JP6716313B2 - 異方性光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、入射角に応じて透過光の拡散性が変化する異方性光学フィルムの製造方法に関するものである。

光拡散性を有する部材は、照明器具や建材の他、表示装置においても使用されている。この表示装置としては、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ）等がある。光拡散部材の光拡散発現機構としては、表面に形成された凹凸による拡散（表面拡散）、マトリックス樹脂とその中に分散された微粒子間の屈折率差による拡散（内部拡散）、及び表面拡散と内部拡散の両方によるものが挙げられる。但し、これら光拡散部材は、一般にその拡散性能は等方的であり、入射角度を少々変化させても、その透過光の拡散特性が大きく異なることはなかった。

一方、一定の角度領域の入射光は強く拡散し、それ以外の角度の入射光は透過する、すなわち、入射光角度に応じて直線透過光量を変化させることが可能な、異方性光学フィルムが知られている。このような異方性光学フィルムとしては、光重合性化合物を含む組成物の硬化物からなる樹脂層の内部に、全て所定の方向Ｐに対して平行に延在する複数の棒状硬化領域の集合体を形成した異方性拡散媒体が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。なお、以後、本明細書において、特許文献１に記載されたような、所定の方向Ｐに対して平行に延在する複数の棒状硬化領域の集合体を形成した異方性光学フィルムの構造を「ピラー構造」と称することとする。

かかるピラー構造の異方性光学フィルムにおいては、当該フィルムに対してその上方から下方に向けて光が入射された場合、フィルム製造工程での流れ方向（以下、「ＭＤ方向」と称する。）と、ＭＤ方向に垂直なフィルムの幅方向（以下、「ＴＤ方向」と称する。）とで、同一の拡散を示す。すなわち、ピラー構造の異方性光学フィルムでの拡散は、等方性を示す。したがって、ピラー構造の異方性光学フィルムでは、輝度の急激な変化やギラツキが生じにくい。また、ピラー構造であるため、直線透過率がルーバー構造よりも低くなる傾向にある。

一方、異方性光学フィルムとして、上記ピラー構造ではなく、光重合性化合物を含む組成物の硬化物からなる樹脂層の内部に、１または複数の板状硬化領域の集合体を形成した異方性光学フィルム（例えば、特許文献２を参照）を用いることで、非拡散領域における直線透過率を向上させ、拡散幅を広くすることができる。なお、以後、本明細書において、特許文献２に記載されたような、１または複数の板状硬化領域の集合体を形成した異方性光学フィルムの構造を「ルーバー構造」と称することとする。

かかるルーバー構造の異方性光学フィルムにおいては、当該フィルムに対してその上方から下方に向けて光が入射された場合、ＭＤ方向とＴＤ方向とで異なる拡散を示す。すなわち、ルーバー構造の異方性光学フィルムでの拡散は、異方性を示す。具体的には、例えば、ＭＤ方向で拡散領域の幅（拡散幅）がピラー構造よりも広がれば、ＴＤ方向では拡散幅がピラー構造よりも狭まる。したがって、ルーバー構造の異方性光学フィルムでは、例えば、ＴＤ方向で拡散幅が狭まった場合、ＴＤ方向で輝度の急激な変化が生じる結果、光の干渉が起きやすくギラツキが生じやすい。また、ルーバー構造であるため、直線透過率がピラー構造よりも高くなる傾向にある。

これらの問題点を課題として、特許文献３には、これらのピラー構造とルーバー構造の中間的な構造を有する異方性光学フィルムが開示されている。この異方性光学フィルムの構造を「ルーバーロッド構造」と称することとする。この特許文献は、ルーバーロッド構造を得る手法として、複数の柱状構造体を備えた薄板状の光重合硬化物を薄板の表面に沿って一軸方向に延伸して、柱状構造体の横断面形状を一軸方向に伸長させる方法を採用している。

特開２００５−２６５９１５号公報 特許第４８０２７０７号公報 特開２０１２−１１７０９号公報

このように、異方性光学フィルム（ライトコントロールフィルム）は、その機能や用途に応じて種々の形態の開発が行われてきた。しかしながら、特許文献１〜特許文献３に記載の異方性光学フィルムにおいては、その製造段階にて、その樹脂層内部に存在する構造領域（棒状硬化領域の層）の上に、構造領域を有しない硬化樹脂の層である無構造領域（構造領域及び無構造領域に関しては後述する。）が形成されてしまうものであった。このような無構造領域が存在すると、当該無構造領域が光学的な機能を有しないため、特定のフィルム厚みに対する所望の光学特性が得られない場合があった。また、このような無構造領域を研削すれば、そのような問題は解消されるが、無構造領域の研削を行うと、生産性及びコスト性に劣る場合があった。

そこで、本発明は、異方性光学フィルムを製造するに際して、無構造領域の形成を抑制することで、無構造領域の研削等を行わなくとも、特定のフィルム厚みに対する所望の光学特性を有する異方性光学フィルムが得られる、異方性光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた。その結果、光硬化性樹脂組成物を硬化させ、光硬化性樹脂層を形成させる硬化工程の前段階として、光硬化性樹脂組成物上に特定の被覆部材を接合させる工程を設けることにより、硬化工程における無構造領域の形成が抑制されることを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、下記の通りである。
本発明（１）は、
光硬化性の未硬化樹脂組成物層の一面に、ヘイズ値が１．０〜５０．０％である光照射マスクを接合する光照射マスク接合工程と、
前記光照射マスク接合工程後、前記光照射マスクを介して光を照射することによって前記未硬化樹脂組成物層を硬化させて異方性拡散層を形成させる硬化工程と、
を含む、光の入射角により拡散性が変化する異方性光学フィルムの製造方法である。
本発明（２）は、
前記光照射マスクが、紫外線の透過性を有しており、且つ、前記光照射マスクの樹脂材料は、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリウレタン、ポリシリコーン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリブタジエン、ポリアセタールの少なくとも一つからなる、前記発明（１）の異方性光学フィルムの製造方法である。
本発明（３）は、
前記光照射マスクの表面粗さが、０．０５〜０．５０μｍである、前記発明（１）又は（２）の異方性光学フィルムの製造方法である。
本発明（４）は、
前記光照射マスクの厚みが、１〜１００μｍである、前記発明（１）〜（３）のいずれかの異方性光学フィルムの製造方法である。
本発明（５）は、
前記光照射マスクの酸素透過係数が、１．０×１０^−１１ｃｍ^３（ＳＴＰ）ｃｍ／（ｃｍ^２・ｓ・Ｐａ）以下である、前記発明（１）〜（４）のいずれかの異方性光学フィルムの製造方法である。
本発明（６）は、
前記異方性拡散層が、マトリックス領域と、当該マトリックス領域の光の屈折率とは異なる複数の柱状領域とを有する、前記発明（１）〜（５）のいずれかの異方性光学フィルムの製造方法である。
本発明（７）は、
前記光照射マスクが、微粒子を含有しており、該微粒子の平均粒径が１０μｍ以下である、前記発明（１）〜（６）のいずれかの異方性光学フィルムの製造方法である。
本発明（８）は、
前記微粒子が、少なくとも、金属粒子、金属酸化物粒子、粘土、および炭化物粒子からなる群より選択される一以上の無機微粒子からなる、前記発明（７）の異方性光学フィルムの製造方法である。

