JP6712477B2

JP6712477B2 - 基材処理装置

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Publication number: JP6712477B2
Application number: JP2016059784A
Authority: JP
Inventors: 伸夫市邊; 秀晃陸井
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd
Priority date: 2016-03-24
Filing date: 2016-03-24
Publication date: 2020-06-24
Anticipated expiration: 2036-03-24
Also published as: JP2017172878A

Description

本発明は、基材に供給された塗布液を乾燥する基材処理技術に関する。

例えば、リチウム二次電池の製造においては、アルミニウム箔等の基材の主面に電極液等の塗布液を供給した後に、当該基材上の塗布液を乾燥する技術が知られている。

特許文献１には、ロールツーロール形式で基材を搬送しつつ、当該基材の主面に向けて気体を供給することで基材上の塗布液を乾燥する技術が開示されている。また、特許文献１には、乾燥炉内で基材の搬送経路を蛇行させる技術が開示されている。この技術では、搬送経路の蛇行により、基材処理装置の小型化が図られる。

特開２０１４−２３１９４９号公報

しかしながら、塗布液が供給された主面を内側にして基材の搬送方向が変更される場合、搬送方向の変更の前後における基材の主面によって挟まれた空間では、雰囲気が滞留しやすく、塗布液の乾燥が進み難い。すなわち、従来の基材処理装置については、小型化と乾燥の効率化を図るうえで、改善の余地がある。

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、基材処理装置の小型化および乾燥の効率化を図ることが可能な技術を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、第１の態様にかかる基材処理装置は、主面に塗布液が供給された長尺帯状の基材を搬送経路に沿って搬送し、前記搬送経路が前記主面を内側にして前記基材を湾曲させる湾曲領域を含む、搬送部と、前記湾曲領域の内側に配置され、前記湾曲領域を通過する前記主面に対して気体を供給する気体供給口を有し、供給される前記気体により前記基材を支持する気体供給部と、湾曲前後の前記主面に挟まれた間隙を、前記搬送経路の上流側に位置する上流側空間と前記搬送経路の下流側に位置する下流側空間とに仕切る板状部材である仕切り部と、前記仕切り部に対して前記湾曲領域とは反対側の位置に設けられ、前記間隙の雰囲気を吸う吸気口を有する吸気部と、を備え、前記吸気部は吸気ボックスを有し、当該吸気ボックスは前記仕切り部の一方側の端部が取り付けられる面を有し、当該面の前記仕切り部よりも搬送上流側には前記吸気口として第１吸気口が開口するとともに、当該面の前記仕切り部よりも搬送下流側には前記吸気口として第２吸気口が開口する。

第２の態様にかかる基材処理装置は、第１の態様にかかる基材処理装置であって、前記吸気部の前記吸気口は、前記気体供給部に向けて前記間隙に対して開口する。

第３の態様にかかる基材処理装置は、第１または第２の態様にかかる基材処理装置であって、前記気体供給部は、前記気体供給口から前記湾曲領域における前記主面に対して加熱された気体を供給する。

第４の態様にかかる基材処理装置は、第１から第３のいずれか１つの態様にかかる基材処理装置であって、前記湾曲領域における前記主面に赤外線を照射する赤外線照射部、をさらに備える。

第５の態様にかかる基材処理装置は、第４の態様にかかる基材処理装置であって、前記気体供給部は、赤外線を透過可能であり且つ中空領域を有する本体部を有し、前記赤外線照射部は前記中空領域に配される。

第６の態様にかかる基材処理装置は、第１から第５のいずれか１つの態様にかかる基材処理装置であって、前記搬送経路は複数の前記湾曲領域を含み、前記気体供給部は、前記複数の湾曲領域のそれぞれについて、前記複数の湾曲領域を通過する前記主面に対して気体を供給する前記気体供給口を有し、前記吸気部は、前記複数の湾曲領域のそれぞれについて、湾曲前後の前記主面に挟まれた間隙の雰囲気を吸う前記吸気口を有する。

