KR20160117313A - 이방성 광학 필름의 제조 방법 - Google Patents

이방성 광학 필름의 제조 방법 Download PDF

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가부시키가이샤 도모에가와 세이시쇼
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Abstract

[과제]이방성 광학 필름을 제조할 때, 무구조 영역의 형성을 억제함으로써, 무구조 영역의 연삭 등을 실시하지 않아도, 특정한 필름 두께에 대한 원하는 광학 특성을 가지는 이방성 광학 필름이 얻어지는 이방성 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.
[해결 수단]광경화성의 미경화 수지 조성물층의 일면에 헤이즈값이 1.0~50%인 광조사 마스크를 접합하는 광조사 마스크 접합 공정과,
상기 광조사 마스크 접합 공정 후, 상기 광조사 마스크를 통해서 광을 조사함으로써 상기 미경화 수지 조성물층을 경화시켜 이방성 확산층을 형성시키는 경화 공정을 포함하는 광의 입사각에 의해 확산성이 변화하는 이방성 광학 필름의 제조 방법.

Description

이방성 광학 필름의 제조 방법{Process for Production of Anisotropic Optical Film}
본 발명은 입사각에 따라 투과광의 확산성이 변화하는 이방성 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
광확산성을 가지는 부재는 조명 기구나 건재 외에, 표시 장치에서도 사용되고 있다. 이 표시 장치로서는, 예를 들면 액정 표시 장치(LCD), 유기 전계 발광 소자(유기 EL) 등이 있다. 광확산 부재의 광확산 발현 기구로서는 표면에 형성된 요철에 의한 확산(표면 확산), 매트릭스 수지와 그 중에 분산된 미립자간의 굴절률 차이에 의한 확산(내부 확산), 및 표면 확산과 내부 확산 모두에 의한 것을 들 수 있다. 단, 이들 광확산 부재는 일반적으로 그 확산 성능은 등방적이고, 입사 각도를 조금 변화시켜도, 그 투과광의 확산 특성이 크게 상이할 것은 없었다.
한편, 일정한 각도 영역의 입사광은 강하게 확산하고, 그 이외의 각도의 입사광은 투과하는, 즉 입사광 각도에 따라 직선 투과광량을 변화시키는 것이 가능한 이방성 광학 필름이 알려져 있다. 이와 같은 이방성 광학 필름으로서는 광중합성 화합물을 포함하는 조성물의 경화물로 이루어지는 수지층의 내부에, 모두 소정의 방향 P에 대해서 평행으로 연재하는 복수의 봉상(棒狀) 경화 영역의 집합체를 형성한 이방성 확산 매체가 개시되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1을 참조). 또한 이후, 본 명세서에서 특허문헌 1에 기재된 것과 같은 소정의 방향 P에 대해서 평행으로 연재하는 복수의 봉상 경화 영역의 집합체를 형성한 이방성 광학 필름의 구조를 「필러 구조」로 칭하는 것으로 한다.
이러한 필러 구조의 이방성 광학 필름에서는 상기 필름에 대해서 그 위쪽으로부터 아래쪽을 향해서 빛이 입사된 경우, 필름 제조 공정에서의 흐름 방향(이하, 「MD 방향」으로 칭함)과, MD 방향에 수직인 필름의 폭 방향(이하, 「TD 방향」으로 칭함)에서 동일한 확산을 나타낸다. 즉, 필러 구조의 이방성 광학 필름에서의 확산은 등방성을 나타낸다. 따라서, 필러 구조의 이방성 광학 필름에서는 휘도의 급격한 변화나 눈부심이 생기기 어렵다. 또, 필러 구조이기 때문에, 직선 투과율이 루버 구조보다도 낮아지는 경향이 있다.
한편, 이방성 광학 필름으로서 상기 필러 구조가 아니라, 광중합성 화합물을 포함하는 조성물의 경화물로 이루어지는 수지층의 내부에, 1개 또는 복수의 판상 경화 영역의 집합체를 형성한 이방성 광학 필름(예를 들면, 특허문헌 2를 참조)을 이용함으로써, 비확산 영역에서의 직선 투과율을 향상시켜, 확산 폭을 넓게 할 수 있다. 또한 이후, 본 명세서에서 특허문헌 2에 기재된 것과 같은 1개 또는 복수의 판상 경화 영역의 집합체를 형성한 이방성 광학 필름의 구조를 「루버 구조」로 칭하는 것으로 한다.
이러한 루버 구조의 이방성 광학 필름에서는 상기 필름에 대해서 그 위쪽으로부터 아래쪽을 향해서 빛이 입사된 경우, MD 방향과 TD 방향에서 상이한 확산을 나타낸다. 즉, 루버 구조의 이방성 광학 필름에서의 확산은 이방성을 나타낸다. 구체적으로는, 예를 들면 MD 방향에서 확산 영역의 폭(확산 폭)이 필러 구조보다도 넓어지면, TD 방향에서는 확산 폭이 필러 구조보다도 좁아진다. 따라서, 루버 구조의 이방성 광학 필름에서는, 예를 들면 TD 방향에서 확산 폭이 좁아진 경우, TD 방향에서 휘도의 급격한 변화가 생기는 결과, 빛의 간섭이 일어나기 쉬워 눈부심이 생기기 쉽다. 또, 루버 구조이기 때문에, 직선 투과율이 필러 구조보다도 높아지는 경향이 있다.
이들 문제점을 과제로서, 특허문헌 3에는 이들 필러 구조와 루버 구조의 중간적인 구조를 가지는 이방성 광학 필름이 개시되어 있다. 이 이방성 광학 필름의 구조를 「루버 로드 구조」로 칭하는 것으로 한다. 이 특허문헌은 루버 로드 구조를 얻는 수법으로서 복수의 주상(柱狀) 구조체를 구비한 박판상의 광중합 경화물을 박판의 표면을 따라서 1축 방향으로 연신하고, 주상 구조체의 횡단면 형상을 1축 방향으로 신장시키는 방법을 채용하고 있다.
일본 특개 제2005-265915호 공보 일본 특허 제4802707호 공보 일본 특개 제2012-11709호 공보
이와 같이, 이방성 광학 필름(라이트 컨트롤 필름)은 그 기능이나 용도에 따라 여러가지 형태의 개발이 행해져 왔다. 그렇지만, 특허문헌 1~특허문헌 3에 기재된 이방성 광학 필름에서는 그 제조 단계에서, 그 수지층 내부에 존재하는 구조 영역(봉상 경화 영역의 층) 위에, 구조 영역을 가지지 않는 경화 수지의 층인 무구조 영역(구조 영역 및 무구조 영역에 관해서는 후술함)이 형성되어 버리는 것이었다. 이와 같은 무구조 영역이 존재하면, 상기 무구조 영역이 광학적인 기능을 가지지 않기 때문에, 특정한 필름 두께에 대한 원하는 광학 특성이 얻어지지 않는 경우가 있었다. 또, 이와 같은 무구조 영역을 연삭하면, 그러한 문제는 해소되지만, 무구조 영역의 연삭을 실시하면, 생산성 및 비용성이 뒤떨어지는 경우가 있었다.
여기서, 본 발명은 이방성 광학 필름을 제조할 때, 무구조 영역의 형성을 억제함으로써, 무구조 영역의 연삭 등을 실시하지 않아도, 특정한 필름 두께에 대한 원하는 광학 특성을 가지는 이방성 광학 필름이 얻어지는 이방성 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결할 수 있도록 예의 연구를 거듭했다. 그 결과, 광경화성 수지 조성물을 경화시켜, 광경화성 수지층을 형성시키는 경화 공정의 전(前) 단계로서 광경화성 수지 조성물 위에 특정한 피복 부재를 접합시키는 공정을 마련함으로써, 경화 공정에서의 무구조 영역의 형성이 억제되는 것을 알아내어 본 발명을 완성시켰다. 즉, 본 발명은 하기와 같다.
