JP6691774B2 - 研磨用組成物およびその製造方法 - Google Patents
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Description
ここに開示される砥粒の材質や性状は特に制限されず、研磨用組成物の使用目的や使用態様等に応じて適宜選択することができる。砥粒の例としては、無機粒子、有機粒子、および有機無機複合粒子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、シリカ粒子、アルミナ粒子、酸化セリウム粒子、酸化クロム粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化マグネシウム粒子、二酸化マンガン粒子、酸化亜鉛粒子、ベンガラ粒子等の酸化物粒子;窒化ケイ素粒子、窒化ホウ素粒子等の窒化物粒子;炭化ケイ素粒子、炭化ホウ素粒子等の炭化物粒子;ダイヤモンド粒子;炭酸カルシウムや炭酸バリウム等の炭酸塩等が挙げられる。有機粒子の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)粒子やポリ(メタ)アクリル酸粒子(ここで(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸およびメタクリル酸を包括的に指す意味である。)、ポリアクリロニトリル粒子等が挙げられる。このような砥粒は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ここに開示される研磨用組成物は、窒素原子上に炭素原子数3以上の有機基を少なくとも1つ有する第4級アンモニウムカチオン(典型的には、上記一般式(A)により表される第4級アンモニウムカチオン)を含有する。上記研磨用組成物は、このような第4級アンモニウムカチオンの1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を組み合わせて含んでいてもよい。研磨用組成物に上記第4級アンモニウムカチオンを含有させることによって、表面品質への影響を抑えつつ、研磨レートを効果的に向上させることができる。以下の考察は本発明の範囲を限定するものではないが、このような効果が得られる理由として、上記第4級アンモニウムカチオンの分子構造の寄与によって砥粒が研磨対象物表面に留まりやすくなることが考えられる。すなわち、研磨用組成物中において砥粒表面がマイナスに帯電している場合、上記第4級アンモニウムカチオンは該砥粒表面に吸着しやすいといえる。一方、上記炭素原子数3以上の有機基は、疎水性の研磨対象物表面に対する親和性を示しやすい傾向にある。この親和性によって砥粒が研磨対象物表面に留まりやすくなるので該砥粒によるメカニカルな研磨作用をより効果的に及ぼすことができ、かつ、上記有機基を有する第4級アンモニウムカチオンが砥粒に吸着していることにより表面品質の低下が抑制されるものと考えられる。
個々の置換基の炭素原子数の上限は特に限定されないが、研磨用組成物の調製容易性や保存安定性等の観点から、通常は30以下であることが好ましく、25以下であることがより好ましく、20以下であることがさらに好ましい。好ましい一態様において、アンモニウム(A)の個々の置換基の炭素原子数は8以下(より好ましくは6以下)であり得る。
ここに開示される研磨用組成物を構成する水としては、イオン交換水(脱イオン水)、純水、超純水、蒸留水等を好ましく用いることができる。使用する水は、研磨用組成物に含有される他の成分の働きが阻害されることを極力回避するため、例えば遷移金属イオンの合計含有量が100ppb以下であることが好ましい。例えば、イオン交換樹脂による不純物イオンの除去、フィルタによる異物の除去、蒸留等の操作によって水の純度を高めることができる。
ここに開示される研磨用組成物は、必要に応じて、水と均一に混合し得る有機溶剤(低級アルコール、低級ケトン等)をさらに含有してもよい。通常は、研磨用組成物に含まれる溶媒の90体積%以上が水であることが好ましく、95体積%以上(典型的には99〜100体積%)が水であることがより好ましい。
ここに開示される研磨用組成物には、任意成分として、水溶性ポリマーを含有させることができる。水溶性ポリマーの種類は特に制限されず、研磨用組成物の分野において公知の水溶性ポリマーのなかから適宜選択することができる。水溶性ポリマーは、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
EOとPOとのブロック共重合体またはランダム共重合体において、該共重合体を構成するEOとPOとのモル比(EO/PO)は、水への溶解性や洗浄性等の観点から、1より大きいことが好ましく、2以上であることがより好ましく、3以上(例えば5以上)であることがさらに好ましい。
