JP6713538B2 - 顔料分散液及びインクジェット用インク - Google Patents

Description

本発明は、顔料分散液及びインクジェット用インクに関する。

アゾ顔料は、色彩的特性である色相及び着色力に優れているため、様々な分野に広く使用されている。たとえば、アゾ顔料を水に分散させた顔料分散液は、インクジェット用インクなどに用いられている。
アゾ顔料を含む水系の顔料分散液として、特許文献１には、特定構造のアゾ顔料と、（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位を有するビニルポリマーとを含む水系顔料分散物が記載されている。
また、特許文献２には、特定構造のアゾ顔料と、（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位及び（メタ）アクリル酸に由来する繰り返し単位を有する高分子分散剤とを含む水系顔料分散液が記載されている。

日本国特開２０１１−７４３７６号公報 日本国特開２０１４−１６２８７５号公報

特許文献１及び２の水系顔料分散液は、特許文献１及び２に記載されたように優れた性能を示すものであるが、インクジェット用インクとして用い、連続吐出させた際に、インクジェットプリンターのヘッドのノズルが詰まる場合があることが分かった。また、吐出速度に関しても更なる検討の余地があることが分かった。
本発明が解決しようとする課題は、インクジェットプリンターで印画する際に連続吐出性及び吐出速度に優れ、かつ耐光性に優れた顔料分散液、並びにインクジェット用インクを提供することである。

本発明の上記課題は、以下の手段により解決された。
〔１〕
顔料、高分子分散剤、及び水を含有する顔料分散液であって、
上記顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、
上記高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有し、かつ主鎖の少なくとも１つの末端が下記一般式（３）で表される構造を有する高分子化合物を含む、顔料分散液。

一般式（１）中、
Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
Ｙ _１ 、Ｙ _２ 、Ｒ _１１ 及びＲ _１２ は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｙ _１ 及びＹ _２ が置換基を表す場合の置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、又はシリル基であり、これらの置換基は更に置換基を有していてもよい。
Ｒ _１１ 及びＲ _１２ が置換基を表す場合の置換基は、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数７〜１８のアラルキル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルケニル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルキニル基、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルケニル基、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルオキシ基、置換若しくは無置換のアリールオキシ基、置換若しくは無置換のアシルアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、置換若しくは無置換のアリールアミノ基、置換若しくは無置換のウレイド基、置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルチオ基、置換若しくは無置換のアリールチオ基、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニルアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基、置換若しくは無置換のカルバモイル基、置換若しくは無置換のスルファモイル基、置換スルホニル基、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、置換アゾ基、置換若しくは無置換のアシルオキシ基、置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、置換若しくは無置換のシリルオキシ基、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、置換イミド基、置換若しくは無置換のヘテロ環チオ基、置換若しくは無置換のスルフィニル基、置換若しくは無置換のホスホニル基、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換若しくは無置換のアシル基、スルホ基、ホスホノ基、又は４級アンモニウム基である。
Ｇ _１ 及びＧ _２ は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｗ _１ 及びＷ _２ は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（２−１）中、Ｒ _１ は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ _２ は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式（２−２）中、Ｒ _３ は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。

一般式（３）中、Ｌは置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、又は置換若しくは無置換の２価のヘテロ環基を表し、Ｒ _４ は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表し、＊は結合手を表す。
〔２〕
上記高分子分散剤の重量平均分子量が５，０００〜５０，０００である〔１〕に記載の顔料分散液。
〔３〕
上記高分子分散剤の重量平均分子量が７，０００〜２０，０００である〔１〕又は〔２〕に記載の顔料分散液。
〔４〕
上記高分子分散剤の酸価が１．６ｍｍｏｌ／ｇ以上２．６ｍｍｏｌ／ｇ以下である〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。
〔５〕
上記高分子分散剤の酸価が１．７ｍｍｏｌ／ｇ以上２．２ｍｍｏｌ／ｇ以下である〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。
〔６〕
上記顔料が、下記式（ｄ１）、式（ｄ２）、又は式（ｄ３）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料である〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。

〔７〕
上記顔料が上記式（ｄ１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料である〔６〕に記載の顔料分散液。
〔８〕
上記一般式（３）中のＲ _４ が置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。
〔９〕
上記一般式（３）中のＲ _４ が置換若しくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基を表す〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。
〔１０〕
上記一般式（３）中のＬが置換若しくは無置換の炭素数１〜５のアルキレン基を表す〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。
〔１１〕
上記一般式（２−１）中のＲ _１ がメチル基を表し、Ｒ _２ がベンジル基を表す〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。
〔１２〕
更に、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、ヘキシレングリコール、ジグリセロール、ジプロピレングリコール、２−ピロリドン、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソプロパノールから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する〔１〕〜〔１１〕のいずれか１項に記載の顔料分散液。
〔１３〕
〔１〕〜〔１２〕のいずれか１項に記載の顔料分散液を含有するインクジェット用インク。
本発明は、上記〔１〕〜〔１３〕に係る発明であるが、以下、それ以外の事項についても参考のため記載している。

＜１＞
顔料、高分子分散剤、及び水を含有する顔料分散液であって、
上記顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、
上記高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有し、かつ主鎖の少なくとも１つの末端が下記一般式（３）で表される構造を有する高分子化合物を含む、顔料分散液。

一般式（１）中、
Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。

一般式（３）中、Ｌは連結基を表し、Ｒ_４は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表し、＊は結合手を表す。
＜２＞
上記高分子分散剤の重量平均分子量が５，０００〜５０，０００である＜１＞に記載の顔料分散液。
＜３＞
上記高分子分散剤の重量平均分子量が７，０００〜２０，０００である＜１＞又は＜２＞に記載の顔料分散液。
＜４＞
上記高分子分散剤の酸価が１．６ｍｍｏｌ／ｇ以上２．６ｍｍｏｌ／ｇ以下である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜５＞
上記高分子分散剤の酸価が１．７ｍｍｏｌ／ｇ以上２．２ｍｍｏｌ／ｇ以下である＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜６＞
上記顔料が、下記式（ｄ１）、式（ｄ２）、又は式（ｄ３）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料である＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。

＜７＞
上記顔料が上記式（ｄ１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料である＜６＞に記載の顔料分散液。
＜８＞
上記一般式（３）中のＲ_４が置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜９＞
上記一般式（３）中のＬが置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、又は置換若しくは無置換の２価のヘテロ環基を表す＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜１０＞
上記一般式（３）中のＲ_４が置換若しくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基を表す＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜１１＞
上記一般式（３）中のＬが置換若しくは無置換の炭素数１〜５のアルキレン基を表す＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜１２＞
上記一般式（２−１）中のＲ_１がメチル基を表し、Ｒ_２がベンジル基を表す＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜１３＞
更に、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、ヘキシレングリコール、ジグリセロール、ジプロピレングリコール、２−ピロリドン、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソプロパノールから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の顔料分散液。
＜１４＞
＜１＞〜＜１３＞のいずれか１項に記載の顔料分散液を含有するインクジェット用インク。

本発明によれば、インクジェットプリンターで印画する際に連続吐出性及び吐出速度に優れ、かつ耐光性に優れた顔料分散液、並びにインクジェット用インクを提供することができる。

〔顔料分散液〕
本発明の顔料分散液は、
顔料、高分子分散剤、及び水を含有する顔料分散液であって、
上記顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、
上記高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有し、かつ主鎖の少なくとも１つの末端が下記一般式（３）で表される構造を有する高分子化合物を含む、顔料分散液である。

一般式（１）中、
Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。

一般式（３）中、Ｌは連結基を表し、Ｒ_４は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表し、＊は結合手を表す。