본 발명(1)은,
광경화성의 미경화 수지 조성물층의 일면에 헤이즈값이 1.0~50%인 광조사 마스크를 접합하는 광조사 마스크 접합 공정과,
상기 광조사 마스크 접합 공정 후, 상기 광조사 마스크를 통해서 광을 조사함으로써 상기 미경화 수지 조성물층을 경화시켜 이방성 확산층을 형성시키는 경화 공정을 포함하는 광의 입사각에 의해 확산성이 변화하는 이방성 광학 필름의 제조 방법이다.
본 발명(2)는,
상기 광조사 마스크가 자외선의 투과성을 가지고 있고, 또한 상기 광조사 마스크의 수지 재료는 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리(메타)아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리아세트산비닐, 폴리비닐알코올, 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리실리콘, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 폴리아세탈의 적어도 하나로 이루어지는 상기 발명(1)의 이방성 광학 필름의 제조 방법이다.
본 발명(3)은,
상기 광조사 마스크의 표면 조도가 0.05~0.50㎛인 상기 발명(1) 또는 (2)의 이방성 광학 필름의 제조 방법이다.
본 발명(4)은,
상기 광조사 마스크의 두께가 1~10㎛인 상기 발명(1)~(3) 중 어느 하나의 이방성 광학 필름의 제조 방법이다.
본 발명(5)은,
상기 광조사 마스크의 산소 투과 계수가 1.0×10-11cm3(STP)cm/(cm2·s·Pa) 이하인 상기 발명(1)~(4) 중 어느 하나의 이방성 광학 필름의 제조 방법이다.
본 발명(6)은,
상기 이방성 확산층이 매트릭스 영역과, 상기 매트릭스 영역의 빛의 굴절률은 상이한 복수의 주상 영역을 가지는 상기 발명(1)~(5) 중 어느 하나의 이방성 광학 필름의 제조 방법이다.
여기서, 본 발명에서의 각 용어의 정의를 설명한다.
본 발명에서의 「빛」이란, 파장 380nm~780nm까지의 가시광과, 파장 100nm~400nm까지의 자외선을 포함하는 전자파이다.
「저굴절률 영역」과「고굴절률 영역」은 이방성 광학 필름을 구성하는 재료의 국소적인 굴절률의 고저 차이에 의해 형성되는 영역으로서, 다른 쪽에 비해 굴절률이 낮은지 높은지를 나타내는 상대적인 것이다. 이들 영역은 이방성 광학 필름을 형성하는 재료가 경화할 때에 형성된다.
직선 투과율은 이방성 광학 필름에 대해서 입사한 빛의 직선 투과성에 관해, 어떤 입사각으로부터 입사했을 때에, 직선 방향의 투과광량과 입사한 빛의 광량의 비율이며, 하기 식으로 나타낸다.
직선 투과율(%) = (직선 투과광량/입사광량)×100
본 발명에 의하면, 무구조 영역의 연삭 등을 실시하지 않아도, 특정한 필름 두께에 대한 원하는 광학 특성을 가지는 이방성 광학 필름이 얻어지는 이방성 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것이 가능해진다.
도 1의 (a)는 본 실시 형태에 관한 이방성 광학 필름의 제조 방법의 작용도이며, (b)는 종래 기술에 관한 이방성 광학 필름의 제조 방법의 작용도이다.
도 2의 (a)는 본 실시 형태에 관한 이방성 광학 필름의 개념도이며, (b)는 종래 기술에 관한 이방성 광학 필름의 개념도이다.
도 3은 본 실시 형태에 관한 이방성 광학 필름의 확산 폭의 측정 방법에 관한 개념도이다.
도 4는 본 실시 형태에 관한 이방성 광학 필름의 확산 폭의 측정에 이용하는 샘플 구조의 일례를 나타내는 개념도이다.
도 5는 본 실시 형태에 관한 이방성 광학 필름의 확산 폭의 측정에 이용하는 샘플 구조의 일례를 나타내는 개념도이다.
도 6은 실시예 1에 관한 이방성 광학 필름의 단면 사진이다.
도 7은 실시예 3에 관한 이방성 광학 필름의 단면 사진이다.
도 8은 비교예 1에 관한 이방성 광학 필름의 단면 사진이다.
이하, 본 발명에 관한 이방성 광학 필름 및 그 제조 방법에 관해서 설명하지만, 본 발명은 본 형태로 한정되는 것은 아니다. 또, 본 발명에 관한 이방성 광학 필름은 그 제조 공정에서, 특정한 광조사 마스크를 이용함으로써, 무구조 영역이 형성되지 않는(형성되기 어려운) 이방성 확산층을 형성하는 것을 가능하게 하는 것으로, 상기 특정한 광조사 마스크는 종래의 이방성 광학 필름에 대해서 널리 적용 가능하다. 따라서, 예를 들면 일본 특개 2005-265915호 공보, 일본 특개 2009-150971호 공보, 국제 공개 번호 WO2015/111523, 일본 특개 2015-191178호 공보 등에 기재된 이방성 광학 필름에 본 발명에 관한 광조사 마스크를 적용한 경우 등도 본 발명의 개념에 포함되는 것으로 한다.
≪이방성 광학 필름의 구조≫
<전체 구조>
본 형태에 관한 이방성 광학 필름은 이방성 확산층을 적어도 갖는다.
[이방성 확산층]
본 형태에 관한 이방성 확산층에 대해서, 종래 기술에 관한 이방성 확산층과 대비하면서 설명한다.
본 형태에 관한 이방성 광학 필름은 이방성 확산층(연속적인 한층)으로서 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 층(광경화성 수지 조성물층)을 갖는다. 광경화성 수지 조성물층은 빛(예를 들면, 자외선)에 의해 경화한 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 층이다. 그리고, 상기 광경화성 수지 조성물층에는 그 층을 관통하는 방향으로 배향한 복수(무수(無數))의 주상 영역(주상체)이 평면 방향에 걸쳐 형성되어 있다. 또한, 이방성 확산층 중에서, 이와 같은 주상 영역이 존재하는 층(이방성 확산층을, 층에 평행한 단면에서 보았을 때에, 상기 단면 위에 주상 영역이 존재하는 영역)를 구조 영역으로 하고, 이와 같은 주상 영역이 존재하지 않는 층(이방성 확산층을 층에 평행한 단면에서 보았을 때에, 상기 단면 위에 주상 영역이 존재하지 않는 영역)을 무구조 영역으로 한다. 또한, 「주상 영역」이란, 굴절률이 주변 영역과 약간 상이한 미소한 봉상의 광경화성 수지 조성물 영역을 나타낸다. 또, 이와 같은 「주상 영역」이외의 이방성 확산층 중의 광경화성 수지 조성물 영역을 매트릭스 영역으로 한다. 이와 같이, 주상 영역의 굴절률은 매트릭스 영역의 굴절률과 상이하면 되지만, 굴절률이 어느 정도 상이한지는 특별히 한정되지 않고 상대적인 것이다. 매트릭스 영역의 굴절률이 주상 영역의 굴절률보다도 낮은 경우, 매트릭스 영역은 저굴절률 영역이 된다. 반대로, 매트릭스 영역의 굴절률이 주상 영역의 굴절률보다도 높은 경우, 매트릭스 영역은 고굴절률 영역이 된다.
다음에, 도 1 및 도 2를 참조하면서, 본 형태에 관한 이방성 확산층의 구조의 특징을 설명한다.
도 1의 (b) 및 도 2의 (b)는 종래 기술에 관한 이방성 광학 필름(특별히는 이방성 확산층) 및 그 제조 방법에 관한 작용도이다. 상기 도에 나타낸 바와 같이 광경화성 수지 조성물층의 층 단면에 착안하면, 상기 층 단면에는 그 층을 관통하는 방향으로 배향한 복수(무수)의 주상 영역이 형성된, 구조 영역이 형성되어 있다. 그 한편으로, 종래 기술에 관한 제조 방법에 의하면, 이방성 확산층 중에 무구조 영역이 형성되어 있다. 이와 같은 무구조 영역은 연삭함으로써 제거하는 것이 가능하지만, 그 경우 비용성이나 생산성이 뒤떨어져 버린다.
