JP6693476B2 - 冷却装置 - Google Patents
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Description
また、定常的に沸騰冷却を行う設計とした場合、沸騰を持続させる必要が生じる。それゆえ、そのための制御が複雑となるという課題もある。
上記冷却器に冷媒を循環させる循環装置(4)と、
上記パワー半導体素子の温度を検出する半導体温度検出部(51)と、
上記冷却器内の一部であって上記パワー半導体素子から受熱する部分である受熱部(31)よりも上流側における、冷媒の温度を検出する冷媒温度検出部(52)と、
上記電力変換器の出力を取得する出力取得部(61)と、
上記半導体温度検出部による検出半導体温度(Tr)と、上記冷媒温度検出部による検出冷媒温度(Ts)と、上記出力取得部による取得出力(P)と、に基づいて、上記冷却器における冷媒の流速を制御する流速制御部(62)と、
を有し、
上記電力変換器の出力領域を、所定の閾値(α)以下の第1出力領域(A1)と、上記閾値を超える第2出力領域(A2)とに分けたとき、
上記流速制御部は、上記第1出力領域においては、上記受熱部における冷媒の状態が非沸騰状態を保つ範囲にて冷媒の流速を制御し、上記第2出力領域においては、上記受熱部における冷媒の状態が非沸騰状態と核沸騰状態とのいずれかとなる範囲にて冷媒の流速を制御し、上記第2出力領域における冷媒の流速は、上記第1出力領域における冷媒の流速の上限値(V0)以上とする、冷却装置(1)にある。
また、流速制御部は、第2出力領域においては、冷媒の状態が非沸騰状態と核沸騰状態とのいずれかとなる範囲にて冷媒の流速を制御する。これにより、第2出力領域において、パワー半導体素子から冷媒への熱流束が大きくなりやすい核沸騰域における沸騰冷却を利用することができる。
なお、特許請求の範囲及び課題を解決する手段に記載した括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
冷却装置に係る実施形態について、図1〜図5を参照して説明する。
本実施形態の冷却装置1は、図1に示すごとく、冷却器3と、循環装置4と、半導体温度検出部51と、冷媒温度検出部52と、出力取得部61と、流速制御部62と、を有する。
また、直線Nは、核沸騰状態にある冷媒によって冷却される場合のパワー半導体素子21の温度を示す。直線Nは、上記実線Lと重なる部分以外が、細かい破線にて示されている。
電力変換器2の運転時、ステップS1において、半導体温度検出部51によって、パワー半導体素子21の温度Trを検出する。また、ステップS2において、出力取得部61によって、電力変換器2の出力Pを取得する。本実施形態においては、図1、図2に示すごとく、電力変換器2から回転電機102への出力配線に電流計103が設けてある。また、電力変換器2には、高電位配線22Hと低電位配線22Lとの間に印加される電圧を検出する電圧計104が設けてある。
Tj[℃]=Ts[℃]+Rth[℃/W]×W[W]
ここで、Rthは、設定流速Vにおけるパワー半導体素子21と冷媒との間の熱抵抗である。この熱抵抗Rthは、例えば、各設定流速Vにおいて予め測定しておいた熱抵抗の測定値、或いは、設定流速Vに応じて導出式を用いて得られる熱抵抗の計算値である。
また、Wは、出力電力Pにおける、パワー半導体素子21の損失である。この損失Wは、各取得出力Pにおいて、電圧計104による検出電圧値、電流計103による検出電流値から導いたパワー半導体素子21の損失値である。この損失Wは、予め測定して得られたマップから導かれる損失値、或いは損失導出式から計算した損失値とすることができる。
この制御フローを、周期的に繰り返すことで、適切な冷媒の流速Vを逐次設定して、その設定値の流速にて冷媒が流れるように、循環装置4を制御する。これにより、効率的なパワー半導体素子21の冷却を行う。
上記冷却装置1において、流速制御部62は、上述のように、電力変換器2の出力領域を、第1出力領域A1と第2出力領域A2とに分けて、冷媒の流量制御を行う。すなわち、パワー半導体素子21の発熱量が比較的小さくなる第1出力領域A1と、パワー半導体素子21の発熱量が比較的大きくなる第2出力領域A2とに分けて、流速制御を行う。これにより、第1出力領域A1においては、簡素な制御にて、液相冷却を用いてパワー半導体素子21を冷却し、第2出力領域A2においては、沸騰冷却を効果的に利用しつつ効率的な冷却を行うことができる。
