JP6689520B2 - 粉粒体処理装置および粉粒体処理方法 - Google Patents

粉粒体処理装置および粉粒体処理方法 Download PDF

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Description

本発明は、粉粒体処理装置および粉粒体処理方法に関する。
従来、樹脂ペレットなどの粉粒体を処理する粉粒体処理装置として、加熱ホッパ内に貯留された粉粒体に対して加熱乾燥を行う加熱乾燥装置が知られている。このような加熱乾燥装置は、粉粒体を貯留する加熱ホッパと、加熱ホッパ内に温風を供給するための気流発生装置および加熱装置とを有している。従来の加熱乾燥装置については、例えば、特許文献1に開示されている。
特許文献1に記載の加熱乾燥装置では、除湿ユニットが吸着ゾーンと再生ゾーンと冷却ゾーンとの3つの領域に区分されている。これにより、吸着ゾーンにおいて配管内の空気を除湿するのと同時に、再生ゾーンにおいて除湿ユニットの有する吸着剤の再生処理を行うことができる(段落0010)。また、この加熱乾燥装置は、吸着剤の再生処理専用の気流発生装置(ブロアー)および加熱装置(ヒーター)を有している。したがって、粉粒体の加熱乾燥処理と同時に、吸着剤の再生処理を常時行うことができる。
特許第2920589号明細書
特許文献1に記載の加熱乾燥装置では、除湿ユニットにおける吸着剤の再生処理を常時行うため、再生処理用の加熱装置を常時駆動させる。このため、再生処理に用いるエネルギーが大きくなるという問題が生じる。
一方、エネルギーの節約のために、再生処理の必要な吸着剤を使用しない場合、加熱乾燥処理を行うと、加熱乾燥装置内の気体の湿度を低下できない。このため、吸着剤を使用しない所謂ドライパージ式の加熱乾燥装置では、湿度が高くなった気体を排出しつつ、乾燥気体を追加する。しかしながら、ドライパージ式の加熱乾燥装置では、加熱乾燥装置内の気体に含まれる水分を積極的に除去する機構を有していないため、当該気体の露点(結露する温度)を十分に下げることができない。
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、再生処理に用いるエネルギーを抑制しつつ、加熱乾燥装置内の気体の露点を低下できる技術を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本願の第1発明は、内部に粉粒体を貯留する乾燥ホッパと、上流側端部が前記乾燥ホッパの上部に設けられた吸気口に接続され、下流側端部が前記乾燥ホッパの内部に設けられた吹出口に接続される循環管路と、前記循環管路に介挿され、前記循環管路内に前記吸気口から前記吹出口へと向かう気流を発生させる気流発生装置と、前記気流発生装置の下流側において前記循環管路に介挿され、前記循環管路内の気体を加熱する加熱装置と、を備えた粉粒体処理装置であって、上流側端部が前記気流発生装置の下流側かつ前記加熱装置の上流側の第1接続部において前記循環管路と接続され、下流側端部が前記吸気口の下流側かつ前記気流発生装置の上流側の第2接続部において前記循環管路と接続されるバイパス管路と、前記バイパス管路に介挿される脱湿装置と、前記脱湿装置の下流側かつ前記第2接続部の上流側において、前記バイパス管路に介挿される第1開閉弁と、上流側端部が前記脱湿装置の下流側かつ前記第1開閉弁の上流側の第3接続部において前記バイパス管路に接続される排出管路と、前記排出管路に介挿される第2開閉弁と、を有し、前記第2開閉弁を開放することにより、前記循環管路から前記バイパス管路へ分岐した気体が、前記脱湿装置を通過した後、前記排出管路から外部に排出される
本願の第2発明は、第1発明の粉粒体処理装置であって、前記脱湿装置の周囲に配置され、前記脱湿装置の吸湿部材を加熱する再生ヒータをさらに有する。
本願の第3発明は、第1発明の粉粒体処理装置であって、前記第1接続部の下流側かつ前記脱湿装置の上流側において前記バイパス管路に介挿され、前記バイパス管路内の気体を加熱する再生ヒータをさらに有する。
本願の第4発明は、第1発明ないし第3発明のいずれかの粉粒体処理装置であって、前記第1接続部の下流側および前記加熱装置の上流側の第4接続部において、前記循環管路内に乾燥気体を供給する乾燥気体供給部をさらに有する。
本願の第5発明は、第4発明の粉粒体処理装置であって、前記乾燥気体は、不活性ガスである、粉粒体処理装置。
本願の第6発明は、第5発明の粉粒体処理装置であって、前記乾燥気体は、窒素ガスである。
本願の第7発明は、第4発明ないし第6発明のいずれかの粉粒体処理装置であって、前記吸気口の下流側および前記気流発生装置の上流側の第5接続部において前記循環管路に接続される第2排出管路と、前記第2排出管路に介挿される開閉弁と、をさらに有する。
本願の第8発明は、第1発明ないし第7発明のいずれかの粉粒体処理装置であって、前記第1接続部の下流側かつ前記脱湿装置の上流側において前記バイパス管路に介挿される流量制御弁をさらに有する。
本願の第9発明は、内部に粉粒体を貯留する乾燥ホッパと、上流側端部が前記乾燥ホッパの上部に設けられた吸気口に接続され、下流側端部が前記乾燥ホッパの内部に設けられた吹出口に接続される循環管路と、前記循環管路に介挿され、前記循環管路内に前記吸気口から前記吹出口へと向かう気流を発生させる気流発生装置と、前記気流発生装置の下流側において前記循環管路に介挿され、前記循環管路内の気体を加熱する加熱装置と、を備えた粉粒体処理装置を用いた粉粒体処理方法であって、前記粉粒体処理装置は、端部が、前記気流発生装置の下流側かつ前記加熱装置の上流側の第1接続部と、前記吸気口の下流側かつ前記気流発生装置の上流側の第2接続部とにおいて前記循環管路と接続し、吸湿部材を有する脱湿装置が介挿されるバイパス管路をさらに備え、a)前記気流発生装置および前記加熱装置を駆動させつつ、前記循環管路から前記バイパス管路へ分岐した気体を、前記脱湿装置を通過させた後、前記循環管路内へと還流させる工程と、b)前記気流発生装置および前記加熱装置を駆動させつつ、前記循環管路から前記バイパス管路へ分岐した気体を、前記脱湿装置を通過させた後、外部に排出させる工程と、を有し、前記工程a)と前記工程b)とを交互に行う。