다음에, 도 1의 (a) 및 도 2의 (a)는 본 형태에 관한 이방성 광학 필름(특별히는 이방성 확산층) 및 그 제조 방법에 관한 작용도이다. 본 형태에 관한 이방성 확산층에서는 종래 기술에 관한 이방성 광학 필름과 동일하게 구조 영역이 형성되어 있는 한편으로, 종래 기술에 관한 이방성 광학 필름과는 상이하고, 무구조 영역이 형성되지 않는다(또는 무구조 영역이 형성되기 어렵다). 이와 같이, 본 형태에 관한 이방성 광학 필름의 제조법에 의하면, 그 원리에 관해서는 후술하지만, 경화 공정에서 특정한 광조사 마스크(이것에 대해서는 후술함)를 마련함으로써, 무구조 영역의 형성이 억제되어 무구조 영역을 가지지 않는(또는 무구조 영역이 매우 얇고, 적합하게는 20㎛ 이하, 보다 적합하게는 5㎛ 이하인) 이방성 확산층으로 하는 것이 가능해지는 것이다.
(주상 영역)
이방성 확산층에 포함되는 주상 영역의 구체적인 구조로서는 기존의 구조가 생각된다. 여기서, 주상 영역으로서는 전술한 필러 구조로 한정되지 않고, 전술한 루버 로드상이어도 된다. 또, 주상 영역으로서는 이방성 확산층에 대해서 층을 관통하는 방향으로 곧게 연존(延存)할 필요는 없고, 적당한 기울기를 가지는 것이어도 된다. 또한, 주상 영역의 기울기란, 입사각을 변화시켰을 때에 산란 특성이 그 입사각을 경계로 대략 대칭성을 가지는 빛의 입사각과 일치하는 방향을 의미한다. 「대략 대칭성을 갖는다」로 한 것은 엄밀하게 광학 특성의 대칭성을 가지지 않기 때문이다. 주상 영역의 기울기는 필름 단면의 기울기를 광학 현미경에 의해서 관찰하는 것이나, 이방성 광학 필름을 통한 빛의 투영 형상을, 입사각을 변화시켜 관찰함으로써 알아낼 수 있다. 또한, 이와 같은 주상 영역의 구체적인 형상으로서는 그 제조 단계에서, 종래의 제조 방법 등에 따라 여러 조건을 변경함으로써 적절히 변경 가능하다.
(두께)
본 형태에 관한 이방성 확산층의 두께로서는 특별히 한정되지 않지만, 적합하게는 20~100㎛이며, 보다 적합하게는 25~55㎛이다. 본 형태에 관한 이방성 확산층은 그 제조 단계에서 무구조 영역이 형성되지 않기 때문에, 이방성 광학 필름으로 한 경우에, 그 두께가 얇아도 뛰어난 확산성을 갖는다.
[그 밖의 층]
이방성 확산층의 한쪽의 면에 다른 층을 마련한 이방성 광학 필름으로 해도 된다. 다른 층으로서는, 예를 들면 점착층, 편광층, 광확산층, 저반사층, 방오층, 대전 방지층, 자외선·근적외선(NIR) 흡수층, 네온 컷층, 전자파 쉴드층 등을 들 수 있다. 다른 층을 차례로 적층해도 된다. 이방성 확산층 모두의 면에 다른 층을 적층해도 된다. 모두의 면에 적층되는 다른 층은 동일한 기능을 가지는 층이어도 되고, 다른 기능을 가지는 층이어도 된다.
≪이방성 광학 필름의 제조 방법≫
본 형태에 관한 이방성 광학 필름은 반사성 기재나 등방성 확산 매체 위에 직접 도공 등에 의해 마련하는 것도 가능하지만, 통상의 가공 기술에 의해 점착제나 접착제를 통해서 첩합할 수도 있다. 또, 예를 들면 본 형태에 관한 이방성 광학 필름과 굴곡성 지지체나 보드와의 첩합을 실시하는 경우 등도 점착제나 접착제를 사용하는 것이 바람직하다. 굴곡성 지지체나 보드 자체가 반사성을 가지는 경우에는 그 반사면에 직접 이방성 광학 필름을 적층할 수 있는 것은 말할 필요도 없는 것이다. 이하, 우선 이방성 확산층의 원료를 설명하고, 그 다음에 그 제조 공정을 설명한다.
<이방성 확산층의 원료>
[광경화성 수지 조성물]
본 형태의 이방성 확산층을 형성하는데 필수적인 재료인 광경화성 수지 조성물은 라디칼 중합성 또는 양이온 중합성의 관능기를 가지는 폴리머, 올리고머, 모노머로부터 선택되는 광중합성 화합물과 광개시제로 구성되고, 자외선 및/또는 가시광선을 조사함으로써 중합·고체화하는 재료이다.
(광중합성 화합물)
라디칼 중합성 화합물은 주로 분자 중에 1개 이상의 불포화 이중 결합을 함유하는 것으로, 구체적으로는 에폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 폴리부타디엔아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트 등의 명칭으로 불리는 아크릴 올리고머와, 2-에틸헥실아크릴레이트, 이소아밀아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 이소노르보닐아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-아크릴로일옥시프탈산, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 비스페놀 A의 EO 부가물 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, EO 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 등의 아크릴레이트 모노머를 들 수 있다. 또, 이들 화합물은 각 단체로 이용해도 되고, 복수 혼합해 이용해도 된다. 또한, 동일하게 메타크릴레이트도 사용 가능하지만, 일반적으로는 메타크릴레이트보다도 아크릴레이트가 광중합 속도가 빠르기 때문에 바람직하다.
양이온 중합성 화합물로서는 분자 중에 에폭시기나 비닐에테르기, 옥세탄기를 1개 이상 가지는 화합물을 사용할 수 있다. 에폭시기를 가지는 화합물로서는 2-에틸헥실디글리콜 글리시딜에테르, 비페닐의 글리시딜에테르, 비스페놀 A, 수첨(水添) 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 AD, 비스페놀 S, 테트라메틸 비스페놀 A, 테트라메틸 비스페놀 F, 테트라클로로 비스페놀 A, 테트라브로모 비스페놀 A 등의 비스페놀류의 디글리시딜에테르류, 페놀 노볼락, 크레졸 노볼락, 브롬화 페놀 노볼락, 오르토 크레졸 노볼락 등의 노볼락 수지의 폴리글리시딜에테르류, 에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 부탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 1,4-시클로헥산디메탄올, 비스페놀 A의 EO 부가물, 비스페놀 A의 PO 부가물 등의 알킬렌글리콜류의 디글리시딜에테르류, 헥사히드로프탈산의 글리시딜에스테르나 다이머산의 디글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르류를 들 수 있다.
또한, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산메타디옥산, 디(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 디(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실-3',4'-에폭시-6'-메틸시클로헥산카르복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산), 디시클로펜타디엔디에폭시드, 에틸렌글리콜의 디(3,4-에폭시시클로헥실메틸)에테르, 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 락톤 변성 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 테트라(3,4-에폭시시클로헥실메틸)부탄테트라카르복실레이트, 디(3,4-에폭시시클로헥실메틸)-4,5-에폭시테트라히드로프탈레이트 등의 지환식 에폭시 화합물도 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
비닐에테르기를 가지는 화합물로서는, 예를 들면 디에틸렌글리콜 디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜 디비닐에테르, 부탄디올디비닐에테르, 헥산디올디비닐에테르, 시클로헥산디메탄올디비닐에테르, 히드록시부틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 도데실비닐에테르, 트리메틸올프로판트리비닐에테르, 프로페닐에테르프로필렌카보네이트 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한 비닐에테르 화합물은 일반적으로는 양이온 중합성이지만, 아크릴레이트와 조합함으로써 라디칼 중합도 가능하다.