本発明の顔料分散液が、インクジェットプリンターで印画する際に連続吐出性に優れる要因は詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推定している。
インクを連続して吐出した際の吐出不良は、顔料分散液に含まれる分散剤が顔料から脱着し、顔料の分散安定性が低下することによって、ヘッドのノズル中で凝集体が生じることが原因と考えられる。本発明の顔料分散液においては、アミノ基を基点とした分子内水素結合を形成しているアゾ顔料に対して、主鎖の少なくとも１つの末端にエステル基を導入した高分子分散剤を用いることにより、分散剤の顔料への吸着力が高くなり、顔料分子の凝集を抑制することで、インクの連続吐出性が良好になるものと考えている。

以下に、本発明の顔料分散液に用いる各成分につき説明する。

（顔料）
本発明の顔料分散液に含有される顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料である。

一般式（１）中、
Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（１）で表される化合物は、その特異的な構造により分子内及び分子間相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を形成しやすく耐光性に優れ、水又は有機溶媒等に対する溶解性が低く、好ましい形態のアゾ顔料とすることができる。顔料は、媒体中に分子集合体等の粒子として分散させて用いられる。

一般式（１）において、Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアルキル基を表す場合のアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。直鎖又は分岐状の置換若しくは無置換のアルキル基としては、好ましくは、置換若しくは無置換の炭素数１から３０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられる。置換若しくは無置換のシクロアルキル基としては、好ましくは、置換若しくは無置換の炭素数３から３０のシクロアルキル基であり、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられる。置換若しくは無置換のビシクロアルキル基としては、好ましくは、置換若しくは無置換の炭素数５から３０のビシクロアルキル基であり、すなわち、置換若しくは無置換の炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。アルキル基が有していてもよい置換基については後で更に詳述する。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアルコキシ基を表す場合のアルコキシ基としては、好ましくは炭素数１から３０のアルコキシ基であり、炭素数１から８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１から４のアルコキシ基が更に好ましい。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられ、特に好ましくはメトキシ基である。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。置換基については後述する。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアミノ基を表す場合の置換若しくは無置換のアミノ基としては、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基が好ましく、より好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０のアルキルアミノ基、炭素数６から３０のアニリノ基であり、更に好ましくは、アミノ基、炭素数１から８のアルキルアミノ基、炭素数６から１８のアニリノ基であり、特に好ましくは、アミノ基、炭素数１から４のアルキルアミノ基、炭素数６から１２のアニリノ基である。置換若しくは無置換のアミノ基としては、例えば、アミノ基（−ＮＨ_２）、メチルアミノ基（−ＮＨＣＨ_３）、ジメチルアミノ基｛−Ｎ（ＣＨ_３）_２｝、アニリノ基（−ＮＨＰｈ）、Ｎ−メチル−アニリノ基｛−Ｎ（ＣＨ_３）Ｐｈ｝、ジフェニルアミノ基｛−Ｎ（Ｐｈ）_２｝等が挙げられ、特に好ましくはアミノ基である。Ｐｈはフェニル基を表す。アミノ基が有していてもよい置換基については後で更に詳述する。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアリール基を表す場合のアリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０のアリール基であり、炭素数６から１８のアリール基がより好ましく、炭素数６から１２のアリール基が更に好ましい。置換若しくは無置換のアリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。アリール基が有していてもよい置換基については後で更に詳述する。

Ｗ_１、Ｗ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基又は置換若しくは無置換のアルキル基を表すことが好ましく、置換若しくは無置換のアルコキシ基又は置換若しくは無置換のアミノ基を表すことがより好ましく、総炭素数５以下のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ_２基）、又は総炭素数５以下のアルキルアミノ基を表すことが更に好ましく、総炭素数３以下のアルコキシ基又は総炭素数３以下のアルキルアミノ基を表すことが特に好ましく、メトキシ基を表すことが最も好ましい。

一般式（１）において、Ｒ_１１、Ｒ_１２はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｒ_１１、Ｒ_１２が置換基を表す場合の置換基としては、置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、置換若しくは無置換の炭素数１〜１２の直鎖又は分岐状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチルスルホニルエチル、３−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル）、置換若しくは無置換の炭素数７〜１８のアラルキル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルケニル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルキニル基、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル）、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルケニル基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、置換若しくは無置換のヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、置換若しくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ）、置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、置換若しくは無置換のアルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、置換若しくは無置換のアリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、置換若しくは無置換のウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、置換若しくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、置換若しくは無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、置換若しくは無置換のカルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、置換若しくは無置換のスルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、置換スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、置換アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、置換若しくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、置換若しくは無置換のシリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、置換イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、置換若しくは無置換のヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、置換若しくは無置換のスルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、置換若しくは無置換のホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、置換若しくは無置換のアシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。

Ｒ_１１、Ｒ_１２はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の総炭素数１〜８のアシルアミノ基、置換若しくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換若しくは無置換の総炭素数４〜１２のヘテロ環基を表すことが好ましく、総炭素数１〜８の直鎖又は分岐状のアルキル基、又は置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基を表すことがより好ましく、総炭素数１〜８の直鎖又は分岐状のアルキル基が好ましい。具体的には、メチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、特にｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。

一般式（１）において、Ｚは置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表し、好ましくは、炭素数３から１０の６員含窒素ヘテロ環である。２つの置換基が互いに結合して縮環を形成してもよい。なお、置換基については後述する。

Ｚが表す５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環としては、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピロリン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環などが挙げられる。５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環の２つの置換基が互いに結合して形成される縮環としては、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイソオキサゾール環などが挙げられる。

Ｚは好ましくは、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、イミダゾール環であり、より好ましくは、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環であり、特に色相、着色力、画像堅牢性の点から、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環が好ましく、更にピリミジン環、２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジン環が色相と画像堅牢性の点から好ましく、特に２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジン環が良好な画像の光堅牢性向上の点から最も好ましい。

一般式（１）において、Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０）、置換若しくは無置換のアラルキル基（好ましくは炭素数７〜２０）、置換若しくは無置換のアルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０）、置換若しくは無置換のアルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０）、置換若しくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数２〜２０）、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２０）を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基、ベンジル基、２−フェネチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、又はピラジニル基を表すことが好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、又はピラジニル基を表すことがより好ましく、総炭素数１〜８の直鎖若しくは分岐状のアルキル基、２−ピリジル基、２，６−ピリミジニル基、２，５−ピラジニル基、又はフェニル基を表すことが更に好ましく、総炭素数３以下のアルキル基がより好ましい。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基、フェニル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点からメチル基が特に好ましい。

一般式（１）において、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２が置換基を表す場合の置換基の例は、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
Ｙ_１及びＹ_２として特に好ましくは、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基）アリール基（例えば、フェニル基）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基）であり、更に水素原子、総炭素数１〜４の直鎖又は分岐アルキル基、フェニル基、メチルチオ基であることが好ましい。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点から水素原子が特に好ましい。

一般式（１）において、Ｇ_１、Ｇ_２、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｗ_１、Ｗ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｚが、更に置換基を有する場合の置換基としては、下記の置換基（以下「置換基Ｊ」と称する場合がある）を挙げることができる。

（置換基Ｊ）
置換基Ｊとしては、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。

更に詳しくは、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。

アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。

アラルキル基としては、置換若しくは無置換のアラルキル基が挙げられ、置換若しくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。例えばベンジル基及び２−フェネチル基を挙げられる。

アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。詳細には、アルケニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等が挙げられる。

アルキニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。

アリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。

ヘテロ環基としては、好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。

アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。

シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から２０の置換若しくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。

ヘテロ環オキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。

アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。

アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。

アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。

ヘテロ環チオ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基等が挙げられる。

スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。

アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等が挙げられる。

アリール又はヘテロ環アゾ基としては、好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基等が挙げられる。