本願の第10発明は、第9発明の粉粒体処理方法であって、前記工程b)において、前記吸湿部材が加熱される。
本願の第11発明は、第9発明の粉粒体処理方法であって、前記工程b)において、前記吸湿部材には、前記循環管路内から前記バイパス管路へ分岐した前記気体が加熱されて供給される。
本願の第12発明は、第9発明ないし第11発明のいずれかの粉粒体処理方法であって、前記工程b)において、前記循環管路内に乾燥気体が供給される。
本願の第13発明は、第12発明の粉粒体処理方法であって、前記乾燥気体は、不活性ガスである。
本願の第14発明は、第13発明の粉粒体処理方法であって、前記乾燥気体は、窒素ガスである。
本願の第15発明は、第9発明ないし第14発明のいずれかの粉粒体処理方法であって、前記工程a)において、前記第1接続部の下流側かつ前記加熱装置の上流側において前記循環管路内に前記乾燥気体を供給しつつ、前記第2接続部の下流側かつ前記気流発生装置の上流側において前記循環管路の内部から気体を排出する。
本願の第16発明は、第9発明ないし第15発明のいずれかの粉粒体処理装置であって、前記工程a)および前記工程b)において、前記第1接続部の下流側かつ前記脱湿装置の上流側において前記バイパス管路内を流れる気体の流量が流量制御弁により制御される。
本願の第1発明〜第8発明によれば、粉粒体の加熱乾燥処理中に、第1開閉弁を開放し、第2開閉弁を閉鎖すれば、循環管路を循環する気体の一部がバイパス管路へ分岐し、脱湿装置を通過後に循環管路へ戻ることにより、循環管路内の気体の脱湿を行うことができる。一方、粉粒体の加熱処理中に、第1開閉弁を閉鎖し、第2開閉弁を開放すれば、循環管路を循環する気体の一部が脱湿装置を通過後に排出されることにより、脱湿装置の再生を行うことができる。したがって、粉粒体の加熱処理中に、循環管路内の気体の脱湿処理と、脱湿装置の再生処理とを適宜行うことができる。その結果、再生処理に用いるエネルギーを抑制しつつ、加熱乾燥装置内の気体の露点を低下できる。
本願の第9発明〜第16発明によれば、粉粒体の加熱乾燥処理中に、循環管路を循環する気体の一部がバイパス管路へ分岐し、脱湿装置を通過後に循環管路へ戻ることにより、循環管路内の気体の脱湿を行うことができる。一方、粉粒体の加熱処理中に、循環管路を循環する気体の一部が脱湿装置を通過後に排出されることにより、脱湿装置の再生を行うことができる。したがって、粉粒体の加熱処理中に、循環管路内の気体の脱湿処理と、脱湿装置の再生処理とを適宜行うことができる。その結果、再生処理に用いるエネルギーを抑制しつつ、加熱乾燥装置内の気体の露点を低下できる。
特に、本願の第2発明、第3発明、第10発明および第11発明によれば、脱湿装置の吸湿部材の再生工程において、吸湿部材から水分を放出しやすくなる。したがって、吸湿部材の再生効率を向上できる。
特に、本願の第4発明〜第7発明および第12発明〜第15発明によれば、乾燥気体を供給することにより、循環気体の露点をより低下できる。したがって、粉粒体の乾燥効率を向上できる。
特に、本願の第8発明および第16発明によれば、循環管路からバイパス管路へ分岐する気体の量を制御できる。
第1実施形態に係る加熱乾燥装置の概略図である。 第1実施形態に係る加熱乾燥装置の制御系の構成を示すブロック図である。 第1実施形態に係る加熱乾燥装置における加熱乾燥処理の流れを示すフローチャートである。 第1実施形態に係る加熱乾燥装置における脱湿/再生工程の流れを示すフローチャートである。 一変形例に係る加熱乾燥装置の概略図である。 他の変形例に係る加熱乾燥装置の概略図である。 他の変形例に係る加熱乾燥装置の概略図である。 他の変形例に係る加熱乾燥装置の概略図である。 他の変形例に係る加熱乾燥装置の概略図である。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
<1.第1実施形態>
<1−1.加熱乾燥装置の構成>
図1は、本発明の第1実施形態に係る加熱乾燥装置1の構成を示した概略図である。図2は、加熱乾燥装置1の制御系の構成を示すブロック図である。この加熱乾燥装置は、粉粒体である樹脂ペレット9を加熱乾燥させるための粉粒体処理装置である。
図1に示すように、加熱乾燥装置1は、乾燥ホッパ2、材料供給部3、循環乾燥部4および制御部10を有する。
乾燥ホッパ2は、樹脂ペレット9を内部に貯留する略気密性の容器である。乾燥ホッパ2は、例えば、ステンレスなどの金属により形成される。乾燥ホッパ2は、筒状の側壁21と、側壁21の下端部から下方へ向かうにつれて徐々に収束する漏斗状の底部22と、側壁21の上部の開口を覆う天板部23とを有する。乾燥ホッパ2の内部には、樹脂ペレット9を貯留して加熱乾燥させるための空間が、設けられている。
乾燥ホッパ2の上部には、乾燥ホッパ2内へと樹脂ペレット9を投入するための投入口24が設けられている。本実施形態の投入口24は、天板部23に設けられている。投入口24は、樹脂ペレット9を乾燥ホッパ2内へ投入する際には開放され、加熱乾燥処理時には閉鎖される。
乾燥ホッパ2の下部には、乾燥ホッパ2内から下方へと樹脂ペレット9を排出するための排出口25が設けられている。乾燥ホッパ2内で乾燥された樹脂ペレット9は、排出口25から排出され、射出成形機などの後続の装置へと送られる。本実施形態の排出口25は、底部22の下端部に設けられている。排出口25は、通常閉鎖され、樹脂ペレット9の排出時のみ開放される。
材料供給部3は、乾燥ホッパ2に乾燥前の樹脂ペレット9を供給するための機構である。本実施形態の材料供給部3は、気力輸送装置である。なお、乾燥ホッパ2への樹脂ペレット9の供給は、気力輸送によらなくてもよい。乾燥ホッパ2への樹脂ペレット9の供給は、例えば、オペレータが直接手作業で行ってもよい。
