との間の寄生容量（以下「線間容量」という場合がある）の大幅な増大という問題が発生する。この結果、たとえば、配線遅延の増大またはノイズの増加といった弊害が引き起こされる。
配線遅延は、配線の抵抗を低減することによって、ある程度は緩和することができる。配線遅延を緩和するために配線の抵抗を低減する技術は、たとえば特許文献３に開示されている。特許文献３に開示されるタッチスクリーンにおいては、検出用行方向配線および検出用列方向配線の各々が、直線状かつ細線状の金属配線を繋いだジグザグパターンとされる。これによって低抵抗化と線間容量の低減との両立が図られている。また、特許文献３に開示されるタッチスクリーンでは、大略的に行方向に延設された複数本の検出用行方向配線を電気的に接続して行方向の束配線とするとともに、大略的に列方向に延設された複数本の検出用列方向配線を電気的に接続して列方向の束配線としている。これによって、指などの指示体と検出用行方向配線との間の容量と、指示体と検出用列方向配線との間の容量とから成るタッチ容量を均一に検出することを可能としている。
上記特許文献１〜３に開示されるようなタッチパネルは、表示機能を担う表示パネルとは別個に製造され得る。この場合、表示パネル用の基板とは別の透明基板が必要であるため、表示装置の厚みおよび重量が増加する。このことは、特に携帯機器などにおいては好ましくない。このため、表示パネルの内部または表面にタッチスクリーンの機能を集積化する方式が特許文献４および５に開示されている。特許文献４のように表示パネルの内部にタッチスクリーンを集積化する方式をインセル方式、特許文献５のように表示パネルの表面に集積化する方式をオンセル方式と呼ぶ。インセル方式は、指と検出用配線との間の容量結合による信号が生成されにくく、タッチ検出の精度が低下する場合がある。オンセル方式は、このような精度低下を抑制することができる。
特許文献６によれば、オンセル方式に金属の微細配線が適用される。カラーフィルタ基板の片面あるいは両面に、メッシュ状の検出配線が、パターン状に形成された遮光部の形成位置と一致するように形成される。これにより、タッチ検出の精度向上と、薄型化および軽量化とが両立される。カラーフィルタ基板の片面であって遮光部が設けられた面にのみ検出配線が設けられる場合、検出配線と指との間の距離がより遠くなり、検出配線と画素電極との距離が近くなる。このため検出配線が、液晶を駆動する電界の影響を受けやすくなる。これにより、インセル方式と同様に、タッチ検出の精度が低下する。特許文献７によれば、カラーフィルタ基板の第１の面に第１の検知電極が形成され、第１の面と対向する第２の面に第２検知電極が形成される。
特表平９−５１１０８６号公報 特開２０１２−１０３７６１号公報 特開２０１０−６１５０２号公報 特開２０１０−２３１７７３号公報 特開２００８−１８５７８５号公報 特開２０１４−０７１７３４号公報 特開２０１３−０９７７０４号公報
上述した特許文献７においては、基板の観察面上にＹ検知電極（外側センサ電極）が配置され、観察面と反対の内面上にＸ検知電極（内側センサ電極）およびブラックマトリクス（遮光部）が配置される。観察者へと向かう光の一部は、遮光部によってだけでなく内側センサ電極および外側センサ電極によっても遮られる。すなわち、光は、遮光部のパターンと、内側センサ電極のパターンと、外側センサ電極のパターンとが合成された遮光パターンによって遮られる。遮光部および外側センサ電極は同一面上に配置されていないので、それらのパターンが合成された遮光パターンは、観察者の視野角によって、大きく変化し得る。このため視野角によっては、遮光パターンが、モアレを特に発生させやすいものとなり得る。
また、上述した特許文献７においては、検知電極（外側センサ電極）が表示パネルの視野角に及ぼす影響が考慮されていない。詳しくは後述するが、外側センサ電極が延びる方向によって、視野角に依存しての画像むらが、より深刻なものとなり得る。特に、表示品質の上で、左右方向の視野角への悪影響は、極力抑えられることが望まれる。
本発明は以上のような課題を解決するためになされたものであり、その一の目的は、視野角に依存してのモアレの発生を抑制することができるタッチセンサ付き表示パネルを提供することである。また他の目的は、左右方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができるタッチセンサ付き表示パネルを提供することである。
本発明のタッチセンサ付き表示パネルは、第１の基板と、遮光部と、色材部と、第２の基板と、表示機能層と、複数の内側センサ電極と、複数の外側センサ電極とを有している。第１の基板は、透光性を有しており、観察者に対向する観察面と、観察面と反対の内面とを有している。遮光部は、第１の基板の内面上に設けられており、開口パターンを有している。色材部は、第１の基板の内面上に設けられており、開口パターンに対応して配列された複数の色材層を有している。第２の基板は第１の基板の内面と対向している。表示機能層（５０）は第１の基板と第２の基板との間に保持されている。内側センサ電極は、第１の基板の内面と第２の基板との間に設けられており、平面視において遮光部に包含されている。外側センサ電極は、金属から作られており、第１の基板の観察面上に設けられている。外側センサ電極の、視野角に対応した光路による、第１の基板の内面上への射影は、平面視において遮光部に包含されている。外側センサ電極の各々は、タッチセンサ付き表示パネルの横方向と平行な一の方向に沿って延びる領域を含む。
本発明の一の局面に従うタッチセンサ付き表示パネルによれば、視野角に対応した光路による第１の基板の内面上への外側センサ電極の射影は、平面視において遮光部に包含されている。これにより、遮光部および外側センサ電極のパターンが合成された遮光パターンは、観察者の視野角によって変化しない。よって、視野角に依存して遮光パターンがモアレを特に発生させやすいものとなることが避けられる。以上から、視野角に依存してのモアレの発生を抑制することができる。
本発明の他の局面に従うタッチセンサ付き表示パネルによれば、タッチセンサが内側センサ電極および外側センサ電極によって構成される。内側センサ電極は、第１の基板の観察面上に配置されていないので、色材部と比較的近い位置に配置され得る。よって、内側センサ電極の存在に起因した、視野角に依存しての画像むらは小さい。さらに、外側センサ電極は、表示パネルの横方向と平行に延びる領域を含む。色材部のうち観察者から見てこの領域の陰となる箇所は、左右方向の視野角にはほぼ依存しない。以上から、左右方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができる。
この発明の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。
本発明の実施の形態１における表示パネルを有する表示装置の構成を概略的に示す断面図である。 図１の表示パネルの構成を概略的に示す平面図である。 表示パネルに集積化されたタッチスクリーンの検出可能エリアの構成を模式的に示す部分斜視図である。 図２の行方向配線部の各々の構成を概略的に示す平面図である。 図２の列方向配線部の各々の構成を概略的に示す平面図である。 本発明の実施の形態１における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す部分平面図である。 図６の線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿う概略断面図である。 図６の線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩに沿う概略断面図である。 図７の表示パネルの第１の基板と観察者との間での、第１の基板に垂直な光路と、視野角ＶＷでの光路とを模式的に説明する図である。 図５の第１の変形例を概略的に示す平面図である。 図５の第２の変形例を概略的に示す平面図である。 本発明の実施の形態２における表示パネルが有する行方向配線部の各々の構成を概略的に示す平面図である。 本発明の実施の形態２における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す部分平面図である。 図１３の線ＸＩＶ−ＸＩＶに沿う概略断面図である。 図１３の線ＸＶ−ＸＶに沿う概略断面図である。 比較例の表示パネルの構成を示す断面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらの発生の様子を示す斜視図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらの発生原因を説明する図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図１６の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 ＴＦＴアレイ基板におけるスイッチング回路構造の典型例を示す平面図である。 本発明の実施の形態３における表示パネルが有するＴＦＴアレイ基板におけるスイッチング回路構造の例を示す平面図である。 本発明の実施の形態４における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図３０の線ＸＸＸＩ−ＸＸＸＩに沿う概略断面図である。 図３０の線ＸＸＸＩＩ−ＸＸＸＩＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態５における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図３３の線ＸＸＸＩＶ−ＸＸＸＩＶに沿う概略断面図である。 図３３の線ＸＸＸＶ−ＸＸＸＶに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態６における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図３６の線ＸＸＸＶＩＩ−ＸＸＸＶＩＩに沿う概略断面図である。 図３６の線ＸＸＸＶＩＩＩ−ＸＸＸＶＩＩＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態７における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図３９の線ＸＬ−ＸＬに沿う概略断面図である。 図３９の線ＸＬＩ−ＸＬＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態８における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図４２の線ＸＬＩＩＩ−ＸＬＩＩＩに沿う概略断面図である。 図４２の線ＸＬＩＶ−ＸＬＩＶに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態９における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図４５の線ＸＬＶＩ−ＸＬＶＩに沿う概略断面図である。 図４５の線ＸＬＶＩＩ−ＸＬＶＩＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態１０における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図４８の線ＸＬＩＸ−ＸＬＩＸに沿う概略断面図である。 図４８の線Ｌ−Ｌに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態１１における表示パネルの構成を概略的に示す部分断面図である。 本発明の実施の形態１２における表示パネルが有する第１の基板の構成を概略的に示す平面図である。 本発明の実施の形態１３における表示パネルを有する表示装置の構成を概略的に示す断面図である。 図５３の表示パネルの構成を概略的に示す平面図である。 図５４の行方向配線部の各々の構成を概略的に示す平面図である。 図５４の列方向配線部の各々の構成を概略的に示す平面図である。 表示パネルに集積化されたタッチスクリーンの検出可能エリアの構成を模式的に示す部分斜視図である。 本発明の実施の形態１３における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す部分平面図である。 図５８の線ＬＩＸ−ＬＩＸに沿う概略断面図である。 図５８の線ＬＸ−ＬＸに沿う概略断面図である。 比較例の表示パネルの構成を示す断面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらの発生の様子を示す斜視図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらの発生原因を説明する図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図６１の表示パネルにおける画像むらと画素部の配列との関係を説明する平面図である。 図５６の第１の変形例を概略的に示す平面図である。 図５６の第２の変形例を概略的に示す平面図である。 ＴＦＴアレイ基板におけるスイッチング回路構造の例を示す平面図である。 本発明の実施の形態１４における表示パネルが有するＴＦＴアレイ基板におけるスイッチング回路構造の例を示す平面図である。 本発明の実施の形態１５における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図７７の線ＬＸＸＶＩＩＩ−ＬＸＸＶＩＩＩに沿う概略断面図である。 図７７の線ＬＸＸＩＸ−ＬＸＸＩＸに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態１６における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図８０の線ＬＸＸＸＩ−ＬＸＸＸＩに沿う概略断面図である。 図８０の線ＬＸＸＸＩＩ−ＬＸＸＸＩＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態１７における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図８３の線ＬＸＸＸＩＶ−ＬＸＸＸＩＶに沿う概略断面図である。 図８３の線ＬＸＸＸＶ−ＬＸＸＸＶに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態１８における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図８６の線ＬＸＸＸＶＩＩ−ＬＸＸＸＶＩＩに沿う概略断面図である。 図８６の線ＬＸＸＸＶＩＩＩ−ＬＸＸＸＶＩＩＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態１９における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図８９の線ＸＣ−ＸＣに沿う概略断面図である。 図８９の線ＸＣＩ−ＸＣＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態２０における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図９２の線ＸＣＩＩＩ−ＸＣＩＩＩに沿う概略断面図である。 図９２の線ＸＣＩＶ−ＸＣＩＶに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態２１における表示パネルが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。 図９５の線ＸＣＶＩ−ＸＣＶＩに沿う概略断面図である。 図９５の線ＸＣＶＩＩ−ＸＣＶＩＩに沿う概略断面図である。 本発明の実施の形態２２における表示パネルの構成を概略的に示す部分断面図である。 本発明の実施の形態２３における表示パネルが有する第１の基板の構成を概略的に示す平面図である。