ここに開示される研磨用組成物は、任意成分として、pH調整等の目的で塩基性化合物(アンモニウム(A)の水酸化物およびその塩に該当するものを除く。)を含有してもよい。
ここに開示される研磨用組成物には、任意成分として、界面活性剤(典型的には、分子量1×104未満の水溶性有機化合物)を含ませることができる。界面活性剤の使用により、研磨用組成物の分散安定性が向上し得る。また、研磨面のヘイズを低減することが容易となり得る。界面活性剤は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の分子量のより好ましい範囲は、界面活性剤の種類によっても異なり得る。例えば、界面活性剤としてEOとPOとのブロック共重合体を用いる場合には、Mwが1000以上のものが好ましく、2000以上のものがより好ましく、5000以上のものがさらに好ましい。
あるいは、組成の単純化等の観点から、ここに開示される研磨用組成物は、界面活性剤を実質的に含まない態様でも好ましく実施され得る。
ここに開示される研磨用組成物は、本発明の効果が著しく妨げられない範囲で、キレート剤、有機酸、有機酸塩、無機酸、無機酸塩、防腐剤、防カビ剤等の、研磨用組成物(典型的には、シリコンウエハのファイナルポリシングに用いられる研磨用組成物)に用いられ得る公知の添加剤を、必要に応じてさらに含有してもよい。
防腐剤および防カビ剤の例としては、イソチアゾリン系化合物、パラオキシ安息香酸エステル類、フェノキシエタノール等が挙げられる。
ここに開示される研磨用組成物は、種々の材質および形状を有する研磨対象物の研磨に適用され得る。研磨対象物の形状は特に制限されない。ここに開示される研磨用組成物は、例えば、板状や多面体状等の、平面を有する研磨対象物の研磨に好ましく適用され得る。
ここに開示される研磨用組成物は、典型的には該研磨用組成物を含む研磨液の形態で研磨対象物に供給されて、その研磨対象物の研磨に用いられる。上記研磨液は、例えば、ここに開示されるいずれかの研磨用組成物を希釈(典型的には、水により希釈)して調製されたものであり得る。あるいは、該研磨用組成物をそのまま研磨液として使用してもよい。すなわち、ここに開示される技術における研磨用組成物の概念には、研磨対象物に供給されて該研磨対象物の研磨に用いられる研磨液(ワーキングスラリー)と、希釈して研磨液として用いられる濃縮液(研磨液の原液)との双方が包含される。ここに開示される研磨用組成物を含む研磨液の他の例として、該組成物のpHを調整してなる研磨液が挙げられる。
ここに開示される研磨用組成物は、研磨対象物に供給される前には濃縮された形態(すなわち、研磨液の濃縮液の形態)であってもよい。このように濃縮された形態の研磨用組成物は、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から有利である。濃縮倍率は、例えば、体積換算で2倍〜100倍程度とすることができ、通常は5倍〜50倍程度が適当である。好ましい一態様に係る研磨用組成物の濃縮倍率は10倍〜40倍である。
ここに開示される研磨用組成物の製造方法は特に限定されない。例えば、翼式攪拌機、超音波分散機、ホモミキサー等の周知の混合装置を用いて、研磨用組成物に含まれる各成分を混合するとよい。これらの成分を混合する態様は特に限定されず、例えば全成分を一度に混合してもよく、適宜設定した順序で混合してもよい。
ここに開示される研磨用組成物は、例えば以下の操作を含む態様で、研磨対象物の研磨に使用することができる。以下、ここに開示される研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨する方法の好適な一態様につき説明する。
すなわち、ここに開示されるいずれかの研磨用組成物を含む研磨液(典型的にはスラリー状の研磨液であり、研磨スラリーと称されることもある。)を用意する。上記研磨液を用意することには、研磨用組成物に濃度調整(例えば希釈)、pH調整等の操作を加えて研磨液を調製することが含まれ得る。あるいは、上記研磨用組成物をそのまま研磨液として使用してもよい。また、多剤型の研磨用組成物の場合、上記研磨液を用意することには、それらの剤を混合すること、該混合の前に1または複数の剤を希釈すること、該混合の後にその混合物を希釈すること、等が含まれ得る。
なお、上記研磨工程で使用される研磨パッドは特に限定されない。例えば、不織布タイプ、スウェードタイプ、砥粒を含むもの、砥粒を含まないもの等のいずれを用いてもよい。
ここに開示される研磨用組成物を用いて研磨された研磨物は、典型的には、研磨後に洗浄される。この洗浄は、適当な洗浄液を用いて行うことができる。使用する洗浄液は特に限定されず、例えば、半導体等の分野において一般的なSC−1洗浄液(水酸化アンモニウム(NH4OH)と過酸化水素(H2O2)と水(H2O)との混合液)、SC−2洗浄液(HClとH2O2とH2Oとの混合液)等を用いることができる。洗浄液の温度は、例えば常温〜90℃程度とすることができる。洗浄効果を向上させる観点から、50℃〜85℃程度の洗浄液を好ましく使用し得る。