循環乾燥部4は、乾燥ホッパ2内に乾燥用の熱風を供給するための機構である。循環乾燥部4は、循環部50、バイパス部60、排出部70および窒素供給部80を有する。
循環部50は、循環管路51、第1フィルタ52、第1逆止弁53、ブロワ54、第2フィルタ55、第2逆止弁56および乾燥ヒータ57を有する。
循環管路51は、乾燥ホッパ2内に乾燥用の熱風を供給する為に、気体を循環させる配管系である。循環管路51の上流側端部は、乾燥ホッパ2の天板部23に設けられた吸気口26に接続されている。吸気口26には、循環管路51内への樹脂ペレット9の侵入を抑制するために、パンチングメタル等で形成されたフィルタが備えられていてもよい。
循環管路51の下流側端部は、乾燥ホッパ2の側壁21を貫通して、乾燥ホッパ2の内部に配置された吹出口27に接続される。なお、循環管路51の下流側端部は、乾燥ホッパ2の天板部23を貫通して、吹出口27に接続されてもよい。吹出口27は、乾燥ホッパ2の下端部に向けて配置され、下方へ向かうにつれて拡径されている。
循環管路51には、上流側から下流側へ向かって順に、すなわち、吸気口26から吹出口27へ向かって順に、第1フィルタ52、第1逆止弁53、ブロワ54、第2フィルタ55、第2逆止弁56および乾燥ヒータ57が介挿されている。ブロワ54を駆動させると、循環管路51内に、吸気口26から吹出口27へ向かう気流が発生する。
第1フィルタ52は、乾燥ホッパ2から吸気口26を介して循環管路51内へ引き込まれた気体に含まれる微細な粉塵を捕集する。これにより、第1逆止弁53およびブロワ54の内部に粉塵が付着するのが抑制される。
第1逆止弁53は、第1フィルタ52とブロワ54との間において、気体が逆流するのを防止する。第1逆止弁53は、第1フィルタ52側からブロワ54側へと向かう気流を通過させると共に、ブロワ54側から第1フィルタ52側へと向かう気流を遮断する。
ブロワ54は、循環管路51内に吸気口26から吹出口27へ向かう気流を発生させる気流発生装置である。ブロワ54は、制御部10からの駆動信号に応じてファンを回転させる。それにより、ファンの回転に応じた気流が発生する。
第2フィルタ55は、ブロワ54を通過した気体に含まれる微細な粉塵を捕集する。これにより、ブロワ54内で発生した粉塵が、第2逆止弁56および乾燥ヒータ57の内部に付着するのが抑制される。なお、本実施形態では、第2フィルタ55が第1接続部P1と第2逆止弁56との間に配置される。しかしながら、第2フィルタ55は、ブロワ54と第1接続部P1との間に配置されてもよい。
第2逆止弁56は、第2フィルタ55と乾燥ヒータ57との間において、気体が逆流するのを防止する。第2逆止弁56は、第2フィルタ55側から乾燥ヒータ57側へと向かう気流を通過させると共に、乾燥ヒータ57側から第2フィルタ55側へと向かう気流を遮断する。
乾燥ヒータ57は、ブロワ54の下流側において、循環管路51内の気体を加熱する加熱装置である。乾燥ヒータ57には、例えば、電熱式の加熱装置が用いられる。循環管路51内を上流側から下流側へと向かう気体は、乾燥ヒータ57で加熱されることにより熱風となる。そして、当該熱風が、吹出口27から乾燥ホッパ2の内部へ吹き出される。
吹出口27から吹き出された熱風は、乾燥ホッパ2の内部に貯留された樹脂ペレット9の隙間を通って、乾燥ホッパ2内に拡散される。これにより樹脂ペレット9が加熱され、樹脂ペレット9から水分が蒸発して、樹脂ペレット9が乾燥する。すなわち、乾燥ホッパ2内を通過する気体に、樹脂ペレット9から水分が拡散する。また、吸湿した気体は、乾燥ホッパ2から吸気口26を通って、再び循環管路51へ吸引される。
バイパス部60は、バイパス管路61と、脱湿装置62と、再生ヒータ63と、第1開閉弁64とを有する。
バイパス管路61は、循環管路51内を循環する気体の一部を分岐させる配管系である。バイパス管路61の上流側端部は、ブロワ54の下流側かつ乾燥ヒータ57の上流側の第1接続部P1において循環管路51と接続される。また、バイパス管路61の下流側端部は、吸気口26の下流側かつブロワ54の上流側の第2接続部P2において循環管路51と接続される。本実施形態では、第1接続部P1は、ブロワ54と第2フィルタ55との間に配置される。また、第2接続部P2は、吸気口26と第1フィルタ52との間に配置される。
バイパス管路61には、上流側から下流側へ向かって順に、すなわち、第1接続部P1から第2接続部P2へ向かって順に、脱湿装置62および第1開閉弁64が介挿されている。
脱湿装置62は、バイパス管路61内を通過する気体に含まれる水分を吸着する装置である。本実施形態の脱湿装置62は、気体の送風方向に沿って、碁盤目状の貫通孔が複数形成されたハニカム状のセラミック体から構成される吸湿部材を有する。このセラミック体は、水分を吸着可能なゼオライトなどを含有する。なお、吸湿部材は、上記の方式に限らず、他の方式の吸着部材を用いてもよい。
脱湿装置62の吸湿部材は、所定の温度より低い温度において、脱湿装置62内を通過する気体中の水分を吸着する。また、脱湿装置62の吸湿部材は、所定の温度より高い温度において、吸湿部材に吸着された水分を放出する。
再生ヒータ63は、脱湿装置62の周囲に設けられた加熱装置である。再生ヒータ63には、例えば、電熱式の加熱装置が用いられる。再生ヒータ63は、脱湿装置62の吸湿部材を加熱する。再生ヒータ63は、後述する吸湿部材の再生工程において駆動される。再生ヒータ63が駆動すると、脱湿装置62の吸湿部材が加熱され、吸湿部材から水分が放出しやすくなる。これにより、吸湿部材の再生工程において、吸湿部材の再生効率が向上する。
第1開閉弁64は、脱湿装置62と第2接続部P2との間において、バイパス管路61の連通を制御する電磁弁である。第1開閉弁64は、制御部10からの駆動信号に応じて、開成したり閉成したりする。
排出部70は、排出管路71と、第2開閉弁72と、第3逆止弁73とを有する。