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。
＜実施の形態１＞
（構成）
図１は、本実施の形態における表示パネル２０１を有する表示装置１００の構成を概略的に示す断面図である。表示装置１００は、表示パネル２０１と、バックライト６２と、液晶駆動回路基板６３と、タッチ検出ＩＣ(Integrated Circuit)６５と、マイクロコントローラ６６とを有している。表示パネル２０１は、タッチセンサが設けられたもの、すなわち、タッチセンサ付き表示パネルである。言い換えれば、表示パネル２０１にはタッチスクリーンが集積化されている。本実施の形態および後述する他の実施の形態においては、表示パネル２０１が液晶パネルの場合について、特に詳しく説明する。タッチ検出ＩＣ６５は、タッチによる静電容量の変化を検出するための外部回路を構成している。
図２は、表示パネル２０１の構成を概略的に示す平面図である。表示パネル２０１は、互いに対向する第１の基板１０および第２の基板５８を有している。第１の基板１０は、透光性を有しており、典型的には透明ガラス基板である。第２の基板５８は、バックライト６２（図１）が用いられる場合は透光性を有しており、典型的には透明ガラス基板である。
第１の基板１０は長方形状を有している。長方形状は、一の方向に沿った長辺を有している。この一の方向は、本実施の形態においては、表示パネル２０１の観察者の左右方向と平行なＸ方向（行方向）である。また長方形状の短辺は、観察者の上下方向に平行なＹ方向（列方向）に沿っている。Ｘ方向およびＹ方向は、互いに交差しており、典型的には直交している。第２の基板５８は、第１の基板１０の形状とおおよそ同様の形状を有していてよい。
表示パネル２０１には投影型静電容量方式のタッチセンサが設けられている。具体的には、タッチスクリーン端子部８と、複数の列方向配線部２１と、複数の行方向配線部３１と、引き出し配線Ｃ１〜Ｃ８と、引き出し配線Ｒ１〜Ｒ６とが設けられている。行方向配線部３１の各々はＸ方向に沿って延びている。行方向配線部３１は、Ｙ方向において互いに間隔を空けて並んでいる。列方向配線部２１の各々はＹ方向に沿って延びている。列方向配線部２１は、Ｘ方向において互いに間隔を空けて並んでいる。行方向配線部３１と列方向配線部とは第１の基板１０によって隔てられている。
タッチスクリーン端子部８は第１の基板１０の端部に設けられている。行方向配線部３１のそれぞれは引き出し配線Ｒ１〜Ｒ６によってタッチスクリーン端子部８に接続されている。列方向配線部２１のそれぞれは引き出し配線Ｃ１〜Ｃ８によってタッチスクリーン端子部８に接続されている。タッチスクリーン端子部８はタッチ検出ＩＣ６５（図１）に接続されている。タッチ検出ＩＣ６５は、行方向配線部３１および列方向配線部２１の各々と指示体との間に形成される静電容量に基づいて、指示体によって指示されたタッチスクリーン上の位置を検出する。
たとえば、引き出し配線Ｒ１〜Ｒ６は、タッチスクリーン端子部８に近い引き出し配線から順に、検出可能エリアの外周に沿って配置され、他の引き出し配線の配置位置に達してからは、他の引き出し配線に沿って配置される。このように、引き出し配線Ｒ１〜Ｒ６は、検出可能エリアの外周側に詰めて配置される。また、引き出し配線Ｃ１〜Ｃ８も同様に、タッチスクリーン端子部８に近い引き出し配線から順に、検出可能エリアの外周側に詰めて配置され、他の引き出し配線の配置位置に達してからは、他の引き出し配線に沿って配置される。このように、引き出し配線Ｒ１〜Ｒ６および引き出し配線Ｃ１〜Ｃ８を検出可能エリアの外周側になるべく詰めて配置することで、表示パネル２０１の外周部を小さくすることができる。また、行方向の引き出し配線Ｒ１〜Ｒ６と列方向の引き出し配線Ｃ１〜Ｃ６との間にシールド電極４０が配置されてもよい。これにより、表示部分から発生する電磁ノイズまたは引き出し配線間のノイズの影響を低減することができる。シールド電極４０は、後述する外側センサ電極３０または内側センサ電極２０と同時に形成され得る。
図３は、表示パネル２０１に集積化されたタッチスクリーンの検出可能エリアの構成を模式的に示す部分斜視図である。この構成は、表示パネル２０１に含まれるカラーフィルタ基板に対応しており、第１の基板１０と、遮光部７１（ブラックマトリクス）と、色材部７５と、複数の列方向配線部２１（内側配線部）と、複数の行方向配線部３１（外側配線部）とを有している。本実施の形態においては、このカラーフィルタ基板が、オンセル構造のタッチスクリーンに相当する。第１の基板１０は、観察者に対向する観察面（図中、上面）と、観察面と反対の内面（図中、下面）とを有している。第２の基板５８（図２）は第１の基板１０の内面と対向している。
行方向配線部３１は第１の基板１０の観察面上に設けられている。列方向配線部２１は、第１の基板１０の内面と第２の基板５８（図２）との間に設けられており、本実施の形態においては内面上に設けられている。よって行方向配線部３１と列方向配線部２１とは第１の基板１０によって遮られている。行方向（図中、横方向）に延びる複数の行方向配線部３１と、列方向に延びる複数の列方向配線部２１とは、平面視において、マトリクス領域を構成している。マトリックス領域においては、行方向配線部３１および列方向配線部２１の各々の割合が同一であることが表示品質上望ましい。
遮光部７１は、第１の基板１０の内面上に設けられており、開口パターンを有している。色材部７５は、第１の基板１０の内面上に設けられている。遮光部７１および色材部７５は、第１の基板１０の内面上に設けられたカラーフィルタ層を構成している。
なお、行方向配線部３１が設けられた観察面上には、接着層６１、保護透明基板６０および上部偏光板１３が順に設けられている。耐環境性を高めるために、上部偏光板１３の観察者に面する面上に接着層を介して保護透明基板が設けられてもよい。
図４は、行方向配線部３１の各々の構成を概略的に示す平面図である。行方向配線部３１の各々は、少なくとも１つの外側センサ電極３０を有しており、本実施の形態においては１つの格子状の外側センサ電極３０を有している。外側センサ電極３０は、本実施の形態においては、Ｘ方向およびＹ方向（図２）に沿って延びる格子パターンを有している。言い換えれば、外側センサ電極３０は、本実施の形態においては、表示パネル２０１の横方向と平行な一の方向、すなわちＸ方向、に沿って延びる領域と、Ｘ方向と交差する方向（具体的にはＸ方向と直交するＹ方向）に沿って延びる領域と、を有している。
外側センサ電極３０は金属から作られている。好ましくは、外側センサ電極３０は、銀、銅、アルミニウム、モリブデンおよびチタンの少なくともいずれの原子を含有している。具体的には、外側センサ電極３０は、アルミニウムなどの金属材料の単層膜もしくは多層膜、または金属材料と他の材料との多層膜である。たとえば、金属とその窒化物との積層構造が用いられてもよい。なお「金属材料」は、上記原子を有する合金材料であってもよい。
図５は、列方向配線部２１の各々の構成を概略的に示す平面図である。列方向配線部２１の各々は、少なくとも１つの内側センサ電極２０を有しており、たとえば、図示されているように、互いに並列接続された複数の内側センサ電極２０を有している。本例においては、内側センサ電極２０の各々はＹ方向（図２）に沿って延びている。内側センサ電極２０は、外側センサ電極３０と同様の材料から作られ得る。
図６は、表示パネル２０１が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す部分平面図である。言い換えれば、図３の主要部を観察面から見た（図３において上方向から見た）部分平面図である。図７および図８のそれぞれは、図６の線ＶＩＩ−ＶＩＩおよびＶＩＩＩ−ＶＩＩＩに沿う概略断面図である。
色材部７５は、遮光部７１の開口パターンに対応して配列された複数の色材層７２〜７４を有している。色材層７２〜７４は、互いに異なる色を有している。たとえば、色材層７２は赤（Ｒ）を有し、色材層７３は緑（Ｇ）を有し、色材層７４は青（Ｂ）を有している。色材部７５は、たとえば、ストライプ配列を有している。ストライプ配列においては、色材層７２〜７４のうち同一の色を有するものがストライプ方向（図６における上下方向）に沿って配列されている。すなわち、ストライプ方向はＹ方向（図２）に対応している。よって色材部７５は、Ｙ方向（図中、上下方向）において互いに隣り合いかつ共通の色を有する色材層７２〜７４を含んでいる。
外側センサ電極３０は、上述したように第１の基板１０の観察面上に配置されている。外側センサ電極３０は、図６に示すように、平面視において遮光部７１に包含されている。より具体的には、外側センサ電極３０の、視野角に対応した光路による内面上への射影は、平面視において遮光部７１に包含されている。視野角は、表示パネル２０１の仕様によって、所定の角度以下とされている。たとえば、視野角は、詳しくは後述する図９に示すように、観察者がパネルを見る角度として定義され得る。視野角の大きさは、表示パネルに要求される仕様によって決まる。外側センサ電極３０のこのような配置について、以下に詳しく説明する。
図９は、表示パネル２０１（図７）が観察者９００によって視距離ＤＳで観察されている様子を示している。光路ＬＰｉは、第１の基板１０と観察者９００との間での第１の基板１０に垂直な光路である。また光路ＬＰｊは、第１の基板１０と観察者９００との間での視野角ＶＷでの光路である。視野角ＶＷは、第１の基板１０の観察面の法線からの角度であり、かつ表示パネル２０１の仕様を満たすものである。よって、視野角ＶＷは、仕様を満たす最大角度以下のすべての角度といえる。具体的には、視野角ＶＷは、表示パネル２０１の画面を斜め方向から見たときに、色合い、明るさおよびコントラスト比が実質的に一定であり、階調反転（中間階調で明るい部分と暗い部分とが逆転する現象）が生じない範囲内のすべての角度である。言い換えれば、視野角ＶＷは、表示パネル２０１の画面を斜め方向から見たときに、色合い、明るさおよびコントラスト比が実質的に正面から見たときと同様であり、階調反転が生じない範囲内のすべての角度である。言い換えれば、視野角ＶＷは、表示パネル２０１の表示内容が正しく見える範囲を示す角度である。コントラスト比の測定基準には製造者間で統一的指標はなく差があるが、一般的には、コントラスト比１０：１以上または５：１以上が保たれる角度が視野角と定義される場合が多い。図中、外側センサ電極３０ｉおよび外側センサ電極３０ｊの各々は、説明の便宜上、外側センサ電極３０の一部を指しているものである。遮光部７１ｉおよび遮光部７１ｊの各々は、説明の便宜上、遮光部７１の一部を指しているものである。
遮光部７１ｉおよび遮光部７１ｊのそれぞれは、平面視において外側センサ電極３０ｉおよび３０ｊに包含されている。よって、第１の基板１０が垂直に観察される場合、その光は光路ＬＰｉに沿って進み、観察者から見て外側センサ電極３０ｉは遮光部７１ｉに当然に包含される。
一方で、第１の基板１０が視野角ＶＷで観察される場合、観察者から見て外側センサ電極３０ｉが遮光部７１ｉに包含されるためには、光路ＬＰｊに沿っての第１の基板１０の内面（図中、下面）上への外側センサ電極３０ｊの射影が遮光部７１ｉに包含される必要がある。所定の視野角の範囲内でこの条件が満たされるように外側センサ電極３０を配置することで、所定の視野角の範囲内において、外側センサ電極３０は実質的な遮光パターンに影響を及ぼさなくなる。言い換えれば、所定の視野角の範囲内において、遮光部７１および外側センサ電極３０のパターンが合成された遮光パターンは、観察者９００の視野角によって変化しない。よって、視野角に依存して遮光パターンがモアレを特に発生させやすいものとなることが避けられる。
外側センサ電極３０を上記のように配置するためには、観察者の左右方向（図中、水平方向）において、外側センサ電極３０の幅ＷＳが、遮光部７１の幅ＷＴよりも小さくされる。また平面視において、外側センサ電極３０の右側および左側の両方に遮光部７１の余裕が設けられる。必要とされる余裕の大きさは、視野角ＶＷの大きさだけでなく、第１の基板１０の内面（図中、下面）と観察者９００との間に存在する部材の厚みと屈折率とによって決定される。なぜならば、異なる種類の媒質中をそれらの界面に対して斜めに通過する光路ＬＰｊは、屈折現象の影響を受けるためである。
以上のように外側センサ電極３０が配置されることで、視野角に依存してのモアレの発生を抑制することができる。