또 옥세탄기를 가지는 화합물로서는 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 3-에틸-3-(히드록시메틸)-옥세탄 등을 사용할 수 있다.
또한, 이상의 양이온 중합성 화합물은 각 단체로 이용해도 되고, 복수 혼합해 이용해도 된다. 상기 광중합성 화합물은 상술로 한정되는 것은 아니다. 또, 충분한 굴절률 차이를 일으킬 수 있도록, 상기 광중합성 화합물에는 저굴절률화를 도모하기 위해서, 불소 원자(F)를 도입해도 되고, 고굴절률화를 도모하기 위해서, 황 원자(S), 브롬 원자(Br), 각종 금속 원자를 도입해도 된다. 또, 일본 특표 2005-514487에 개시된 바와 같이, 산화 티탄(TiO2), 산화 지르코늄(ZrO2), 산화 주석(SnOx) 등의 고굴절률의 금속 산화물로 이루어지는 초미립자의 표면에 아크릴기나 메타크릴기, 에폭시기 등의 광중합성 관능기를 도입한 기능성 초미립자를 상술한 광중합성 화합물에 첨가하는 것도 유효하다.
(광개시제)
라디칼 중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 광개시제로서는 벤조페논, 벤질, 미힐러케톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2,2-디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판온-1,1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 비스(시클로펜타디에닐)-비스(2,6-디플루오로-3-(필-1-일)티타늄, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1,2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 또, 이들 화합물은 각 단체로 이용해도 되고, 복수 혼합해 이용해도 된다.
또 양이온 중합성 화합물의 광개시제는 광조사에 의해서 산을 발생하고, 이 발생한 산에 의해 상술한 양이온 중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 화합물이며, 일반적으로는 오늄염, 메탈로센 착체가 적합하게 이용된다. 오늄염으로서는 디아조늄염, 설포늄염, 요도늄염, 포스포늄염, 셀레늄염 등이 사용되고, 이들 반대 이온에는 BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 - 등의 음이온이 이용된다. 구체예로서는 4-클로로벤젠디아조늄헥사플루오로포스페이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로포스페이트, (4-페닐티오페닐)디페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, (4-페닐티오페닐)디페닐설포늄헥사플루오로포스페이트, 비스[4-(디페닐설포니오)페닐]설피드-비스-헥사플루오로안티모네이트, 비스[4-(디페닐설포니오)페닐]설피드-비스-헥사플루오로포스페이트, (4-메톡시페닐)디페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, (4-메톡시페닐)페닐요도늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(4-t-부틸페닐)요도늄헥사플루오로포스페이트, 벤질트리페닐포스포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐셀레늄헥사플루오로포스페이트, (η5-이소프로필벤젠)(η5-시클로펜타디에닐)철(Ⅱ)헥사플루오로포스페이트 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또, 이들 화합물은 각 단체로 이용해도 되고, 복수 혼합해 이용해도 된다.
(배합량, 그 외 임의 성분)
본 형태에서, 상기 광개시제는 광중합성 화합물 100중량부에 대해서, 0.01~10중량부, 바람직하게는 0.1~7중량부, 보다 바람직하게는 0.1~5중량부 정도 배합된다. 이것은 0.01중량부 미만에서는 광경화성이 저하되고, 10중량부를 초과하여 배합한 경우에는 표면만이 경화해 내부의 경화성이 저하되어 버리는 폐해, 착색, 주상 영역의 형성의 저해를 초래하기 때문이다. 이들 광개시제는 통상 분체를 광중합성 화합물 중에 직접 용해해 사용되지만, 용해성이 나쁜 경우에는 광개시제를 미리 극소량의 용제에 고농도로 용해시킨 것을 사용할 수도 있다. 이와 같은 용제로서는 광중합성인 것이 더욱 바람직하고, 구체적으로는 탄산 프로필렌, γ-부티로락톤 등을 들 수 있다. 또, 광중합성을 향상시키기 위해서 공지의 각종 염료나 증감제를 첨가하는 것도 가능하다. 또한 광중합성 화합물을 가열에 의해 경화시킬 수 있는 열경화 개시제를 광개시제와 함께 병용할 수도 있다. 이 경우, 광경화 후에 가열함으로써 광중합성 화합물의 중합 경화를 더욱 촉진해 완전한 것으로 하는 것을 기대할 수 있다.
본 형태에서는 상기의 광경화성 수지 조성물을 단독으로, 또는 복수를 혼합한 조성물을 경화시켜 이방성 확산층을 형성할 수 있다. 또, 광경화성 수지 조성물과 광경화성을 가지지 않는 고분자 수지의 혼합물을 이용해도 된다. 여기서 사용할 수 있는 고분자 수지로서는 아크릴 수지, 스티렌 수지, 스티렌-아크릴 공중합체, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세트산비닐계 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄 수지 등을 들 수 있다. 이들 고분자 수지와 광경화성 수지 조성물은 광경화 전은 충분한 상용성을 가지고 있는 것이 필요하지만, 이 상용성을 확보하기 위해서 각종 유기용제나 가소제 등을 사용하는 것도 가능하다. 또한, 광경화성 수지 조성물로서 아크릴레이트를 사용하는 경우에는 고분자 수지로서는 아크릴 수지로부터 선택하는 것이 상용성의 점에서 바람직하다.
<공정>
이방성 확산층의 제조 방법으로서는 광경화성 수지 조성물을 적당한 기재(基材) 필름 위에 도포하거나 또는 시트상으로 마련하고(도포 공정), 필요에 따라 건조해 용제를 휘발시킨 다음, 이 광경화성 수지 조성물 위에 광조사 마스크를 마련하며(광조사 마스크 접합 공정), 또한 광조사 마스크 위에 광원을 배치하고, 여기로부터 광조사 마스크를 통해서 광경화성 수지 조성물에 빛을 조사(경화 공정)함으로써, 이방성 광학 필름을 제작할 수 있다. 이하, 각 공정에 관해서 상술한다.
[도포 공정]
기재 필름 위에 미경화 상태의 광경화성 수지 조성물을 도포 또는 시트상으로 마련해 미경화 수지 조성물층을 형성한다.
여기서, 광경화성 수지 조성물을 기재 필름 위에 마련하는 수법으로서는 통상의 도공 방식이나 인쇄 방식이 적용된다. 구체적으로는 에어 닥터 코팅, 바 코팅, 블레이드 코팅, 나이프 코팅, 리버스 코팅, 트랜스퍼 롤 코팅, 그라비어 롤 코팅, 키스 코팅, 캐스트 코팅, 스프레이 코팅, 슬롯 오리피스 코팅, 캘린더 코팅, 댐 코팅, 딥 코팅, 다이 코팅 등의 코팅이나, 그라비어 인쇄 등의 요판 인쇄, 스크린 인쇄 등의 공판 인쇄 등의 인쇄 등을 사용할 수 있다. 또, 광경화성 수지 조성물이 저점도인 경우에는, 예를 들면 이방성 확산층을 형성하고 싶은 연부(緣部)를 따라 디스펜서를 이용해 경화성 수지에 의한 격벽을 형성하고, 상기 격벽으로 둘러싸인 내부에 미경화 상태의 광경화성 수지 조성물을 캐스트하면 된다.
여기서, 기재 필름으로서는 후술하는 경화 공정 등에서 광경화성 수지 조성물의 경화를 저해하지 않는 것을 이용하면 아무런 한정되지 않고, 예를 들면 투명 PET 필름 등과 같은 적당한 필름을 이용할 수 있다.
[광조사 마스크 접합 공정]
다음에, 도포 공정으로 형성된 미경화 수지 조성물층 위에, 광조사 마스크를 접합(접촉)시킨다. 이하, 본 공정에서 이용되는 광조사 마스크의 물성 등에 대해 상술한다.