第７の態様にかかる基材処理装置は、第６の態様にかかる基材処理装置であって、前記搬送経路に沿って下流側にある前記気体供給口からの単位時間あたりの気体供給量が、前記搬送経路に沿って上流側にある前記気体供給口からの単位時間あたりの気体供給量よりも大きい。

第８の態様にかかる基材処理装置は、第６の態様または第７の態様にかかる基材処理装置であって、前記搬送経路に沿って下流側にある前記吸気口からの単位時間あたりの吸気量が、前記搬送経路に沿って上流側にある前記吸気口からの単位時間あたりの吸気量よりも大きい。

第１から第８の態様にかかる基材処理装置のいずれによっても、基材の主面に挟まれた空間に雰囲気が滞留し難く、塗布液の乾燥が進み易いため、基材処理装置の小型化と乾燥の効率化とが図られる。

基材処理装置１の全体構成を示す図である。加熱部４２の概略的な内部構成を示すＸＺ側面図である。気体供給部５０、５５およびその周辺の構成を示す斜視図である。吸気部６０およびその周辺の構成を示す斜視図である。１組の気体供給部５０および吸気部６０を示すＸＺ側面図である。

以下、実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図面では同様な構成および機能を有する部分に同じ符号が付され、重複説明が省略される。なお、以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。また、図面においては、各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。また、図面には、方向を説明するためにＸＹＺ直交座標軸が付される場合がある。座標軸における＋Ｚ方向は鉛直上方向であり、ＸＹ平面は水平面である。

＜１実施形態＞
＜１．１基材処理装置１の構成＞
図１は、本実施形態に係る基材処理装置１の全体構成を示す図である。

基材処理装置１は、金属箔である基材５の両主面Ｓ１、Ｓ２に塗布液を供給した後に、該塗布液の乾燥処理を行って基材５上に処理膜を形成する。これにより、例えば、リチウムイオン二次電池の電極が製造される。

基材５は、例えば、リチウムイオン二次電池の集電体として機能する材料で構成される。基材処理装置１がリチウムイオン二次電池の正極を製造する場合には、基材５としてアルミニウム箔（Ａｌ）が用いられうる。また、基材処理装置１がリチウムイオン二次電池の負極を製造する場合には、基材５として銅箔（Ｃｕ）が用いられうる。

基材５は、長尺のシート状（長尺帯状）の金属箔であり、その幅および厚さについては特に限定されない。例えば、幅が６００ｍｍ〜７００ｍｍ程度で厚さが１０μｍ〜２０μｍ程度の基材が用いられうる。

基材処理装置１は、主として、基材５を搬送経路に沿って搬送する搬送部８０と、搬送される基材５に塗布液を供給する塗工ノズル１１、１２と、搬送される基材５上の塗布液を乾燥する乾燥部４０と、装置各部を制御する制御部９０と、を備える。

搬送部８０は、基材５を巻き出す巻き出しローラ８８と、基材５を巻き取る巻き取りローラ８９と、を有し、巻き出しローラ８８から巻き取りローラ８９に向けて基材５を搬送する。また、搬送部８０は、巻き出しローラ８８と巻き取りローラ８９との間に、２つのローラ８１を有する。

本明細書において、搬送経路とは、搬送部８０によって搬送される基材５の通過経路を意味する。搬送経路のうち巻き出しローラ８８側を搬送上流側といい、搬送経路のうち巻き取りローラ８９側を搬送下流側という場合がある。また、搬送方向とは、搬送経路のある区間において基材５が移動する方向を意味する。例えば、巻き出しローラ８８と搬送上流側に位置するローラ８１との区間において、搬送方向は図１に示される矢印の方向である。

搬送部８０が有する各ローラは、基材５の両主面Ｓ１、Ｓ２に平行であり且つ基材５の搬送方向に交差する交差方向に伸びる軸を中心として、回転可能に構成される。本実施形態では、交差方向がＹ方向と一致するが、交差方向がＹ方向に対して多少傾いていても構わない。