イミド基としては、好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基等が挙げられる。

ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。

ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。

ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。

ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。

シリル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、その水素原子が更に上記の置換基で置換されていても良い。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

一般式（１）で表される化合物の具体例としては、特開２０１１−７４３７６号公報の［０１２４］〜［０１３９］に記載された化合物が参照できる。
本発明における顔料は、下記式（ｄ１）、式（ｄ２）、又は式（ｄ３）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料であることが好ましく、下記式（ｄ１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料であることがより好ましい。

本発明で用いる顔料に結晶多形が存在する場合、どの多形であってもよく、また２種以上の多形の混合物であっても良いが、結晶型が単一のものを主成分とすることが好ましい。すなわち結晶多形が混入していないものが好ましく、単一の結晶型を有する顔料の含有量は顔料全体に対し７０％〜１００％、好ましくは８０％〜１００％、より好ましくは９０％〜１００％、更に好ましくは９５％〜１００％、特に好ましくは１００％である。

本発明で用いる顔料は、一般式（１）で表される化合物の互変異性体を含むものであってもよい。
一般式（１）は、化学構造上取りうる数種の互変異性体の中から極限構造式の形で示しているが、記載された構造以外の互変異性体であってもよく、複数の互変異性体を含有した混合物として用いても良い。
例えば、一般式（１）で表される化合物には、下記一般式（１’）で表されるアゾ−ヒドラゾンの互変異性体が考えられる。

一般式（１’）中、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｗ_１、Ｗ_２、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｇ_１、Ｇ_２及びＺは一般式（１）中のＲ_１１、Ｒ_１２、Ｗ_１、Ｗ_２、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｇ_１、Ｇ_２及びＺと同義である。

一般式（１）で表される化合物は、酸基を有する場合には、酸基の一部あるいは全部が塩型のものであってもよく、塩型の化合物と遊離酸型の化合物が混在していてもよい。塩型の例としてＮａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等のアルカリ土類金属の塩、アルキル基若しくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、又は有機アミンの塩が挙げられる。有機アミンの例として、低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換低級アルキルアミン、カルボキシ置換低級アルキルアミン及び炭素数２〜４のアルキレンイミン単位を２〜１０個有するポリアミン等が挙げられる。これらの塩型の場合、その種類は１種類に限られず複数種混在していてもよい。

一般式（１）で表される化合物は、その１分子中に酸基が複数個含まれる場合は、その複数の酸基は塩型あるいは遊離酸型であり互いに異なるものであってもよい。

本発明で用いる顔料は、結晶中に水分子を含む水和物であっても良い。

本発明で用いる顔料は、一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の分子の集合体が微粒子の形態となったものである。顔料中の一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の含有率は、８０質量％以上であることが好ましい。
本発明で用いられる一般式（１）で表される化合物の合成方法、及び顔料の製造方法（ソルベントソルトリミング等の後処理を含む）としては、特開２０１１−７４３７６号公報の［０１５３］〜［０１５９］の記載を参照することができる。

本発明の顔料分散液中の顔料の含有量は、顔料分散液全体に対して、０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。

（高分子分散剤）
本発明の顔料分散液が含有する高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有し、かつ主鎖の少なくとも１つの末端が下記一般式（３）で表される構造を有する高分子化合物を含む。

一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。

一般式（３）中、Ｌは連結基を表し、Ｒ_４は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表し、＊は結合手を表す。

上記一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｒ_１は水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。置換メチル基が有する置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。

上記一般式（２−１）中、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
置換若しくは無置換のアルキル基としては、置換若しくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数１〜２０のアルキル基がより好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２―エチルヘキシル基、又は２−フェノキシエチル基であることが好ましい。
置換若しくは無置換のアラルキル基としては、置換若しくは無置換の炭素数７〜３０のアラルキル基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数７〜２０のアラルキル基がより好ましく、具体的にはベンジル基又は２−フェネチル基であることが好ましい。
置換若しくは無置換のアリール基としては、置換若しくは無置換の炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数６〜２０のアリール基がより好ましく、具体的にはフェニル基、ｐ−トリル基、又はナフチル基であることが好ましい。
上記アルキル基、アラルキル基、及びアリール基が、置換基を有する場合の置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。

Ｒ_２はベンジル基、メチル基、２−エチルヘキシル基、又は２−フェノキシエチル基であることが好ましく、より好ましくはベンジル基である。

一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｒ_３は水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。置換メチル基が有する置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。
一般式（２−２）中、Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。Ｍがカウンターカチオンを表す場合、カウンターカチオンとしては、ナトリウムイオン、リチウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、４級アンモニウムカチオン等の有機カチオンが挙げられる。有機カチオンの例として、低級アルキルアンモニウムカチオン、ヒドロキシ置換低級アルキルアンモニウムカチオン、カルボキシ置換低級アルキルアンモニウムカチオン及び炭素数２〜４のアルキレンイミン単位を２〜１０個有する有機カチオン等が挙げられる。
一般式（２−２）中のＭは、すべてが水素原子であっても良いし、すべてがカウンターカチオンであっても良いし、一部が水素原子で一部がカウンターカチオンであっても良い。水素原子とカウンターカチオンが混在する場合、水への溶解性の観点から、水素原子とカウンターカチオンの比率（水素原子／カウンターカチオンのモル比率）７０／３０〜０／１００が好ましい。また、カウンターカチオンは１種でも良いし、２種以上が混在していても良い。

次に、一般式（３）について説明する。

一般式（３）中のＬが表す連結基としては、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、置換若しくは無置換の２価のヘテロ環基が挙げられ、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、又は置換若しくは無置換の２価のヘテロ環基であることが好ましく、置換若しくは無置換のアルキレン基であることが更に好ましい。
置換若しくは無置換のアルキレン基としては、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数１〜５のアルキレン基であることがより好ましく、具体的にはメチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｉ−プロピレン基、ｔ−ブチレン基等が挙げられ、メチレン基又はエチレン基であることがより好ましい。
置換若しくは無置換のアリーレン基としては、置換若しくは無置換の炭素数６〜３０のアリーレン基が好ましく、具体的にはフェニレン基であることが好ましい。
置換若しくは無置換の２価のヘテロ環基としては、置換若しくは無置換の炭素数２〜１０のヘテロ環が好ましく、２−ピリジル基であることが更に好ましい。
上記アルキレン基、アリーレン基、及び２価のヘテロ環基が、置換基を有する場合の置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。

一般式（３）において、Ｒ_４は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｒ_４は置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基であることが好ましく、置換若しくは無置換のアルキル基であることがより好ましい。
置換若しくは無置換のアルキル基としては、置換若しくは無置換の炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、又は２―エチルヘキシル基であることが好ましく、メチル基、ｎ−ブチル基、エチル基、i―プロピル基、又は２−エチルヘキシル基であることがより好ましい。また、アルキル基としては直鎖又は分岐状のアルキル基が好ましい。
置換若しくは無置換のアリール基としては、置換若しくは無置換の炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、具体的にはフェニル基であることが好ましい。
上記アルキル基、アリール基、及びヘテロ環基が、置換基を有する場合の置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。

高分子分散剤は、上記一般式（２−１）で表される繰り返し単位と上記一般式（２−２）で表される繰り返し単位とを有するものであるが、上記一般式（２−１）で表される繰り返し単位／上記一般式（２−２）で表される繰り返し単位、として表される、高分子分散剤１分子中に含まれる各モノマー単位の含有比率（モル比率）が、５０／５０〜９０／１０であることが好ましく、６０／４０〜８０／２０であることがより好ましい。５０／５０以上であれば、顔料粒子への吸着基として作用する一般式（２−１）の繰返し単位が十分あるために顔料への吸着性が向上し、９０／１０以下であれば、水への溶解性が適切になり、水系で顔料に吸着しやすくなると考えられる。顔料への吸着性が向上すると、連続吐出性が向上するため、上記に範囲が好ましい。
高分子分散剤中に含まれる上記一般式（２−１）で表される繰り返し単位、及び上記一般式（２−２）で表される繰り返し単位は、それぞれ１種であってもよく、２種以上であってもよい。