なお、図９で説明されている配置によれば、モアレの発生が、観察者９００の左右方向における視野角の範囲内で抑制される。典型的には、左右方向の視野角の範囲内での画像品質が、上下方向の視野角内での画像品質よりも重要である。よって典型的には、「視野角」として、左右方向の視野角のみが考慮されてよい。しかしながら、上下方向の視野角の範囲内での画像品質が特に重要な場合は、「視野角」として、上下方向の視野角のみが考慮されてよい。また、左右方向および上下方向の両方の視野角の範囲内での画像品質が求められる場合は、「視野角」として、これらの各々の視野角が考慮されてよい。
再び図６〜図８を参照して、内側センサ電極２０は、好ましくは、平面視において遮光部７１と少なくとも部分的に重複するように配置されている。より好ましくは、内側センサ電極２０は平面視において遮光部７１に包含されている。本実施の形態においては、内側センサ電極２０は第１の基板１０の内面上に遮光部７１を介して配置されている。
外側センサ電極３０は、第１の基板１０の観察面（図７および図８における上面）上において、保護膜１２によって覆われていてもよい。外側センサ電極３０からさらに延びている電極であって、保護膜１２に覆われずに露出されているものが、タッチスクリーン端子５５（図８）である。タッチスクリーン端子５５の各々は、タッチスクリーン端子部８（図２）へと接続されている。保護膜１２は、その一部あるいはすべてが、透明性無機絶縁膜、有機系無機絶縁膜または有機絶縁膜により形成され得る。透明性無機絶縁膜としては、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸化窒化膜などのシリコン系無機絶縁膜、またはアルミナなどの金属酸化物膜が用いられ得る。有機系無機絶縁膜の材料としては、主鎖がシリコン酸化物、シリコン窒化物またはシリコン酸化窒化物からなり、側鎖または官能基に有機物が結合している高分子材料が用いられ得る。有機絶縁膜の材料としては、主鎖が炭素からなるものであって、高温焼成により硬化して得られる、たとえば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、またはオレフィン樹脂などが用いられ得る。
表示パネル２０１（図７）は、第１の基板１０を含むカラーフィルタ基板と、第２の基板５８を含むＴＦＴアレイ基板５４と、これらの間に保持された表示機能層としての液晶層５０とによって構成された表示機能部によって、画像を表示する機能を有している。液晶層５０は、第１の基板１０と第２の基板５８との間にシール材５２によって封止されている。液晶層５０の一方側および他方側のそれぞれには、上部偏光板１３および下部偏光板５３が設けられている。
ＴＦＴアレイ基板５４は、第２の基板５８上に、画素電極５７と、画素電極５７への印加電圧をスイッチングするトランジスタ素子（図示せず）と、液晶層５０を駆動するための電圧をこのトランジスタ素子に供給するＴＦＴアレイ配線層５１と、ＴＦＴアレイ配線層５１を覆う層間絶縁膜５９と、ＴＦＴアレイ配線層５１を外部回路と接続するためのＴＦＴアレイ端子５６とを有している。
（製造における外側センサ電極の形成タイミング）
表示パネル２０１の製造においては、第１の基板１０の観察面上に外側センサ電極３０が形成された後に、第１の基板１０の内面上に遮光部７１、色材部７５および内側センサ電極２０が形成されることが好ましい。したがって、外側センサ電極３０を覆う保護膜１２の材料は、製造時の色材部７５の形成工程、または製造後の使用環境下で使用される化学薬液もしくは水分に対して十分な耐性を有するものであることが好ましい。なお、内側センサ電極２０の保護膜として、内側センサ電極２０を覆うオーバーコート膜が設けられてもよい。
色材部７５は高温処理により分解および退色しやすいため、色材部７５が設けられた第１の基板１０に対しては高温処理を行うことができない。色材部７５より先に外側センサ電極３０を形成することで、外側センサ電極３０を高温で形成することが可能となる。これにより、高い硬度を有する保護膜１２を形成することができる。保護膜１２の硬度は、空気中を浮遊する砂塵およびガラスと同程度（具体的には硬度７以上）であることが好ましい。これにより、製造工程における搬送時のステージとの擦れ、または、製造後の使用に起因した、傷の発生が抑制される。このような傷は、断線または腐食の原因となったり、光の透過または反射の状態の変化により表示欠陥として視認されたりする。よってこのような傷は、歩留まり低下の原因となる。保護膜１２の材料は、たとえば、ＳｉＯ2、ＳｉＮなど無機絶縁膜、または有機絶縁膜である。
なお、第１の基板１０を有するカラーフィルタ基板と、第２の基板５８を有するＴＦＴアレイ基板５４との貼りあわせ工程と、両者の間への液晶注入・封止工程との後に外側センサ電極３０が形成されるとすると、検査によってタッチセンサの不良が発見された場合に、表示パネル２０１が既に完成に近いため、ロスコストが大きくなる。これに対して、上述したように早期に外側センサ電極３０が形成されると、ロスコストが小さくなり、環境保全の面でも有利である。
（効果のまとめ）
図９を参照して、前述したように、視野角ＶＷに対応した光路ＬＰｊによる第１の基板１０の内面（図中、下面）上への外側センサ電極３０の射影は、平面視において遮光部７１に包含されている。これにより、遮光部７１および外側センサ電極３０のパターンが合成された遮光パターンは、観察者９００の視野角によって変化しない。よって、視野角に依存して遮光パターンがモアレを特に発生させやすいものとなることが避けられる。以上から、視野角に依存してのモアレの発生を抑制することができる。
なお、内側センサ電極２０は遮光部７１と共に第１の基板１０の内面上に配置されている。これにより、内側センサ電極２０と遮光部７１との間での、視距離ＤＳ（図９）に沿った方向における位置ずれは小さい。よって、内側センサ電極２０は、外側センサ電極３０とは異なり、視野角に依存したモアレの発生の要因にはなりにくい。
外側センサ電極３０は金属から作られている。これにより、配線抵抗を小さくすることができる。このため、より狭い配線幅、および、より広い配線間ピッチの適用が可能となる。これにより、検出可能エリアの光の透過率を向上させることができるとともに、タッチスクリーンの大型化が可能になる。内側センサ電極２０が金属から作られている場合も同様の効果が得られる。また、配線抵抗が小さいことにより、タッチ検出を、短い応答時間で、すなわち高速で、行うことができる。
好ましくは、外側センサ電極３０は、銀、銅、アルミニウム、モリブデンおよびチタンの少なくともいずれの原子を含有する。これにより、外側センサ電極３０の配線抵抗を低くすることができる。よってタッチセンサの感度を高めることができる。
内側センサ電極２０（図７）が平面視において遮光部７１に包含されている場合、内側センサ電極２０が観察者から視認されにくい。よって、内側センサ電極２０の存在に起因した画像むらをより抑制することができる。左右方向において内側センサ電極２０が遮光部７１の内側に収まるほど、左右方向における、画像むらが起こらない視野角領域が広くなる。
外側センサ電極３０（図６）は平面視において遮光部７１に包含されている。これにより、外側センサ電極３０から上下方向に延びる陰が色材部７５に重なりにくくなる。よって、外側センサ電極３０の存在に起因した上下方向の画像むらをより抑制することができる。上下方向において外側センサ電極３０が遮光部７１の内側に収まるほど、上下方向における、画像むらが起こらない視野角領域が広くなる。
内側センサ電極２０と外側センサ電極３０と（図８）は第１の基板１０によって隔てられている。これにより、内側センサ電極２０と外側センサ電極３０との間の電気的絶縁性が十分に確保される。よってタッチセンサの耐電圧を十分に確保することができる。また第１の基板１０は、カラーフィルタ基板を構成するための基板としても利用される。これにより、表示パネル２０１の小型化および軽量化が可能となる。
外側センサ電極３０（図８）は第１の基板１０の観察面上に設けられている。これにより、外側センサ電極３０がタッチ位置の近くに配置される。よって検出感度が高められる。
行方向配線部３１（図４）は、好ましくは、格子パターンを有する外側センサ電極３０により構成されている。これにより、外側センサ電極３０が局所的に断線しても、センサ機能が大きく損なわれることは避けられる。
保護透明基板６０（図７）により表示パネル２０１の耐環境性が高められる。外側センサ電極３０の材料に金属が用いられることにより、酸化物導電体が用いられる場合に比して、耐水性および耐化学薬品性が高められる。これら耐環境性は、保護膜１２により、さらに高められる。
（列方向配線部の変形例）
図５においては、列方向配線部２１の各々が、略長方形にパターニングされた内側センサ電極２０によって構成される場合について説明した。略長方形内の全体に内側センサ電極２０が存在している。
第１の変形例（図１０）においては、列方向配線部２１ｍの各々が、略長方形にパターニングされた内側センサ電極２０ｍによって構成される。この長方形内において、内側センサ電極２０ｍはメッシュ状に存在している。メッシュ状の構成を用いることにより、内側センサ電極２０ｍは観察者に視認されにくくなる。これにより、内側センサ電極が平面視において遮光部７１（図６）に含まれない部分を有していても、画像品質に著しい影響を及ぼすことが避けられる。よって、内側センサ電極２０ｍを、より広く設けることができる。広く設けられた内側センサ電極２０ｍは、ＴＦＴアレイ基板５４から外側センサ電極３０へ向かうノイズを効果的に遮蔽することができる。このことについて、以下に詳述する。
外側センサ電極３０および内側センサ電極２０により相互容量方式のタッチセンサが設けられる場合、外側センサ電極３０は検出電極として、内側センサ電極２０は励起（駆動）電極としての機能を有する。検出電極と励起電極とが同一面上に配置される場合は、検出に必要とされる電極間容量が横方向の電界で形成される。このため電極間に一定の距離を設ける必要がある。これに対して、本実施の形態においては、これらが異なる面上に配置され、電極間容量が縦方向の電界で形成される。このため、励起電極としての内側センサ電極２０を、可能な限り密に配置することができる。これにより、励起電極に比してノイズの影響を受けやすい検出電極としての外側センサ電極３０を、ＴＦＴアレイ基板５４から発生するノイズから、密に配置された内側センサ電極２０によって、効果的に遮蔽することができる。
上記第１の変形例においては、メッシュ状の内側センサ電極２０ｍの外縁が、上下方向に沿って直線状に（図中、直線ＬＳに沿って）延びている。このような外縁は、光を規則的に反射するので、観察者から視認されやすい。これを避けるべく、第２の変形例（図１１）の列方向配線部２１ｎにおいては、メッシュ状の内側センサ電極２０ｎの外縁が、上下方向において非直線状にジグザグに（図中、線ＬＺに沿って）延びている。
＜実施の形態２＞
（構成）
図１２を参照して、本実施の形態においては、行方向配線部３１（図４：実施の形態１）に代わり、行方向配線部３１Ｌが用いられる。行方向配線部３１Ｌの各々は、少なくとも１つの外側センサ電極３０を有しており、典型的には、互いに並列接続された複数の外側センサ電極３０を有している。外側センサ電極３０の各々は、Ｘ方向（図２）に沿って延びている。
図１３は、本実施の形態の表示パネル２０２が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す部分平面図である。言い換えれば、図３の主要部を観察面から見た（図３において上方向から見た）部分平面図である。図１４および図１５のそれぞれは、図１３の線ＸＩＶ−ＸＩＶおよびＸＶ−ＸＶに沿う概略断面図である。上述した構成によって、外側センサ電極３０の各々は、表示パネル２０２の横方向と平行な一の方向、すなわちＸ方向、に沿って延びている。言い換えれば、外側センサ電極３０の各々は、Ｘ方向に沿って延びる領域のみを有している。なお本実施の形態においても、実施の形態１と同様、外側センサ電極３０の、視野角に対応した光路による第１の基板１０の内面上への射影は、平面視において遮光部７１に包含されている。
（比較例）
図１６を参照して、比較例の表示パネル２００においては、内側センサ電極２０および外側センサ電極３０（図１５）に代わり、外側センサ電極２０Ｚおよび外側センサ電極３０Ｚが設けられている。外側センサ電極２０Ｚおよび外側センサ電極３０Ｚは、第１の基板１０の観察面上に配置されている。外側センサ電極２０Ｚと外側センサ電極３０との間は層間絶縁膜１１によって隔てられている。以上の構成により、第１の基板１０の観察面上に、外側センサ電極２０Ｚと外側センサ電極３０と層間絶縁膜１１とを有するタッチスクリーン部１が構成されている。
図１７を参照して、外側センサ電極２０Ｚは観察者の左右方向に延びている。外側センサ電極３０Ｚは観察者の上下方向に延びている。このような構成を有するタッチスクリーン部１が設けられる場合、観察者９００は、左右の視野角（図中、矢印参照）の違いに起因した、大きな画像むらを視認し得る。この理由について、以下に説明する。
図１８を参照して、上下方向に延びる外側センサ電極３０Ｚが、観察者９００から見て遮光部７１、色材層７２および色材層７４のいずれを遮蔽するかは、観察者９００の左右の視野角に依存する。色材層７２が部分的に遮蔽された場合、色材層７２によって表示される色（たとえば赤（Ｒ））の輝度が低下してしまう。同様に、色材層７４が部分的に遮蔽された場合、色材層７４によって表示される色（たとえば青（Ｂ））の輝度が低下してしまう。色材層７２〜７４（図６）によって構成される単位画素において、特定の色の輝度が低下すれば、本来の色が表現されなくなる。これにより色むらが生じる。また、１つの単位画素において各色の輝度が同程度に低下する場合においては、単位画素間での輝度低下の程度の差異に起因して、輝度むらが生じる。このように比較例においては、画像むら、具体的には色むらまたは輝度むら、が顕著に発生しやすい。この画像むらと、色材部７５の配列との関係について、以下に詳しく説明する。
図１９〜図２２の各々は、色材部がＲＧＢ配列を有する場合を示している。より具体的には、図１９〜図２２のそれぞれは、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列および２Ｇスクエア配列を示している。ストライプ配列においては、同じ色を有する色材層が上下方向に沿って並んでいる。モザイク配列においては、Ｒ、ＧおよびＢの全色が繰り返し上下方向に沿って並んでいる。デルタ配列においては、Ｒ、ＧおよびＢが三角格子を成している。２Ｇスクエア配列においては、１つのＲと、２つのＧと、１つのＢとが、正方格子を成している。各図中、実線で囲まれた１つの領域が単位画素に対応している。また、１つの外側センサ電極３０Ｚが正面から見られた場合および左方から見られた場合のそれぞれにおける、色材部７５に与える陰の位置が、実線および二点鎖線で示されている。