搬送部８０が有する各ローラのうち少なくとも一部（例えば、１つのローラ８１、巻き出しローラ８８、および巻き取りローラ８９）には、これらのローラを駆動させる駆動部が設けられている。他方、搬送部８０が有する他のローラ（例えば、１つのローラ８１）には、駆動部が設けられていない。このため、駆動部の駆動力により上記一部のローラが主動的に回転することで、基材５が搬送経路に沿って搬送される。そして、該基材５との摩擦力によって上記他のローラも従動的に回転する。

基材５の主面Ｓ２と接する各ローラが図１における時計回り方向に回転することにより、基材５が搬送経路に沿ってＸ方向およびＺ方向に搬送される。なお、各ローラの個数および配置位置については、図１の例に限定されるものではなく、必要に応じて適宜に増減することができる。

塗工ノズル１１は、基材５の幅方向（図１におけるＹ軸方向）に沿う１つのスリット開口を有するスリットノズルである。塗工ノズル１１は、ポンプユニット１５から送給される塗布液を、スリット開口から吐出して基材５の主面Ｓ１に供給する。

搬送経路を挟んで塗工ノズル１１の反対側には、塗工ノズル１２が設けられる。塗工ノズル１２は、塗工ノズル１１と同様の構成のノズルであり、ポンプユニット１６から送給される塗布液をスリット開口から吐出して基材５の主面Ｓ２に供給する供給部である。

塗工ノズル１１が主面Ｓ１に塗布液を供給する動作および塗工ノズル１２が主面Ｓ２に塗布液を供給する動作と並行して、基材５が搬送経路に沿って搬送される。これにより、両主面Ｓ１、Ｓ２上に塗布液が塗工されて液膜（塗布膜）が形成される。

塗布液としては、電極材料である活物質を含む液が用いられる。基材処理装置１にて正極を製造する場合には、塗布液として、例えば、正極活物質であるコバルト酸リチウム（ＬｉＣｏＯ₂）、導電助剤であるカーボン（Ｃ）、結着剤であるポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、有機溶剤であるＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）の混合液が用いられうる。なお、塗布液の具体的な種類は、これに限定されるものではない。例えば、コバルト酸リチウムに代えて、正極活物質としてニッケル酸リチウム（ＬｉＮｉＯ₂）、マンガン酸リチウム（ＬｉＭｎ₂Ｏ₄）、燐酸鉄リチウム（ＬｉＦｅＰＯ₄）が用いられてもよい。

他方、基材処理装置１にて負極を製造する場合には、塗布液として、例えば、負極活物質である黒鉛（グラファイト）、結着剤であるＰＶＤＦ、有機溶剤であるＮＭＰの混合液が用いられうる。なお、塗布液の具体的な種類は、これに限定されるものではない。例えば、黒鉛に代えて、負極活物質としてハードカーボン、チタン酸リチウム（Ｌｉ₄Ｔｉ₅Ｏ₁₂）、シリコン合金、スズ合金などが用いられてもよい。なお、正極材料および負極材料の双方の塗布液において、結着剤としてＰＶＤＦに代えてスチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）などが用いられてもよい。

また、塗工ノズル１１によって主面Ｓ１に供給される第１塗布液と塗工ノズル１２によって主面Ｓ２に供給される第２塗布液とは、同じ種類の塗布液であってもよいし、異なる種類の塗布液であってもよい。以下では、これらが同じ種類の塗布液である場合について説明する。

乾燥部４０は、例えば、塗布液の液膜を緩やかに昇温させる予熱部４１、液膜を所定温度にまで昇温して主たる加熱を行う加熱部４２、および加熱された液膜を冷却する冷却部４３を、搬送経路に沿って直列に有する。基材５は、搬送経路に沿って搬送される過程で、予熱部４１、加熱部４２および冷却部４３の内部を順に通過する。これにより、基材５の両主面Ｓ１、Ｓ２上に形成された塗布液の液膜が乾燥する。このように、両主面Ｓ１、Ｓ２上の液膜の乾燥処理を一括して行うフローでは、両主面Ｓ１、Ｓ２上の液膜の乾燥処理を別々に行うフローに比べてスループットが向上する。

乾燥部４０を通過した基材５は、ローラ８１を介して搬送された後、巻き取りローラ８９によって回収される。回収された基材５は、基材処理装置１の外部の加工処理部（図示せず）に搬送され、当該加工処理部で所望の大きさに切断された後、電極板として加工される。