高分子分散剤の酸価は、１．６ｍｍｏｌ／ｇ以上２．６ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、１．７ｍｍｏｌ／ｇ以上２．２ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。高分子分散剤の酸価が１．６ｍｍｏｌ／ｇ以上であれば、水への溶解性が適切になり、顔料に吸着しやすくなり、インクの連続吐出性が良好になるため好ましい。また、高分子分散剤の酸価が２．６ｍｍｏｌ／ｇ以下であれば、溶媒への親和性が高くならず、顔料に吸着しやすくなるため、インクの連続吐出性が良好になるため好ましい。
酸価は、カウンターカチオンを加える前のフリー体を、自動滴定装置ＣＯＭ−２５００（平沼産業製）を用いて、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を滴定して測定した。

高分子分散剤は、主鎖の少なくとも１つの末端が上記一般式（３）で表される構造を有する。
上記一般式（３）で表される構造は、後述のように、上記一般式（３）で表される構造を含む連鎖移動剤を高分子分散剤の合成時に用いることにより、高分子化合物の主鎖の少なくとも１つの末端に導入することが可能である。

高分子分散剤は、主鎖の１つの末端が上記一般式（３）で表される構造であってもよく、主鎖の両末端が上記一般式（３）で表される構造であってもよい。
主鎖の１つの末端が上記一般式（３）で表される構造である場合、もう片側の末端の構造は特に限定されるものではないが、顔料への吸着力の観点から、カルボニル基を有する構造であることが好ましい。カルボニル基を有する構造は、後述のように、カルボニル基を有する構造を含む重合開始剤を高分子分散剤の合成時に用いることにより、高分子化合物の主鎖の１つの末端に導入することが可能である。

高分子分散剤は、更に他の繰り返し単位を含有していてもよい。他の繰り返し単位としてはスチレン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。高分子分散剤が、他の繰り返し単位を含有する場合、他の繰り返し単位の含有量としては、高分子分散剤の全繰り返し単位に対して、０．１モル％〜２０モル％が好ましい。

本発明に用いられる高分子分散剤は、どのような適切な手段によって製造されてもよいが、上記一般式（２−１）で表されるモノマー、及び上記一般式（２−２）で表されるモノマーをフリーラジカル重合にて共重合することが好ましい。適切なフリーラジカル重合は、懸濁重合、溶液重合、分散重合、乳化重合等、特に限定されないが、好ましくは溶液重合である。
重合の際には、ラジカル重合開始剤を用いることができる。ラジカル重合開始剤の例としては、特開２００６−０８５０４９号公報の段落番号［０１３５］〜［０２０８］に記載されたラジカル重合開始剤を挙げることができる。例えば、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）アシルフォスフィンオキサイド化合物、（ｃ）芳香族オニウム塩化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）チオ化合物、（ｆ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｇ）ケトオキシムエステル化合物、（ｈ）ボレート化合物、（ｉ）アゾ化合物、（ｊ）メタロセン化合物、（ｋ）活性エステル化合物、（ｌ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、（ｍ）α−アミノケトン化合物、及び（ｎ）アルキルアミン化合物等が挙げられる。具体的には（２−エチルヘキサノイル）（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシド、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、等が挙げられる。特に、カルボニル基を分子構造中に有する重合開始剤は、重合反応において高分子分散剤の主鎖の片末端に導入されることで、高分子分散剤の顔料への吸着力が高くなり好ましい。好ましい重合開始剤としては、市販品を用いることもでき、例えば、「パーブチル−Ｏ」（日油（株）製）、「Ｖ−６０１」（和光純薬工業（株）製）等が挙げられる。
使用するラジカル重合開始剤の量としては、重合に供されるモノマー１モルに対して、０．００１〜５モルが好ましく、０．０１〜２モルがより好ましい。

また、高分子分散剤の重合の際には、さらに上記一般式（３）で表される構造を含む連鎖移動剤を用いて、主鎖の少なくとも１つの末端が上記一般式（３）で表される構造を有する高分子分散剤を製造することが好ましい。

上記一般式（３）で表される構造を含む連鎖移動剤としては、下記一般式（３’）で表される連鎖移動剤が挙げられる。

一般式（３’）中、Ｌは連結基を表し、Ｒ_４は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。

一般式（３’）中のＬ及びＲ_４は、一般式（３）におけるＬ及びＲ_４と同義であり、好ましい例も同様である。

上記一般式（３’）で表される連鎖移動剤としては、例えば、３−メルカプトプロピオン酸ブチル、３−メルカプトプロピオン酸−２−エチルヘキシル、３−メルカプトプロピオン酸メチル、チオグリコール酸メチル、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸ブチル、チオグリコール酸−２−エチルヘキシル、チオグリコール酸−３−メトキシブチル、チオグリコール酸オクチルが挙げられ、３−メルカプトプロピオン酸ブチル、３−メルカプトプロピオン酸−２−エチルヘキシル、３−メルカプトプロピオン酸メチル、チオグリコール酸メチル、チオグリコール酸エチルがより好ましい。

使用する連鎖移動剤の量としては、吐出安定性及び光沢性に優れた顔料分散液及びインクジェット用インクを得る観点及び顔料の分散安定性を向上させる観点から、重合に供される全モノマー１モルに対して、０．０００１〜０．２０モルであることが好ましい。また、耐水性、耐擦過性、吐出安定性及び耐にじみ性に優れた顔料分散液及びインクジェット用インクを得る観点から、重合に供される全モノマー１モルに対して、好ましくは０．００１〜０．１０モル、より好ましくは０．００５〜０．０８モルである。

高分子分散剤の重合においては、通常、重合温度は、好ましくは５０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１２０℃であり、重合時間は、好ましくは１〜２４時間である。また、重合雰囲気は、窒素ガス、アルゴン等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。
重合反応は、重合開始剤、原料となるモノマー及び連鎖移動剤を重合溶媒に添加して調整した溶液を反応容器内に滴下することで行う、あるいは重合開始剤を重合溶媒に添加して調製した開始剤溶液と、原料となるモノマー及び連鎖移動剤を重合溶媒に添加して調製したモノマー溶液とを、重合溶媒を添加した反応容器内にそれぞれ滴下混合する等により行うことが好ましい。
重合反応終了後、反応溶液から再沈殿、溶媒留去等の公知の方法により、精製した高分子分散剤を単離することができる。また、得られた高分子分散剤は、再沈殿を繰り返す、膜分離、クロマトグラフ法、抽出法等により、未反応モノマー等を除去して精製することができる。

重合溶媒としては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、ヘキシレングリコール、ジグリセロール、ジプロピレングリコール、２−ピロリドン、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソプロパノールなどが挙げられる。
本発明においては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、ヘキシレングリコール及びジグリセロールから選択される少なくとも１種を重合溶媒として用いることが好ましい態様の１つである。上記重合溶媒のうち、１，２−ヘキサンジオールを用いることが最も好ましい。
顔料分散液の分散性は、分散液中の溶媒に対する顔料の濡れ性が関与していると考えられ、１，２−ヘキサンジオールが本発明における顔料に対する親和性が高いと推定されるため、高分子分散剤の重合溶媒として１，２−ヘキサンジオールを用いると、分散性が向上すると考えられる。