排出管路71は、バイパス管路61内の気体を排出するための配管系である。排出管路71の上流側端部は、脱湿装置62の下流側かつ第1開閉弁64の上流側の第3接続部P3においてバイパス管路61と接続される。排出管路71の下流側端部は、大気開放される。
排出管路71には、上流側から下流側へ向かって順に、すなわち、第3接続部P3から反対側の端部へ向かって順に、第2開閉弁72および第3逆止弁73が介挿されている。
第2開閉弁72は、排出管路71の連通を制御する電磁弁である。第2開閉弁72は、制御部10からの駆動信号に応じて、開成したり閉成したりする。
第3逆止弁73は、第2開閉弁72と、排出管路71の下流側端部との間において、気体が逆流するのを防止する。第3逆止弁73は、第2開閉弁72側から排出管路71の下流側端部側へと向かう気流を通過させると共に。排出管路71の下流側端部側から第2開閉弁72側へと向かう気流を遮断する。
窒素供給部80は、窒素供給配管81、窒素供給源82および第3開閉弁83を有する。窒素供給部80は、第1接続部P1の下流側かつ乾燥ヒータ57の上流側の第4接続部P4において、循環管路51内に乾燥気体を供給する乾燥気体供給部である。本実施形態では、第4接続部P4は、第2逆止弁56と乾燥ヒータ57との間に配置される。
なお、乾燥気体とは、露点(結露する温度)が0℃以下の気体である。本実施形態において、循環管路51内に供給される乾燥気体は、窒素ガスである。しかしながら、乾燥気体として、大気と略同一成分により構成される乾燥気体を用いてもよいし、窒素ガス以外の不活性ガスを用いてもよい。
窒素供給配管81は、窒素供給源82から循環管路51内へと窒素ガスを供給するための配管系である。窒素供給配管81の上流側端部は、窒素供給源82に接続される。窒素供給配管81の下流側端部は、第4接続部P4において循環管路51に接続される。窒素供給配管81には、第3開閉弁83が介挿される。
窒素供給源82は、外気圧よりも陽圧の、乾燥した窒素ガスを発生させる窒素ガス発生器である。第3開閉弁83は、窒素供給配管81の連通を制御する電磁弁である。第3開閉弁83は、制御部10からの駆動信号に応じて、開成したり閉成したりする。当該構成により、第3開閉弁83を開放すると、窒素供給源82から窒素供給配管81を通って循環管路51内へ窒素ガスが導入される。
上記構成により、乾燥ホッパ2の投入口24および排出口25が閉鎖された状態において、乾燥ホッパ2、循環管路51、バイパス管路61および排出管路71(より具体的には、排出管路71の第3接続部から第3逆止弁73までの領域)は、略気密状態である。ここで、「略気密状態」とは、内部が外気圧よりも陽圧である場合に、外部から外気が侵入しない状態をいう。以下では、主に乾燥ホッパ2および循環管路51中を循環する気体を「循環気体」と称する。
制御部10は、加熱乾燥装置1の各部を動作制御するための手段である。図2に示すように、制御部10は、投入口24、排出口25、ブロワ54、乾燥ヒータ57、再生ヒータ63、第1開閉弁64、第2開閉弁72および第3開閉弁83と、それぞれ電気的に接続されている。制御部10は、CPU等の演算処理部やメモリを有するコンピュータにより構成されている。なお、制御部10は、電子回路により構成されていてもよい。
制御部10は、予め設定されたプログラムや外部からの入力信号に基づき、上記の各部を動作制御する。これにより、加熱乾燥装置1における加熱乾燥処理、除湿処理および再生処理等の処理が進行する。なお、投入口24および排出口25については、制御部10から切り離して、ユーザが手動で開閉操作を行うようにしてもよい。また、制御部10は、さらに材料供給部3と接続され、材料供給部3を動作制御してもよい。
樹脂ペレット9の加熱乾燥処理のみを行う場合、制御部10は、第1開閉弁64、第2開閉弁72および第3開閉弁83を閉鎖した状態で、ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させる。樹脂ペレット9の加熱乾燥処理と、循環気体の脱湿処理とを同時に行う場合、制御部10は、第1開閉弁64を開放し、第2開閉弁72および第3開閉弁83を閉鎖した状態で、ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させる。また、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理と、脱湿装置62の吸湿部材の再生処理とを同時に行う場合、制御部10は、第1開閉弁64を閉鎖し、第2開閉弁72および第3開閉弁83を開放した状態で、ブロワ54、乾燥ヒータ57および再生ヒータ63を駆動させる。これらの各処理時における加熱乾燥装置1の各部の動作および状態については、後述する。
<1−2.加熱乾燥装置の動作>
次に、上述した加熱乾燥装置1における樹脂ペレット9の処理について、図1、図3および図4を参照しつつ説明する。図3は、加熱乾燥処理における加熱乾燥装置1の動作の流れを示すフローチャートである。図4は、脱湿/再生工程における加熱乾燥装置1の動作の流れを示すフローチャートである。
図3に示すように、この加熱乾燥装置1において、樹脂ペレット9を処理するときには、まず、乾燥ホッパ2が空の状態から、樹脂ペレット9を乾燥ホッパ2に投入する(ステップS1)。このとき、制御部10は、投入口24を開放し、かつ、排出口25を閉鎖した状態で、材料供給部3により樹脂ペレット9の供給を行う。
次に、制御部10は、加熱乾燥処理を開始する(ステップS2)。具体的には、制御部10は、第1開閉弁64、第2開閉弁72および第3開閉弁83を閉鎖した状態で、ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させる。これにより、図1中に実線矢印で示すように、循環管路51内に吸気口26から吹出口27へと向かう気流が発生する。したがって、吸気口26から吸引された気体が循環管路51内を流動し、乾燥ヒータ57で加熱されて吹出口から乾燥ホッパ2内に供給される。その結果、乾燥ホッパ2の内部で、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理が進行する。