ここで、本発明における各用語の定義を説明する。

本発明における「光」とは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍまでの可視光と、波長１００ｎｍ〜４００ｎｍまでの紫外線と、を含む電磁波である。

「低屈折率領域」と「高屈折率領域」は、異方性光学フィルムを構成する材料の局所的な屈折率の高低差により形成される領域であって、他方に比べて屈折率が低いか高いかを示した相対的なものである。これらの領域は、異方性光学フィルムを形成する材料が硬化する際に形成される。

直線透過率は、異方性光学フィルムに対して入射した光の直線透過性に関し、ある入射角から入射した際に、直線方向の透過光量と、入射した光の光量との比率であり、下記式で表される。
直線透過率（％）＝（直線透過光量／入射光量）×１００

本発明によれば、無構造領域の研削等を行わなくとも、特定のフィルム厚みに対する所望の光学特性を有する異方性光学フィルムが得られる、異方性光学フィルムの製造方法を提供することが可能となる。

図１は、（ａ）本実施形態に係る異方性光学フィルムの製造方法の作用図であり、（ｂ）従来技術に係る異方性光学フィルムの製造方法の作用図である。 図２は、（ａ）本実施形態に係る異方性光学フィルムの概念図であり、（ｂ）従来技術に係る異方性光学フィルムの概念図である。 図３は、本実施形態に係る異方性光学フィルムの拡散幅の測定方法に関する概念図である。 図４は、本実施形態に係る異方性光学フィルムの拡散幅の測定に用いるサンプル構造の一例を示す概念図である。 図５は、本実施形態に係る異方性光学フィルムの拡散幅の測定に用いるサンプル構造の一例を示す概念図である。 図６は、実施例１に係る異方性光学フィルムの断面写真である。 図７は、実施例３に係る異方性光学フィルムの断面写真である。 図８は、比較例１に係る異方性光学フィルムの断面写真である。

以下、本発明に係る異方性光学フィルム及びその製造方法に関して説明するが、本発明は本形態に限定されるものではない。また、本発明に係る異方性光学フィルムは、その製造工程において、特定の光照射マスクを用いることにより、無構造領域が形成されない（形成され難い）異方性拡散層を形成することを可能とするものであり、当該特定の光照射マスクは、従来の異方性光学フィルムに対して広く適用可能である。従って、例えば、特開２００５−２６５９１５号公報、特開２００９−１５０９７１号公報等の、公知の異方性光学フィルムの製造方法に本発明に係る光照射マスクを適用した場合等も、本発明の概念に含まれるものとする。

≪異方性光学フィルムの構造≫
＜全体構造＞
本形態に係る異方性光学フィルムは、異方性拡散層を少なくとも有する。

〔異方性拡散層〕
本形態に係る異方性拡散層について、従来技術に係る異方性拡散層と対比しながら説明する。

本形態に係る異方性光学フィルムは、異方性拡散層（連続的な一層）として光硬化性樹脂組成物からなる層（光硬化性樹脂組成物層）を有する。光硬化性樹脂組成物層は、光（例えば紫外線）により硬化した光硬化性樹脂組成物からなる層である。そして、当該光硬化性樹脂組成物層には、その層を貫く方向に配向した複数（無数）の柱状領域（柱状体）が平面方向に亘って形成されている。更に、異方性拡散層中において、このような柱状領域が存在する層（異方性拡散層を、層に平行な断面で見たときに、当該断面上に柱状領域が存在する領域）を構造領域とし、このような柱状領域が存在しない層（異方性拡散層を、層に平行な断面で見たときに、当該断面上に柱状領域が存在しない領域）を無構造領域とする。尚、「柱状領域」とは、屈折率が周辺領域と僅かに異なる微小な棒状の光硬化性樹脂組成物領域を指す。また、このような「柱状領域」以外の異方性拡散層中の光硬化性樹脂組成物領域を、マトリックス領域とする。このように、柱状領域の屈折率は、マトリックス領域の屈折率と異なっていればよいが、屈折率がどの程度異なるかは特に限定されず、相対的なものである。マトリックス領域の屈折率が柱状領域の屈折率よりも低い場合、マトリックス領域は低屈折率領域となる。逆に、マトリックス領域の屈折率が柱状領域の屈折率よりも高い場合、マトリックス領域は高屈折率領域となる。

次に、図１及び図２を参照しながら、本形態に係る異方性拡散層の構造の特徴を説明する。

図１（ｂ）及び図２（ｂ）は、従来技術に係る異方性光学フィルム（特には、異方性拡散層）及びその製造方法に係る作用図及び概念図である。当該図に示されるように光硬化性樹脂組成物層の層断面に着目すると、当該層断面には、その層を貫く方向に配向した複数（無数）の柱状領域が形成された、構造領域が形成されている。その一方で、従来技術に係る製造方法によれば、異方性拡散層中に、無構造領域が形成されている。このような無構造領域は、研削することにより除去することが可能であるが、その場合、コスト性や生産性に劣ってしまう。