(광조사 마스크의 헤이즈값(전체 헤이즈값))
광조사 마스크의 헤이즈값(전체 헤이즈값)은 1.0~50.0%이며, 2.0~35.0%인 것이 적합하고, 10.0~25.0%인 것이 더욱 적합하다. 광조사 마스크의 헤이즈를 이와 같은 범위로 함으로써, 입사되는 빛에 미세한 강도 분포가 생기고, 이것이 광경화성 수지 조성물의 광조사 마스크측 표면 근방의 미소 영역에서 반응성에 차이를 일으켜 구조 영역 형성의 계기가 된다고 생각된다. 따라서, 헤이즈가 너무 낮으면 구조 영역 형성의 계기를 얻지 못하고 이방성 광학 필름 내에 무구조 영역이 생긴다. 한편, 헤이즈가 너무 높으면 원래 수지 경화용의 평행 광선이 너무 확산하기 때문에, 구조 영역을 얻을 수 없게 된다.
광조사 마스크의 헤이즈값의 조정에서는 적당한 방법을 이용하면 되고, 예를 들면 광조사 마스크의 원료나 두께를 변경하거나 미립자(예를 들면, 카본, 폴리스티렌, 실리카 등의 적당한 미립자)를 배합해, 상기 미립자의 배합량 등을 변경함으로써 조정 가능하다.
여기서, 광조사 마스크의 헤이즈값은 일본전색공업 주식회사 제의 헤이즈 미터 NDH-2000을 이용하고, JIS K7136:2000에 준거해 측정된 값이다.
(광조사 마스크의 산술 평균 조도(Ra))
광경화성 수지 조성물과 접하는 면의 광조사 마스크의 산술 평균 조도(Ra)는 적합하게는 0.05~0.50㎛이며, 보다 적합하게는 0.05~0.25㎛이며, 더욱 적합하게는 0.10~0.15㎛이다. 광조사 마스크는 이방성 확산층을 형성하는 광경화성 수지 조성물(미경화 상태의 광경화성 수지 조성물)과 접합(접촉)되기 때문에, 이방성 확산층(이방성 광학 필름)의 눈부심, 거칠기에 영향을 준다. 그 때문에, 광조사 마스크의 산술 평균 조도(Ra)가 너무 작으면 눈부심이 발생하기 쉬워지고, 너무 크면 거칠기가 커지기 쉬워진다.
여기서, 광조사 마스크의 산술 평균 조도(Ra)는 주식회사 고사카연구소 제의 서프 코더 SE1700α를 이용해 JIS B0601:1994에 준거해 측정된 값이다.
(광조사 마스크의 두께)
본 형태에 관한 광조사 마스크의 두께는 적합하게는 1~100㎛이며, 보다 적합하게는 5~20㎛이다. 광조사 마스크의 두께는 이방성 확산층의 얼룩 결점에 영향을 부여하여 광조사 마스크가 너무 두꺼우면 이방성 확산층에 얼룩·결점이 생기기 쉬워지고, 너무 얇으면 실제의 제조 공정에서 취급하기 어려워진다.
여기서, 광조사 마스크의 두께는 주식회사 미츠토요 제 마이크로미터로 측정된 값의 평균값{N=3이며, 측정 개소는 미경화 수지 조성물층에 접합된 범위에서, 광조사 마스크의 (1) 길이 방향의 중심부, (2) 길이 방향의 중심부로부터 길이 방향의 일단까지의 중심부, (3) 길이 방향의 중심부로부터 길이 방향의 타단까지의 중심부}이다.
(광조사 마스크의 산소 투과 계수)
광조사 마스크의 산소 투과 계수는 적합하게는 1.0×10-11cm3(STP)cm/(cm2·s·Pa) 이하이며, 보다 적합하게는 1.0×10-13cm3(STP)cm/(cm2·s·Pa) 이하이고, 더욱 적합하게는 1.0×10-15cm3(STP)cm/(cm2·s·Pa) 이하이다. 여기서, 상기 단위 중 「STP」란 "Standard and Temperature and Pressure"의 약자이며, 산소 투과 계수를 0° 1기압의 표준 상태로 환산한 값인 것을 나타낸다. 광조사 마스크의 산소 투과 계수가 너무 크면 광경화성 수지 조성물의 표면{광조사 마스크와 접합(접촉)된 측의 표면}의 경화가 진행되지 않고, 무구조 영역이 발생하기 쉬워진다.
여기서, 광조사 마스크의 산소 투과 계수는 JIS K7126-2:2006에 준거해 측정된 값이다.
(광조사 마스크의 자외선 투과성)
광조사 마스크는 자외선의 투과성을 가지는 것이 적합하다. 보다 구체적으로는 광조사 마스크의 자외선 투과성(투과율)은 적합하게는 30~100%이며, 보다 적합하게는 70~100%이다. 광경화성 수지 조성물로서 자외선 경화성 수지를 이용한 경우, 광조사 마스크의 자외선 투과성이 너무 작으면 경화가 진행되지 않고, 구조 영역이 형성되지 않는 경우가 있다.
여기서, 광조사 마스크의 자외선 투과성(원하는 파장의 자외선에 대한 투과성)은 UV-VIS 분광 광도계(주식회사 시마즈 제작소 제 UV-3100)를 이용해 측정된 값이다.
(광조사 마스크의 원료)
광조사 마스크의 원료는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리(메타)아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리아세트산비닐, 폴리비닐알코올, 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리실리콘, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 폴리아세탈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 수지이다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올, 폴리아미드, 폴리아세트산비닐, 폴리올레핀은 UV 투과성과 가요성이 뛰어나기 때문에 보다 바람직하고, 특히 폴리비닐알코올, 폴리아미드, 폴리아세트산비닐은 산소 투과성이 낮기 때문에 더욱 바람직하며, 또한 폴리비닐알코올이 산소 투과성이 특히 낮기 때문에 가장 바람직하다.
아울러, 광조사 마스크는 상기 광조사 마스크의 원료인 수지 재료에 미립자를 배합시켜 헤이즈를 제어할 수 있다.
수지 재료에 배합 가능한 미립자는 평균 입경이 10㎛ 이하인 것이 적합하다. 10㎛를 초과하는 평균 입경의 경우, 헤이즈가 너무 커지거나 마스크의 산술 평균 조도가 너무 커지기 때문에, 이방성 광학 필름(이방성 확산층)의 표면 평활성을 저해시켜 버리게 되어, 바람직하지 않은 경우가 있다.
또한 이와 같은 평균 입경의 측정 방법으로서는 쿨터법이나, 레이저 회절 산란법 등의 기존의 기술을 적용할 수 있다.
또 미립자는 무기 미립자 또는 유기 미립자의 어느 하나여도 되고, 또 이들을 혼합하여 이용해도 된다.
무기 미립자로서는 특별히 한정되지 않지만, 금속 입자, 금속 산화물 입자, 점토 및 탄화물 입자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 무기 미립자인 것이 적합하다.
무기 미립자의 주된 구체적 예를 들면, 금속 입자로서는 구리, 은, 금, 니켈, 주석, 또는 스테인리스 등을 들 수 있고, 금속 산화물 입자로서는 산화 아연, 산화 알루미늄, 산화 마그네슘, 산화 지르코늄, 산화 티탄, 또는 산화 규소(예를 들면, 실리카) 등을 들 수 있고, 점토로서는 운모 또는 스멕타이트 등을 들 수 있으며, 탄화물 입자로서는 카본 또는 그래파이트 등을 들 수 있다.
또, 유기 미립자의 주된 구체적 예를 들면, 폴리스티렌 입자, 나일론 입자, 벤조구아나민 입자, 멜라민 입자, 아크릴 입자, 실리콘 입자, 또는 폴리이미드 입자 등을 들 수 있다.