続いて、制御部10は、循環気体の脱湿処理が必要であるか否かを判断する(ステップS3)。本実施形態の制御部10は、加熱乾燥処理の開始時からの経過時間が所定の時間に達すると、循環気体の脱湿処理が必要であると判断する。しかしながら、加熱乾燥装置1内に循環気体の湿度を検知する湿度センサを付加し、制御部10が、当該湿度センサからの検知信号に基づいて循環気体の脱湿が必要であるか否かを判断してもよい。
ステップS3において、循環気体の脱湿処理が必要で無いと制御部10が判断した場合、引き続き樹脂ペレット9の加熱乾燥処理のみを継続しつつ、ステップS3の判断処理を繰り返す。一方、ステップS3において、循環気体の脱湿処理が必要であると制御部10が判断した場合、ステップS4へと進む。
ステップS4では、制御部10は、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理を行いつつ、循環気体の脱湿処理と吸湿部材の再生処理とを適宜切り替えて行う脱湿/再生工程を開始する。脱湿/再生工程における加熱乾燥装置1の動作の流れについて、図4を参照しつつ説明する。
脱湿/再生工程においては、まず、制御部10は、循環気体の脱湿処理を開始する(ステップS41)。具体的には、制御部10は、ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させたまま、第1開閉弁64を開放する。なお、第2開閉弁72および第3開閉弁83は閉鎖状態を維持する。ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させたままであるため、図1中に実線矢印で示す様に、循環管路51内に吸気口26から吹出口27へと向かう気流が発生する。すなわち、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理が進行する。
また、第1開閉弁64を開放することにより、図1中に破線矢印で示すように、バイパス管路61内に第1接続部P1から第2接続部P2へと向かう気流が発生する。したがって、ブロワ54から下流側へ向かう気体の一部が脱湿装置62を通って循環管路51内へ戻る。その結果、循環気体の脱湿処理が進行する。このように、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理と、循環気体の脱湿処理とが、同時に行われる。
循環気体の脱湿処理の開始後、制御部10は、脱湿装置62の吸湿部材に対して再生処理が必要であるか否かを判断する(ステップS42)。本実施形態の制御部10は、脱湿処理の開始時からの経過時間が所定の時間に達すると、吸湿部材の再生処理が必要であると判断する。しかしながら、脱湿装置62内に吸湿部材の保持水分量を検知する水分量センサを付加し、制御部10が、当該水分量センサからの検知信号に基づいて吸湿部材の再生が必要であるか否かを判断してもよい。
ステップS42において、吸湿部材の再生処理が必要で無いと制御部10が判断した場合、引き続き、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理と、循環気体の脱湿処理とを継続しつつ、ステップS42の判断処理を繰り返す。一方、ステップS42において、吸湿部材の再生処理が必要であると制御部10が判断した場合、ステップS43へと進む。ステップS43では、制御部10は、第1開閉弁64を閉鎖させる。これにより、制御部10は、循環気体の脱湿処理を終了する。
続いて、制御部10は、吸湿部材の再生処理を開始する(ステップS44)。具体的には、制御部10は、ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させたまま、第2開閉弁72および第3開閉弁83を開放させる。第1開閉弁64は、閉鎖状態を維持する。また、制御部10は、第2開閉弁72および第3開閉弁83の開放と略同時に、再生ヒータ63を駆動させる。なお、制御部10は、ステップS43における第1開閉弁64の閉鎖後、第2開閉弁72および第3開閉弁の開放よりも前に、再生ヒータ63の駆動を開始させてもよい。ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させたままであるため、図1中に実線矢印で示す様に、循環管路51内に吸気口26から吹出口27へと向かう気流が発生する。すなわち、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理が進行する。
また、第2開閉弁72を開放することにより、図1中に一点鎖線矢印で示すように、循環管路51内の気体が、第1接続部P1、バイパス管路61および第3接続部P3を通って排出管路71内に流れ、排出管路71の下流側端部から外部へと排出される。このとき、再生ヒータ63により脱湿装置62の吸湿部材が加熱されることにより、吸湿部材から水分が放出される。そして、当該水分は脱湿装置62を通過する気体とともに、排出管路71の下流側端部から外部へと排出される。すなわち、脱湿装置62の吸湿部材の再生処理が進行する。
一方、第3開閉弁83を開放することにより、図1中に二点鎖線矢印で示すように、窒素供給源82から循環管路51内へ窒素ガスが供給される。これにより、排出管路71の下流側端部から循環気体の一部が排出されても、乾燥ホッパ2および循環管路51の内部の気圧が外気圧よりも低くなるのが抑制される。その結果、乾燥ホッパ2および循環管路51の内部に、外気が侵入するのが抑制される。窒素供給源82から供給される窒素ガスは、外気と比べて露点が低く、含有水分量が小さい。このように、脱湿装置62の吸湿部材の再生処理時に外気ではなく窒素ガスを導入することにより、樹脂ペレット9の乾燥効率を向上できる。