制御部９０は、基材処理装置１に設けられた各部の機構を制御しており、そのハードウェア構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭおよび制御用ソフトウェアやデータなどを記憶しておく磁気ディスクを備えて構成される。制御部９０のＣＰＵが所定の処理プログラムを実行することによって基材処理装置１における処理が進行する。

＜１．２乾燥部４０の構成＞
乾燥部４０を構成する予熱部４１、加熱部４２、および冷却部４３は、チャンバー内で気体供給および排気を行って基材５上の塗布液を乾燥させる点で共通する。以下では、まず加熱部４２について詳細に説明する。その後、予熱部４１および冷却部４３について、加熱部４２との共通部分を省略しつつ説明する。

図２は、加熱部４２の概略的な内部構成を示すＸＺ側面図である。

加熱部４２は、主として、チャンバー４２０と、チャンバー４２０内に気体を供給する５つの気体供給部５０および２つの気体供給部５５と、チャンバー４２０内の雰囲気を吸気する５つの吸気部６０および５つの吸気部６５と、を備える。

チャンバー４２０は、搬送上流側に搬入口４２１が形成され、搬送下流側に搬出口４２２が形成された筐体である。チャンバー４２０の長さは特に限定されるものではないが、本実施形態では約３０００ｍｍとしている。また、搬入口４２１および搬出口４２２の大きさも特に限定されるものではないが、本実施形態では搬送経路の上方および下方のそれぞれに約５ｍｍの間隔を確保できる程度（つまり、鉛直方向の大きさが約１０ｍｍ）としている。

また、各気体供給部５０、５５が、チャンバー４２０の内側で基材５を浮上搬送するための浮上支持要素として機能する。７つの気体供給部５０、５５は、チャンバー４２０内の＋Ｚ側と−Ｚ側とで交互にＸ方向に沿って設けられる。これら７つの気体供給部５０、５５の構成は同様であるが、Ｘ方向の両端側に位置する２つの気体供給部を気体供給部５５と表現し、Ｘ方向の中央側に位置する５つの気体供給部を気体供給部５０と表現する。

これら７つの気体供給部５０、５５にＸ方向に沿う順序で基材５が渡されることで、チャンバー４２０内の搬送経路は蛇行経路となる。これにより、チャンバー４２０内の搬送経路は、５つの気体供給部５０の周囲で、主面Ｓ１または主面Ｓ２を内側にして基材５をＵ字状に湾曲させる５つの湾曲領域８６を含むことになる。本実施形態では、５つの気体供給部５０の周囲で搬送方向が１８０度変更されているので、各湾曲領域８６は中心角が１８０度である円弧状領域となる。

図３は、気体供給部５０、５５およびその周辺の構成を示す斜視図である。

各気体供給部５０、５５は、基材５の幅方向に伸びる円筒状の本体部５１１と、基材５に気体を供給するための気体供給口が配された外周部５１２と、外周部５１２の気体供給口と接続された開口を有する内周部５１３と、を有する。なお、図３では、外周部５１２における多数の気体供給口および内周部５１３における多数の開口がドット模様で表されている。

本体部５１１は、赤外線を透過可能であり且つ中空領域を有する円筒体であり、例えばガラスによって構成される。各本体部５１１は、基材５の両主面Ｓ１、Ｓ２に平行であり且つ基材５の搬送方向に交差する交差方向（本実施形態では、Ｙ方向）を軸として基材処理装置１に設けられる。そして、各本体部５１１の中空領域には、湾曲領域８６における基材５の主面に赤外線を照射する赤外線照射部５１５が、各本体部５１１と共通の軸方向に延設される。

このような構成となっているので、気体供給源５９から各気体供給部５０、５５の中空領域に気体（例えば、１３０℃の熱風）が供給されると、該気体は、内周部５１３における多数の開口から外周部５１２における多数の気体供給口に向けて流動する。そして、該多数の気体供給口から湾曲領域８６における基材５の主面に向けて気体が供給される。