高分子分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は４，０００〜５０，０００であることが好ましく、５，０００〜２０，０００であることがより好ましい。高分子分散剤の重量平均分子量が４，０００以上であると、印画物の画質が優れ好ましい。高分子分散剤の重量平均分子量が５０，０００以下であると、顔料分散液及びインクジェット用インクの粘度が高くなるのを抑制でき、インクの吐出速度を早くすることができ、好ましい。また、インクの貯蔵安定性の低下を防ぐことができ、好ましい。
インクの吐出速度は、インクの粘度と相関する傾向があり、インクの粘度は、顔料分散液中の高分子分散剤の分子量と密接に関連し、高分子分散剤の分子量が低いほど低粘度となると考えられる。したがって、高分子分散剤の重量平均分子量を上記特定の範囲とすることで、インクの粘度を低く抑えることができ、吐出速度を速くできると考えられる。
本明細書において、樹脂の重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法により測定したポリスチレン換算値である。ＧＰＣは、ＨＬＣ−８2２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨＸＬ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ４０００ＨＸＬ、およびＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ（東ソー（株）製、７．８ｍｍＩＤ×３０．０ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いて測定した。

本発明の顔料分散液中の高分子分散剤の含有量は、顔料１００質量部に対して１０〜１００質量部の範囲であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０質量部の範囲であり、さらに好ましくは３０〜６０質量部の範囲である。
高分子分散剤の含有量が顔料１００質量部に対して１０質量部以上であることにより、効率的に顔料を分散させることができ好ましい。また、高分子分散剤の含有量が顔料１００質量部に対して１００質量部以下であることにより、生産性が上がり経済的なため、好ましい。
高分子分散剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（水）
本発明の顔料分散液は水を含有する。
水としては、水道水や井水等であってもよく、特に制限はないが、例えば、イオン交換水、限外ろ過水、逆浸透水、蒸留水等の純水又は超純水が好ましい。更に、カビやバクテリア等の発生を防ぐ目的で、紫外線処理、過酸化水素水処理等により滅菌された水を用いることも好ましい。
顔料分散液中の水の含有量は、顔料分散液全体に対して、２０〜９８質量％であることが好ましく、３０〜９０質量％であることがより好ましい。

（その他の成分）
本発明の顔料分散液は、上記顔料、上記高分子分散剤、及び水に加え、その他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、有機溶媒、防腐剤等が挙げられる。

（有機溶媒）
有機溶媒としては、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒及びエーテル系溶媒が好ましく挙げられ、水に対する溶解度が２０℃において、５０質量％以下でかつ１０質量％以上のものが好ましい。
アルコール系溶媒としては、エタノール、イソプロパノール、ｎ-ブタノール、第３級ブタノール、イソブタノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。これらの溶媒の中では、イソプロパノール、アセトン及びメチルエチルケトンが好ましく、特に、メチルエチルケトンが好ましい。これらの溶媒は、それぞれ単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
また、有機溶媒として、上記高分子分散剤を合成する際に用いた重合溶媒が含まれていることも好ましく、具体的には、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、ヘキシレングリコール、ジグリセロール、ジプロピレングリコール、２−ピロリドン、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソプロパノールから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、及びジグリセロールから選択される少なくとも１種であることが特に好ましく、１，２−ヘキサンジオールであることが最も好ましい。
顔料分散液中の上記有機溶媒の含有量としては、０．０１〜３０質量％であることが好ましい。

（防腐剤）
本発明の顔料分散液は防腐剤を含有していてもよい。防腐剤とは微生物、特に細菌及び真菌（カビ）の発生、発育を防止する機能を有するものをいう。
防腐剤としては、重金属イオンを含有する無機物系の防腐剤（銀イオン含有物など）や塩類を挙げることができる。また、有機系の防腐剤としては、第四級アンモニウム塩（テトラブチルアンモニウムクロリド、セチルピリジニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド等）、フェノール誘導体（フェノール、クレゾール、ブチルフェノール、キシレノール、ビスフェノール等）、フェノキシエーテル誘導体（フェノキシエタノール等）、ヘテロ環化合物（ベンゾトリアゾール、プロキセル（ＰＲＯＸＥＬ）、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン等）、酸アミド類、カルバミン酸、カルバメート類、アミジン・グアニジン類、ピリジン類（ナトリウムピリジンチオン−１−オキシド等）、ジアジン類、トリアジン類、ピロール・イミダゾール類、オキサゾール・オキサジン類、チアゾール・チアジアジン類、チオ尿素類、チオセミカルバジド類、ジチオカルバメート類、スルフィド類、スルホキシド類、スルホン類、スルファミド類、抗生物質類（ペニシリン、テトラサイクリン等）、デヒドロ酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、及び、その塩など種々のものが使用可能である。
また、防腐剤としては、防菌防微ハンドブック（技報堂出版（株）：１９８６）、防菌防黴剤事典（日本防菌防黴学会事典編集委員会編）等に記載のものも使用することができる。

これらの化合物は、油溶性の構造、水溶性の構造のものなど種々のものが使用可能であるが、好ましくは水溶性の化合物である。
防腐剤としては、フェノール誘導体、又は複素環化合物が好ましく、複素環化合物が更に好ましい。
複素環化合物としては、チアゾール系化合物又はベンゾトリアゾール系化合物であることが好ましい。チアゾール系化合物は、防腐剤の中でも、特に防黴剤として機能する。チアゾール系化合物としては、ベンズイソチアゾリン、イソチアゾリン、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−（チオシアノメチルチオ）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズチアゾール及び３−アリルオキシ−１，２−ベンズイソチアゾール−１，１−オキシド等を挙げることができる。また、チアゾール系防黴剤としては、アーチ・ケミカルズ（株）より製造販売されているＰＲＯＸＥＬ（商標）シリーズ（ＢＤＮ、ＢＤ２０、ＧＸＬ、ＬＶ、ＸＬ２及びＵｌｔｒａ１０等）を使用することもできる。

ベンゾトリアゾール系化合物は、防腐剤の中でも、特に防錆剤として機能し、例えばインクジェットヘッドを構成する金属材料（特に４２合金（４２％ニッケルを含有するニッケル−鉄合金））がインクとの接触を原因の一つとする錆の発生を防止することができる。ベンゾトリアゾール系化合物としては、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、４−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩等を挙げることができる。

防腐剤は単独でも２種以上を組み合わせ水溶液に添加することができる。
防腐剤が、複素環化合物、フェノール誘導体、フェノキシエーテル誘導体、及び、アルカンジオール類よりなる群から選ばれた少なくとも１種であることが好ましく、少なくとも１種の防腐剤が、複素環化合物であることがより好ましい。
防腐剤が複素環化合物であり、上記複素環化合物がチアゾール系化合物又はベンゾトリアゾール系化合物であることが更に好ましい。

顔料分散液中の防腐剤の含有量は、広い範囲で使用可能であるが、顔料に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．５〜５質量％が更に好ましい。

（顔料分散液の製造方法）
本発明の顔料分散液は、顔料、高分子分散剤、水、及び必要に応じてその他の成分を混合して、製造することができる。上記各成分は同時でも、またどのような順で混合してもよい。また、その他の成分を上記混合物に加えてもよい。さらに膜精製を行うことが好ましい。

各成分を混合し、顔料を分散させる際には、例えば、ボールミル、ロールミル、サンドグラインダミル、グラベルミル、高圧ホモジナイザー、高速撹拌型分散機等を用いることができる。

本発明の顔料分散液は、顔料粒子の体積平均粒子径（Ｍｖ）（以下、単に平均粒子径ともいう）が２０〜２５０ｎｍであることが好ましく、４０〜１００ｎｍであることが更に好ましい。平均粒子径が２０ｎｍ以上であれば、粒子が小さ過ぎず印画物に白抜けができにくい。平均粒子径が２５０ｎｍ以下であれば、ノズルに詰まりが発生しにくく、吐出性に優れ、さらに粒子の比表面積が大きくなるために濃度が高くなり好ましい。
なお、顔料粒子の体積平均粒子径とは、顔料そのものの粒子径、又は顔料に分散剤等の添加物が付着している場合には、付着した添加物を含めた粒子の粒子径をいう。本発明において、顔料粒子の体積平均粒子径の測定装置には、ナノトラックＵＰＡ粒度分析計（ＵＰＡ−ＥＸ１５０；日機装社製）を用いることができる。