吸湿部材の再生処理の開始後、制御部10は、吸湿部材の再生処理を終了するか否かを判断する(ステップS45)。本実施形態の制御部10は、再生処理の開始時からの経過時間が所定の時間に達すると、吸湿部材の再生処理を終了すべきであると判断する。しかしながら、脱湿装置62内に吸湿部材の保持水分量を検知する水分量センサを付加し、制御部10が、当該水分量センサからの検知信号に基づいて吸湿部材の再生が完了したか否かを判断してもよい。
ステップS45において、吸湿部材の再生処理を終了しないと制御部10が判断した場合、引き続き、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理と、吸湿部材の再生処理とを継続しつつ、ステップS45の判断処理を繰り返す。一方、ステップS45において、吸湿部材の再生処理を終了すべきと制御部10が判断した場合、ステップS46へと進む。ステップS46では、第2開閉弁72および第3開閉弁83を閉鎖するとともに、再生ヒータ63の駆動を停止させる。これにより、制御部10は、吸湿部材の再生処理を終了する。
吸湿部材の再生処理の終了後、再びステップS41へと戻り、循環気体の脱湿処理を開始する。このように、ステップS4において脱湿/再生処理が開始されると、制御部10は、ステップS41〜ステップS46を繰り返すことにより、循環気体の脱湿処理と、吸湿部材の再生処理とを繰り返し行う。
ステップS4における脱湿/再生処理が開始されると、ステップS41〜ステップS46を行う一方で、制御部10は、樹脂ペレット9の乾燥が完了したか否かを判断する(ステップS5)。本実施形態の制御部10は、加熱乾燥処理の開始時からの経過時間が所定の時間に達すると、樹脂ペレット9の乾燥が完了したと判断する。しかしながら、乾燥ホッパ2内に貯留された樹脂ペレット9の水分量を検知するセンサを付加し、制御部10が、当該センサからの検知信号に基づいて樹脂ペレット9の乾燥が完了したか否かを判断してもよい。
ステップS5において、樹脂ペレット9の乾燥が完了していないと制御部10が判断した場合、ステップS5に戻り、引き続き加熱乾燥処理と脱湿/再生処理とを続ける。一方、ステップS5において、樹脂ペレット9の乾燥が完了したと制御部10が判断した場合、ステップS6へと進む。
そして、制御部10は、第1開閉弁64、第2開閉弁72および第3開閉弁83の全てを閉鎖状態とするとともに、ブロワ54、乾燥ヒータ57および再生ヒータ63を停止状態とする。これにより、制御部10は、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理を終了する(ステップS6)。
最後に、制御部10は、排出口25を開放して、乾燥ホッパ2から乾燥後の樹脂ペレット9を排出する(ステップS7)。なお、ステップS1の樹脂ペレット9を投入する工程と、ステップS7樹脂ペレット9を排出する工程とは、上記の手順に限られない。樹脂ペレット9の投入または排出は、例えば、乾燥、脱湿または再生のいずれかの工程と並行して実行されてもよい。
上記のように、循環気体の脱湿工程では、ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させつつ、循環管路51から分岐した気体を、吸湿部材を有する脱湿装置62を通過させた後、当該気体を循環管路51内へと還流させる。また、吸湿部材の再生工程では、ブロワ54および乾燥ヒータ57を駆動させつつ、循環管路51から分岐した気体を、脱湿装置62を通過させた後、外部へ排出させる。そして、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理を行いながら、このような脱湿工程と再生工程とを交互に行う。
このように、循環気体のうち一部のみに対して脱湿処理を行うとともに、間欠的に吸湿部材の再生処理を行うことにより、吸湿部材の再生処理に用いるエネルギーを抑制しつつ、加熱乾燥装置1内の気体の露点を低下できる。また、吸湿部材の再生処理用に別途加熱装置を有していないため、装置を大型化することなく、樹脂ペレット9の加熱乾燥処理と同時に吸湿部材の再生処理を行うことができる。
<2.変形例>
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。なお、以下の変形例では、特に記述する構成以外の構成は、上記の第1実施形態と共通するものとする。
図5は、一変形例に係る加熱乾燥装置1Aの概略図である。この加熱乾燥装置1Aは、脱湿装置の周囲に設けられた再生ヒータに代えて、第1接続部P1の下流側かつ脱湿装置62Aの上流側においてバイパス管路61Aに介挿される再生ヒータ63Aを有する。この再生ヒータ63Aは、バイパス管路61A内の気体を加熱する。
再生ヒータ63Aは、脱湿装置62Aの吸湿部材の再生工程において駆動される。再生ヒータ63Aが駆動すると、再生ヒータ63Aにより加熱された気体が脱湿装置62Aの吸湿部材に供給される。これにより、吸湿部材から水分が放出しやすくなる。したがって、吸湿部材の再生工程において、吸湿部材の再生効率が向上する。
図5の例のように、再生ヒータは、脱湿装置自体を加熱するものでなく、脱湿装置に供給する気体を加熱するものであってもよい。
図6は、他の変形例に係る加熱乾燥装置1Bの概略図である。この加熱乾燥装置1Bは、バイパス部60Bがクーラ65Bをさらに有する。クーラ65Bは、第1接続部P1の上流側かつ脱湿装置62Bの下流側において、バイパス管路61Bに介挿される。クーラ65Bは、制御部10Bからの駆動信号に応じて、バイパス管路61B中を通過する気体を冷却する。
クーラ65Bは、例えば、内部を流れる水を冷媒として熱交換を行う水冷式クーラである。ただし、クーラ65Bは、気体を冷却する構成のものであれば、風冷式クーラや、液体窒素を用いたクーラであってもよい。
クーラ65Bは、循環気体の脱湿工程において駆動される。クーラ65Bが駆動されると、クーラ65Bにより冷却された気体が脱湿装置62Bに供給される。これにより、脱湿装置62Bに供給される気体中に含まれる水分が、効率よく吸湿部材に吸着できる。すなわち、循環気体の脱湿工程において、循環気体の脱湿効率が向上する。