ストライプ配列（図１９）においては、視野角に依存して特定の色（図中ではＲ（赤））の輝度が変化する。このため、視野角に依存した色むらが顕著に生じる。モザイク配列、デルタ配列および２Ｇスクエア配列（図２０〜図２２）においては、上下方向において互いに隣接する単位画素間での混色を考慮すれば、視野角は、Ｒ、ＧおよびＢの各々の輝度に対して同様の影響を与える。よって観察者にとって、主に輝度むらが視認される。なお微視的に見れば、すなわち各単位画素で見れば、視野角に依存した色むらが生じると言える。
図２３〜図２７の各々は、色材部がＲＧＢＷ配列を有する場合について、上記と同様の内容を示している。なお「Ｗ」は白色を有する色材層に対応している。より具体的には、図２３〜図２７のそれぞれは、ストライプ配列、第１のスクエア配列、第２のスクエア配列、第１のデルタ配列および第２のデルタ配列を示している。図示されたスクエア配列においては、上下方向に２色のみが繰り返し並んでいる。ストライプ配列においては、上述したＲＧＢ配列における場合と同様に、顕著な色むらが生じる。スクエア配列およびデルタ配列においては、本例に示された配列では、ある位置における視野角の影響が特定の２色にのみ及ぶため、色むらが発生する。ストライプ配列の場合以外は、配列が変更されれば、互いに隣接する単位画素間の混色によって色むらを抑えることができるが、その場合、輝度むらが視認される。
上述したように、ＲＧＢ配列およびＲＧＢＷ配列のいずれの場合であっても、ストライプ配列が用いられると、比較例（図１８）の構成においては顕著な色むらが視認される。これに対して本実施の形態によれば、ストライプ配列の延在方向に直交するように外側センサ電極３０が延びることにより、色むらの発生を避けることができる。
また上述したように、ＲＧＢ配列およびＲＧＢＷ配列のいずれの場合であっても、比較例（図１８）の構成においては、色むらを避けた場合は輝度むらが生じる。これに対して本実施の形態によれば、観察者の左右方向に外側センサ電極３０が延びることにより、左右方向の視野角に依存した輝度むらを避けることができる。
（効果のまとめ）
本実施の形態によれば、実施の形態１と同様の効果に加えて、以下のような効果が得られる。
本実施の形態によれば、タッチセンサが内側センサ電極２０および外側センサ電極３０（図１５）によって構成される。内側センサ電極２０は、第１の基板１０の観察面（図１５における上面）上に配置されていないので、色材部７５と比較的近い位置に配置され得る。よって、内側センサ電極２０の存在に起因した、視野角に依存しての画像むらは小さい。さらに、外側センサ電極３０は、観察者の左右方向と平行に延びている。よって、色材部７５のうち観察者から見て外側センサ電極の陰となる箇所は、左右方向の視野角にはほぼ依存しない。以上から、左右方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができる。
外側センサ電極３０は第１の基板１０の長辺方向（図２におけるＸ方向）に沿って延びている。よって、色材部７５のうち観察者から見て外側センサ電極の陰となる箇所は、長辺方向の視野角にはほぼ依存しない。以上から、長辺方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができる。よって、長辺方向が左右方向である表示装置において、左右方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができる。なお、視野角の問題が特に生じやすい大型の表示装置は、典型的には、その長辺方向が左右方向である。
色材部７５がストライプ配置（図１９）を有する場合、言い換えれば、色材層７２〜７４が、左右方向に直交する方向において互いに隣り合いかつ共通の色を有する場合、第１の基板１０の観察面上に配置されたセンサ電極が、仮に左右方向に沿っているとすると、左右方向の視野角に依存しての大きな色むらの原因となる。本実施の形態によれば、このような色むらを抑制することができる。
＜実施の形態３＞
（ＴＦＴアレイ基板におけるスイッチング回路構造の典型例）
本実施の形態についての説明に先立ち、前述した実施の形態１および２を含む他の実施の形態に対して適用可能な、ＴＦＴアレイ基板におけるスイッチング回路構造の典型例について、以下に説明する。
図２８は、ＴＦＴアレイ基板５４（図７）における典型的なスイッチング回路構造（シングルゲート・シングルソース構造）を示す平面図である。ＴＦＴアレイ基板５４には、各々がトランジスタ素子６７（スイッチング素子）および画素電極５７を有する複数の画素が設けられている。第２の基板５８上には、行方向（図中、左右方向）に延びる複数のゲート配線層５１ａと、列方向（図中、上下方向）に延びる複数のソース配線層５１ｂとが設けられている。列方向において隣り合うゲート配線層５１ａ間には画素が存在している。行方向において互いに隣り合うソース配線層５１ｂ間には必ず画素が存在している。言い換えると、等間隔で配置されたゲート配線層５１ａと、等間隔で配置されたソース配線層５１ｂとが互いに交差することで、マトリクス状に配列された画素が構成されている。ゲート配線層５１aの各々は、その一方側（図中、下側）の画素に接続されている。一のソース配線層５１ｂは、一の列に沿った画素の各々に接続されている。
（本実施の形態の構成）
図２９は、本実施の形態における表示パネル２０３が有するＴＦＴアレイ基板５４（図７参照）におけるスイッチング回路構造の例を示す平面図である。表示パネル２０３は、第２の基板５８上に配置され各々が２つのゲート配線層５１ａを有する複数のゲート配線対５１Ｐを有する。ゲート配線対５１Ｐの各々は、上下方向（左右方向に交差する方向）において互いに隣り合う画素の間を通っている。言い換えると、列方向において隣り合うゲート配線層５１ａ間に２つの画素が存在する領域と、列方向において隣り合うゲート配線層５１ａ間に画素が存在しない領域とが、列方向に交互に配置されている。ゲート配線対５１Ｐが有する２つのゲート配線層５１aのうち、上側のものは上方の画素へ、下側のものは下方の画素へ接続されている。一のソース配線層５１ｂは、それを挟む２つの列に沿った画素に、１つおきに接続されている。この回路構造を「デュアルゲート・ハーフソース構造」とも称する。
本実施の形態においては、遮光部７１は、平面視においてゲート配線対５１Ｐに対応する位置に、幅（上下方向の寸法）の広い部分を有する。この幅の広い部分に対応する位置に外側センサ電極３０が配置される。これより、画像むらの発生を避けつつ、外側センサ電極３０の幅（上下方向の寸法）を広くすることでその配線抵抗を低くすることができる。よって、タッチセンサの検出時間を短縮することができ、検出感度を高くすることができる。
またデュアルゲート・ハーフソース構造により、画素の開口率を高めることができる。またＴＦＴアレイ基板の信号線の本数が低減されるので、駆動回路のＩＣのコストを低くすることができる。
上記以外の構成については、上述した実施の形態１または２の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。なお、本実施の形態が実施の形態２の構成と組み合わされる場合、上述した幅の広い部分にのみ、外側センサ電極３０が配置され得る。よって、画像むらの発生をより十分に避けることができる。
＜実施の形態４＞
図３０は、本実施の形態における表示パネル２０４が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図３１および図３２のそれぞれは、図３０の線ＸＸＸＩ−ＸＸＸＩおよび線ＸＸＸＩＩ−ＸＸＸＩＩに沿う概略断面図である。
表示パネル２０４においては、図３１に示すように、内側センサ電極２０の幅（左右方向の寸法）が、遮光部７１の幅と同じである。これにより、平面視において内側センサ電極２０が遮光部７１からはみ出すことに起因した画像むらを抑えつつ、内側センサ電極２０の幅を最大限確保することができる。内側センサ電極２０の幅が大きいことにより、その電気抵抗を低くすることができ、またＴＦＴアレイ基板５４から外側センサ電極３０へ向かうノイズを効果的に遮蔽することができる。これにより、タッチセンサの検出感度を高めることができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜３の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態５＞
図３３は、本実施の形態における表示パネル２０５が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図３４および図３５のそれぞれは、図３３の線ＸＸＸＩＶ−ＸＸＸＩＶおよび線ＸＸＸＶ−ＸＸＸＶに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０５においては、色材部７５は、第１の基板１０の内面（図３４および図３５における下面）上に配置された内側センサ電極２０を少なくとも部分的に覆っている。好ましくは、色材部７５は、内側センサ電極２０の側面（図３４および図３５における左面および右面）を覆っている。より好ましくは、色材部７５はさらに、内側センサ電極２０の、第２の基板５８に対向する面（図３４および図３５における下面）を覆っている。より一層好ましくは、断面視（図３４および図３５の視野）において、内側センサ電極２０は、遮光部７１および色材部７５によって完全に囲まれている。
上述したような構成を得るために、色材層７２〜７４のうち互いに隣り合うものが、図３４および図３５に示すように、それらの境界において互いに重なり合っていることが好ましい。また内側センサ電極２０は平面視において遮光部７１に包含されていることが好ましい。
本実施の形態によれば、色材部７５は内側センサ電極２０を少なくとも部分的に覆っている。これにより、内側センサ電極２０からの反射光を抑えることができる。よって、内側センサ電極２０の存在に起因した画像むらを、より抑制することができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜４のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態６＞
図３６は、本実施の形態における表示パネル２０６が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図３７および図３８のそれぞれは、図３６の線ＸＸＸＶＩＩ−ＸＸＸＶＩＩおよび線ＸＸＸＶＩＩＩ−ＸＸＸＶＩＩＩに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０６においては、内側センサ電極２０は、第１の基板１０の内面（図３７および図３８における下面）上に遮光部７１を介さずに設けられている。遮光部７１は、第１の基板１０の内面上に配置された内側センサ電極２０を少なくとも部分的に覆っている。好ましくは、遮光部７１は、第１の基板１０の内面上に配置された内側センサ電極２０の側面（図３７および図３８における左面および右面）を覆っている。より好ましくは、遮光部７１はさらに、内側センサ電極２０の対向面（図３７および図３８における下面）を覆っている。
遮光部７１は、内側センサ電極２０を少なくとも部分的に覆っている。これにより、内側センサ電極２０からの反射光を抑えることができる。よって、内側センサ電極２０の存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。特に、内側センサ電極２０からの反射に起因した色混ざりが防止されることで、よりクリアな画質が得られる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜４の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態７＞
図３９は、本実施の形態における表示パネル２０７が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図４０および図４１のそれぞれは、図３９の線ＸＬ−ＸＬおよび線ＸＬＩ−ＸＬＩに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０７においては、内側センサ電極２０は、第１の基板１０に対向する基板対向面を有している。基板対向面は反射防止膜２０ｂ（低反射層）によって被覆されている。内側センサ電極２０のうち、反射防止膜２０ｂに被覆されることで第１の基板１０から遮られた部分が、配線膜２０ａである。外側センサ電極３０は、観察者に対向する観察者対向面（図４１において第１の基板１０と対向する面と反対の面）を有している。観察者対向面は反射防止膜３０ｂ（低反射層）によって被覆されている。外側センサ電極３０のうち、反射防止膜３０ｂに被覆されることで観察者から遮られた部分が、配線膜３０ａである。反射防止膜２０ｂは、配線膜２０ａよりも光を反射しにくい材料から作られることによって光の反射を抑制するものであってもよい。あるいは、反射防止膜２０ｂは、配線膜２０ａの屈折率とは異なる屈折率を有する材料から作られ、かつ反射光の干渉によってその強度が抑制されるものであってもよい。反射防止膜３０ｂについても同様である。
配線膜２０ａの材料は、実施の形態１で説明した、外側センサ電極３０の材料と同様の材料から作られ得る。またその窒化物から反射防止膜２０ｂが作られてもよい。たとえば、配線膜２０ａはアルミニウム系合金から作られ、反射防止膜２０ｂは窒化アルミニウムから作られる。あるいは、反射防止膜２０ｂの材料としてＩＴＯなどの透明導電性酸化物が用いられてもよく、その場合、配線膜２０ａは金属とその窒化物との積層構造（たとえばアルミニウム系合金とその窒化物との積層構造）が用いられてもよい。