次に、図１（ａ）及び図２（ａ）は、本形態に係る異方性光学フィルム（特には、異方性拡散層）及びその製造方法に係る作用図及び概念図である。本形態に係る異方性拡散層においては、従来技術に係る異方性光学フィルム同様に構造領域が形成されている一方で、従来技術に係る異方性光学フィルムとは異なり、無構造領域が形成されない（又は、無構造領域が形成され難い）。このように、本形態に係る異方性光学フィルムの製造法によれば、その原理に関しては後述するが、硬化工程において特定の光照射マスク（これについては後述する。）を設けることによって、無構造領域の形成を抑制され、無構造領域を有しない（又は、無構造領域が非常に薄く、好適には２０μｍ以下、より好適には５μｍ以下である）異方性拡散層とすることが可能となるのである。

（柱状領域）
異方性拡散層に含まれる柱状領域の具体的な構造としては、既知の構造が考えられる。ここで、柱状領域としては、前述のピラー構造に限定されず、前述のルーバーロッド状であってもよい。また、柱状領域としては、異方性拡散層に対して層を貫く方向に真っ直ぐに延存する必要はなく、適宜の傾きを有するものであってもよい。尚、柱状領域の傾きとは、入射角を変化させた際に散乱特性がその入射角を境に略対称性を有する光の入射角と一致する方向を意味する。「略対称性を有する」としたのは、厳密に光学特性の対称性を有しないためである。柱状領域の傾きは、フィルム断面の傾きを光学顕微鏡によって観察することや、異方性光学フィルムを介した光の投影形状を、入射角を変化させて観察することにより見出せる。尚、このような柱状領域の具体的な形状としては、その製造段階において、従来の製造方法等に従って諸条件を変更することによって適宜変更可能である。

（厚み）
本形態に係る異方性拡散層の厚みとしては、特に限定されないが、好適には２０〜１００μｍであり、より好適には２５〜５５μｍである。本形態に係る異方性拡散層は、その製造段階において無構造領域が形成されないため、異方性光学フィルムとした場合に、その厚みが薄くとも優れた拡散性を有する。

〔その他の層〕
異方性拡散層の一方の面に他の層を設けた異方性光学フィルムとしてもよい。他の層としては、例えば、粘着層、偏光層、光拡散層、低反射層、防汚層、帯電防止層、紫外線・近赤外線（ＮＩＲ）吸収層、ネオンカット層、電磁波シールド層などを挙げることができる。他の層を順次積層してもよい。異方性拡散層の両方の面に、他の層を積層してもよい。両方の面に積層される他の層は、同一の機能を有する層であってもよいし、別の機能を有する層であってもよい。

≪異方性光学フィルムの製造方法≫
本形態に係る異方性光学フィルムは、反射性基材や等方性拡散媒体上に直接塗工等により設けることも可能であるが、通常の加工技術により粘着剤や接着剤を介して貼り合せることも出来る。また、例えば、本形態に係る異方性光学フィルムと屈曲性支持体やボードとの貼り合せを行う場合等も粘着剤や接着剤を使用することが好ましい。屈曲性支持体やボード自体が反射性を有する場合は、その反射面に直接異方性光学フィルムを積層することが出来るのは言うまでもないことである。以下、まず異方性拡散層の原料を説明し、次いでその製造工程を説明する。

＜異方性拡散層の原料＞
〔光硬化性樹脂組成物〕
本形態の異方性拡散層を形成するのに必須な材料である光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性又はカチオン重合性の官能基を有するポリマー、オリゴマー、モノマーから選択される光重合性化合物と光開始剤とから構成され、紫外線及び／又は可視光線を照射することにより重合・固化する材料である。

（光重合性化合物）
ラジカル重合性化合物は、主に分子中に１個以上の不飽和二重結合を含有するもので、具体的にはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、シリコーンアクリレート等の名称で呼ばれるアクリルオリゴマーと、２―エチルヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソノルボルニルアクリレート、２―ヒドロキシエチルアクリレート、２―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―アクリロイロキシフタル酸、ジシクロペンテニルアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６―ヘキサンジオールジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のアクリレートモノマーが挙げられる。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。尚、同様にメタクリレートも使用可能であるが、一般にはメタクリレートよりもアクリレートの方が光重合速度が速いので好ましい。

カチオン重合性化合物としては、分子中にエポキシ基やビニルエーテル基、オキセタン基を１個以上有する化合物が使用出来る。エポキシ基を有する化合物としては、２―エチルヘキシルジグリコールグリシジルエーテル、ビフェニルのグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＳ、テトラメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、テトラクロロビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ等のビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ブロム化フェノールノボラック、オルトクレゾールノボラック等のノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル類、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡのＥＯ付加物、ビスフェノールＡのＰＯ付加物等のアルキレングリコール類のジグリシジルエーテル類、ヘキサヒドロフタル酸のグリシジルエステルやダイマー酸のジグリシジルエステル等のグリシジルエステル類が挙げられる。

更に、３，４―エポキシシクロヘキシルメチル―３’，４’―エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２―（３，４―エポキシシクロヘキシル―５，５―スピロ―３，４―エポキシ）シクロヘキサン―メタ―ジオキサン、ジ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ジ（３，４―エポキシ―６―メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４―エポキシ―６―メチルシクロヘキシル―３’，４’―エポキシ―６’―メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４―エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキシド、エチレングリコールのジ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４―エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４―エポキシシクロヘキシルメチル―３’，４’―エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、テトラ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）ブタンテトラカルボキシレート、ジ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）―４，５―エポキシテトラヒドロフタレート等の脂環式エポキシ化合物も挙げられるが、これらに限定されるものではない。

ビニルエーテル基を有する化合物としては、例えばジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロペニルエーテルプロピレンカーボネート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。尚ビニルエーテル化合物は、一般にはカチオン重合性であるが、アクリレートと組み合わせることによりラジカル重合も可能である。

またオキセタン基を有する化合物としては、１，４―ビス［（３―エチル―３―オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３―エチル―３―（ヒドロキシメチル）―オキセタン等が使用できる。