図7は、他の変形例にかかる加熱乾燥装置1Cの概略図である。この加熱乾燥装置1Cは、循環管路51C内の気体を排出する第2排出部74Cを有する。第2排出部74Cは、第2排出管路75Cと、第4開閉弁76Cと、第4逆止弁77Cとを有する。
第2排出管路75Cは、循環管路51C内の気体を排出するための配管系である。第2排出管路75Cの上流側端部は、第2接続部P2の下流側かつブロワ54Cの上流側の第5接続部P5において循環管路51Cと接続される。第2排出管路75Cの下流側端部は、大気開放される。第2排出管路75Cには、上流側から下流側へ向かって順に、すなわち、第5接続部P5から反対側の端部へ向かって順に、第4開閉弁76Cおよび第4逆止弁77Cが介挿されている。
循環気体の脱湿工程において、制御部10Cは、上記の実施形態と同様に、ブロワ54Cおよび乾燥ヒータ57Cを駆動させたまま、第1開閉弁64Cを開放し、かつ、第2開閉弁72Cおよび第3開閉弁83Cを閉鎖する。また、この加熱乾燥装置1Cでは、制御部10Cはさらに、第3開閉弁83Cを開放するとともに、第4開閉弁76Cを開放する。これにより、第1接続部P1の下流側において窒素供給源82Cから循環管路51C内に窒素ガスが導入されるとともに、第2接続部P2の下流側かつブロワ54Cの上流側において循環管路51C内の循環気体の一部が排出される。このように、循環気体の脱湿工程において、常に窒素ガスを供給することにより、乾燥ホッパ2C内に供給される循環気体の露点を低くできる。
なお、図7の例では、第2排出管路75Cの上流側端部が、第2接続部P2の下流側かつブロワ54Cの上流側において循環管路51Cと接続される。しかしながら、第2排出管路75の上流側端部は、乾燥ホッパ2Cの吸気口26Cの下流側かつ第2接続部P2の上流側において循環管路51Cと接続されてもよい。
図8は、他の変形例にかかる加熱乾燥装置1Dの概略図である。この加熱乾燥装置1Dは、第1接続部P1の下流側かつ脱湿装置62Dの上流側において、バイパス管路61Dに介挿される流量制御弁66Dをさらに有する。
流量制御弁66Dは、制御部10Dからの信号に従って、バイパス管路61D内を流れる気体の流量を制御する。循環気体の脱湿工程および吸湿部材の再生工程の双方において、バイパス管路61D内を流れる気体の流量が流量制御弁66Dにより制御される。これにより、循環気体の脱湿工程においては、循環管路51D内を循環する循環気体のうち、脱湿処理を行う気体の割合を調節できる。また、吸湿部材の再生工程においては、循環管路51D内を循環する循環気体のうち、加熱乾燥装置1D外へ排出する気体の割合を調節できる。
図9は、他の変形例に係る加熱乾燥装置1Eの概略図である。この加熱乾燥装置1Eでは、第2窒素供給部84Eをさらに有する。この第2窒素供給部84Eは、第2窒素供給配管85E、第2窒素供給源86Eおよび第5開閉弁87Eを有する。第2窒素供給部84Eは、第1接続部P1の下流側かつ脱湿装置62Eの上流側の第6接続部P6において、バイパス管路61E内に冷却用気体を供給する冷却用気体供給部である。
また、この加熱乾燥装置1Eは、第1接続部P1の下流側かつ第6接続部P6の上流側において、バイパス管路61Eに介挿される第5逆止弁67Eを有する。第5逆止弁67Eは、第1接続部P1と第6接続部P6との間において、気体が逆流するのを防止する。第5逆止弁67Eは、特に、第2窒素供給部84Eからバイパス管路61E内に窒素ガスを導入した際に、第4接続部P4から第1接続部P1に向かって気体が逆流するのを防止する。
循環気体の脱湿工程において、制御部10Eは、上記の実施形態と同様に、ブロワ54Eおよび乾燥ヒータ57Eを駆動させたまま、第1開閉弁64Eを開放し、かつ、第2開閉弁72Eおよび第3開閉弁83Eを閉鎖する。また、この加熱乾燥装置1Eでは、制御部10Eはさらに、第5開閉弁87Eを開放して第2窒素供給源86Eから第2窒素供給配管85Eを介してバイパス管路61E内へ窒素ガスを導入する。
第2窒素供給部84Eからバイパス管路61E内へ導入された窒素ガスは、循環管路51Eから分岐してバイパス管路61E内へ流入した循環気体と混合され、脱湿装置62Eへと向かう。これにより、脱湿装置62Eを通過する循環気体の温度を低下できる。したがって、脱湿装置62Eに供給される気体中に含まれる水分が、効率よく吸湿部材に吸着できる。すなわち、循環気体の脱湿工程において、循環気体の脱湿効率が向上する。
図9の例では、冷却用気体として窒素ガスを用いているが、冷却用気体にその他の気体を用いてもよい。例えば、冷却用気体として、窒素ガス以外の乾燥気体を用いてもよいし、加熱乾燥装置1Eの外気を取り込んでもよい。
また、上記の実施形態では、加熱装置と接続される粉粒体の排出先が射出成形機であったが、粉粒体の排出先は、押出成形装置やインフレーション成形装置等の他の成形装置であってもよい。また、粉粒体の排出先は、成形装置に限られず、重合装置等の他の装置であってもよい。
また、加熱装置の細部の形状については、本願の各図に示された形状と、相違していてもよい。また、上記の実施形態や変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。
1,1A,1B,1C,1D,1E 加熱乾燥装置
2,2C 乾燥ホッパ
9 樹脂ペレット
10,10B,10C,10D,10E 制御部
26,26C 吸気口
27 吹出口
51,51C,51D,51E 循環管路
54,54C,54E ブロワ
57,57E 乾燥ヒータ
61,61A,61B,61D,61E バイパス管路
62,62A,62B,62D,62E 脱湿装置
63,63A 再生ヒータ
64,64C,64E 第1開閉弁
65B クーラ
66D 流量制御弁
71 排出管路
72 第2開閉弁
80,80C 窒素供給部
84E 第2窒素供給部

Claims (16)

  1. 内部に粉粒体を貯留する乾燥ホッパと、