本実施の形態によれば、内側センサ電極２０の基板対向面は、反射防止膜２０ｂによって被覆されている。これにより、内側センサ電極２０からの反射光を抑えることができる。よって、内側センサ電極２０の存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。
外側センサ電極３０の観察者対向面は反射防止膜３０ｂによって被覆されている。これにより、外光の反射によって外側センサ電極３０が観察者から視認されることが防止される。よって、外側センサ電極３０の存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜６のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態８＞
図４２は、本実施の形態における表示パネル２０８が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図４３および図４４のそれぞれは、図４２の線ＸＬＩＩＩ−ＸＬＩＩＩおよび線ＸＬＩＶ−ＸＬＩＶに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０８においては、内側センサ電極２０と色材部７５とが同一面上に配置されている。一の方向（左右方向）において互いに隣り合う色材層７２〜７４は、内側センサ電極２０によって分離されている。
本実施の形態によれば、一の方向において互いに隣り合う色材層７２〜７４が内側センサ電極２０によって分離されている。これにより、遮光部７１は、この方向において互いに隣り合う色材層７２〜７４を分離する部分を有する必要がない。よって遮光部７１の構成を簡素化することができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態２、３、５または７の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態９＞
図４５は、本実施の形態における表示パネル２０９が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図４６および図４７のそれぞれは、図４５の線ＸＬＶＩ−ＸＬＶＩおよび線ＸＬＶＩＩ−ＸＬＶＩＩに沿う概略断面図である。
ＴＦＴアレイ基板５４は、第２の基板５８上に設けられたゲート配線層５１ａおよびソース配線層５１ｂを有している。ゲート配線層５１ａとソース配線層５１ｂとは、層間絶縁膜５９によって互いに絶縁されている。ＴＦＴアレイ基板５４は、第２の基板５８上に設けられ各々がソース端子およびドレイン端子を有する複数のトランジスタ素子６７（図２８）を有している。第２の基板５８上に設けられたソース配線層５１ｂはトランジスタ素子６７のソース端子に接続されている。本実施の形態においては、ソース配線層５１ｂが内側センサ電極を兼ねている。
本実施の形態によれば、ソース配線層５１ｂが内側センサ電極としても利用される。よって、内側センサ電極としてソース配線層５１ｂとは別の構造が設けられる場合に比して、表示装置の開口率を高めることができる。また、表示パネル２０９の製造工程が簡素化される。
図４７の例においては、外側センサ電極３０は、実施の形態７で説明したように配線膜３０ａおよび反射防止膜３０ｂによって構成されている。しかしながら、外側センサ電極３０は、図８および図１５（実施の形態１および２）に示すように、単膜によって構成されてもよい。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜３の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１０＞
図４８は、本実施の形態における表示パネル２１０が有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図４９および図５０のそれぞれは、図４８の線ＸＬＩＸ−ＸＬＩＸおよび線Ｌ−Ｌに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２１０においては、内側センサ電極２０の側面は反射防止膜２０ｂによって被覆されている。内側センサ電極２０は、反射防止膜２０ｂに被覆された配線膜２０ａを含む。この側面は、内側センサ電極２０の、第１の基板１０に対向する面と、第２の基板５８に対向する面とをつなぐ面である。なお図５０においては、内側センサ電極２０の、第２の基板５８に対向する面（図中、下面）も、反射防止膜２０ｂによって被覆されている。
外側センサ電極３０の側面は反射防止膜３０ｂによって被覆されている。外側センサ電極３０は、反射防止膜３０ｂに被覆された配線膜３０ａを含む。なお、上記側面は、図４８中においては符号「３０ｂ」の構造を表す長方形の上辺および下辺に対応している。この側面は、外側センサ電極３０の、観察者に対向する面と、第１の基板１０に対向する面とをつなぐ面である。なお図５０においては、外側センサ電極３０の、観察者に対向する面（図中、上面）も、反射防止膜３０ｂによって被覆されている。
本実施の形態によれば、外側センサ電極３０の側面は反射防止膜３０ｂによって被覆されている。これにより、外側センサ電極３０による外光の反射が低減される。よって外側センサ電極３０が観察者から視認されにくい。よって、外側センサ電極３０の存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。内側センサ電極２０についても同様である。外側センサ電極３０および内側センサ電極２０の少なくともいずれかに上述した反射防止膜が設けられれば、それによる効果が得られる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜９のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１１＞
図５１は、本実施の形態における表示パネル２１１の構成を概略的に示す部分断面図である。本実施の形態における表示パネル２１１のＴＦＴアレイ基板５４は共通電極２０ｃを有している。共通電極２０ｃは、層間絶縁膜５９を介して画素電極５７と対向して配置されている。共通電極２０ｃと画素電極５７との間に電圧が印加されることで、液晶層５０を変調するための電界が発生する。本実施の形態においては、共通電極２０ｃが内側センサ電極を兼ねている。
本実施の形態によれば、共通電極２０ｃが内側センサ電極としても利用される。よって、内側センサ電極として共通電極２０ｃとは別の構造が設けられる場合に比して、表示装置の開口率を高めることができる。また、表示パネル２１１の製造工程が簡素化される。
なお、図５１においては共通電極２０ｃが画素電極５７と第２の基板５８との間に配置されているが、必ずしもこのような配置が用いられる必要はない。たとえば、画素電極５７が共通電極２０ｃと第２の基板５８との間に配置されてもよい。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜３の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１２＞
図５２は、本実施の形態における表示パネルが有する第１の基板１０ａの構成を概略的に示す平面図である。第１の基板１０ａは長方形状を有している。この長方形状は、一の方向に沿った短辺を有している。本実施の形態においては、この短辺は、観察者の左右方向（図中、Ｘ方向）と平行である。
上記以外の構成については、上述した実施の形態１〜１１のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。本実施の形態によれば、第１の基板１０ａの短辺が観察者の左右方向と平行である場合において、上記各実施の形態とほぼ同様の効果が得られる。なお、スマートフォンなどの携帯端末装置に搭載される表示装置は、その短辺方向が観察者の左右方向であることが多い。
＜実施の形態１３＞
（構成）
図５３は、本実施の形態における表示パネル２０１Ｍを有する表示装置１００Ｍの構成を概略的に示す断面図である。表示装置１００Ｍは、表示パネル２０１Ｍと、バックライト６２Ｍと、液晶駆動回路基板６３Ｍと、タッチ検出ＩＣ(Integrated Circuit)６５Ｍと、マイクロコントローラ６６Ｍとを有している。表示パネル２０１Ｍは、タッチセンサが設けられたもの、すなわち、タッチセンサ付き表示パネルである。言い換えれば、表示パネル２０１Ｍにはタッチスクリーンが集積化されている。本実施の形態および後述する他の実施の形態においては、表示パネル２０１Ｍが液晶パネルの場合について、特に詳しく説明する。タッチ検出ＩＣ６５Ｍは、タッチによる静電容量の変化を検出するための外部回路を構成している。
図５４は、表示パネル２０１Ｍの構成を概略的に示す平面図である。表示パネル２０１Ｍは、互いに対向する第１の基板１０Ｍおよび第２の基板５８Ｍを有している。第１の基板１０Ｍは、透光性を有しており、典型的には透明ガラス基板である。第２の基板５８Ｍは、バックライト６２Ｍ（図５３）が用いられる場合は透光性を有しており、典型的には透明ガラス基板である。
第１の基板１０Ｍは長方形状を有している。長方形状は、一の方向に沿った長辺を有している。この一の方向は、本実施の形態においては、表示パネル２０１Ｍの観察者の左右方向と平行なＸ方向（行方向）である。また長方形状の短辺は、観察者の上下方向に平行なＹ方向（列方向）に沿っている。Ｘ方向およびＹ方向は、互いに交差しており、典型的には直交している。第２の基板５８Ｍは、第１の基板１０Ｍの形状とおおよそ同様の形状を有していてよい。
表示パネル２０１Ｍには投影型静電容量方式のタッチセンサが設けられている。具体的には、タッチスクリーン端子部８Ｍと、複数の列方向配線部２１Ｍと、複数の行方向配線部３１Ｍと、引き出し配線Ｃ１Ｍ〜Ｃ８Ｍと、引き出し配線Ｒ１Ｍ〜Ｒ６Ｍとが設けられている。行方向配線部３１Ｍの各々はＸ方向に沿って延びている。行方向配線部３１Ｍは、Ｙ方向において互いに間隔を空けて並んでいる。列方向配線部２１Ｍの各々はＹ方向に沿って延びている。列方向配線部２１Ｍは、Ｘ方向において互いに間隔を空けて並んでいる。行方向配線部３１Ｍと列方向配線部とは第１の基板１０Ｍによって隔てられている。
タッチスクリーン端子部８Ｍは第１の基板１０Ｍの端部に設けられている。行方向配線部３１Ｍのそれぞれは引き出し配線Ｒ１Ｍ〜Ｒ６Ｍによってタッチスクリーン端子部８Ｍに接続されている。列方向配線部２１Ｍのそれぞれは引き出し配線Ｃ１Ｍ〜Ｃ８Ｍによってタッチスクリーン端子部８Ｍに接続されている。タッチスクリーン端子部８Ｍはタッチ検出ＩＣ６５Ｍ（図５３）に接続されている。タッチ検出ＩＣ６５Ｍは、行方向配線部３１Ｍおよび列方向配線部２１Ｍの各々と指示体との間に形成される静電容量に基づいて、指示体によって指示されたタッチスクリーン上の位置を検出する。
たとえば、引き出し配線Ｒ１Ｍ〜Ｒ６Ｍは、タッチスクリーン端子部８Ｍに近い引き出し配線から順に、検出可能エリアの外周に沿って配置され、他の引き出し配線の配置位置に達してからは、他の引き出し配線に沿って配置される。このように、引き出し配線Ｒ１Ｍ〜Ｒ６Ｍは、検出可能エリアの外周側に詰めて配置される。また、引き出し配線Ｃ１Ｍ〜Ｃ８Ｍも同様に、タッチスクリーン端子部８Ｍに近い引き出し配線から順に、検出可能エリアの外周側に詰めて配置され、他の引き出し配線の配置位置に達してからは、他の引き出し配線に沿って配置される。このように、引き出し配線Ｒ１Ｍ〜Ｒ６Ｍおよび引き出し配線Ｃ１Ｍ〜Ｃ８Ｍを検出可能エリアの外周側になるべく詰めて配置することで、表示パネル２０１Ｍの外周部を小さくすることができる。また、行方向の引き出し配線Ｒ１Ｍ〜Ｒ６Ｍと列方向の引き出し配線Ｃ１Ｍ〜Ｃ６Ｍとの間にシールド電極４０Ｍが配置されてもよい。これにより、表示部分から発生する電磁ノイズまたは引き出し配線間のノイズの影響を低減することができる。シールド電極４０Ｍは、後述する外側センサ電極３０Ｍまたは内側センサ電極２０Ｍと同時に形成され得る。
図５５は、行方向配線部３１Ｍの各々の構成を概略的に示す平面図である。行方向配線部３１Ｍの各々は、少なくとも１つの外側センサ電極３０Ｍを有しており、典型的には、互いに並列接続された複数の外側センサ電極３０Ｍを有している。外側センサ電極３０Ｍの各々は、Ｘ方向（図５４）に沿って延びている。
外側センサ電極３０Ｍは金属から作られている。好ましくは、外側センサ電極３０Ｍは、銀、銅、アルミニウム、モリブデンおよびチタンの少なくともいずれの原子を含有している。具体的には、外側センサ電極３０Ｍは、アルミニウムなどの金属材料の単層膜もしくは多層膜、または金属材料と他の材料との多層膜である。たとえば、金属とその窒化物との積層構造が用いられてもよい。なお「金属材料」は、上記原子を有する合金材料であってもよい。
図５６は、列方向配線部２１Ｍの各々の構成を概略的に示す平面図である。列方向配線部２１Ｍの各々は、少なくとも１つの内側センサ電極２０Ｍを有しており、典型的には、互いに並列接続された複数の内側センサ電極２０Ｍを有している。内側センサ電極２０Ｍの各々はＹ方向（図５４）に沿って延びている。内側センサ電極２０Ｍは、外側センサ電極３０Ｍと同様の材料から作られ得る。
図５７は、表示パネル２０１Ｍに集積化されたタッチスクリーンの検出可能エリアの構成を模式的に示す部分斜視図である。この構成は、表示パネル２０１Ｍに含まれるカラーフィルタ基板に対応しており、第１の基板１０Ｍと、遮光部７１Ｍ（ブラックマトリクス）と、色材部７５Ｍと、内側センサ電極２０Ｍと、複数の外側センサ電極３０Ｍとを有している。本実施の形態においては、このカラーフィルタ基板が、オンセル構造のタッチスクリーンに相当する。第１の基板１０Ｍは、観察者に対向する観察面（図中、上面）と、観察面と反対の内面（図中、下面）とを有している。第２の基板５８Ｍ（図５４）は第１の基板１０Ｍの内面と対向している。
外側センサ電極３０Ｍは第１の基板１０Ｍの観察面上に設けられている。内側センサ電極２０Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面と第２の基板５８Ｍ（図５４）との間に設けられており、本実施の形態においては内面上に設けられている。よって外側センサ電極３０Ｍと内側センサ電極２０Ｍとは第１の基板１０Ｍによって遮られている。行方向（図中、横方向）に延びる複数の外側センサ電極３０Ｍと、列方向に延びる複数の内側センサ電極２０Ｍとは、平面視において、マトリクス領域を構成している。マトリックス領域においては、外側センサ電極３０Ｍおよび内側センサ電極２０Ｍの各々の割合が同一であることが表示品質上望ましい。