상기 미립자의 군 중에서 가장 적합한 것은 입경이 작고, 분산이 용이하며, 산소 투과성을 저해하지 않고, 또한 미량 배합시, 큰 헤이즈 효과(헤이즈가 높음)를 얻을 수 있는 미립자로서, 카본을 들 수 있다.
미립자의 배합량은 특별히 제한은 없지만, 배합량이 너무 많으면 광조사 마스크(마스크 필름) 제조가 곤란해지거나, 얻어진 광조사 마스크의 산소 투과 계수 및 헤이즈가 악화되기 때문에 바람직하지 않다.
따라서 미립자의 배합량은 아울러 헤이즈의 영향을 고려해 수지 재료 100중량부에 대해서, 10중량부 이하로 배합하는 것이 적합하고, 5중량부 이하가 보다 적합하다.
또, 상기 미립자를 배합할 때에는 적절히 분산제를 첨가하는 것이 적합하고, 분산제에 의해 미립자를 세세하게 분산시킴으로써, 얻어지는 이방성 광학 필름의 외관상의 결함을 줄일 수 있다.
수지 재료에 미립자를 배합시킨 광조사 마스크의 제법은, 예를 들면 재료를 용매에 용해시켜, 유동성을 가지게 한 용액(도프)을 표면을 평활하게 한 드럼(캐스팅 드럼)이나 스테인리스제의 평활 벨트 위로 흘려 넣어 부착시키고, 이것을 가열하는 공정을 통해 용매를 증발시켜, 필름을 성형하는 용액 류연(流延)법 등의 기존의 기술을 적용할 수 있다.
여기서, 광조사 마스크 접합 공정으로서는 상술한 대로, 미경화 수지 조성물층 위에 광조사 마스크를 접합(접촉)시키면 좋기 때문에, 예를 들면 전술한 격벽을 마련해 기재 필름과 격벽과 광조사 마스크로 형성되는 공간 내에 미경화 상태의 광경화성 수지 조성물을 충전하는 등에 의해, 상기 도포 공정과 광조사 마스크 접합 공정을 동시에 실시하는 공정 등이어도 된다.
[경화 공정]
다음에, 미경화 수지 조성물층에 광조사 마스크를 통해서 광을 조사함으로써, 상기 미경화 수지 조성물층이 경화해 이방성 확산층(광경화성 수지 조성물층)을 형성한다.
미경화 수지 조성물층에 광조사를 실시하기 위한 광원으로서는 이용하는 광경화성 수지 조성물에 따라 상이하지만, 자외선 경화성의 수지 조성물을 이용하는 경우에는 통상은 쇼트 아크의 자외선 발생 광원이 사용되고, 구체적으로는 고압 수은등, 저압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프 등이 사용 가능하다.
미경화 수지 조성물층에 조사하는 광선은 상기 미경화 수지 조성물층을, 경화 가능한 파장을 포함하고 있는 것이 필요하고, 자외선 경화성의 수지 조성물을 이용하는 경우에는 통상은 수은등의 365nm를 중심으로 하는 파장의 빛이 이용된다. 이 파장대를 사용해 본 형태의 이방성 확산층을 제작하는 경우, 조도(照度)로서는 0.01~100mW/cm2의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1~20mW/cm2의 범위이다. 조도가 0.01mW/cm2 미만이면 경화에 장시간을 필요로 하기 때문에, 생산 효율이 나빠지고, 100mW/cm2 초과하면 광경화성 수지 조성물의 경화가 너무 빨라서 구조 형성을 일으키지 않고, 목적의 이방성 확산 특성을 발현할 수 없는 경우가 있기 때문이다.
UV의 조사 시간은 특별히 한정되지 않지만, 10~180초간, 보다 바람직하게는 30~120초간이다. 그 후, 광조사 마스크와 기재 필름을 박리함으로써, 본 형태에 관한 이방성 확산층을 얻을 수 있다.
본 발명의 이방성 확산층은 상술한 바와 같이 저조도 UV 광을 비교적 장시간 조사함으로써 미경화 수지 조성물층 중에 주상 영역이 형성됨으로써 얻어지는 것이다. 그 때문에, 이와 같은 광조사(UV 조사)만으로는 미반응의 모노머 성분이 잔존하고, 끈적임을 일으키거나 하고, 핸들링성이나 내구성에 문제가 있는 경우가 있다. 그러한 경우에는 1000mW/cm2 이상의 고조도의 빛(UV 광)을 추가 조사해 잔존 모노머를 중합시킬 수 있다. 이 때의 광조사(UV 조사)는 광조사 마스크측의 역측에서 실시하는 것이 바람직하다.
이와 같이, 본 형태에 관한 이방성 확산층의 제조 방법에서는 특정한 광조사 마스크를 광경화성 수지 조성물에 접합시키는 접합 공정을 마련함으로써, 무구조 영역을 가지지 않는 이방성 확산층을 형성 가능하게 하고 있다. 보다 상세하게는 본 형태에 관한 광조사 마스크에 의하면, 광조사 마스크가 특정한 헤이즈값이므로, 구조 형성(주상 영역 형성)의 계기로서 작용하고(입사되는 빛에 미세한 강도 분포가 생김), 또한 광조사 마스크에 의한 산소 저해에 의해, 이들이 상호적으로 작용하며, 미경화 수지 조성물의 표면 근방에서 구조 영역의 형성이 가능해진다{무구조 영역이 형성되지 않는(또는 형성되기 어려운)}. 그 결과, 마스크를 사용하지 않는 종래의 제조 방법, 또는 종래의 마스크를 이용한 제조 방법에서는 형성되어 버리는 무구조 영역이 존재하지 않으므로(또는 무구조 영역의 층 두께가 미소가 되므로), 이방성 확산층의 박막의 효율적 형성을 할 수 있고, 또한 박막이면서 요구되는 광학 특성을 유지할 수 있다.
이방성 광학 필름(이방성 확산층)의 확산 폭에 관해서, 우선 직선 투과율이 최대가 되는 입사각으로 이방성 확산층에 입사한 빛의 직선 투과율을 「최대 직선 투과율」, 직선 투과율이 최소가 되는 입사각으로 이방성 확산층에 입사한 빛의 직선 투과율을 「최소 직선 투과율」로 정의하는 것으로 한다.
여기서 상기 최대 직선 투과율과 최소 직선 투과율은 제조시의 설계 파라미터에 의해서 조정할 수 있다. 파라미터의 예로서는 도막의 조성, 도막의 막 두께, 및 구조 형성시에 부여하는 도막의 온도 등을 들 수 있다.
우선 도막의 조성에 관해서, 조성 성분의 적절한 선택이나 배합 조정 등을 실시함으로써, 최대 직선 투과율과 최소 직선 투과율의 조정을 실시하는 것이 가능해진다.
이어서 도막의 막 두께에 관해서, 막 두께를 두껍게 할수록 최대 직선 투과율 및 최소 직선 투과율은 낮아지기 쉽고, 막 두께를 얇게 할수록 최대 직선 투과율 및 최소 직선 투과율은 높아지기 쉬워지는 경향이 있기 때문에, 그것에 의해 조정을 실시하는 것이 가능해진다.
마지막에 도막의 온도에 관해서, 온도가 높을수록 최대 직선 투과율 및 최소 직선 투과율은 낮아지기 쉽고, 온도가 낮을수록 최대 직선 투과율 및 최소 직선 투과율은 높아지기 쉬워지는 경향이 있기 때문에, 그것에 의해 조정을 실시하는 것이 가능해진다.
최대 직선 투과율 및 최소 직선 투과율을 구할 때, 직선 투과광량과 직선 투과율은 도 3에 나타내는 방법에 따라 측정할 수 있다. 즉, 도 3에 나타낸 회전축 L과, 도 4의 (b) 또는 도 5의 (b)에 나타내는 이방성 광학 필름 샘플의 구조에서의 C-C 축을 일치시키도록 하고, 입사각마다 직선 투과광량 및 직선 투과율을 측정한다(법선 방향을 0°로 함). 얻어진 데이터로부터 광학 프로파일이 얻어지고, 이 광학 프로파일로부터 최대 직선 투과율 및 최소 직선 투과율을 구할 수 있다.