尚、以上のカチオン重合性化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。上記光重合性化合物は、上述に限定されるものではない。また、十分な屈折率差を生じさせるべく、上記光重合性化合物には、低屈折率化を図るために、フッ素原子（Ｆ）を導入しても良く、高屈折率化を図るために、硫黄原子（Ｓ）、臭素原子（Ｂｒ）、各種金属原子を導入しても良い。また、特表２００５−５１４４８７に開示されるように、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化錫（ＳｎＯｘ）等の高屈折率の金属酸化物からなる超微粒子の表面に、アクリル基やメタクリル基、エポキシ基等の光重合性官能基を導入した機能性超微粒子を上述の光重合性化合物に添加することも有効である。

（光開始剤）
ラジカル重合性化合物を重合させることの出来る光開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、２―クロロチオキサントン、２，４―ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２―ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２，２―ジメトキシ―１，２―ジフェニルエタン―１―オン、２―ヒドロキシ―２―メチル―１―フェニルプロパン―１―オン、１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２―メチル―１―［４―（メチルチオ）フェニル］―２―モルフォリノプロパノン―１、１―［４―（２―ヒドロキシエトキシ）―フェニル］―２―ヒドロキシ―２―メチル―１―プロパン―１―オン、ビス（シクロペンタジエニル）―ビス（２，６―ジフルオロ―３―（ピル―１―イル）チタニウム、２―ベンジル―２―ジメチルアミノ―１―（４―モルフォリノフェニル）―ブタノン―１、２，４，６―トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。

またカチオン重合性化合物の光開始剤は、光照射によって酸を発生し、この発生した酸により上述のカチオン重合性化合物を重合させることが出来る化合物であり、一般的には、オニウム塩、メタロセン錯体が好適に用いられる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩等が使用され、これらの対イオンには、ＢＦ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻等のアニオンが用いられる。具体例としては、４―クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、（４―フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、（４―フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス［４―（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド―ビス―ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４―（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド―ビス―ヘキサフルオロホスフェート、（４―メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、（４―メトキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４―ｔ―ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェート、（η５―イソプロピルベンゼン）（η５―シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。

（配合量、その他任意成分）
本形態において、前記光開始剤は、光重合性化合物１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜７重量部、より好ましくは０．１〜５重量部程度配合される。これは、０．０１重量部未満では光硬化性が低下し、１０重量部を超えて配合した場合には、表面だけが硬化して内部の硬化性が低下してしまう弊害、着色、柱状領域の形成の阻害を招くからである。これらの光開始剤は、通常粉体を光重合性化合物中に直接溶解して使用されるが、溶解性が悪い場合は光開始剤を予め極少量の溶剤に高濃度に溶解させたものを使用することも出来る。このような溶剤としては光重合性であることが更に好ましく、具体的には炭酸プロピレン、γ―ブチロラクトン等が挙げられる。また、光重合性を向上させるために公知の各種染料や増感剤を添加することも可能である。更に光重合性化合物を加熱により硬化させることの出来る熱硬化開始剤を光開始剤と共に併用することも出来る。この場合、光硬化の後に加熱することにより光重合性化合物の重合硬化を更に促進し完全なものにすることが期待できる。

本形態では、上記の光硬化性樹脂組成物を単独で、又は複数を混合した組成物を硬化させて、異方性拡散層を形成することが出来る。また、光硬化性樹脂組成物と光硬化性を有しない高分子樹脂の混合物を用いてもよい。ここで使用できる高分子樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン―アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩ビ―酢ビ共重合体、ポリビニルブチラール樹脂等が挙げられる。これらの高分子樹脂と光硬化性樹脂組成物は、光硬化前は十分な相溶性を有していることが必要であるが、この相溶性を確保するために各種有機溶剤や可塑剤等を使用することも可能である。尚、光硬化性樹脂組成物としてアクリレートを使用する場合は、高分子樹脂としてはアクリル樹脂から選択することが相溶性の点で好ましい。

＜工程＞
異方性拡散層の製造方法としては、光硬化性樹脂組成物を適当な基材フィルム上に塗布し又はシート状に設け（塗布工程）、必要に応じて乾燥して溶剤を揮発させた上で、この光硬化性樹脂組成物上に光照射マスクを設け（光照射マスク接合工程）、更に光照射マスク上に光源を配置して、これから光照射マスクを介して光硬化性樹脂組成物に光を照射（硬化工程）することで、異方性光学フィルムを作製することが出来る。以下、各工程に関して詳述する。

〔塗布工程〕
基材フィルム上に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物を塗布又はシート状に設け、未硬化樹脂組成物層を形成する。

ここで、光硬化性樹脂組成物を基材フィルム上に設ける手法としては、通常の塗工方式や印刷方式が適用される。具体的には、エアドクターコーティング、バーコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバースコーティング、トランスファロールコーティング、グラビアロールコーティング、キスコーティング、キャストコーティング、スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、ダムコーティング、ディップコーティング、ダイコーティング等のコーティングや、グラビア印刷等の凹版印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等の印刷等が使用できる。また、光硬化性樹脂組成物が低粘度の場合は、例えば、異方性拡散層を形成したい縁部に沿ってディスペンサーを用いて硬化性の樹脂による隔壁を形成し、当該隔壁で囲まれた内部に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物をキャストすればよい。

ここで、基材フィルムとしては後述の硬化工程等において光硬化性樹脂組成物の硬化を阻害しないものを用いれば何ら限定されず、例えば、透明ＰＥＴフィルム等のような適宜のフィルムを用いることが出来る。

〔光照射マスク接合工程〕
次に、塗布工程で形成された未硬化樹脂組成物層上に、光照射マスクを接合（接触）させる。以下、本工程にて用いられる光照射マスクの物性等について詳述する。