遮光部７１Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面上に設けられており、開口パターンを有している。色材部７５Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面上に設けられている。遮光部７１Ｍおよび色材部７５Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面上に設けられたカラーフィルタ層を構成している。
なお、外側センサ電極３０Ｍが設けられた観察面上には、接着層６１Ｍ、保護透明基板６０Ｍおよび上部偏光板１３Ｍが順に設けられている。耐環境性を高めるために、上部偏光板１３Ｍの観察者に面する面上に接着層を介して保護透明基板が設けられてもよい。
図５８は、表示パネル２０１Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す部分平面図である。言い換えれば、図５７の主要部を観察面から見た（図５７において上方向から見た）部分平面図である。図５９および図６０のそれぞれは、図５８の線ＬＩＸ−ＬＩＸおよびＬＸ−ＬＸに沿う概略断面図である。
色材部７５Ｍは、遮光部７１Ｍの開口パターンに対応して配列された複数の色材層７２Ｍ〜７４Ｍを有している。色材層７２Ｍ〜７４Ｍは、互いに異なる色を有している。たとえば、色材層７２Ｍは赤（Ｒ）を有し、色材層７３Ｍは緑（Ｇ）を有し、色材層７４Ｍは青（Ｂ）を有している。本実施の形態においては、色材部７５Ｍはストライプ配列を有している。ストライプ配列においては、色材層７２Ｍ〜７４Ｍのうち同一の色を有するものがストライプ方向（図５８における上下方向）に沿って配列されている。すなわち、ストライプ方向はＹ方向（図５４）に対応している。よって色材部７５Ｍは、Ｙ方向（図中、上下方向）において互いに隣り合いかつ共通の色を有する色材層７２Ｍ〜７４Ｍを含んでいる。
外側センサ電極３０Ｍは、上述したように第１の基板１０Ｍの観察面上に配置されており、好ましくは、平面視において遮光部７１Ｍと少なくとも部分的に重複するように配置されている。より好ましくは、外側センサ電極３０Ｍは、図５８に示すように、平面視において遮光部７１Ｍに包含されている。内側センサ電極２０Ｍは、好ましくは、平面視において遮光部７１Ｍと少なくとも部分的に重複するように配置されている。より好ましくは、内側センサ電極２０Ｍは平面視において遮光部７１Ｍに包含されている。本実施の形態においては、内側センサ電極２０Ｍは第１の基板１０Ｍの内面上に遮光部７１Ｍを介して配置されている。
外側センサ電極３０Ｍは、第１の基板１０Ｍの観察面（図５９および図６０における上面）上において、保護膜１２Ｍによって覆われていてもよい。外側センサ電極３０Ｍからさらに延びている電極であって、保護膜１２Ｍに覆われずに露出されているものが、タッチスクリーン端子５５Ｍ（図６０）である。タッチスクリーン端子５５Ｍの各々は、タッチスクリーン端子部８Ｍ（図５４）へと接続されている。保護膜１２Ｍは、その一部あるいはすべてが、透明性無機絶縁膜、有機系無機絶縁膜または有機絶縁膜により形成され得る。透明性無機絶縁膜としては、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸化窒化膜などのシリコン系無機絶縁膜、またはアルミナなどの金属酸化物膜が用いられ得る。有機系無機絶縁膜の材料としては、主鎖がシリコン酸化物、シリコン窒化物またはシリコン酸化窒化物からなり、側鎖または官能基に有機物が結合している高分子材料が用いられ得る。有機絶縁膜の材料としては、主鎖が炭素からなるものであって、高温焼成により硬化して得られる、たとえば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、またはオレフィン樹脂などが用いられ得る。
表示パネル２０１Ｍ（図５９）は、第１の基板１０Ｍを含むカラーフィルタ基板と、第２の基板５８Ｍを含むＴＦＴアレイ基板５４Ｍと、これらの間に設けられた表示機能層としての液晶層５０Ｍとによって構成された表示機能部によって、画像を表示する機能を有している。液晶層５０Ｍは、第１の基板１０Ｍと第２の基板５８Ｍとの間にシール材５２Ｍによって封止されている。液晶層５０Ｍの一方側および他方側のそれぞれには、上部偏光板１３Ｍおよび下部偏光板５３Ｍが設けられている。
ＴＦＴアレイ基板５４Ｍは、第２の基板５８Ｍ上に、画素電極５７Ｍと、画素電極５７Ｍへの印加電圧をスイッチングするトランジスタ素子（図示せず）と、液晶層５０Ｍを駆動するための電圧をこのトランジスタ素子に供給するＴＦＴアレイ配線層５１Ｍと、ＴＦＴアレイ配線層５１Ｍを覆う層間絶縁膜５９Ｍと、ＴＦＴアレイ配線層５１Ｍを外部回路と接続するためのＴＦＴアレイ端子５６Ｍとを有している。
（製造における外側センサ電極の形成タイミング）
表示パネル２０１Ｍの製造においては、第１の基板１０Ｍの観察面上に外側センサ電極３０Ｍが形成された後に、第１の基板１０Ｍの内面上に遮光部７１Ｍ、色材部７５Ｍおよび内側センサ電極２０Ｍが形成されることが好ましい。したがって、外側センサ電極３０Ｍを覆う保護膜１２Ｍの材料は、製造時の色材部７５Ｍの形成工程、または製造後の使用環境下で使用される化学薬液もしくは水分に対して十分な耐性を有するものであることが好ましい。なお、内側センサ電極２０Ｍの保護膜として、内側センサ電極２０Ｍを覆うオーバーコート膜が設けられてもよい。
色材部７５Ｍは高温処理により分解および退色しやすいため、色材部７５Ｍが設けられた第１の基板１０Ｍに対しては高温処理を行うことができない。色材部７５Ｍより先に外側センサ電極３０Ｍを形成することで、外側センサ電極３０Ｍを高温で形成することが可能となる。これにより、高い硬度を有する保護膜１２Ｍを形成することができる。保護膜１２Ｍの硬度は、空気中を浮遊する砂塵およびガラスと同程度（具体的には硬度７以上）であることが好ましい。これにより、製造工程における搬送時のステージとの擦れ、または、製造後の使用に起因した、傷の発生が抑制される。このような傷は、断線または腐食の原因となったり、光の透過または反射の状態の変化により表示欠陥として視認されたりする。よってこのような傷は、歩留まり低下の原因となる。保護膜１２Ｍの材料は、たとえば、ＳｉＯ2、ＳｉＮなど無機絶縁膜、または有機絶縁膜である。
なお、第１の基板１０Ｍを有するカラーフィルタ基板と、第２の基板５８Ｍを有するＴＦＴアレイ基板５４Ｍとの貼りあわせ工程と、両者の間への液晶注入・封止工程との後に外側センサ電極３０Ｍが形成されるとすると、検査によってタッチセンサの不良が発見された場合に、表示パネル２０１Ｍが既に完成に近いため、ロスコストが大きくなる。これに対して、上述したように早期に外側センサ電極３０Ｍが形成されると、ロスコストが小さくなり、環境保全の面でも有利である。
（比較例）
図６１を参照して、比較例の表示パネル２００Ｍにおいては、内側センサ電極２０Ｍおよび外側センサ電極３０Ｍ（図５９）に代わり、外側センサ電極２０ＺＭおよび外側センサ電極３０ＺＭが設けられている。外側センサ電極２０ＺＭおよび外側センサ電極３０ＺＭは、第１の基板１０Ｍの観察面上に配置されている。外側センサ電極２０ＺＭと外側センサ電極３０Ｍとの間は層間絶縁膜１１Ｍによって隔てられている。以上の構成により、第１の基板１０Ｍの観察面上に、外側センサ電極２０ＺＭと外側センサ電極３０Ｍと層間絶縁膜１１Ｍとを有するタッチスクリーン部１Ｍが構成されている。
図６２を参照して、外側センサ電極２０ＺＭは観察者の左右方向に延びている。外側センサ電極３０ＺＭは観察者の上下方向に延びている。このような構成を有するタッチスクリーン部１Ｍが設けられる場合、観察者９００Ｍは、左右の視野角（図中、矢印参照）の違いに起因した、大きな画像むらを視認し得る。この理由について、以下に説明する。
図６３を参照して、上下方向に延びる外側センサ電極３０ＺＭが、観察者９００Ｍから見て遮光部７１Ｍ、色材層７２Ｍおよび色材層７４Ｍのいずれを遮蔽するかは、観察者９００Ｍの左右の視野角に依存する。色材層７２Ｍが部分的に遮蔽された場合、色材層７２Ｍによって表示される色（たとえば赤（Ｒ））の輝度が低下してしまう。同様に、色材層７４Ｍが部分的に遮蔽された場合、色材層７４Ｍによって表示される色（たとえば青（Ｂ））の輝度が低下してしまう。色材層７２Ｍ〜７４Ｍ（図５８）によって構成される単位画素において、特定の色の輝度が低下すれば、本来の色が表現されなくなる。これにより色むらが生じる。また、１つの単位画素において各色の輝度が同程度に低下する場合においては、単位画素間での輝度低下の程度の差異に起因して、輝度むらが生じる。このように比較例においては、画像むら、具体的には色むらまたは輝度むら、が顕著に発生しやすい。この画像むらと、色材部７５Ｍの配列との関係について、以下に詳しく説明する。
図６４〜図６７の各々は、色材部がＲＧＢ配列を有する場合を示している。より具体的には、図６４〜図６７のそれぞれは、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列および２Ｇスクエア配列を示している。ストライプ配列においては、同じ色を有する色材層が上下方向に沿って並んでいる。モザイク配列においては、Ｒ、ＧおよびＢの全色が繰り返し上下方向に沿って並んでいる。デルタ配列においては、Ｒ、ＧおよびＢが三角格子を成している。２Ｇスクエア配列においては、１つのＲと、２つのＧと、１つのＢとが、正方格子を成している。各図中、実線で囲まれた１つの領域が単位画素に対応している。また、１つの外側センサ電極３０ＺＭが正面から見られた場合および左方から見られた場合のそれぞれにおける、色材部７５Ｍに与える陰の位置が、実線および二点鎖線で示されている。
ストライプ配列（図６４）においては、視野角に依存して特定の色（図中ではＲ（赤））の輝度が変化する。このため、視野角に依存した色むらが顕著に生じる。モザイク配列、デルタ配列および２Ｇスクエア配列（図６５〜図６７）においては、上下方向において互いに隣接する単位画素間での混色を考慮すれば、視野角は、Ｒ、ＧおよびＢの各々の輝度に対して同様の影響を与える。よって観察者にとって、主に輝度むらが視認される。なお微視的に見れば、すなわち各単位画素で見れば、視野角に依存した色むらが生じると言える。
図６８〜図７２の各々は、色材部がＲＧＢＷ配列を有する場合について、上記と同様の内容を示している。なお「Ｗ」は白色を有する色材層に対応している。より具体的には、図６８〜図７２のそれぞれは、ストライプ配列、第１のスクエア配列、第２のスクエア配列、第１のデルタ配列および第２のデルタ配列を示している。図示されたスクエア配列においては、上下方向に２色のみが繰り返し並んでいる。ストライプ配列においては、上述したＲＧＢ配列における場合と同様に、顕著な色むらが生じる。スクエア配列およびデルタ配列においては、本例に示された配列では、ある位置における視野角の影響が特定の２色にのみ及ぶため、色むらが発生する。ストライプ配列の場合以外は、配列が変更されれば、互いに隣接する単位画素間の混色によって色むらを抑えることができるが、その場合、輝度むらが視認される。
上述したように、ＲＧＢ配列およびＲＧＢＷ配列のいずれの場合であっても、ストライプ配列が用いられると、比較例（図６３）の構成においては顕著な色むらが視認される。これに対して本実施の形態によれば、ストライプ配列の延在方向に直交するように外側センサ電極３０Ｍが延びることにより、色むらの発生を避けることができる。
また上述したように、ＲＧＢ配列およびＲＧＢＷ配列のいずれの場合であっても、比較例（図６３）の構成においては、色むらを避けた場合は輝度むらが生じる。これに対して本実施の形態によれば、観察者の左右方向に外側センサ電極３０Ｍが延びることにより、左右方向の視野角に依存した輝度むらを避けることができる。
（効果のまとめ）
本実施の形態によれば、タッチセンサが内側センサ電極２０Ｍおよび外側センサ電極３０Ｍ（図６０）によって構成される。内側センサ電極２０Ｍは、第１の基板１０Ｍの観察面上に配置されていないので、色材部７５Ｍと比較的近い位置に配置され得る。よって、内側センサ電極２０Ｍの存在に起因した、視野角に依存しての画像むらは小さい。さらに、外側センサ電極３０Ｍは、観察者の左右方向と平行に延びている。よって、色材部７５Ｍのうち観察者から見て外側センサ電極の陰となる箇所は、左右方向の視野角にはほぼ依存しない。以上から、左右方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができる。
外側センサ電極３０Ｍは第１の基板１０Ｍの長辺方向（図５４におけるＸ方向）に沿って延びている。よって、色材部７５Ｍのうち観察者から見て外側センサ電極の陰となる箇所は、長辺方向の視野角にはほぼ依存しない。以上から、長辺方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができる。よって、長辺方向が左右方向である表示装置において、左右方向の視野角に依存しての画像むらを抑制することができる。なお、視野角の問題が特に生じやすい大型の表示装置は、典型的には、その長辺方向が左右方向である。
外側センサ電極３０Ｍは金属から作られている。これにより、配線抵抗を小さくすることができる。このため、より狭い配線幅、および、より広い配線間ピッチの適用が可能となる。これにより、検出可能エリアの光の透過率を向上させることができるとともに、タッチスクリーンの大型化が可能になる。内側センサ電極２０Ｍが金属から作られている場合も同様の効果が得られる。また、配線抵抗が小さいことにより、タッチ検出を、短い応答時間で、すなわち高速で、行うことができる。
外側センサ電極３０Ｍは、銀、銅、アルミニウム、モリブデンおよびチタンの少なくともいずれの原子を含有する。これにより、外側センサ電極３０Ｍの配線抵抗を低くすることができる。よってタッチセンサの感度を高めることができる。
色材部７５Ｍがストライプ配置（図６４）を有する場合、言い換えれば、色材層７２Ｍ〜７４Ｍが、左右方向に直交する方向において互いに隣り合いかつ共通の色を有する場合、第１の基板１０Ｍの観察面上に配置されたセンサ電極が、仮に左右方向に沿っているとすると、左右方向の視野角に依存しての大きな色むらの原因となる。本実施の形態によれば、このような色むらを抑制することができる。