［インクジェット用インク］
本発明のインクジェット用インクは、本発明の顔料分散液を含有する。インクジェット用インクは、顔料分散液の他にも各種成分を含有していてもよく、例えば溶媒（水性溶媒）、乾燥防止剤（湿潤剤）、褪色防止剤、乳化安定剤、浸透促進剤、紫外線吸収剤、防黴剤、ｐＨ調整剤、表面張力調整剤、消泡剤、粘度調整剤、分散剤、分散安定剤、防錆剤、キレート剤等の公知の添加剤（特開２００３−３０６６２３号公報に記載）が挙げられる。これらの各種添加剤は、水溶性インクの場合にはインク液に直接添加する。油溶性インクの場合には顔料分散液の調製後分散液に添加するのが一般的であるが、調製時に油相又は水相に添加してもよい。

本発明のインクジェット用インク中での顔料の含有量は、２〜１５質量％であることが好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。

（合成例１）
ＤＰＧ（ジプロピレングリコール）１８６．０ｇにパーブチルＯ（日油（株）製）を６．１ｇ添加し、撹拌して開始剤溶液を調製した。
別に、ＤＰＧ１３９．５ｇにメタクリル酸ベンジル２９８．２ｇ、メタクリル酸６１．９ｇ、及び、連鎖移動剤として３−メルカプトプロピオン酸ブチル１１．９ｇを添加し、撹拌してモノマー溶液を調製した。
２Ｌ３口フラスコにＤＰＧを２４１．５ｇ入れ、窒素気流化、内温８５℃に昇温し、ここに開始剤溶液、及びモノマー溶液を同時に添加し始め、それぞれ５時間、及び４時間かけて添加した。開始剤溶液を添加終了後、２時間８５℃にて撹拌した後、７０℃に冷却して、ここに５０質量％水酸化カリウム水溶液を６４．５ｇ、水を４３．８ｇ、ＤＰＧを２７．４ｇ加え、７０℃にて２時間撹拌し、高分子分散剤Ｈ１のＤＰＧ溶液を得た。ここに水を９９０ｇ添加してさらに２時間撹拌し、高分子分散剤Ｈ１のＤＰＧ−水混合溶液（分散剤溶液１）を１９９５ｇ得た。分散剤溶液１の固形分濃度は２０．１質量％であった。
５０ｍＬのイソプロパノールを撹拌し、ここに分散剤溶液１を５ｍＬ滴下し、析出した固体をろ過した後、イソプロパノール２０ｍＬでかけ洗い、５０℃にて乾燥した。これを高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析により測定したところ、硫黄原子が０．５５％存在することから、高分子分散剤Ｈ１のポリマー分子中に連鎖移動剤に由来する構造が導入されていることを確認した。また、高分子分散剤Ｈ１の重量平均分子量（Ｍｗ）は８，０００であり、酸価は１．９ｍｍｏｌ／ｇであった。
高分子分散剤Ｈ１には、下記構造のポリマーであって、主鎖の少なくとも１つの末端が下記式（Ｈ１−３）で表される構造を有するポリマーが含まれている。繰り返し単位の比率はモル比率である。式（Ｈ１−３）中の＊は結合手を表す。

高分子分散剤Ｈ２〜Ｈ５及びＨ８〜Ｈ１７については、上記合成例１に示す高分子分散剤の原料モノマー種及びその組成（モル％）、連鎖移動剤種、モノマーと連鎖移動剤のモル比（モノマー／連鎖移動剤）、開始剤種、重合溶媒種を下記表１及び表２に示すように変更した以外は合成例１と同様にして合成した。

（合成例２）
ＴＥＧ（トリエチレングリコール）７７．２ｇにＶ−６０１（和光純薬（株）製）を２．７ｇ添加し、撹拌して完溶させて開始剤溶液を調製した。
別に、ＴＥＧ５７．９ｇにメタクリル酸ベンジル１２３．７ｇ、メタクリル酸２５．７ｇ、及び、連鎖移動剤として３−メルカプトプロピオン酸ブチル４．９ｇを添加し、撹拌してモノマー溶液を調製した。
１Ｌ３口フラスコにＴＥＧを１００．３ｇ入れ、窒素気流化、内温８０℃に昇温し、ここに開始剤溶液、及びモノマー溶液を同時に添加し始め、それぞれ５時間、及び４時間かけて添加した。開始剤溶液を添加終了後、２時間８５℃にて撹拌した後、７０℃に冷却して、ここに５０質量％水酸化カリウム水溶液を２６．８ｇ、水を１８．２ｇ、ＴＥＧを１１．３ｇ加え、７０℃にて２時間撹拌し、高分子分散剤Ｈ７のＴＥＧ溶液を得た。ここに水を３８０ｇ添加してさらに２時間撹拌し、高分子分散剤Ｈ７のＴＥＧ−水混合溶液（分散剤溶液７）を８２５ｇ得た。分散剤溶液７の固形分濃度は２０．２質量％であった。
５０ｍＬのイソプロパノールを撹拌し、ここに分散剤溶液７を５ｍＬ滴下し、析出した固体をろ過した後、イソプロパノール２０ｍＬでかけ洗い、５０℃にて乾燥した。これを高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析により測定したところ、硫黄原子が０．５０％存在することから、高分子分散剤Ｈ７のポリマー分子中に連鎖移動剤に由来する構造が導入されていることを確認した。また、高分子分散剤Ｈ７の重量平均分子量（Ｍｗ）は８，０００であり、酸価は１．９ｍｍｏｌ／ｇであった。

高分子分散剤Ｈ６については、上記合成例２に示す高分子分散剤の原料モノマーのモノマー組成（モル％）、モノマーと連鎖移動剤のモル比（モノマー／連鎖移動剤）を下記表１に示すように変更した以外は合成例２と同様にして合成した。

（合成例３）
１，２−ＨＤＯ（１，２−ヘキサンジオール）２７６．８ｇにパーブチルＯを９．０ｇ添加し、撹拌して開始剤溶液を調製した。別に１，２−ＨＤＯ２０７．６ｇにメタクリル酸ベンジル４３８．０ｇ、メタクリル酸９２．０ｇ、３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル２３．５ｇを添加し、撹拌してモノマー溶液を調製した。
３Ｌ３口フラスコに１，２−ＨＤＯを３５９．５ｇ入れ、窒素気流化、内温８５℃に昇温し、ここに開始剤溶液とモノマー溶液をそれぞれ５時間、４時間かけて同時に添加を開始した。開始剤溶液を添加終了後、２時間８５℃にて撹拌した後、７０℃に冷却して、ここに５０質量％水酸化カリウム水溶液を９６．０ｇ、水を６５．２ｇ、１，２−ＨＤＯを４０．７ｇ加え、７０℃にて２時間撹拌した。ここに水を１３６７ｇ添加してさらに２時間撹拌し、高分子分散剤Ｈ１８の１，２−ＨＤＯ−水混合溶液（分散剤溶液１８）を２９７５ｇ得た。分散剤溶液１８の固形分濃度は１９．８質量％であった。
５０ｍＬのイソプロパノールを撹拌し、ここに分散剤溶液１８を５ｍＬ滴下し、析出した固体をろ過した後、イソプロパノール２０ｍＬでかけ洗い、５０℃にて乾燥した。これを高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析により測定したところ、硫黄原子が０．５７％存在することから、高分子分散剤Ｈ１８のポリマー分子中に連鎖移動剤に由来する構造が導入されていることを確認した。また、高分子分散剤Ｈ１８の重量平均分子量（Ｍｗ）は８，５００であり、酸価は１．９ｍｍｏｌ／ｇであった。