（光照射マスクのヘイズ値）
光照射マスクのヘイズ値（全ヘイズ）は、１．０〜５０．０％であり、２．０〜３５．０％であることが好適であり、１０．０〜２５．０％であることが更に好適である。光照射マスクのヘイズをこのような範囲とすることで、入射される光に微細な強度分布が生じて、これが光硬化性樹脂組成物の光照射マスク側表面近傍の微少領域で反応性に差を生じ、構造領域形成のきっかけとなると考えられる。したがって、ヘイズが低くすぎると構造領域形成のきっかけが得られず異方性光学フィルム内に無構造領域が生じる。一方、ヘイズが高すぎるとそもそも樹脂硬化用の平行光線が拡散しすぎるために、構造領域が得られなくなる。

光照射マスクのヘイズ値の調整においては、適宜の方法を用いればよく、例えば、光照射マスクの原料や厚みを変更したり、微粒子（例えば、カーボン、ポリスチレン、シリカ等の適宜の微粒子等であり、これに関しては後述する。）を配合し、当該微粒子の配合量等を変更することによって、調整可能である。

ここで、光照射マスクのヘイズ値は、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ−２０００を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定された値である。

（光照射マスクの算術平均粗さ（Ｒａ））
光硬化性樹脂組成物と接する面の光照射マスクの算術平均粗さ（Ｒａ）は、好適には０．０５〜０．５０μｍであり、より好適には０．０５〜０．２５μｍであり、更に好適には０．１０〜０．１５μｍである。光照射マスクは、異方性拡散層を形成する光硬化性樹脂組成物（未硬化状態の光硬化性樹脂組成物）と接合（接触）されるため、異方性拡散層（異方性光学フィルム）のギラツキ、ザラツキに影響する。そのため、光照射マスクの算術平均粗さ（Ｒａ）が、小さすぎると、ギラツキが生じやすくなり、大きすぎると、ザラツキが大きくなりやすくなる。

ここで、光照射マスクの算術平均粗さ（Ｒａ）は、株式会社小坂研究所製のサーフコーダＳＥ１７００αを用いてＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準拠して測定された値である。

（光照射マスクの厚み）
本形態に係る光照射マスクの厚みは、好適には１〜１００μｍであり、より好適には５〜２０μｍである。光照射マスクの厚みは、異方性拡散層のムラ欠点に影響を与え、光照射マスクが厚すぎると異方性拡散層に斑・欠点が生じ易くなり、薄すぎると実際の製造工程において扱い難くなる。

ここで、光照射マスクの厚みは、株式会社ミツトヨ製マイクロメーターで測定された値の平均値｛Ｎ＝３であり、測定箇所は、未硬化樹脂組成物層に接合された範囲において、光照射マスクの、（１）長さ方向の中心部、（２）長さ方向の中心部から長さ方向の一端までの中心部、（３）長さ方向の中心部から長さ方向の他端までの中心部｝である。

（光照射マスクの酸素透過係数）
光照射マスクの酸素透過係数は、好適には１．０×１０^−１１ｃｍ^３（ＳＴＰ）ｃｍ／（ｃｍ^２・ｓ・Ｐａ）以下であり、より好適には、１．０×１０^−１３ｃｍ^３（ＳＴＰ）ｃｍ／（ｃｍ^２・ｓ・Ｐａ）以下であり、更に好適には１．０×１０^−１５ｃｍ^３（ＳＴＰ）ｃｍ／（ｃｍ^２・ｓ・Ｐａ）以下である。光照射マスクの酸素透過係数が大き過ぎると、光硬化性樹脂組成物の表面｛光照射マスクと接合（接触）された側の表面｝の硬化が進まず、無構造領域が生じやすくなる。ここで、上記単位中、「ＳＴＰ」とは、「Ｓｔａｎｄａｒｄ ａｎｄ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ａｎｄ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ」の略であり、酸素透過係数を０℃、１気圧の標準状態に換算した値であることを示す。

ここで、光照射マスクの酸素透過係数は、ＪＩＳ Ｋ７１２６−２：２００６に準拠して測定された値である。

（光照射マスクの紫外線透過性）
光照射マスクは、紫外線の透過性を有することが好適である。より具体的には、光照射マスクの紫外線透過性（透過率）は、好適には３０〜１００％であり、より好適には７０〜１００％である。光硬化性樹脂組成物として紫外線硬化性樹脂を用いた場合、光照射マスクの紫外線透過性が小さすぎると、硬化が進まず、構造領域が形成されない場合がある。

ここで、光照射マスクの紫外線透過性（所望の波長の紫外線に対する透過性）は、ＵＶ−ＶＩＳ分光光度計（株式会社島津製作所製ＵＶ−３１００）を用いて測定された値である。

（光照射マスクの原料）
光照射マスクの原料は、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリウレタン、ポリシリコーン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリブタジエン、ポリアセタールからなる群より選択される、少なくとも一つの樹脂である。中でも、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリ酢酸ビニル、ポリオレフィンはＵＶ透過性と可撓性に優れるためより好ましく、特に、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリ酢酸ビニルは酸素透過性が低いためさらに好ましく、さらにポリビニルアルコールが酸素透過性が特に低いため最も好ましい。

加えて光照射マスクは、上記光照射マスクの原料である樹脂材料に微粒子を配合させ、ヘイズを制御することができる。

樹脂材料に配合可能な微粒子は、平均粒径が１０μｍ以下であることが好適である。１０μｍを超える平均粒径の場合、ヘイズが大きくなりすぎたり、マスクの算術平均粗さが大きくなりすぎるため、異方性光学フィルム（異方性拡散層）の表面平滑性を阻害させてしまうこととなり、好ましくない場合がある。

なお、このような平均粒径の測定方法としては、コールター法や、レーザー回折散乱法などの既存の技術を適用することができる。

また微粒子は、無機微粒子又は有機微粒子の何れであってもよく、またこれらを混合して用いてもよい。

無機微粒子としては、特に限定されないが、金属粒子、金属酸化物粒子、粘土、および炭化物粒子からなる群より選択される一以上の無機微粒子であることが好適である。無機微粒子の主な具体的例を挙げると、金属粒子としては、銅、銀、金、ニッケル、錫、またはステンレスなどが挙げられ、金属酸化物粒子としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、または酸化ケイ素（例えば、シリカ）などが挙げられ、粘土としては、雲母、またはスメクタイトなどが挙げられ、炭化物粒子としては、カーボン、またはグラファイトなどが挙げられる。