内側センサ電極２０Ｍ（図５９）が平面視において遮光部７１Ｍに包含されている場合、内側センサ電極２０Ｍが観察者から視認されにくい。よって、内側センサ電極２０Ｍの存在に起因した画像むらをより抑制することができる。左右方向において内側センサ電極２０Ｍが遮光部７１Ｍの内側に収まるほど、左右方向における、画像むらが起こらない視野角領域が広くなる。
外側センサ電極３０Ｍ（図５８）は平面視において遮光部７１Ｍに包含されている。これにより、外側センサ電極３０Ｍから上下方向に延びる陰が色材部７５Ｍに重なりにくくなる。よって、外側センサ電極３０Ｍの存在に起因した上下方向の画像むらをより抑制することができる。上下方向において外側センサ電極３０Ｍが遮光部７１Ｍの内側に収まるほど、上下方向における、画像むらが起こらない視野角領域が広くなる。
内側センサ電極２０Ｍと外側センサ電極３０Ｍと（図６０）は第１の基板１０Ｍによって隔てられている。これにより、内側センサ電極２０Ｍと外側センサ電極３０Ｍとの間の電気的絶縁性が十分に確保される。よってタッチセンサの耐電圧を十分に確保することができる。また第１の基板１０Ｍは、カラーフィルタ基板を構成するための基板としても利用される。これにより、表示パネル２０１Ｍの小型化および軽量化が可能となる。
外側センサ電極３０Ｍ（図６０）は第１の基板１０Ｍの観察面上に設けられている。これにより、外側センサ電極３０Ｍがタッチ位置の近くに配置される。よって検出感度が高められる。
行方向配線部３１Ｍ（図５５）は、好ましくは、複数の外側センサ電極３０Ｍが電気的に接続されることにより構成されている。これにより、外側センサ電極３０Ｍが局所的に断線しても、センサ機能が大きく損なわれることは避けられる。また行方向配線部３１Ｍ（図５５）の各々を構成する複数の外側センサ電極３０Ｍの間に間隙が設けられるので、表示される画像の輝度の低下を抑制することができる。列方向配線部２１Ｍ（図５６）についても同様である。
保護透明基板６０Ｍ（図５９）により表示パネル２０１Ｍの耐環境性が高められる。外側センサ電極３０Ｍの材料に金属が用いられることにより、酸化物導電体が用いられる場合に比して、耐水性および耐化学薬品性が高められる。これら耐環境性は、保護膜１２Ｍにより、さらに高められる。
（列方向配線部の変形例）
図５６においては、列方向配線部２１Ｍの各々が、略長方形にパターニングされた内側センサ電極２０Ｍによって構成される場合について説明した。略長方形内の全体に内側センサ電極２０Ｍが存在している。
第１の変形例（図７３）においては、列方向配線部２１ｍＭの各々が、略長方形にパターニングされた内側センサ電極２０ｍＭによって構成される。この長方形内において、内側センサ電極２０ｍＭはメッシュ状に存在している。メッシュ状の構成を用いることにより、内側センサ電極２０ｍＭは観察者に視認されにくくなる。これにより、内側センサ電極が平面視において遮光部７１Ｍ（図５８）に含まれない部分を有していても、画像品質に著しい影響を及ぼすことが避けられる。よって、内側センサ電極２０ｍＭを、より広く設けることができる。広く設けられた内側センサ電極２０ｍＭは、ＴＦＴアレイ基板５４Ｍから外側センサ電極３０Ｍへ向かうノイズを効果的に遮蔽することができる。このことについて、以下に詳述する。
外側センサ電極３０Ｍおよび内側センサ電極２０Ｍにより相互容量方式のタッチセンサが設けられる場合、外側センサ電極３０Ｍは検出電極として、内側センサ電極２０Ｍは励起（駆動）電極としての機能を有する。検出電極と励起電極とが同一面上に配置される場合は、検出に必要とされる電極間容量が横方向の電界で形成される。このため電極間に一定の距離を設ける必要がある。これに対して、本実施の形態においては、これらが異なる面上に配置され、電極間容量が縦方向の電界で形成される。このため、励起電極としての内側センサ電極２０Ｍを、可能な限り密に配置することができる。これにより、励起電極に比してノイズの影響を受けやすい検出電極としての外側センサ電極３０Ｍを、ＴＦＴアレイ基板５４Ｍから発生するノイズから、密に配置された内側センサ電極２０Ｍによって、効果的に遮蔽することができる。
上記第１の変形例においては、メッシュ状の内側センサ電極２０ｍＭの外縁が、上下方向に沿って直線状に（図中、直線ＬＳに沿って）延びている。このような外縁は、光を規則的に反射するので、観察者から視認されやすい。これを避けるべく、第２の変形例（図７４）の列方向配線部２１ｎＭにおいては、メッシュ状の内側センサ電極２０ｎＭの外縁が、上下方向において非直線状にジグザグに（図中、線ＬＺに沿って）延びている。
（ＴＦＴアレイ基板におけるスイッチング回路構造の例）
図７５は、ＴＦＴアレイ基板５４Ｍ（図５９）における一般的なスイッチング回路構造（シングルゲート・シングルソース構造）を示す平面図である。ＴＦＴアレイ基板５４Ｍには、各々がトランジスタ素子６７Ｍ（スイッチング素子）および画素電極５７Ｍを有する複数の画素が設けられている。第２の基板５８Ｍ上には、行方向（図中、左右方向）に延びる複数のゲート配線層５１ａＭと、列方向（図中、上下方向）に延びる複数のソース配線層５１ｂＭとが設けられている。列方向において隣り合うゲート配線層５１ａＭ間には画素が存在している。行方向において互いに隣り合うソース配線層５１ｂＭ間には必ず画素が存在している。言い換えると、等間隔で配置されたゲート配線層５１ａＭと、等間隔で配置されたソース配線層５１ｂＭとが互いに交差することで、マトリクス状に配列された画素が構成されている。ゲート配線層５１ａＭの各々は、その一方側（図中、下側）の画素に接続されている。一のソース配線層５１ｂＭは、一の列に沿った画素の各々に接続されている。
＜実施の形態１４＞
図７６は、本実施の形態における表示パネル２０２Ｍが有するＴＦＴアレイ基板５４Ｍ（図５９参照）におけるスイッチング回路構造の例を示す平面図である。表示パネル２０２Ｍは、第２の基板５８Ｍ上に配置され各々が２つのゲート配線層５１ａＭを有する複数のゲート配線対５１ＰＭを有する。ゲート配線対５１ＰＭの各々は、上下方向（左右方向に交差する方向）において互いに隣り合う画素の間を通っている。言い換えると、列方向において隣り合うゲート配線層５１ａＭ間に２つの画素が存在する領域と、列方向において隣り合うゲート配線層５１ａＭ間に画素が存在しない領域とが、列方向に交互に配置されている。ゲート配線対５１ＰＭが有する２つのゲート配線層５１aＭのうち、上側のものは上方の画素へ、下側のものは下方の画素へ接続されている。一のソース配線層５１ｂＭは、それを挟む２つの列に沿った画素に、１つおきに接続されている。この回路構造を「デュアルゲート・ハーフソース構造」とも称する。
本実施の形態においては、遮光部７１Ｍは、平面視においてゲート配線対５１ＰＭに対応する位置に、幅（上下方向の寸法）の広い部分を有する。この幅の広い部部分に対応する位置に外側センサ電極３０Ｍが配置される。これより、画像むらの発生を避けつつ、外側センサ電極３０Ｍの幅（上下方向の寸法）を広くすることでその配線抵抗を低くすることができる。よって、タッチセンサの検出時間を短縮することができ、検出感度を高くすることができる。
またデュアルゲート・ハーフソース構造により、画素の開口率を高めることができる。またＴＦＴアレイ基板の信号線の本数が低減されるので、駆動回路のＩＣのコストを低くすることができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１５＞
図７７は、本実施の形態における表示パネル２０３Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図７８は、図７７の線ＬＸＸＶＩＩＩ−ＬＸＸＶＩＩＩに沿う概略断面図である。図７９は、図７７の線ＬＸＸＩＸ−ＬＸＸＩＸに沿う概略断面図である。
表示パネル２０３Ｍにおいては、図７８に示すように、内側センサ電極２０Ｍの幅（左右方向の寸法）が、遮光部７１Ｍの幅と同じである。これにより、平面視において内側センサ電極２０Ｍが遮光部７１Ｍからはみ出すことに起因した画像むらを抑えつつ、内側センサ電極２０Ｍの幅を最大限確保することができる。内側センサ電極２０Ｍの幅が大きいことにより、その電気抵抗を低くすることができ、またＴＦＴアレイ基板５４Ｍから外側センサ電極３０Ｍへ向かうノイズを効果的に遮蔽することができる。これにより、タッチセンサの検出感度を高めることができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３または１４の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１６＞
図８０は、本実施の形態における表示パネル２０４Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図８１は、図８０の線ＬＸＸＸＩ−ＬＸＸＸＩに沿う概略断面図である。図８２は、図８０の線ＬＸＸＸＩＩ−ＬＸＸＸＩＩに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０４Ｍにおいては、色材部７５Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面（図８１および図８２における下面）上に配置された内側センサ電極２０Ｍを少なくとも部分的に覆っている。好ましくは、色材部７５Ｍは、内側センサ電極２０Ｍの側面（図８１および図８２における左面および右面）を覆っている。より好ましくは、色材部７５Ｍはさらに、内側センサ電極２０Ｍの、第２の基板５８Ｍに対向する面（図８１および図８２における下面）を覆っている。より一層好ましくは、断面視（図８１および図８２の視野）において、内側センサ電極２０Ｍは、遮光部７１Ｍおよび色材部７５Ｍによって完全に囲まれている。
上述したような構成を得るために、色材層７２Ｍ〜７４Ｍのうち互いに隣り合うものが、図８１および図８２に示すように、それらの境界において互いに重なり合っていることが好ましい。また内側センサ電極２０Ｍは平面視において遮光部７１Ｍに包含されていることが好ましい。
本実施の形態によれば、色材部７５Ｍは内側センサ電極２０Ｍを少なくとも部分的に覆っている。これにより、内側センサ電極２０Ｍからの反射光を抑えることができる。よって、内側センサ電極２０Ｍの存在に起因した画像むらを、より抑制することができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３〜１５のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１７＞
図８３は、本実施の形態における表示パネル２０５Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図８４は、図８３の線ＬＸＸＸＩＶ−ＬＸＸＸＩＶに沿う概略断面図である。図８５は、図８３の線ＬＸＸＸＶ−ＬＸＸＸＶに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０５Ｍにおいては、内側センサ電極２０Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面（図８４および図８５における下面）上に遮光部７１Ｍを介さずに設けられている。遮光部７１Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面上に配置された内側センサ電極２０Ｍを少なくとも部分的に覆っている。好ましくは、遮光部７１Ｍは、第１の基板１０Ｍの内面上に配置された内側センサ電極２０Ｍの側面（図８４および図８５における左面および右面）を覆っている。より好ましくは、遮光部７１Ｍはさらに、内側センサ電極２０Ｍの対向面（図８４および図８５における下面）を覆っている。
遮光部７１Ｍは、内側センサ電極２０Ｍを少なくとも部分的に覆っている。これにより、内側センサ電極２０Ｍからの反射光を抑えることができる。よって、内側センサ電極２０Ｍの存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。特に、内側センサ電極２０Ｍからの反射に起因した色混ざりが防止されることで、よりクリアな画質が得られる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３〜１５の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１８＞
図８６は、本実施の形態における表示パネル２０６Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図８７は、図８６の線ＬＸＸＸＶＩＩ−ＬＸＸＸＶＩＩに沿う概略断面図である。図８８は、図８６の線ＬＸＸＸＶＩＩＩ−ＬＸＸＸＶＩＩＩに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０６Ｍにおいては、内側センサ電極２０Ｍは、第１の基板１０Ｍに対向する基板対向面を有している。基板対向面は反射防止膜２０ｂＭ（低反射層）によって被覆されている。内側センサ電極２０Ｍのうち、反射防止膜２０ｂＭに被覆されることで第１の基板１０Ｍから遮られた部分が、配線膜２０ａＭである。外側センサ電極３０Ｍは、観察者に対向する観察者対向面（図８８において第１の基板１０Ｍと対向する面と反対の面）を有している。観察者対向面は反射防止膜３０ｂＭ（低反射層）によって被覆されている。外側センサ電極３０Ｍのうち、反射防止膜３０ｂＭに被覆されることで観察者から遮られた部分が、配線膜３０ａＭである。反射防止膜２０ｂＭは、配線膜２０ａＭよりも光を反射しにくい材料から作られることによって光の反射を抑制するものであってもよい。あるいは、反射防止膜２０ｂＭは、配線膜２０ａＭの屈折率とは異なる屈折率を有する材料から作られ、かつ反射光の干渉によってその強度が抑制されるものであってもよい。反射防止膜３０ｂＭについても同様である。
配線膜２０ａＭの材料は、実施の形態１３で説明した、外側センサ電極３０Ｍの材料と同様の材料から作られ得る。またその窒化物から反射防止膜２０ｂＭが作られてもよい。たとえば、配線膜２０ａＭはアルミニウム系合金から作られ、反射防止膜２０ｂＭは窒化アルミニウムから作られる。あるいは、反射防止膜２０ｂＭの材料としてＩＴＯなどの透明導電性酸化物が用いられてもよく、その場合、配線膜２０ａＭは金属とその窒化物との積層構造（たとえばアルミニウム系合金とその窒化物との積層構造）が用いられてもよい。