供給される気体で基材５が支持されて、両主面Ｓ１、Ｓ２が各気体供給部５０、５５の外周部５１２に非接触な状態で、基材５がチャンバー４２０内を搬送される。一般に、乾燥完了前の時点で両主面Ｓ１、Ｓ２上の液膜に部材が接触すると、該液膜が乱れて歩留まりが低下することになる。そこで、本実施形態では、気体供給部５０、５５により液膜に非接触な状態で基材５を支持させて、このような歩留まり低下の問題を生じさせず、歩留まりが向上する。また、本実施形態では、各気体供給部５０、５５により搬送経路が蛇行されるので、基材処理装置１の小型化が図られる。

また、気体供給部５０、５５からの気体供給作用、および赤外線照射部５１５による両主面Ｓ１、Ｓ２への赤外線照射作用により、両主面Ｓ１、Ｓ２上に形成された液膜の乾燥処理が促される。

なお、気体供給源５９から気体供給部５０、５５に供給される気体の流量は、後述する吸気部６０の場合と同様、流路過程に設けられた流量調整弁によって調整可能である。ただし、図２では、図示が煩雑になるのを防ぐ目的で、流路を点線矢印で簡略的に示し流量調整弁を省略している。

図４は、吸気部６０およびその周辺の構成を示す斜視図である。図５は、１組の気体供給部５０および吸気部６０を示すＸＺ側面図である。図５に示されるように、以下では、湾曲前後の基材５の主面に挟まれた間隙を間隙１００（図５で破線で囲まれた部分）と表現する。また、図５中における矢印ＡＲ１および矢印ＡＲ２は基材５の搬送方向を意味し、図５中における矢印ＡＲ３および矢印ＡＲ４は間隙１００における雰囲気の移動方向を意味する。

各吸気部６０は、基材５の幅方向に伸びる吸気ボックス６１と、吸気ボックス６１の一面６１０に設けられたスリット状の吸気口６１１、６１２と、を有する。吸気ボックス６１は、吸気口６１１、６１２が間隙１００の内部に開口するように、その一面６１０を間隙１００に向けてチャンバー４２０内に配置される。

また、チャンバー４２０内の天板側および底板側には、チャンバー４２０内の雰囲気を吸気する５つの吸気部６５が設けられる。吸気部６５も、吸気部６０と同様に吸気ボックスと吸気ボックスの一面に設けられた吸気口とを有する。

各吸気部６０は、後述するように各間隙１００に気流を発生させることを主目的とする吸気部である。これに対して、各吸気部６５は、チャンバー４２０内全体の気圧を調整することを主目的とする吸気部である。

各吸気部６０、６５は排気管６７を介して排気源６９と連通接続されている。すなわち、排気管６７の基端側が排気源６９に接続されるとともに、先端側は分岐されて各吸気部６０に接続される。排気管６７のうち分岐された各流路には流量調整弁６８が介挿される。排気源６９は、吸引用のブロワーを備えており、排気管６７を介して各吸気部６０、６５に負圧を付与する。これにより、各吸気部６０、６５は、吸気口周辺の雰囲気を吸引して排気管６７へと排出する。各吸気部６０、６５が吸気する流量は対応する各流量調整弁６８によって個別に調整される。

間隙１００は塗布液が供給された主面に挟まれた空間である。したがって、通常、このような間隙１００では、塗布液中の溶剤等の雰囲気が滞留しやすく乾燥処理が進み難い。本実施形態では、各吸気部６０がこの間隙１００の雰囲気を吸気するため、乾燥処理が効率的に進行する。

以下、主として図５を参照しつつ、同一のＸ方向位置に配される１組の気体供給部５０および吸気部６０を例に、乾燥処理を効率的に行う態様について説明する。

間隙１００は、湾曲領域８６によって囲まれた部分を含む第１空間１０１と、第１空間１０１よりも湾曲領域８６から離間した第２空間１０２と、を含む。そして、気体供給部５０の気体供給口は第１空間１０１に配され、吸気部６０の吸気口６１１、６１２は第２空間１０２に配されている。また、吸気部６０の吸気口６１１、６１２は、気体供給部５０に向けて間隙１００に対して開口している。