상기 수법에 의해, 이방성 광학 필름의 최대 직선 투과율과 최소 직선 투과율을 구하고 최대 직선 투과율과 최소 직선 투과율의 차이를 구한다. 이 차이의 중간값이 되는 직선을 광학 프로파일 위에 작성하고, 이 직선과 광학 프로파일이 교차하는 2개의 교점을 구하며, 그 교점에 대응하는 입사각을 판독한다. 광학 프로파일에서는 법선 방향을 0°로 하고, 입사각을 마이너스 방향 및 플러스 방향으로 나타내고 있다. 따라서, 입사각 및 교점에 대응하는 입사각은 마이너스의 값을 가지는 경우가 있다. 2개의 교점의 값이 플러스의 입사각 값과, 마이너스의 입사각 값을 가지는 것이면, 마이너스의 입사각 값의 절대값과 플러스의 입사각 값의 합이 입사광의 확산 각도 범위인 확산 폭이 된다.
2개의 교점의 값이 모두 플러스인 경우, 보다 큰 값으로부터 보다 작은 값을 뺀 차이가 확산 폭이 된다. 2개의 교점의 값이 모두 마이너스인 경우, 각각의 절대값을 취하고, 보다 큰 값으로부터 보다 작은 값을 뺀 차이가 확산 폭이 된다.
본 발명에 관한 이방성 광학 필름의 확산 폭은 35°~70°인 것이 적합하다. 확산 폭이 35° 미만이면 빛의 확산성이 불충분해져 문제가 생기는 경우가 있고, 확산 폭이 70°을 초과하면 빛의 집광성이 손상되는 경우가 있기 때문에 바람직하지 않다. 확산 폭은 40~60°인 것이 보다 적합하다.
≪이방성 광학 필름의 용도≫
본 형태에 관한 이방성 광학 필름은 프로젝터 스크린, 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전계 발광 디스플레이(ELD)나 음극관 표시 장치(CRT), 표면 전계 디스플레이(SED), 전자 페이퍼와 같은 표시 장치에 적용할 수 있다. 특히 바람직하게는 액정 표시 장치(LCD)에 이용된다. 또, 본 형태에 관한 이방성 광학 필름은 접착층이나 점착층을 통해서, 원하는 장소에 첩합하여 사용할 수도 있다. 또한, 본 형태에 관한 이방성 광학 필름을 투과형, 반사형, 또는 반투과형의 액정 표시 장치에 이용할 수도 있다.
[ 실시예 ]
이하의 방법에 따라 본 발명의 이방성 광학 필름 및 비교예의 이방성 광학 필름을 제조했다. 또한, 이하에서는 이방성 광학 필름은 이방성 확산층 1층만으로 이루어지는 필름으로 하고 있다.
<실시예 1~11 및 비교예 1~3에 관한 이방성 광학 필름의 제조>
두께 100㎛, 76×26mm 사이즈의 PET 필름(동양방주식회사 제, 상품명: A4100, 헤이즈=0.5%)를 기재 필름으로 하고, 그 연부 전주(全周)에 디스펜서를 사용해 광경화성 수지 조성물로 격벽을 형성했다. 형성한 격벽은 실시예에 따라 상이하며, 표 1에 나타낸다. 이 격벽의 높이는 대개 얻어지는 이방성 광학 필름의 두께에 상당하게 된다. 이 격벽 중에 하기의 광경화성 수지 조성물을 충전하고, UV 조사 마스크(광조사 마스크)로 커버했다. 다만, 비교예에서 UV 조사 마스크를 이용하지 않는 경우에는 커버를 하지 않고 이용했다.
·실리콘·우레탄·아크릴레이트(굴절률: 1.460, 중량 평균 분자량: 5, 890) 20중량부
(RAHN사 제, 상품명: 00-225/TM18)
·네오펜틸글리콜 디아크릴레이트(굴절률: 1.450) 30중량부
(다이셀·사이텍 주식회사 제, 상품명 Ebecryl145)
·비스페놀 A의 EO 부가물 디아크릴레이트(굴절률: 1.536) 15중량부
(다이셀·사이텍 주식회사 제, 상품명: Ebecryl150)
·페녹시에틸 아크릴레이트(굴절률: 1.518) 40중량부
(쿄에이샤 화학 주식회사 제, 상품명: 라이트 아크릴레이트 PO-A)
·2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 4중량부
(BASF사 제, 상품명: Irgacure651)
이 양면을 필름에 끼워진 각 두께의 액막(液膜)을 80℃로 가열한 핫 플레이트에 올리고, UV 조사 마스크측으로부터 UV 스팟 광원(하마마츠 포토닉스 주식회사 제, 상품명: L2859-01)의 낙사(落射)용 조사 유닛으로부터 출사되는 평행 광선(파장 365nm의 자외선)을 조사 강도 5mW/cm2로서 1분간 조사하고, 또한 기재 필름측으로부터 조사 강도 20mW/cm2의 UV 광을 조사하여 완전하게 경화시켰다. 그곳에서, 기재 필름 및 UV 조사 마스크를 벗겨 본 발명의 각 두께의 이방성 광학 필름을 얻었다.
<이방성 광학 필름의 확산성(헤이즈값)의 측정>
일본전색공업 주식회사 제의 헤이즈 미터 NDH-2000을 이용하고, JIS K7136에 준거해 헤이즈값을 측정했다. 헤이즈값이 높을수록 확산성이 높은 이방성 광학 필름이다.
<이방성 광학 필름의 확산 폭의 측정>
광원의 투광각, 수광기의 수광각을 임의로 가변할 수 있는 변각 광도계 고니오 포토 미터(주식회사 제네시아 제)를 이용하고, 실시예 및 비교예의 이방성 광학 필름의 평가를 실시했다. 광원으로부터의 직진광을 받는 위치에 수광부를 고정하고, 그 사이의 샘플 홀더에 실시예 및 비교예에서 얻어진 이방성 광학 필름을 세팅하였다. 도 3에 나타내는 바와 같이 회전축(L)으로 샘플을 회전시켜 각각의 입사각에 대응하는 직선 투과광량을 측정했다. 이 평가 방법에 의해서, 어느 각도의 범위에서 입사되는 빛이 확산하는지를 평가할 수 있다. 이 회전축(L)은 도 4에 나타내는 샘플의 구조(소위, 필러 구조)에서의 C-C축 또는 도 5에 나타내는 샘플의 구조(소위, 루버 로드 구조)에서의 C-C축과 동일한 축이다. 직선 투과광량의 측정은 시감도 필터를 이용해 가시광 영역의 파장(380nm~780nm)을 측정했다. 이와 같이 「확산 폭」이란, 최대 직선 투과율과 최소 직선 투과율의 중간값이 되는 직선 투과율에 대한, 입사광의 확산 각도 범위이다.
<이방성 광학 필름의 얼룩 결점, 눈부심, 거칠기의 평가>
이방성 광학 필름의 간섭(무지개)에 대해서는 투과광을 다양한 각도에서 육안으로 관찰해 얼룩, 눈부심(간섭 무지개), 거칠기를 평가했다.
<이방성 광학 필름의 단면 관찰>
이방성 광학 필름의 단면은 마이크로톰으로 얇게 절편화한 관찰용 샘플을 200배의 광학 현미경으로 관찰했다. 단면 관찰에서는 무구조 영역의 두께를 확인했다. 실시예 1, 실시예 3 및 비교예 1에 관한 단면 사진을 각각 도 6, 도 7 및 도 8로서 나타낸다. 여기서, 무구조 영역의 두께의 측정으로서는 이방성 광학 필름의 층으로서의 최외부에 대해서 대략 평행이 되는 선을 긋고, 그 평행선에 접촉하고 있는 주상체 영역(평행선에서 차지하는 주상 영역의 중복분의 길이의 비율)이 50% 이하가 되는 영역을 무구조 영역으로 했다.