本実施の形態によれば、内側センサ電極２０Ｍの基板対向面は、反射防止膜２０ｂＭによって被覆されている。これにより、内側センサ電極２０Ｍからの反射光を抑えることができる。よって、内側センサ電極２０Ｍの存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。
外側センサ電極３０Ｍの観察者対向面は反射防止膜３０ｂＭによって被覆されている。これにより、外光の反射によって外側センサ電極３０Ｍが観察者から視認されることが防止される。よって、外側センサ電極３０Ｍの存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３〜１７のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態１９＞
図８９は、本実施の形態における表示パネル２０７Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図９０は、図８９の線ＸＣ−ＸＣに沿う概略断面図である。図９１は、図８９の線ＸＣＩ−ＸＣＩに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０７Ｍにおいては、内側センサ電極２０Ｍと色材部７５Ｍとが同一面上に配置されている。一の方向（左右方向）において互いに隣り合う色材層７２Ｍ〜７４Ｍは、内側センサ電極２０Ｍによって分離されている。
本実施の形態によれば、一の方向において互いに隣り合う色材層７２Ｍ〜７４Ｍが内側センサ電極２０Ｍによって分離されている。これにより、遮光部７１Ｍは、この方向において互いに隣り合う色材層７２Ｍ〜７４Ｍを分離する部分を有する必要がない。よって遮光部７１Ｍの構成を簡素化することができる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３、１４または１６の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態２０＞
図９２は、本実施の形態における表示パネル２０８Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図９３は、図９２の線ＸＣＩＩＩ−ＸＣＩＩＩに沿う概略断面図である。図９４は、図９２の線ＸＣＩＶ−ＸＣＩＶに沿う概略断面図である。
ＴＦＴアレイ基板５４Ｍは、第２の基板５８Ｍ上に設けられたゲート配線層５１ａＭおよびソース配線層５１ｂＭを有している。ゲート配線層５１ａＭとソース配線層５１ｂＭとは、層間絶縁膜５９Ｍによって互いに絶縁されている。ＴＦＴアレイ基板５４Ｍは、第２の基板５８Ｍ上に設けられ各々がソース端子およびドレイン端子を有する複数のトランジスタ素子６７Ｍ（図７５）を有している。第２の基板５８Ｍ上に設けられたソース配線層５１ｂＭはトランジスタ素子６７Ｍのソース端子に接続されている。本実施の形態においては、ソース配線層５１ｂＭが内側センサ電極を兼ねている。
本実施の形態によれば、ソース配線層５１ｂＭが内側センサ電極としても利用される。よって、内側センサ電極としてソース配線層５１ｂＭとは別の構造が設けられる場合に比して、表示装置の開口率を高めることができる。また、表示パネル２０８Ｍの製造工程が簡素化される。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態２１＞
図９５は、本実施の形態における表示パネル２０９Ｍが有するカラーフィルタ基板の構成を概略的に示す平面図である。図９６は、図９５の線ＸＣＶＩ−ＸＣＶＩに沿う概略断面図である。図９７は、図９５の線ＸＣＶＩＩ−ＸＣＶＩＩに沿う概略断面図である。
本実施の形態における表示パネル２０９Ｍにおいては、内側センサ電極２０Ｍの側面は反射防止膜２０ｂＭによって被覆されている。内側センサ電極２０Ｍは、反射防止膜２０ｂＭに被覆された配線膜２０ａＭを含む。この側面は、内側センサ電極２０Ｍの、第１の基板１０Ｍに対向する面と、第２の基板５８Ｍに対向する面とをつなぐ面である。なお図９７においては、内側センサ電極２０Ｍの、第２の基板５８Ｍに対向する面（図中、下面）も、反射防止膜２０ｂＭによって被覆されている。
外側センサ電極３０Ｍの側面は反射防止膜３０ｂＭによって被覆されている。外側センサ電極３０Ｍは、反射防止膜３０ｂＭに被覆された配線膜３０ａＭを含む。なお、上記側面は、図９５中においては符号「３０ｂＭ」の構造を表す長方形の上辺および下辺に対応している。この側面は、外側センサ電極３０Ｍの、観察者に対向する面と、第１の基板１０Ｍに対向する面とをつなぐ面である。なお図９７においては、外側センサ電極３０Ｍの、観察者に対向する面（図中、上面）も、反射防止膜３０ｂＭによって被覆されている。
本実施の形態によれば、外側センサ電極３０Ｍの側面は反射防止膜３０ｂＭによって被覆されている。これにより、外側センサ電極３０Ｍによる外光の反射が低減される。よって外側センサ電極３０Ｍが観察者から視認されにくい。よって、外側センサ電極３０Ｍの存在に起因した視認性の低下を抑制することができる。内側センサ電極２０Ｍについても同様である。外側センサ電極３０Ｍおよび内側センサ電極２０Ｍの少なくともいずれかに上述した反射防止膜が設けられれば、それによる効果が得られる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３〜２０のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態２２＞
図９８は、本実施の形態における表示パネル２１０Ｍの構成を概略的に示す部分断面図である。本実施の形態における表示パネル２１０ＭのＴＦＴアレイ基板５４Ｍは共通電極２０ｃＭを有している。共通電極２０ｃＭは、層間絶縁膜５９Ｍを介して画素電極５７Ｍと対向して配置されている。共通電極２０ｃＭと画素電極５７Ｍとの間に電圧が印加されることで、液晶層５０Ｍを変調するための電界が発生する。本実施の形態においては、共通電極２０ｃＭが内側センサ電極を兼ねている。
本実施の形態によれば、共通電極２０ｃＭが内側センサ電極としても利用される。よって、内側センサ電極として共通電極２０ｃＭとは別の構造が設けられる場合に比して、表示装置の開口率を高めることができる。また、表示パネル２１０Ｍの製造工程が簡素化される。
なお、図９８においては共通電極２０ｃＭが画素電極５７Ｍと第２の基板５８Ｍとの間に配置されているが、必ずしもこのような配置が用いられる必要はない。たとえば、画素電極５７Ｍが共通電極２０ｃＭと第２の基板５８Ｍとの間に配置されてもよい。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態１３または１４の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
＜実施の形態２３＞
図９９は、本実施の形態における表示パネルが有する第１の基板１０ａＭの構成を概略的に示す平面図である。第１の基板１０ａＭは長方形状を有している。この長方形状は、一の方向に沿った短辺を有している。本実施の形態においては、この短辺は、観察者の左右方向（図中、Ｘ方向）と平行である。
上記以外の構成については、上述した実施の形態１３〜２２のいずれかの構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。本実施の形態によれば、第１の基板１０ａＭの短辺が観察者の左右方向と平行である場合において、上記各実施の形態とほぼ同様の効果が得られる。なお、スマートフォンなどの携帯端末装置に搭載される表示装置は、その短辺方向が観察者の左右方向であることが多い。
上記各実施の形態においては表示パネルとして液晶パネルが用いられる場合について詳しく説明した。しかしながら、表示パネルは液晶パネルに限定されるものではなく、対向する２枚の基板の間に表示機能を有する表示機能層を挟んで形成されるもの（表示機能部ともいう）であればよい。たとえば、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）パネルまたは電子ペーパーパネルなどにおいても、各パネルの使用者側の面となる透明基板上にタッチスクリーンを集積化することが可能である。
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。この発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
１０，１０ａ，１０Ｍ，１０ａＭ 第１の基板、１１，１１Ｍ，５９，５９Ｍ 層間絶縁膜、１２，１２Ｍ 保護膜、２０，２０ｍ，２０ｎ，２０Ｍ，２０ｍＭ，２０ｎＭ 内側センサ電極、３０，３０ｉ，３０ｊ，３０Ｍ 外側センサ電極、２０ａ，３０ａ，２０ａＭ，３０ａＭ 配線膜、２０ｂ，３０ｂ，２０ｂＭ，３０ｂＭ 反射防止膜、２０ｃ，２０ｃＭ 共通電極、２１，２１ｍ，２１ｎ，２１Ｍ，２１ｍＭ，２１ｎＭ 列方向配線部、３１，３１Ｌ，３１Ｍ 行方向配線部、５０，５０Ｍ 液晶層、５１Ｐ，５１ＰＭ ゲート配線対、５１ａ，５１ａＭ ゲート配線層、５１ｂ，５１ｂＭ ソース配線層、５４，５４Ｍ ＴＦＴアレイ基板、５７，５７Ｍ 画素電極、５８，５８Ｍ 第２の基板、６０，６０Ｍ 保護透明基板、６２，６２Ｍ バックライト、６７，６７Ｍ トランジスタ素子、７１，７１ｉ，７１ｊ，７１Ｍ 遮光部、７２〜７４，７２Ｍ〜７４Ｍ 色材層、７５，７５Ｍ 色材部、１００，１００Ｍ 表示装置、２０１〜２１１，２０１Ｍ〜２１０Ｍ 表示パネル、９００，９００Ｍ 観察者。

Claims (12)

  1. タッチセンサ付き表示パネル（２０１〜２１０）であって、
    透光性を有し、観察者に対向する観察面と前記観察面と反対の内面とを有する第１の基板（１０，１０ａ）と、
    前記第１の基板の前記内面上に設けられ、開口パターンを有する遮光部（７１）と、
    前記第１の基板の前記内面上に設けられ、前記開口パターンに対応して配列された複数の色材層（７２〜７４）を有する色材部（７５）と、
    前記第１の基板の前記内面と対向する第２の基板（５８）と、
    前記第１の基板と前記第２の基板との間に保持された表示機能層（５０）と、
    前記第１の基板の前記内面と前記第２の基板との間に設けられ、平面視において前記遮光部に包含された複数の内側センサ電極（２０，２０ｍ，２０ｎ）と、
    金属から作られ、前記第１の基板の前記観察面上に設けられた複数の外側センサ電極（３０）と、
    を備え、前記外側センサ電極の、視野角（ＶＷ）に対応した光路（ＬＰｊ）による、前記第１の基板の前記内面上への射影は、平面視において前記遮光部に包含されており、前記外側センサ電極の各々は、前記タッチセンサ付き表示パネルの横方向と平行な一の方向に沿って延びる領域を含む、
    タッチセンサ付き表示パネル。
  2. 前記外側センサ電極の各々は、前記一の方向に沿って延びている、請求項１に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０２〜２１０）。
  3. 前記外側センサ電極の各々はさらに、前記一の方向と交差する方向に沿って延びる領域を有している、請求項１に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０１）。
  4. 前記第２の基板上に配置され、各々が２つのゲート配線を有する複数のゲート配線対（５１Ｐ）をさらに備え、前記ゲート配線対の各々は、前記一の方向に交差する方向において互いに隣り合う画素の間を通っている、請求項１から３のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０３）。
  5. 前記一の方向において互いに隣り合う前記色材層が前記内側センサ電極によって分離されている、請求項１から４のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０８）。
  6. 前記色材部は、前記第１の基板の前記内面上に配置された前記内側センサ電極を少なくとも部分的に覆っている、請求項１から５のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０５）。
  7. 前記遮光部は、前記第１の基板の前記内面上に配置された前記内側センサ電極を少なくとも部分的に覆っている、請求項１から５のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０６）。
  8. 前記第２の基板上に設けられ、各々がソース端子およびドレイン端子を有する複数のトランジスタ素子（６７）をさらに備え、前記内側センサ電極は、前記トランジスタ素子の前記ソース端子に接続されている、請求項１から３のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０９）。
  9. 前記内側センサ電極は、前記第１の基板に対向する基板対向面を有し、前記基板対向面は反射防止膜（２０ｂ）によって被覆されている、請求項１から７のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０７，２１０）。
  10. 前記外側センサ電極は、銀、銅、アルミニウム、モリブデンおよびチタンの少なくともいずれの原子を含有する、請求項１から９のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０１〜２１０）。
  11. 前記外側センサ電極は、前記観察者に対向する観察者対向面を有し、前記観察者対向面は反射防止膜（３０ｂ）によって被覆されている、請求項１から１０のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２０７，２０９，２１０）。
  12. 前記外側センサ電極は側面を有し、前記側面は反射防止膜によって被覆されている、請求項１から１１のいずれか１項に記載のタッチセンサ付き表示パネル（２１０）。
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