また、有機微粒子の主な具体的例を挙げると、ポリスチレン粒子、ナイロン粒子、べンゾグアナミン粒子、メラミン粒子、アクリル粒子、シリコーン粒子、またはポリイミド粒子などが挙げられる。

上記微粒子の群の中で最も好適であるものは、粒径が小さく、分散が容易であり、酸素透過性を阻害せず、且つ、微量配合の際、大きなヘイズ効果（ヘイズが高い）を得ることのできる微粒子として、カーボンを挙げることができる。

微粒子の配合量は、特に制限はないが、配合量が多すぎると光照射マスク（マスクフィルム）製造が困難となったり、得られた光照射マスクの酸素透過係数およびヘイズが悪化するため好ましくない。

したがって微粒子の配合量は、加えてヘイズの影響を考慮し、樹脂材料１００重量部に対して、１０重量部以下で配合することが好適であり、５重量部以下がより好適である。

また、上記微粒子を配合する際には、適宜分散剤を添加することが好適であり、分散剤により微粒子を細かく分散させることで、得られる異方性光学フィルムの外観上の欠陥を少なくすることができる。

樹脂材料に微粒子を配合させた光照射マスクの製法は、例えば、材料を溶媒に溶解させ、流動性を持たせた溶液（ドープ）を、表面を平滑にしたドラム（キャスティングドラム）やステンレス製の平滑ベルト上に流し込んで付着させ、これを加熱する工程に通して溶媒を蒸発させ、フィルムを成型する溶液流延法などの既存の技術を適用することができる。

ここで、光照射マスク接合工程としては、前述の通り、未硬化樹脂組成物層上に光照射マスクを接合（接触）させればよいため、例えば、前述の隔壁を設け、基材フィルムと、隔壁と、光照射マスクと、で形成される空間内に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物を充填する、等により、前記塗布工程と光照射マスク接合工程とを同時に行う工程等であってもよい。

〔硬化工程〕
次に、未硬化樹脂組成物層に、光照射マスクを介して光を照射することにより、前記未硬化樹脂組成物層が硬化し、異方性拡散層（光硬化性樹脂組成物層）を形成する。

未硬化樹脂組成物層に光照射を行うための光源としては、用いる光硬化性樹脂組成物によって異なるが、紫外線硬化性の樹脂組成物を用いる場合には、通常はショートアークの紫外線発生光源が使用され、具体的には高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が使用可能である。

未硬化樹脂組成物層に照射する光線は、当該未硬化樹脂組成物層を硬化可能な波長を含んでいることが必要で、紫外線硬化性の樹脂組成物を用いる場合には、通常は水銀灯の３６５ｎｍを中心とする波長の光が利用される。この波長帯を使って本形態の異方性拡散層を作製する場合、照度としては０．０１〜１００ｍＷ／ｃｍ^２の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０ｍＷ／ｃｍ^２の範囲である。照度が０．０１ｍＷ／ｃｍ^２未満であると硬化に長時間を要するため、生産効率が悪くなり、１００ｍＷ／ｃｍ^２超であると光硬化性樹脂組成物の硬化が速過ぎて構造形成を生じず、目的の異方性拡散特性を発現できない場合があるからである。

ＵＶの照射時間は特に限定されないが、１０〜１８０秒間、より好ましくは３０〜１２０秒間である。その後、光照射マスクと基材フィルムを剥離することで、本形態に係る異方性拡散層を得ることができる。

本発明の異方性拡散層は、上述の如く低照度ＵＶ光を比較的長時間照射することにより未硬化樹脂組成物層中に柱状領域が形成されることで得られるものである。そのため、このような光照射（ＵＶ照射）だけでは未反応のモノマー成分が残存して、べたつきを生じたりしてハンドリング性や耐久性に問題がある場合がある。そのような場合は、１０００ｍＷ／ｃｍ^２以上の高照度の光（ＵＶ光）を追加照射して残存モノマーを重合させることが出来る。この時の光照射（ＵＶ照射）は光照射マスク側の逆側から行うのが好ましい。

このように、本形態に係る異方性拡散層の製造方法においては、特定の光照射マスクを光硬化性樹脂組成物に接合させる接合工程を設けることにより、無構造領域を有しない異方性拡散層を形成可能としている。より詳細には、本形態に係る光照射マスクによれば、光照射マスクが特定のヘイズ値であるので、構造形成（柱状領域形成）のきっかけとして作用し(入射される光に微細な強度分布が生じる)、かつ、光照射マスクによる酸素阻害により、これらが相互的に作用し、未硬化樹脂組成物の表面近傍にて構造領域の形成が可能となる｛無構造領域が形成されない（または、形成され難い）｝。その結果、マスクを使わない従来の製造方法、又は、従来のマスクを用いた製造方法では形成されてしまう無構造領域が存在しない（または、無構造領域の層厚が微小となる）ので、異方性拡散層の薄膜の効率的形成ができ、かつ、薄膜でありながら要求される光学特性を維持することができる。

≪異方性光学フィルムの物性≫
次に、本発明に係る異方性光学フィルムの物性（拡散幅）に関して説明する。

異方性光学フィルム（異方性拡散層）の拡散幅に関して、まず直線透過率が最大となる入射角で異方性拡散層に入射した光の直線透過率を「最大直線透過率」、直線透過率が最小となる入射角で異方性拡散層に入射した光の直線透過率を「最小直線透過率」と定義することとする。

ここで上記最大直線透過率と最小直線透過率は、製造時の設計パラメータによって調整することができる。パラメータの例としては、塗膜の組成、塗膜の膜厚、および構造形成時に与える塗膜の温度などが挙げられる。

まず塗膜の組成に関して、組成成分の適宜選択や配合調整などを行うことにより、最大直線透過率と最小直線透過率の調整を行うことが可能となる。

続いて塗膜の膜厚に関して、膜厚を厚くするほど最大直線透過率および最小直線透過率は低くなりやすく、膜厚を薄くするほど最大直線透過率および最小直線透過率は高くなりやすくなる傾向があるため、それにより、調整を行うことが可能となる。