冷媒の沸騰状態には、過熱度に応じて互いに状態が異なる、核沸騰状態と遷移沸騰状態と膜沸騰状態とがあることが知られている。図5の沸騰曲線のグラフは、横軸に過熱度の対数logΔTsat、縦軸に熱流束の対数logqを取った両対数グラフである。そして、沸騰曲線Bは、非沸騰域b0から膜沸騰域b3までの冷媒の熱流束の変化を示している。ここで、上述のように、過熱度とは、冷媒への伝熱面の温度と、冷媒の飽和温度との差分である。また、熱流束は、冷却能力の指標となる。
本実施形態の冷却装置1においては、図6に示すごとく、第2出力領域A2において、推定半導体温度Tjと検出半導体温度Trとの差分ΔTが所定値T1以上となったとき、流速制御部62が冷媒の流速Vを上昇させる。
その他、実施形態1と同様の作用効果を有する。
2 電力変換器
21 パワー半導体素子
3 冷却器
31 受熱部
4 循環装置
51 半導体温度検出部
52 冷媒温度検出部
61 出力取得部
62 流速制御部
Claims (6)
- 内部に液状の冷媒を流通させて、電力変換器(2)のパワー半導体素子(21)を冷却する冷却器(3)と、
上記冷却器に冷媒を循環させる循環装置(4)と、
上記パワー半導体素子の温度を検出する半導体温度検出部(51)と、
上記冷却器内の一部であって上記パワー半導体素子から受熱する部分である受熱部(31)よりも上流側における、冷媒の温度を検出する冷媒温度検出部(52)と、
上記電力変換器の出力を取得する出力取得部(61)と、
上記半導体温度検出部による検出半導体温度(Tr)と、上記冷媒温度検出部による検出冷媒温度(Ts)と、上記出力取得部による取得出力(P)と、に基づいて、上記冷却器における冷媒の流速を制御する流速制御部(62)と、
を有し、
上記電力変換器の出力領域を、所定の閾値(α)以下の第1出力領域(A1)と、上記閾値を超える第2出力領域(A2)とに分けたとき、
上記流速制御部は、上記第1出力領域においては、上記受熱部における冷媒の状態が非沸騰状態を保つ範囲にて冷媒の流速を制御し、上記第2出力領域においては、上記受熱部における冷媒の状態が非沸騰状態と核沸騰状態とのいずれかとなる範囲にて冷媒の流速を制御し、上記第2出力領域における冷媒の流速は、上記第1出力領域における冷媒の流速の上限値(V0)以上とする、冷却装置(1)。 - 上記第1出力領域は、上記電力変換器が連続運転する定常出力の領域であり、上記第2出力領域は、上記定常出力を超える高出力にて上記電力変換器が一時的に運転する非定常出力の領域である、請求項1に記載の冷却装置。
- 上記第2出力領域において、上記受熱部における冷媒の核沸騰状態が、所定時間継続したとき、上記流速制御部は、冷媒の流速を上昇させる、請求項1又は2に記載の冷却装置。
- 上記第2出力領域において、上記受熱部における冷媒の非沸騰状態が、所定時間継続したとき、上記流速制御部は、冷媒の流速を低下させる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の冷却装置。
- 上記流速制御部によって設定された冷媒の設定流速と、上記検出冷媒温度と、上記取得出力とに基づいて、上記第2出力領域において仮に液相冷却が行われているとした場合の上記パワー半導体素子の温度である推定半導体温度(Tj)を算出する、温度推定部(63)と、
上記推定半導体温度と上記検出半導体温度との差分(ΔT)に基づいて、上記受熱部における冷媒の状態が、核沸騰状態であるか非沸騰状態であるかを判定する、沸騰状態判定部(64)と、
を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の冷却装置。 - 上記第2出力領域において、上記推定半導体温度と上記検出半導体温度との差分が所定値以上となったとき、上記流速制御部は、冷媒の流速を上昇させる、請求項5に記載の冷却装置。
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