실시예 및 비교예에서 사용한 격벽의 높이는 표 1 및 표 2에 나타낸다. 또, 사용한 UV 조사 마스크의 재질, 두께, 헤이즈값, 산술 평균 조도(Ra), 산소 투과 계수, 365nm에서의 자외선 투과성을 표 3 내지 6에 나타낸다. 또한, UV 조사 마스크의 헤이즈값, 광경화성 수지 조성물과 접하는 면의 표면 조도, 두께, 막 두께, 산소 투과 계수, 자외선 투과성은 전술한 방법에 따라 측정된 값이다.
Figure pat00001
Figure pat00002
Figure pat00003
Figure pat00004
Figure pat00005
Figure pat00006
얻어진 이방성 광학 필름의 두께, 헤이즈값, 확산 폭, 얼룩 결점, 눈부심(간섭 무지개), 거칠기, 무구조 영역의 유무의 평가 결과를 표 7 내지 10에 나타낸다. 또한, 표 7 이후에서는 이방성 광학 필름의 「두께」는 「구조 영역 + 무구조 영역의 합계의 두께」를 나타낸다.
Figure pat00007
Figure pat00008
Figure pat00009
Figure pat00010
표 7 내지 표 10에 나타내는 대로, 실시예의 이방성 광학 필름은 100㎛ 이하의 얇은 막 두께에서도 뛰어난 확산성과 확산 폭을 가지고 있고, 특히 실시예 6~9에서는 거의 30㎛의 막 두께로 높은 특성을 가지고 있다. 이와 같이 박막에서도 뛰어난 확산성과 확산 폭이 얻어지는 이유는 단면 관찰에서 무구조 영역이 없는(또는 무구조 영역이 매우 얇고 5㎛ 이하 정도인) 것이 원인이라고 생각된다. 추가로, 실시예 7에서는 얼룩 결점이나 눈부심(간섭 무지개), 거칠기도 없이 생산성이나 실용성이 뛰어난 이방성 광학 필름을 제작할 수 있는 것을 알 수 있다.
한편으로, 비교예 1~3의 이방성 광학 필름은 만족하는 광학 특성을 얻을 수 없을 뿐만 아니라, 무구조 영역이 있기 때문에, 쓸데없는 두께가 필요하다. 또한, 상기 무구조 영역을 삭성(削成)하기 위해서는 생산성, 비용적으로 뒤떨어지게 된다.

Claims (8)

  1. 광경화성의 미경화 수지 조성물층의 일면에 헤이즈값이 1.0~50%인 광조사 마스크를 접합하는 광조사 마스크 접합 공정과,
    상기 광조사 마스크 접합 공정 후, 상기 광조사 마스크를 통해서 빛을 조사함으로써 상기 미경화 수지 조성물층을 경화시켜 이방성 확산층을 형성시키는 경화 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 빛의 입사각에 의해 확산성이 변화하는 이방성 광학 필름의 제조 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 광조사 마스크는 자외선의 투과성을 가지고 있고, 또한 상기 광조사 마스크의 수지 재료는 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리(메타)아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리아세트산비닐, 폴리비닐알코올, 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리실리콘, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 폴리아세탈의 적어도 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이방성 광학 필름의 제조 방법.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 광조사 마스크의 표면 조도는 0.05~0.50㎛인 것을 특징으로 하는 이방성 광학 필름의 제조 방법.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 광조사 마스크의 두께는 1~100㎛인 것을 특징으로 하는 이방성 광학 필름의 제조 방법.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 광조사 마스크의 산소 투과 계수는 1.0×10-11cm3(STP)cm/(cm2·s·Pa) 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 광학 필름의 제조 방법.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 이방성 확산층은 매트릭스 영역과, 상기 매트릭스 영역의 빛의 굴절률은 상이한 복수의 주상 영역을 가지는 것을 특징으로 하는 이방성 광학 필름의 제조 방법.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 광조사 마스크는 미립자를 함유하고 있으며, 상기 미립자의 평균 입경이 10㎛ 이하이며, 상기 미립자가 적어도 무기 미립자 및 유기 미립자로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나의 미립자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이방성 광학의 필름 제조 방법.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 무기 미립자가 적어도 금속 입자, 금속 산화물 입자, 점토 및 탄화물 입자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기 미립자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이방성 광학의 필름 제조 방법.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018051700A1 (ja) * 2016-09-14 2018-03-22 株式会社巴川製紙所 反射型表示装置用光拡散フィルム積層体及びこれを用いた反射型表示装置
KR102372287B1 (ko) * 2016-09-14 2022-03-08 가부시키가이샤 도모에가와 세이시쇼 반사형 표시 장치용 광확산 필름 적층체 및 이것을 이용한 반사형 표시 장치
WO2018123772A1 (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 位相差フィルム、その製造方法、偏光板及び表示装置
JP6420425B1 (ja) 2017-07-27 2018-11-07 リンテック株式会社 積層体及び積層体の製造方法
JP6420426B1 (ja) 2017-07-27 2018-11-07 リンテック株式会社 積層体及び積層体の製造方法
CN108334223A (zh) * 2018-01-19 2018-07-27 昆山维信诺科技有限公司 显示装置及其制备方法及电子产品
JP7053306B2 (ja) * 2018-02-22 2022-04-12 リンテック株式会社 車内灯利用型表示体
JP6616921B1 (ja) * 2018-05-14 2019-12-04 株式会社巴川製紙所 ヘッドマウントディスプレイ
KR20210010441A (ko) * 2018-05-14 2021-01-27 가부시키가이샤 도모에가와 세이시쇼 헤드 마운트 디스플레이
JP6994647B2 (ja) 2018-06-28 2022-02-04 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 照明装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005265915A (ja) 2004-03-16 2005-09-29 Tomoegawa Paper Co Ltd 異方性拡散媒体及びその製造方法
JP4802707B2 (ja) 2005-05-17 2011-10-26 住友化学株式会社 光制御膜
JP2012011709A (ja) 2010-07-02 2012-01-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd 成形体の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4470599B2 (ja) * 2004-06-10 2010-06-02 三菱化学株式会社 ドライフィルムレジスト
JP4766949B2 (ja) * 2005-08-11 2011-09-07 三菱樹脂株式会社 帯電防止性粗面化離型用ポリエステルフィルム
JP5090861B2 (ja) * 2007-11-07 2012-12-05 株式会社巴川製紙所 異方性拡散媒体
JP2009179729A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Toray Ind Inc 離型用二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム
JP2010137464A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Unitika Ltd ポリアミド系積層フィルム
JP5960979B2 (ja) * 2010-12-16 2016-08-02 リンテック株式会社 光拡散フィルムおよび光拡散フィルムの製造方法
JP5738006B2 (ja) * 2011-03-01 2015-06-17 株式会社巴川製紙所 光学フィルム
KR102045391B1 (ko) * 2012-11-29 2019-11-15 가부시키가이샤 도모에가와 세이시쇼 이방성 광학 필름
WO2014178230A1 (ja) * 2013-04-30 2014-11-06 リンテック株式会社 ディスプレイ用光拡散フィルムおよびそれを用いた反射型表示装置
JP2014233967A (ja) * 2013-06-05 2014-12-15 ユニチカ株式会社 離型ポリエステルフィルム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005265915A (ja) 2004-03-16 2005-09-29 Tomoegawa Paper Co Ltd 異方性拡散媒体及びその製造方法
JP4802707B2 (ja) 2005-05-17 2011-10-26 住友化学株式会社 光制御膜
JP2012011709A (ja) 2010-07-02 2012-01-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd 成形体の製造方法

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