高分子分散剤Ｈ１９〜Ｈ２３についても、上記合成例３に示す高分子分散剤の原料モノマー種及びモル比、連鎖移動剤種、重合溶媒種を下記表３に示すように変更した以外は合成例３と同様にして合成した。

使用した原料モノマー種及びその組成（モル％）、連鎖移動剤種、モノマーと連鎖移動剤のモル比（モノマー／連鎖移動剤）、開始剤種、重合溶媒種については、下記表１から表３に示す。また、高分子分散剤の重量平均分子量及び酸価についても表１から表３に示す。
なお、高分子分散剤ＨＲ１は、特開２０１４−１６２８７５号公報記載の合成例（１）−６に従って合成した。高分子分散剤ＨＲ２は、特開２０１１−７４３７６号公報記載の合成例１１２に従って合成した。また、高分子分散剤ＨＲ３は、原料モノマー種及びその組成（モル％）、連鎖移動剤種、モノマーと連鎖移動剤のモル比（モノマー／連鎖移動剤）を下記表２に示すように変更した以外は上記合成例１と同様にして合成した。

上記表１から表３中に用いられている略号が示す化合物は、下記のとおりである。
・ＢｎＭＡ：メタクリル酸ベンジル
・ＭＡＡ:メタクリル酸
・ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
・モノマーＡ：特開２０１１−７４３７６号公報の段落〔０２３７〕記載のオクトキシプロピレングリコールポリプロピレングリコールモノメタクリレート
・マクロマーＡ：特開２０１１−７４３７６号公報の段落〔０２３７〕記載のスチレンマクロマー
・ＡＡ：アクリル酸
・ＢｎＡ：アクリル酸ベンジル
・ＢＭＰＡ：３−メルカプトプロピオン酸ブチル
・２−ＥＨＭＰＡ：３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル
・ＭＭＰＡ：３−メルカプトプロピオン酸メチル
・３−ＭＰＡ：３−メルカプトプロピオン酸
・ＤＰＧ：ジプロピレングリコール
・ＴＥＧ：トリエチレングリコール
・ＭＥＫ：メチルエチルケトン
・１，２−ＨＤＯ：１，２−ヘキサンジオール

（実施例１）
高分子分散剤Ｈ１のＤＰＧ−水混合溶液（分散剤溶液１）７４．４ｇに水３０．２ｇ、前述の式（ｄ１）で表される化合物（アゾ顔料（ｄ１））からなる粉体の顔料を２８．６ｇ加えて混合した。これを直径０．１ｍｍのジルコニア製のビーズ３７５ｇを用いて、竪型式ビーズミルＴＳＧ−４Ｕ（アイメックス株式会社製）で１５００ｒｐｍ（ｒｏｔａｔｉｏｎ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）にて４時間分散した。分散終了後、ろ布を用いてビーズを分離し、超純水を用いて洗浄して顔料分散液１（顔料濃度：１３．６９質量％）を１６６ｇ得た。
得られた顔料分散液１に水４５ｇを加え、内温９０℃に昇温して１２時間撹拌した。１時間３０分かけて内温４５℃に冷却した。ここに水２１０ｇを加えて、遠心分離機で粗大粒子を沈降させた。沈降した固体を除去した後、分画分子量５０，０００の限外ろ過膜を用いてクロスフローろ過方式にて精製を行った後、顔料濃度１０質量％に濃縮した。内温７０℃にて１時間加熱し、室温に冷却した後に孔径１．０μｍのフィルターを通して、顔料分散液（Ｓ１）（顔料濃度：１０．１質量％）を１５０ｇ得た。

以下の成分を混合して十分に攪拌し、孔径０．８μｍのフィルターを通して、インクジェット用インク（１）を作製した。
顔料分散液（Ｓ１） ５０．４ｇ
超純水 ２１．９ｇ
２−ピロリジノン ３．１ｇ
グリセロール １５．０ｇ
１，２−ヘキサンジオール ４．０ｇ
エチレングリコール ５．１ｇ
サーフィノール４６５ ０．５ｇ

サーフィノール４６５は日信化学工業株式会社製の界面活性剤である。

（実施例７）
高分子分散剤Ｈ７のＴＥＧ−水混合溶液（分散剤溶液７）６６．２ｇに水３１．３ｇ、粉体のアゾ顔料（ｄ１）を２７．７ｇ加えて混合した。これを直径０．１ｍｍのジルコニア製のビーズ３７５ｇを用いて、竪型式ビーズミルＴＳＧ−４Ｕ（アイメックス株式会社製）で１５００ｒｐｍにて５時間分散した。分散終了後、ろ布を用いてビーズを分離し、超純水を用いて洗浄して顔料分散液７（顔料濃度：１１．９質量％）を１８８ｇ得た。
得られた顔料分散液７に水２５ｇを加え、内温９０℃に昇温して１２時間撹拌した。１時間３０分かけて内温４５℃に冷却した。遠心分離機で粗大粒子を沈降させ、沈降した固体を除去した後、孔径０．３μｍのフィルターを通して、顔料分散液（Ｓ７）（顔料濃度：１０．０質量％）を１８４ｇ得た。

（実施例２０）
高分子分散剤Ｈ１８の１，２−ＨＤＯ−水混合溶液（分散剤溶液１８）４６．０ｇに水６５．８ｇ、粉体のアゾ顔料（ｄ１）を１８．２ｇ加えて混合した。これを直径０．１ｍｍのジルコニア製のビーズ３７５ｇを用いて、竪型式ビーズミルＴＳＧ−４Ｕ（アイメックス株式会社製）で１５００ｒｐｍにて２時間分散した。分散終了後、ろ布を用いてビーズを分離し、超純水を用いて洗浄して顔料分散液１８（顔料濃度：１０．９３質量％）を１３８ｇ得た。
得られた顔料分散液１８に水１０ｇを加え、内温９０℃に昇温して１２時間撹拌した。１時間３０分かけて内温４５℃に冷却した。ここに水１４５ｇを加えて、遠心分離機で粗大粒子を沈降させた。沈降した固体を除去した後、分画分子量５０，０００の限外ろ過膜を用いてクロスフローろ過方式にて精製を行った後、顔料濃度１０質量％に濃縮した。内温７０℃にて１時間加熱し、室温に冷却した後に孔径１．０μｍのフィルターを通して、顔料分散液（Ｓ１８）（顔料濃度：１０．１質量％）を１１５ｇ得た。

（実施例２〜６、８〜１９、２１〜２５、比較例１〜５）
実施例１において使用した顔料、及び高分子分散剤を下記表４に示す顔料、及び高分子分散剤に変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２〜５、８〜１９の顔料分散液（Ｓ２）〜（Ｓ５）、（Ｓ８）〜（Ｓ１９）を調製した。また、実施例７において使用した顔料、及び高分子分散剤を下記表４に示す顔料、及び高分子分散剤に変更した以外は実施例７と同様にして、実施例６の顔料分散液（Ｓ６）を調製した。
実施例２０において使用した顔料、及び高分子分散剤を下記表４に示す顔料、及び高分子分散剤に変更した以外は実施例２０と同様にして、実施例２１〜２５の顔料分散液（Ｓ２１）〜（Ｓ２５）を調製した。
比較例１、２においては、特開２０１４−１６２８７５号公報記載の実施例（１）−１６、及び（１）−１に従い、それぞれ、顔料分散液（ＳＲ１）、（ＳＲ２）を調製した。比較例３においては、特開２０１１−７４３７６号公報記載の実施例２に従い、顔料分散液（ＳＲ３）を調製した。比較例４及び５においては、実施例１において使用した顔料、及び高分子分散剤を下記表４に示す顔料、及び高分子分散剤に変更した以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（ＳＲ４）及び（ＳＲ５）を調製した。
また、得られた実施例の顔料分散液（Ｓ２）〜（Ｓ２５）及び比較例の顔料分散液（ＳＲ１）〜（ＳＲ５）を用いて、実施例１と同様にして、実施例のインクジェット用インク（２）〜（２５）、比較用インクジェット用インク（Ｒ１）〜（Ｒ５）を調製した。