(実施例1)
砥粒、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド(TBAH;ブチル基はいずれも直鎖ブチル基)、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)および脱イオン水を混合して、研磨用組成物の濃縮液を調製した。この濃縮液を脱イオン水で20倍に希釈して、本例に係る研磨用組成物を調製した。
砥粒としては、平均一次粒子径DP1が35nmであり、平均二次粒子径DP2が66nmであるコロイダルシリカを使用した。上記平均一次粒子径は、マイクロメリテックス社製の表面積測定装置、商品名「Flow Sorb II 2300」を用いて測定されたものである。また、上記平均二次粒子径は、日機装株式会社製の型式「UPA−UT151」を用いて測定された体積平均二次粒子径である。
HECとしては、Mwが120×104のものを使用した。
砥粒、TBAHおよびHECの使用量は、研磨用組成物中における砥粒の含有量が0.46%となり、TBAHの含有量が0.010%となり、HECの含有量が0.012%となる量とした。この研磨用組成物のpHは9.9であった。
本例に係る研磨用組成物中の砥粒含有量に対するTBAH含有量の比(以下、「TBAH/砥粒」と記載)は、2.17%であった。
研磨用組成物中における含有量が0.015%となるようにTBAHの使用量を変更した他は実施例1と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
本例に係る研磨用組成物の(TBAH/砥粒)は、3.26%であった。
研磨用組成物中における含有量が0.020%となるようにTBAHの使用量を変更した他は実施例1と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
本例に係る研磨用組成物の(TBAH/砥粒)は、4.35%であった。
HECとして、Mwが50×104のものを使用したことと、研磨用組成物中における砥粒の含有量が0.11%となり、TBAHの含有量が0.005%となるように、砥粒とTBAHの使用量を変更した他は実施例1と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
本例に係る研磨用組成物の(TBAH/砥粒)は、4.55%であった。
研磨用組成物中におけるアンモニア(NH3)の含有量が0.001%となる量のアンモニア水(濃度29%)をさらに使用した他は実施例4と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
本例に係る研磨用組成物の(TBAH/砥粒)は、4.55%であった。
本例では、TBAHに代えて、研磨用組成物中における含有量が0.013%となる量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)を使用した。その他の点は実施例1と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
研磨用組成物中における含有量が0.001%となるようにHECの使用量を変更した他は比較例1と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
HECを使用しない他は比較例1と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
本例では、TBAHに代えて、研磨用組成物中における含有量が0.010%となる量のテトラエチルアンモニウムヒドロキシド(TEAH)を使用した。その他の点は実施例1と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
砥粒、水酸化カリウム(KOH)、HECおよび脱イオン水を混合して、研磨用組成物の濃縮液を調製した。この濃縮液を脱イオン水で20倍に希釈して、本例に係る研磨用組成物を調製した。
砥粒およびHECとしては、実施例1と同じものを使用した。
砥粒、KOHおよびHECの使用量は、研磨用組成物中における砥粒の含有量が0.46%となり、KOHの含有量が0.023%となり、HECの含有量が0.012%となる量とした。この研磨用組成物のpHは10.6であった。
研磨用組成物中における含有量が0.001%となるようにHECの使用量を変更した他は比較例5と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