本実施形態では、気体供給部５０による気体供給と吸気部６０による吸気とが行われることで、間隙１００において、基材５の主面（図５に示す例では主面Ｓ２）に沿って第１空間１０１から第２空間１０２へ向けた気流が発生する。このような一方向気流が発生することで、間隙１００における雰囲気の滞留が効果的に抑制され、乾燥処理がより効率的に進行する。

また、本実施形態では、第１空間１０１から第２空間１０２へ向けて広範囲に乾燥処理を促せるため、搬送経路の湾曲領域で局所的に乾燥処理を促す他の態様（例えば、特許文献１に記載の態様）に比べて、乾燥処理がより効率的に進行する。

また、吸気部６０の一面６１０には、間隙１００を搬送経路の上流側に位置する上流側空間１０３と搬送経路の下流側に位置する下流側空間１０４とに仕切る仕切り部６６が設けられる。仕切り部６６はＹＺ面に延在する板状部材であり、図５に示す例では、仕切り部６６の−Ｚ側端部が吸気ボックス６１の一面６１０に取付けられ、仕切り部６６の＋Ｚ側端部は気体供給部５０の近傍に位置する。さらに、吸気ボックス６１の一面６１０において、仕切り部６６よりも搬送上流側に吸気口６１１（第１吸気口）が開口し、仕切り部６６よりも搬送上流側に吸気口６１２（第２吸気口）が開口している。

このため、気体供給部５０による気体供給と吸気部６０による吸気とが行われると、矢印ＡＲ１に沿って搬送される基材５の主面Ｓ２と仕切り部６６との間には矢印ＡＲ３に沿う一方向気流が発生し、矢印ＡＲ２に沿って搬送される基材５の主面Ｓ２と仕切り部６６との間には矢印ＡＲ４に沿う一方向気流が発生する。このように、塗布液の供給された主面に沿う気流が発生することにより、乾燥処理がより効率的に進行する。

ここまで、図５に示す１組の気体供給部５０および吸気部６０による乾燥処理の態様について説明したが、図２に示されるように、加熱部４２はＸ方向に沿って５組の気体供給部５０および吸気部６０を有する。このため、加熱部４２は、上述した気体供給作用および赤外線照射作用に加えて、５組の気体供給部５０および吸気部６０による気流発生作用により、乾燥処理を効率的に進行できる。

また、搬送下流側にある気体供給口からの単位時間あたりの気体供給量が搬送上流側にある気体供給口からの単位時間あたりの気体供給量よりも大きくなるよう、制御部９０が各気体供給部５０に通じる各流量調整弁を制御する。これにより、序盤では弱めに乾燥処理を行って液膜中にクラック等が生じることを抑制しつつ、終盤では強めに乾燥処理を行って乾燥効率を向上させることができる。

また、搬送下流側にある吸気口からの単位時間あたりの吸気量が搬送上流側にある吸気口からの単位時間あたりの吸気量よりも大きくなるよう、制御部９０が各吸気部６０に通じる各流量調整弁６８を制御する。これにより、序盤では弱めに乾燥処理を行って液膜中にクラック等が生じることを抑制しつつ、終盤では強めに乾燥処理を行って乾燥効率を向上させることができる。

予熱部４１は、加熱部４２よりも搬送上流側に設けられる。予熱部４１も、加熱部４２と同様に、チャンバー内に気体を供給することで基材５上の液膜の乾燥を促す。予熱部４１では、例えば、基材５に対して供給される気体の温度が、常温よりも高く加熱部４２で供給される熱風の温度よりも低く設定される。また別の例として、予熱部４１では、特開２０１２−２０２６００号公報に記載されるように、基材５が赤外線照射により加熱されてもよい。いずれの場合も、加熱部４２で基材５を加熱することに先立って予熱部４１で基材５を予熱しておくことにより、基材５上の塗布液を表層だけでなく内部まで乾燥させることが可能となる。