最後に塗膜の温度に関して、温度が高いほど最大直線透過率および最小直線透過率は低くなりやすく、温度が低いほど最大直線透過率および最小直線透過率は高くなりやすくなる傾向があるため、それにより、調整を行うことが可能となる。

最大直線透過率および最小直線透過率を求めるに際し、直線透過光量と直線透過率は、図３に示す方法によって測定することができる。すなわち、図３に示す回転軸Ｌと、図４（ｂ）または図５（ｂ）に示す異方性光学フィルムサンプルの構造におけるＣ−Ｃ軸とを一致させるようにして、入射角毎に直線透過光量および直線透過率を測定する（法線方向をゼロ°とする）。得られたデータより光学プロファイルが得られ、この光学プロファイルから最大直線透過率および最小直線透過率を求めることができる。

上記手法により、異方性光学フィルムの最大直線透過率と最小直線透過率を求め、最大直線透過率と最小直線透過率の差を求める。この差の中間値となる直線を光学プロファイル上に作成し、この直線と光学プロファイルとが交わる２つの交点を求め、その交点に対応する入射角を読み取る。光学プロファイルにおいては、法線方向をゼロ°とし、入射角をマイナス方向及びプラス方向で示している。したがって、入射角および交点に対応する入射角はマイナスの値を有する場合がある。２つの交点の値がプラスの入射角値と、マイナスの入射角値を有するものであれば、マイナスの入射角値の絶対値とプラスの入射角値の和が入射光の拡散角度範囲である拡散幅となる。

２つの交点の値が両方ともプラスである場合、より大きい値からより小さい値を引いた差が拡散幅となる。２つの交点の値が両方ともマイナスである場合、それぞれの絶対値をとり、より大きい値からより小さい値を引いた差が拡散幅となる。

本発明に係る異方性光学フィルムの拡散幅は、３５°〜７０°であることが好適である。拡散幅が３５°未満であると、光の拡散性が不十分となり問題が生じる場合があり、拡散幅が７０°を超えると、光の集光性が損なわれる場合があるため好ましくない。拡散幅は、４０〜６０°であることがより好適である。

≪異方性光学フィルムの用途≫
本形態に係る異方性光学フィルムは、プロジェクタースクリーン、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、電子ペーパーのような表示装置に適用することができる。特に好ましくは液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられる。また、本形態に係る異方性光学フィルムは、接着層や粘着層を介して、所望の場所に貼り合わせて使用することもできる。更に、本形態に係る異方性光学フィルムを、透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に用いることもできる。

以下の方法に従って、本発明の異方性光学フィルム及び比較例の異方性光学フィルムを製造した。尚、以下においては、異方性光学フィルムは異方性拡散層一層のみからなるフィルムとしている。

＜実施例１〜１１および比較例１〜３に係る異方性光学フィルムの製造＞
厚さ１００μｍ、７６×２６ｍｍサイズのＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：Ａ４１００、ヘイズ＝０．５％）を基材フィルムとして、その縁部全周にディスペンサーを使い光硬化性樹脂組成物で隔壁を形成した。形成した隔壁は実施例により異なり、表１に示した。この隔壁の高さは、おおむね得られる異方性光学フィルムの厚みに相当することになる。この隔壁の中に下記の光硬化性樹脂組成物を充填し、ＵＶ照射マスク（光照射マスク）でカバーした。ただし、比較例でＵＶ照射マスクを用いない場合には、カバーをせずに用いた。
・シリコーン・ウレタン・アクリレート（屈折率：１．４６０、重量平均分子量：５，８９０） ２０重量部
（ＲＡＨＮ社製、商品名：００−２２５／ＴＭ１８）
・ネオペンチルグリコールジアクリレート（屈折率：１．４５０） ３０重量部
（ダイセル・サイテック株式会社製、商品名Ｅｂｅｃｒｙｌ１４５）
・ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート（屈折率：１．５３６） １５重量部
（ダイセル・サイテック株式会社製、商品名：Ｅｂｅｃｒｙｌ１５０）
・フェノキシエチルアクリレート（屈折率：１．５１８） ４０重量部
（共栄社化学株式会社製、商品名：ライトアクリレートＰＯ−Ａ）
・２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン ４重量部
（ＢＡＳＦ社製、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１）
この両面をフィルムで挟まれた各厚みの液膜を８０℃に加熱したホットプレートに載せ、ＵＶ照射マスク側からＵＶスポット光源（浜松ホトニクス株式会社製、商品名：Ｌ２８５９−０１）の落射用照射ユニットから出射される平行光線（波長３６５ｎｍの紫外線）を、照射強度５ｍＷ／ｃｍ^２として１分間照射して、更に、基材フィルム側から照射強度２０ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を照射して、完全に硬化させた。そこから、基材フィルムおよびＵＶ照射マスクを剥がして本発明の各厚みの異方性光学フィルムを得た。

＜異方性光学フィルムの拡散性（ヘイズ値）の測定＞
日本電色工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ−２０００を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠してヘイズ値を測定した。ヘイズ値が高いほど拡散性が高い異方性光学フィルムである。

＜異方性光学フィルムの拡散幅の測定＞
光源の投光角、受光器の受光角を任意に可変できる変角光度計ゴニオフォトメータ（株式会社ジェネシア製）を用いて、実施例および比較例の異方性光学フィルムの評価を行った。光源からの直進光を受ける位置に受光部を固定し、その間のサンプルホルダーに実施例および比較例で得られた異方性光学フィルムをセットした。図３に示すように回転軸（Ｌ）としてサンプルを回転させてそれぞれの入射角に対応する直線透過光量を測定した。この評価方法によって、どの角度の範囲で入射される光が拡散するかを評価することができる。この回転軸（Ｌ）は、図４に示されるサンプルの構造（所謂、ピラー構造）におけるＣ−Ｃ軸または図５に示されるサンプルの構造（所謂、ルーバーロッド構造）におけるＣ−Ｃ軸と同じ軸である。直線透過光量の測定は、視感度フィルターを用いて可視光領域の波長（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を測定した。このように「拡散幅」とは、最大直線透過率と最小直線透過率との中間値となる直線透過率に対する、入射光の拡散角度範囲である。

