JP6710582B2 - 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
次に、図1に示された第2処理装置の具体的な構成について、図2を参照して説明する。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
次に、第2処理装置10の処理ユニット16の概略構成について図3を参照して説明する。
次に、第2処理装置10のUV処理室(基板処理室)22の概略構成について図4を参照して説明する。
次に、基板処理システム60の具体的動作について図5を参照して説明する。図5は、本実施形態に係る基板処理方法を示すフローチャートである。なお、図5に示す各処理工程は、第1制御装置61または第2制御装置4の制御の下で自動的に行うことができる。
しかしながら、
− 第1のUVランプ23Aのみによる照射により所望のポリマー残渣除去促進効果及び所望の除電効果の両方を達成するために必要なUV照射時間と、
− 第1のUVランプ23Aによって所望のポリマー残渣除去促進効果を達成するために必要なUV照射時間と、第1のUVランプ23AによるUV照射の後に第2のUVランプ23Aによって所望のレベルまで帯電を低下させるために必要なUV照射時間の和と、
を比較すると、後者の方が短い。
このため、第1のUVランプ23Aと第2のUVランプ23Bとを別々の処理ユニットに設けたとしても、第1のUVランプ23Aのみを用いる場合よりも有利である。
10 液処理装置(第2処理装置)
23A 第1の紫外線(UV)ランプ
23B 第2の紫外線(UV)ランプ
Claims (7)
- 基板液処理方法において、
ドライエッチングが施されることによって表面にポリマー残渣が付着した基板に、第1の紫外線ランプから第1のピーク波長を有する紫外線を照射することと、
その後に、前記基板にポリマー除去能力を有する洗浄液を供給することと、
を備え、
前記基板に紫外線を照射するために、前記第1のピーク波長を有する紫外線を照射する前記第1の紫外線ランプと、前記第1のピーク波長よりも短い第2のピーク波長を有する紫外線を照射する第2の紫外線ランプとが同じチャンバ内に準備され、前記第1のピーク波長の紫外線は前記第2のピーク波長の紫外線と比較してポリマー残渣除去促進効果に優れ、前記第2のピーク波長の紫外線は前記第1のピーク波長の紫外線と比較して除電効果に優れており、
前記基板液処理方法は、さらに、
ドライエッチングが施された後の前記基板の帯電量に基づいて前記第2の紫外線ランプから前記基板に紫外線を照射すべきか否かを判断することと、
前記第2の紫外線ランプから前記基板に紫外線を照射すべきと判断されたときに、前記第1の紫外線ランプからの紫外線の照射と同時に、前記第2の紫外線ランプから前記基板に紫外線を照射することと
を備えたことを特徴とする、基板液処理方法。 - 前記基板の帯電量が、前記第1の紫外線ランプからの紫外線の照射によって除電可能な帯電量を上回っているときに、前記基板に前記第2の紫外線ランプから紫外線を照射すべきと判断される、請求項1記載の基板液処理方法。
- 前記基板に前記第2の紫外線ランプから紫外線を照射するかしないかを判断することは、その基板においてドライエッチングが施された後に測定された帯電量に基づいて行われる、請求項2記載の基板液処理方法。
- 前記第2の紫外線ランプからの紫外線の照射時間は、前記第1の紫外線ランプからの紫外線の照射時間以下の範囲で設定される、請求項1から3のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 前記基板に前記第2の紫外線ランプから紫外線を照射するかしないかを判断することは、当該基板の帯電量が、当該基板と同じ構成を有しかつ同じ条件でドライエッチングが施された他の基板において予め測定された帯電量と同じであるとみなして、前記他の基板において予め測定された帯電量に基づいて行われる、請求項2記載の基板液処理方法。
- 前記第1のピーク波長は200nm〜350nmの範囲内であり、
前記第2のピーク波長は200nm〜300nmの範囲内である、
請求項1から5のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。 - 第1のピーク波長を有する紫外線を基板に照射する第1の紫外線ランプと、
前記第1のピーク波長よりも短い第2のピーク波長を有する紫外線を基板に照射する第2の紫外線ランプと、
前記第1の紫外線ランプおよび前記第2の紫外線ランプを収容する単一のチャンバと、
基板にポリマー除去液を供給することにより、基板の表面に付着したポリマー残渣を除去するための液処理を行う液処理装置と、
ドライエッチング後の前記基板の帯電量または当該帯電量に対応する情報に基づいて前記基板に前記第2の紫外線ランプから紫外線を照射すべきか否かを判断し、その判断結果に基づいて、前記基板に前記第1の紫外線ランプから紫外線を照射すること、または前記第1の紫外線ランプ及び前記第2の紫外線ランプの両方から紫外線を照射することのいずれかを行わせる制御部と、
前記制御部は、前記第1の紫外線ランプ及び前記第2の紫外線ランプの両方から紫外線を照射する場合には、前記第2の紫外線ランプからの紫外線の照射を前記第1の紫外線ランプからの紫外線の照射と同時に行わせ、
前記第1のピーク波長の紫外線は前記第2のピーク波長の紫外線と比較してポリマー残渣除去促進効果に優れ、前記第2のピーク波長の紫外線は前記第1のピーク波長の紫外線と比較して除電効果に優れている、基板処理システム。
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