    上流側端部が前記乾燥ホッパの上部に設けられた吸気口に接続され、下流側端部が前記乾燥ホッパの内部に設けられた吹出口に接続される循環管路と、
    前記循環管路に介挿され、前記循環管路内に前記吸気口から前記吹出口へと向かう気流を発生させる気流発生装置と、
    前記気流発生装置の下流側において前記循環管路に介挿され、前記循環管路内の気体を加熱する加熱装置と、
    を備えた粉粒体処理装置であって、
    上流側端部が前記気流発生装置の下流側かつ前記加熱装置の上流側の第1接続部において前記循環管路と接続され、下流側端部が前記吸気口の下流側かつ前記気流発生装置の上流側の第2接続部において前記循環管路と接続されるバイパス管路と、
    前記バイパス管路に介挿される脱湿装置と、
    前記脱湿装置の下流側かつ前記第2接続部の上流側において、前記バイパス管路に介挿される第1開閉弁と、
    上流側端部が前記脱湿装置の下流側かつ前記第1開閉弁の上流側の第3接続部において前記バイパス管路に接続される排出管路と、
    前記排出管路に介挿される第2開閉弁と、
    を有し、
    前記第2開閉弁を開放することにより、前記循環管路から前記バイパス管路へ分岐した気体が、前記脱湿装置を通過した後、前記排出管路から外部に排出される、粉粒体処理装置。
  2. 請求項1に記載の粉粒体処理装置であって、
    前記脱湿装置の周囲に配置され、前記脱湿装置の吸湿部材を加熱する再生ヒータ
    をさらに有する、粉粒体処理装置。
  3. 請求項1に記載の粉粒体処理装置であって、
    前記第1接続部の下流側かつ前記脱湿装置の上流側において前記バイパス管路に介挿され、前記バイパス管路内の気体を加熱する再生ヒータ
    をさらに有する、粉粒体処理装置。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の粉粒体処理装置であって、
    前記第1接続部の下流側および前記加熱装置の上流側の第4接続部において、前記循環管路内に乾燥気体を供給する乾燥気体供給部
    をさらに有する、粉粒体処理装置。
  5. 請求項4に記載の粉粒体処理装置であって、
    前記乾燥気体は、不活性ガスである、粉粒体処理装置。
  6. 請求項5に記載の粉粒体処理装置であって、
    前記乾燥気体は、窒素ガスである、粉粒体処理装置。
  7. 請求項4ないし請求項6のいずれかに記載の粉粒体処理装置であって、
    前記吸気口の下流側および前記気流発生装置の上流側の第5接続部において前記循環管路に接続される第2排出管路と、
    前記第2排出管路に介挿される開閉弁と、
    をさらに有する、粉粒体処理装置。
  8. 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の粉粒体処理装置であって、
    前記第1接続部の下流側かつ前記脱湿装置の上流側において前記バイパス管路に介挿される流量制御弁
    をさらに有する、粉粒体処理装置。
  9. 内部に粉粒体を貯留する乾燥ホッパと、
    上流側端部が前記乾燥ホッパの上部に設けられた吸気口に接続され、下流側端部が前記乾燥ホッパの内部に設けられた吹出口に接続される循環管路と、
    前記循環管路に介挿され、前記循環管路内に前記吸気口から前記吹出口へと向かう気流を発生させる気流発生装置と、
    前記気流発生装置の下流側において前記循環管路に介挿され、前記循環管路内の気体を加熱する加熱装置と、
    を備えた粉粒体処理装置を用いた粉粒体処理方法であって、
    前記粉粒体処理装置は、
    端部が、前記気流発生装置の下流側かつ前記加熱装置の上流側の第1接続部と、前記吸気口の下流側かつ前記気流発生装置の上流側の第2接続部とにおいて前記循環管路と接続し、吸湿部材を有する脱湿装置が介挿されるバイパス管路
    をさらに備え、
    a)前記気流発生装置および前記加熱装置を駆動させつつ、前記循環管路から前記バイパス管路へ分岐した気体を、前記脱湿装置を通過させた後、前記循環管路内へと還流させる工程と、
    b)前記気流発生装置および前記加熱装置を駆動させつつ、前記循環管路から前記バイパス管路へ分岐した気体を、前記脱湿装置を通過させた後、外部に排出させる工程と、
    を有し、
    前記工程a)と前記工程b)とを交互に行う、粉粒体処理方法。
  10. 請求項9に記載の粉粒体処理方法であって、
    前記工程b)において、前記吸湿部材が加熱される、粉粒体処理方法。
  11. 請求項9に記載の粉粒体処理方法であって、
    前記工程b)において、前記吸湿部材には、前記循環管路内から前記バイパス管路へ分岐した前記気体が加熱されて供給される、粉粒体処理方法。
  12. 請求項9ないし請求項11のいずれかに記載の粉粒体処理方法であって、
    前記工程b)において、前記循環管路内に乾燥気体が供給される、粉粒体処理方法。
  13. 請求項12に記載の粉粒体処理方法であって、
    前記乾燥気体は、不活性ガスである、粉粒体処理方法。
  14. 請求項13に記載の粉粒体処理方法であって、
    前記乾燥気体は、窒素ガスである、粉粒体処理方法。
  15. 請求項9ないし請求項14のいずれかに記載の粉粒体処理方法であって、
    前記工程a)において、前記第1接続部の下流側かつ前記加熱装置の上流側において前記循環管路内に前記乾燥気体を供給しつつ、前記第2接続部の下流側かつ前記気流発生装置の上流側において前記循環管路の内部から気体を排出する、粉粒体処理方法。
  16. 請求項9ないし請求項15のいずれかに記載の粉粒体処理装置であって、
    前記工程a)および前記工程b)において、前記第1接続部の下流側かつ前記脱湿装置の上流側において前記バイパス管路内を流れる気体の流量が流量制御弁により制御される、粉粒体処理方法。
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