本例では、KOHに代えて、研磨用組成物中におけるアンモニア(NH3)含有量が0.027%となる量のアンモニア水(濃度29%)を使用した。その他の点は比較例5と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。
各例に係る研磨用組成物をそのまま研磨液として使用して、研磨対象物の表面を下記の条件で研磨した。研磨対象物としては、以下の2種類のシリコンウエハを、それぞれ研磨スラリー(株式会社フジミインコーポレーテッド製、商品名「GLANZOX 2100」)を用いて予備研磨を行うことにより表面粗さ0.1nm〜10nmに調整して使用した。
(Wafer 1)
直径150mm、伝導型P型、結晶方位<100>、抵抗率0.002〜0.005Ω・cmのシリコンウエハ(低抵抗ウエハ)。
(Wafer 2)
直径150mm、伝導型P型、結晶方位<100>、抵抗率1.00〜100Ω・cmのシリコンウエハ。
研磨機 :不二越機械工業株式会社製、型式「SPM−15」
研磨パッド :フジミインコーポレーテッド株式会社製、スエード研磨パッド「Surfin 000FM」
研磨加重 :15kPa
定盤回転数 :25rpm
キャリア回転数 :25rpm
研磨液の温度 :20℃
研磨液の供給速度 :600mL/分
研磨時間
Wafer 1 :30分
Wafer 2 :15分
研磨後のシリコンウエハを、SC−1洗浄液を用いて洗浄した。より具体的には、第1の洗浄槽と、周波数750kHzの超音波発振器を取り付けた第2の洗浄槽とを用意し、第1の洗浄槽はSC−1洗浄液を収容して80℃に保持し、第2の洗浄槽は脱イオン水を収容して23℃に保持した。研磨後のシリコンウエハを、第1の洗浄槽に3分、次いで第2の洗浄槽に3分、第2の洗浄槽については上記超音波発振器を作動させた状態で浸漬した。
研磨前のシリコンウエハの質量および洗浄後のシリコンウエハの質量を測定し、その差に基づいて研磨レート(nm/分)を算出した。得られた結果を表1および表2に示した。
洗浄後のシリコンウエハ表面につき、AMS−AWIS3110(ADE社製の製品名)を用いてヘイズを測定した。得られた結果を表1および表2に示した。
実施例1〜3の研磨用組成物から砥粒およびTBAHの含有量を減らし、かつ、より低分子量のHECを含む実施例4および5の研磨用組成物によると、ヘイズ値0.10ppm未満の表面平滑性を確保しつつ、比較例5および比較例7の約1.4倍以上、比較例1および比較例4の約3.5倍以上という高い研磨レートが実現された。
一方、比較例5の研磨用組成物からHECの含有量を減らすことで研磨レートの向上を図った比較例6の研磨用組成物では、ヘイズ値は比較例5と同等に維持されたが、研磨レートはむしろ低下した。比較例1の研磨用組成物からHECの含有量を減らした比較例2の研磨用組成物では、ヘイズ値は比較例1と同等に維持されたが、研磨レートの向上は認められなかった。比較例1の研磨用組成物からHECを除いた比較例3の研磨用組成物では、研磨レートは上昇したが、ヘイズ値が著しく増大した。
一方、比較例1の研磨用組成物からHECの含有量を減らすことで研磨レートの向上を図った比較例2の研磨用組成物では、比較例1に比べて研磨レートは向上したが、ヘイズ値が明らかに増大した。比較例1の研磨用組成物からHECを除いた比較例3の研磨用組成物では、ヘイズ値の増大はさらに顕著であった。また、比較例5の研磨用組成物からHECの含有量を減らした比較例6の研磨用組成物においても、比較例5に比べて研磨レートは向上したが、ヘイズ値が著しく増大した。
Claims (2)
- シリコンウエハの研磨に用いられる研磨用組成物であって、
砥粒と、水と、下記一般式(A):
前記砥粒はコロイダルシリカであり、
前記第4級アンモニウムカチオンはテトラブチルアンモニウムであり、
前記第4級アンモニウムカチオンの含有量は、該第4級アンモニウムカチオンの水酸化物換算の量として、前記砥粒100質量部に対して2〜5質量部であり、
前記水溶性ポリマーはヒドロキシエチルセルロースであり、
前記ヒドロキシエチルセルロースの含有量は、前記砥粒100質量部に対して1〜15質量部であり、
pHが9.0以上11.0以下である、研磨用組成物。 - シリコンウエハの研磨に用いられる研磨用組成物の製造方法であって、
砥粒と、水と、下記一般式(A):
前記砥粒はコロイダルシリカであり、
前記第4級アンモニウムカチオンはテトラブチルアンモニウムであり、
前記第4級アンモニウムカチオンの含有量は、該第4級アンモニウムカチオンの水酸化物換算の量として、前記砥粒100質量部に対して2〜5質量部であり、
前記水溶性ポリマーはヒドロキシエチルセルロースであり、
前記ヒドロキシエチルセルロースの含有量は、前記砥粒100質量部に対して1〜15質量部であり、
pHが9.0以上11.0以下である研磨用組成物を調製することを特徴とする、研磨用組成物の製造方法。
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