（評価）
各実施例及び各比較例で得られたインクジェット用インクについて、連続吐出性、吐出速度、及び耐光性を下記の方法で評価した。また、顔料粒子の分散性についても評価した。評価に当たっては、キヤノン製ＢＣ３４０のインクを各実施例及び各比較例で得られたインクに詰め替え、キヤノン製インクジェットプリンターＰＩＸＵＳ ＭＧ３１３０を用いて評価した。

−連続吐出性−
Ａ４（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ）普通紙１００枚にベタ印字したのち、ノズルを光学顕微鏡にて観察し、詰まりが発生したノズルが全ノズルの５％未満である場合をＡ、５％以上１０％未満である場合をＢ、１０％以上１５％未満である場合をＣ、１５％以上２０％未満である場合をＤ、２０％以上である場合をＥとして評価した。なお、ノズルを光学顕微鏡にて観察し、詰まりの面積が３０％以上のノズルを「詰まりが発生したノズル」とした。

−吐出速度−
吐出中の液滴を、カメラで撮影して観察した。特開２０１４−１６２８７５号公報記載の実施例（１）−１（比較例２）の吐出速度を基準とし、吐出速度が基準に対して、＋２０％以上をＡ、＋２０％未満１０％以上をＢ、１０％未満−１０％以上をＣ、−１０％未満をＤとして評価した。

−耐光性−
上記プリンターを用いて、濃度が階段状のイエロー単色画像を印字した。記録媒体として富士フイルム（株）製画彩写真仕上げＰｒｏを用いた。ＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｉ Ｄｅｎｓｉｔｙ）の測定には反射濃度計（ＧＲＥＴＡＧ ＭＡＣＢＥＴＨ Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ）を用いた。上記印字物を、キセノンウェザーメーター（スガ試験機社製）を用いて９．９ｋｗ、フィルター条件下で１４日間照射し、照射前のＯＤが１の画像部について、色素残存率［（照射後濃度／照射前濃度）×１００％］を求めて、耐光性（光堅牢性）を評価した。
Ａ・・・色素残存率が９５％以上
Ｂ・・・色素残存率が９５％未満８５％以上
Ｃ・・・色素残存率が８５％未満７０％以上
Ｄ・・・色素残存率が７０％未満

−分散性−
遠心分離機で粗大粒子を除去する前の各顔料分散液（実施例１〜２５については、顔料分散液１〜２５）の調製の際の顔料粒子の分散工程において、顔料粒子の体積平均粒子径が９０ｎｍ以下となる分散時間を測定することにより、分散性を評価した。分散時間は、短い方が省エネルギーの観点で好ましい。
Ａ・・・３時間未満
Ｂ・・・３時間以上、４．５時間未満
Ｃ・・・４．５時間以上、６時間未満
Ｄ・・・６時間以上

表４において、Ｐ．Ｙ．７４は、チバスペシャリティ社製Ｉｒａｌｉｔｅ ＹＥＬＬＯＷ ＧＯを用いた。

表４の結果から、本発明の顔料分散液を用いたインクジェット用インクにおいては、インクの連続吐出性、吐出速度、及び耐光性のいずれもが良好であることがわかる。
特に、実施例２０〜２５は、高分子分散剤の重合溶媒として、使用した顔料との親和性が高いと推定される１，２−ヘキサンジオール又はヘキシレングリコールを用いているので、本発明の課題を全て解決しつつ、更に、分散性の評価結果が優れたものとなった。

本発明によれば、インクジェットプリンターで印画する際に連続吐出性及び吐出速度に優れ、かつ耐光性に優れた顔料分散液、並びにインクジェット用インクを提供することができる。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１６年７月２６日出願の日本特許出願（特願２０１６−１４６１２１）及び２０１６年１２月２２日出願の日本特許出願（特願２０１６−２４９７３５）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims (13)

1. 顔料、高分子分散剤、及び水を含有する顔料分散液であって、
   前記顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、
   前記高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有し、かつ主鎖の少なくとも１つの末端が下記一般式（３）で表される構造を有する高分子化合物を含む、顔料分散液。
   

   

   
   一般式（１）中、
   Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
   Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
   Ｙ _１ 及びＹ _２ が置換基を表す場合の置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、又はシリル基であり、これらの置換基は更に置換基を有していてもよい。
   Ｒ _１１ 及びＲ _１２ が置換基を表す場合の置換基は、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数７〜１８のアラルキル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルケニル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルキニル基、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルケニル基、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルオキシ基、置換若しくは無置換のアリールオキシ基、置換若しくは無置換のアシルアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、置換若しくは無置換のアリールアミノ基、置換若しくは無置換のウレイド基、置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルチオ基、置換若しくは無置換のアリールチオ基、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニルアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基、置換若しくは無置換のカルバモイル基、置換若しくは無置換のスルファモイル基、置換スルホニル基、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、置換アゾ基、置換若しくは無置換のアシルオキシ基、置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、置換若しくは無置換のシリルオキシ基、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、置換イミド基、置換若しくは無置換のヘテロ環チオ基、置換若しくは無置換のスルフィニル基、置換若しくは無置換のホスホニル基、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換若しくは無置換のアシル基、スルホ基、ホスホノ基、又は４級アンモニウム基である。
   Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
   Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
   

   

   
   一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
   一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。
   

   

   
   一般式（３）中、Ｌは置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、又は置換若しくは無置換の２価のヘテロ環基を表し、Ｒ_４は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表し、＊は結合手を表す。
2. 前記高分子分散剤の重量平均分子量が５，０００〜５０，０００である請求項１に記載の顔料分散液。
3. 前記高分子分散剤の重量平均分子量が７，０００〜２０，０００である請求項１又は２に記載の顔料分散液。
4. 前記高分子分散剤の酸価が１．６ｍｍｏｌ／ｇ以上２．６ｍｍｏｌ／ｇ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の顔料分散液。
5. 前記高分子分散剤の酸価が１．７ｍｍｏｌ／ｇ以上２．２ｍｍｏｌ／ｇ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の顔料分散液。
6. 前記顔料が、下記式（ｄ１）、式（ｄ２）、又は式（ｄ３）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料である請求項１〜５のいずれか１項に記載の顔料分散液。
   

   

   
   

   

   
   

   
7. 前記顔料が前記式（ｄ１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料である請求項６に記載の顔料分散液。
8. 前記一般式（３）中のＲ_４が置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す請求項１〜７のいずれか１項に記載の顔料分散液。
9. 前記一般式（３）中のＲ_４が置換若しくは無置換の炭素数１〜１０のアルキル基を表す請求項１〜８のいずれか１項に記載の顔料分散液。
10. 前記一般式（３）中のＬが置換若しくは無置換の炭素数１〜５のアルキレン基を表す請求項１〜９のいずれか１項に記載の顔料分散液。
11. 前記一般式（２−１）中のＲ_１がメチル基を表し、Ｒ_２がベンジル基を表す請求項１〜１０のいずれか１項に記載の顔料分散液。
12. 更に、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、ヘキシレングリコール、ジグリセロール、ジプロピレングリコール、２−ピロリドン、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソプロパノールから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する請求項１〜１１のいずれか１項に記載の顔料分散液。
13. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の顔料分散液を含有するインクジェット用インク。