冷却部４３は、加熱部４２よりも搬送下流側に設けられる。冷却部４３も、加熱部４２と同様に、チャンバー内に気体を供給することで基材５上の液膜の乾燥を促す。冷却部４３は赤外線照射ユニット５１５を有さず、冷却部４３では、例えば、基材５に対して常温のドライエアが供給される。

ドライエアの供給により基材５が冷却されるが、冷却部４３の内部で基材５が常温まで冷却される必要はない。最終的に巻き取りローラ８９で回収されるタイミングまでに基材５が常温に到達していれば足り、冷却部４３はこの目的を達成するために基材５を特定温度（加熱部４２で加熱された直後より低い温度で且つ常温より高い温度）まで冷却する役割を担う。

＜２変形例＞
以上、本発明の実施形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。

上記実施形態では、搬送経路に含まれる５個の湾曲領域のそれぞれにおいて、気体供給部５０が基材５の主面に対して気体を供給する気体供給口を有し、吸気部６０が間隙１００の雰囲気を吸う吸気口を有する態様について説明した。この態様に限られず、搬送経路に含まれる複数の湾曲領域のうち１つ以上の湾曲領域に、気体供給部および吸気部が設けられてもよい。また、搬送経路に含まれる１つの湾曲領域のうち該１つの湾曲領域に、気体供給部および吸気部が設けられてもよい。

また、上記実施形態では、乾燥部４０よりも上流側で基材５の両主面Ｓ１、Ｓ２に塗工処理が実行される態様について説明したが、これに限られるものではない。主面Ｓ１または主面Ｓ２の一方のみに塗工処理が実行される態様でも構わない。この態様では、液膜の形成された一方主面が内側となる湾曲領域に気体供給部および吸気部が設けられればよく、液膜の形成されない他方主面が内側となる領域には気体供給部および吸気部が設けられなくてもよい。

また、上記実施形態では、吸気口６１１、６１２が間隙１００に対して開口する態様として、吸気口６１１、６１２が間隙１００の内部で開口する態様について説明したが、これに限られるものではない。吸気口６１１、６１２が間隙１００に対して開口する態様には、上記実施形態とは異なる例として、吸気口６１１、６１２が間隙１００の外部且つ間隙１００の近傍で間隙１００に向けて開口する態様や、吸気口６１１、６１２が間隙１００の外部で当該間隙１００内の気体供給部５０に向けて開口し、当該気体供給部５０から当該吸気口６１１、６１２に向けての一方向気流が発生する態様も含まれる。この他にも、例えば、吸気部６０の吸気口６１１、６１２が、間隙１００の内部で気体供給部５０とは異なる向き（気体供給部５０と反対側の向きや気体供給部５０に対して直交する向き等）に向けて開口する態様でも構わない。

また、基材処理装置が仕切り部６６を有さない態様でも構わない。同様に、基材処理装置が赤外線照射部５１５を有さない態様でも構わない。また、基材処理装置が仕切り部６６を有していたとしても、吸気口が第１吸気口と第２吸気口とを別々に含む必要はない。例えば、吸気口が第１吸気口または第２吸気口の一方のみを含んでもよいし、吸気口が仕切り部６６の上流側空間および下流側空間の双方に開口するよう大きめに形成されてもよい。

また、各気体供給部５０、５５が、常温のエアを基材５に供給する態様でも構わない。

また、乾燥部４０が冷却部４３を有さない態様でも構わない。

また、気体供給部５０および吸気部６０における単位時間当たりの流量制御が、上記実施形態とは異なる態様であっても構わない。

また、乾燥処理の対象となる液膜は上記実施形態の例（リチウムイオン二次電池の電極材料膜）に限定されるものではい。乾燥対象の液膜は、例えば、太陽電池材料の薄膜、電子材料の保護膜、または顔料や接着剤の液膜等であってもよい。