＜異方性光学フィルムのムラ欠点、ギラツキ、ザラツキの評価＞
異方性光学フィルムの干渉（虹）については、透過光をさまざまな角度から目視で観察し、ムラ、ギラツキ（干渉虹）、ザラツキを評価した。

＜異方性光学フィルムの断面観察＞
異方性光学フィルムの断面は、ミクロトームで薄く切片化した観察用サンプルを２００倍の光学顕微鏡で観察した。断面観察では無構造領域の厚さを確認した。実施例１、実施例３及び比較例１に係る断面写真を、各々、図６、図７及び図８として示す。ここで、無構造領域の厚さの測定としては、異方性光学フィルムの層としての最外部に対して略平行となる線を引いて、その平行線に接触している柱状体領域（平行線に占める柱状領域の重複分の長さの割合）が５０％以下となる領域を無構造領域とした。

実施例および比較例で使用した隔壁の高さは表１及び表１−２に示した。また、使用したＵＶ照射マスクの材質、厚み、ヘイズ値、算術平均粗さ（Ｒａ）、酸素透過係数、３６５ｎｍにおける紫外線透過性を表２ないし４に示した。尚、ＵＶ照射マスクの、ヘイズ値、光硬化性樹脂組成物と接する面の表面粗さ、厚み、膜厚、酸素透過係数、紫外線透過性は、前述の方法に従って測定された値である。

得られた異方性光学フィルムの厚み、ヘイズ値、拡散幅、ムラ欠点、ギラツキ（干渉虹）、ザラツキ、無構造領域の有無の評価結果を表５ないし７に示した。尚、表５以降においては、異方性光学フィルムの「厚み」は、「構造領域＋無構造領域の合計の厚み」を示す。

表５ないし表７に示されるとおり、実施例の異方性光学フィルムは１００μｍ以下の薄い膜厚においても優れた拡散性と拡散幅とを有しており、特に、実施例６〜９においては、ほぼ３０μｍの膜厚で高い特性を有している。このように薄膜においても優れた拡散性と拡散幅とが得られる理由は、断面観察において無構造領域がない（又は、無構造領域が非常に薄く５μｍ以下程度である）ことが原因であると考えられる。さらに、実施例７においては、ムラ欠点やギラツキ（干渉虹）、ザラツキもなく生産性や実用性に優れた異方性光学フィルムを作製できたことが分かる。

一方で、比較例１〜３の異方性光学フィルムは満足する光学特性が得られないばかりか、無構造領域があるために、無駄な厚みが必要である。尚、当該無構造領域を削成するためには、生産性、コスト的に劣ることとなる。

Claims (12)

1. 基材フィルム上に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物を塗布又はシート状に設け、未硬化樹脂組成物層を形成する塗布工程と、
   前記塗布工程後、前記未硬化樹脂組成物層の一面に、ヘイズ値が１０．７％〜３４．０％である光照射マスクを接合する光照射マスク接合工程と、
   前記光照射マスク接合工程後、前記光照射マスクを介して光を照射することによって前記未硬化樹脂組成物層を硬化させて、マトリックス領域と、前記マトリックス領域の光の屈折率とは異なる複数の柱状領域とを有する異方性拡散層を形成させる硬化工程と、
   を含むことを特徴とする、光の入射角により透過光の拡散性が変化する異方性光学フィルムの製造方法。
2. 前記光照射マスクの樹脂材料は、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリウレタン、ポリシリコーン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリブタジエン、ポリアセタールの少なくとも一つからなることを特徴とする、請求項１に記載の異方性光学フィルムの製造方法。
3. 前記光照射マスクの算術平均粗さは、０．０５μｍ〜０．５０μｍであることを特徴とする、請求項１〜２のいずれかに記載の異方性光学フィルムの製造方法。
4. 前記光照射マスクの厚みは、１μｍ〜１００μｍであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の異方性光学フィルムの製造方法。
5. 前記光照射マスクの酸素透過係数は、１．０×１０^−１１ｃｍ^３（ＳＴＰ）ｃｍ／（ｃｍ^２・ｓ・Ｐａ）以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の異方性光学フィルムの製造方法。
6. 前記光照射マスクは、無機微粒子又は有機微粒子の少なくとも１つを含有しており、前記微粒子の平均粒径が１０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の異方性光学フィルムの製造方法。
7. 前記無機微粒子が、少なくとも、金属粒子、金属酸化物粒子、粘土、および炭化物粒子からなる群より選択される一以上の無機微粒子からなることを特徴とする、請求項６に記載の異方性光学フィルムの製造方法。
8. 前記有機微粒子が、少なくとも、ポリスチレン粒子、ナイロン粒子、ベンゾグアナミン粒子、メラミン粒子、アクリル粒子、シリコーン粒子、および、ポリイミド粒子からなる群より選択される一以上の有機微粒子からなることを特徴とする、請求項６に記載の異方性光学フィルムの製造方法。
9. 前記光照射マスクは、紫外線透過性を有しており、且つ、前記紫外線透過率が３０％〜１００％であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の異方性光学フィルムの製造方法。
10. 光の入射角により透過光の拡散性が変化する異方性光学フィルムであって、
    前記異方性光学フィルムは、異方性拡散層を少なくとも有し、
    前記異方性拡散層は、マトリックス領域と、前記マトリックス領域の光の屈折率とは異なる複数の柱状領域とを有し、
    前記異方性拡散層に平行な断面における無構造領域の厚さが、前記異方性拡散層未研削で２０μｍ以下であり、
    直線透過率が最大となる入射角で異方性拡散層に入射した光の直線透過率である最大直線透過率と、直線透過率が最小となる入射角で異方性拡散層に入射した光の直線透過率である最小直線透過率との差の中間値における入射光の拡散角度範囲である拡散幅が、４０°〜６０°であり、
    前記異方性光拡散層のヘイズ値が７９％〜９２％であることを特徴とする、異方性光学フィルム。
11. 前記異方性拡散層の厚みが２０μｍ〜１００μｍであることを特徴とする、請求項１０に記載の異方性光学フィルム。
12. 前記無構造領域の厚さが、前記異方性拡散層未研削で５μｍ以下であることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の異方性光学フィルム。