また、搬送部８０が有する搬送要素の種類、搬送要素の個数および配置については、上記各実施形態の例に限定されるものではなく、必要に応じて適宜に変更することができる。

また、基材５の主面Ｓ１、Ｓ２への塗布液の供給態様は特に限定されるものではない。上記実施形態のようにスリットノズルを用いて主面Ｓ１、Ｓ２の塗布液を供給する態様の他に、例えば、スプレーノズルを用いて基材５の主面Ｓ１、Ｓ２の塗布液を供給する態様（いわゆる、スプレー塗布）でもよい。また、上記実施形態のように１つのスリット開口から各主面Ｓ１、Ｓ２上の１つの領域に塗布液を供給する態様の他に、例えば、基材５の幅方向に間隔をあけて設けられた複数のスリット開口から各主面Ｓ１、Ｓ２上の複数の領域に塗布液を供給する態様（いわゆる、ストライプ塗布）でもよい。

以上、実施形態およびその変形例に係る基材処理装置について説明したが、これらは本発明に好ましい実施形態の例であって、本発明の実施の範囲を限定するものではない。本発明は、その発明の範囲内において、各実施形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施形態において任意の構成要素の増減が可能である。

１基材処理装置
５基材
１１、１２塗工ノズル
４０乾燥部
４１予熱部
４２加熱部
４３冷却部
５０、５５気体供給部
６０、６５吸気部
８０搬送部
８６湾曲領域
９０制御部
６１１、６１２吸気口
Ｓ１、Ｓ２主面

Claims

主面に塗布液が供給された長尺帯状の基材を搬送経路に沿って搬送し、前記搬送経路が前記主面を内側にして前記基材を湾曲させる湾曲領域を含む、搬送部と、
前記湾曲領域の内側に配置され、前記湾曲領域を通過する前記主面に対して気体を供給する気体供給口を有し、供給される前記気体により前記基材を支持する気体供給部と、
湾曲前後の前記主面に挟まれた間隙を、前記搬送経路の上流側に位置する上流側空間と前記搬送経路の下流側に位置する下流側空間とに仕切る板状部材である仕切り部と、
前記仕切り部に対して前記湾曲領域とは反対側の位置に設けられ、前記間隙の雰囲気を吸う吸気口を有する吸気部と、
を備え、
前記吸気部は吸気ボックスを有し、当該吸気ボックスは前記仕切り部の一方側の端部が取り付けられる面を有し、当該面の前記仕切り部よりも搬送上流側には前記吸気口として第１吸気口が開口するとともに、当該面の前記仕切り部よりも搬送下流側には前記吸気口として第２吸気口が開口する、基材処理装置。
請求項１に記載の基材処理装置であって、
前記吸気部の前記吸気口は、前記気体供給部に向けて前記間隙に対して開口する、基材処理装置。
請求項１または請求項２に記載の基材処理装置であって、
前記気体供給部は、前記気体供給口から前記湾曲領域における前記主面に対して加熱された気体を供給する、基材処理装置。
請求項１から請求項３のいずれか１つの請求項に記載の基材処理装置であって、
前記湾曲領域における前記主面に赤外線を照射する赤外線照射部、
をさらに備える、基材処理装置。
請求項４に記載の基材処理装置であって、
前記気体供給部は、赤外線を透過可能であり且つ中空領域を有する本体部を有し、
前記赤外線照射部は前記中空領域に配される、基材処理装置。
請求項１から請求項５のいずれか１つの請求項に記載の基材処理装置であって、
前記搬送経路は複数の前記湾曲領域を含み、
前記気体供給部は、前記複数の湾曲領域のそれぞれについて、前記複数の湾曲領域を通過する前記主面に対して気体を供給する前記気体供給口を有し、
前記吸気部は、前記複数の湾曲領域のそれぞれについて、湾曲前後の前記主面に挟まれた間隙の雰囲気を吸う前記吸気口を有する、基材処理装置。
請求項６に記載の基材処理装置であって、
前記搬送経路に沿って下流側にある前記気体供給口からの単位時間あたりの気体供給量が、前記搬送経路に沿って上流側にある前記気体供給口からの単位時間あたりの気体供給量よりも大きい、基材処理装置。
請求項６または請求項７に記載の基材処理装置であって、
前記搬送経路に沿って下流側にある前記吸気口からの単位時間あたりの吸気量が、前記搬送経路に沿って上流側にある前記吸気口からの単位時間あたりの吸気量よりも大きい、基材処理装置。